[go: up one dir, main page]

NL2012720A - Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method. - Google Patents

Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method. Download PDF

Info

Publication number
NL2012720A
NL2012720A NL2012720A NL2012720A NL2012720A NL 2012720 A NL2012720 A NL 2012720A NL 2012720 A NL2012720 A NL 2012720A NL 2012720 A NL2012720 A NL 2012720A NL 2012720 A NL2012720 A NL 2012720A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
radiation
fuel
collector
trajectory
debris
Prior art date
Application number
NL2012720A
Other languages
English (en)
Inventor
Arjen Jong
Rob Veltman
Reinier Jilisen
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2012720A priority Critical patent/NL2012720A/en
Publication of NL2012720A publication Critical patent/NL2012720A/en

Links

Landscapes

  • X-Ray Techniques (AREA)

Claims (1)

  1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2012720A 2014-04-30 2014-04-30 Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method. NL2012720A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2012720A NL2012720A (en) 2014-04-30 2014-04-30 Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2012720 2014-04-30
NL2012720A NL2012720A (en) 2014-04-30 2014-04-30 Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2012720A true NL2012720A (en) 2014-06-23

Family

ID=51845582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2012720A NL2012720A (en) 2014-04-30 2014-04-30 Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2012720A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10379443B2 (en) Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method
CN102859442B (zh) 收集器反射镜组件以及用于产生极紫外辐射的方法
JP5070264B2 (ja) ソースモジュール、放射ソースおよびリソグラフィ装置
JP5659015B2 (ja) 放射源
US20120327381A1 (en) Radiation Source, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method
JP6487519B2 (ja) リソグラフィ装置用の汚染トラップ
TW201925924A (zh) 微影曝光製程之方法
NL2009372A (en) Methods to control euv exposure dose and euv lithographic methods and apparatus using such methods.
CN105074577A (zh) 源收集器设备、光刻设备和方法
CN1721999B (zh) 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件
KR101959369B1 (ko) 방사선 소스
JP2011258950A (ja) 水素ラジカルジェネレータ
NL2011742A (en) Power source for a lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a power source.
CN113126447B (zh) 极紫外辐射源、产生极紫外辐射的方法及图案形成的方法
CN115524930A (zh) 微影系统的清洁方法与微影系统的清洁系统
US20170045832A1 (en) Cleaning Apparatus and Associated Low Pressure Chamber Apparatus
NL2016538A (en) Radiation Source, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method.
CN105408817A (zh) 用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备
NL2012720A (en) Radiation source device, lithographic apparatus and device manufacturing method.
WO2013072154A1 (en) Radiation source and method for operating the same, lithographic apparatus comprising the radiation source, and device manufacturing method
NL2004969A (en) Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2010236A (en) Lithographic apparatus and method.
NL2007859A (en) Radiation source.
NL2004978A (en) Euv radiation source and lithographic apparatus.
NL2011327A (en) Source collector apparatus, lithographic apparatus and method.

Legal Events

Date Code Title Description
WDAP Patent application withdrawn

Effective date: 20150603