[go: up one dir, main page]

NL194932B - Werkwijze voor het bewerken van een werkstuk en inrichting voor het bewerken van een werkstuk volgens de werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het bewerken van een werkstuk en inrichting voor het bewerken van een werkstuk volgens de werkwijze.

Info

Publication number
NL194932B
NL194932B NL9401925A NL9401925A NL194932B NL 194932 B NL194932 B NL 194932B NL 9401925 A NL9401925 A NL 9401925A NL 9401925 A NL9401925 A NL 9401925A NL 194932 B NL194932 B NL 194932B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
processing
workpiece
workpiece according
Prior art date
Application number
NL9401925A
Other languages
English (en)
Other versions
NL9401925A (nl
NL194932C (nl
Inventor
Juergen Frosien
Dieter Winkler
Hans Zimmermann
Original Assignee
Advantest Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advantest Corp filed Critical Advantest Corp
Publication of NL9401925A publication Critical patent/NL9401925A/nl
Publication of NL194932B publication Critical patent/NL194932B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL194932C publication Critical patent/NL194932C/nl

Links

Classifications

    • H10W20/067
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/047Coating on selected surface areas, e.g. using masks using irradiation by energy or particles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
    • H01J37/3056Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching for microworking, e. g. etching of gratings or trimming of electrical components
    • H10P72/0421
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04Means for controlling the discharge
    • H01J2237/049Focusing means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/31732Depositing thin layers on selected microareas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3174Etching microareas
    • H01J2237/31742Etching microareas for repairing masks
    • H01J2237/31744Etching microareas for repairing masks introducing gas in vicinity of workpiece

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
NL9401925A 1993-12-01 1994-11-17 Werkwijze voor het bewerken van een werkstuk en inrichting voor het bewerken van een werkstuk volgens de werkwijze. NL194932C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4340956A DE4340956C2 (de) 1993-12-01 1993-12-01 Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung einer Probe
DE4340956 1993-12-01

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL9401925A NL9401925A (nl) 1995-07-03
NL194932B true NL194932B (nl) 2003-03-03
NL194932C NL194932C (nl) 2003-07-04

Family

ID=6503920

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9401925A NL194932C (nl) 1993-12-01 1994-11-17 Werkwijze voor het bewerken van een werkstuk en inrichting voor het bewerken van een werkstuk volgens de werkwijze.

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5637538A (nl)
JP (1) JP3230180B2 (nl)
DE (1) DE4340956C2 (nl)
NL (1) NL194932C (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19532100A1 (de) * 1995-08-30 1997-03-06 Leybold Ag Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Substraten
US6580074B1 (en) * 1996-09-24 2003-06-17 Hitachi, Ltd. Charged particle beam emitting device
EP0969493A1 (en) 1998-07-03 2000-01-05 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Apparatus and method for examining specimen with a charged particle beam
EP1047104A1 (en) * 1999-04-19 2000-10-25 Advantest Corporation Apparatus for particle beam induced modification of a specimen
WO2001003145A1 (en) * 1999-07-02 2001-01-11 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for examining specimen with a charged particle beam
DE10208043B4 (de) * 2002-02-25 2011-01-13 Carl Zeiss Nts Gmbh Materialbearbeitungssystem und Materialbearbeitungsverfahren
US20050103272A1 (en) 2002-02-25 2005-05-19 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Material processing system and method
US6926935B2 (en) * 2003-06-27 2005-08-09 Fei Company Proximity deposition
US7170068B2 (en) * 2005-05-12 2007-01-30 Applied Materials, Israel, Ltd. Method and system for discharging a sample
JP5600371B2 (ja) * 2006-02-15 2014-10-01 エフ・イ−・アイ・カンパニー 荷電粒子ビーム処理のための保護層のスパッタリング・コーティング
JP5384786B2 (ja) * 2006-11-14 2014-01-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電ビーム装置、及びその鏡体
DE102006054695B4 (de) * 2006-11-17 2014-05-15 Carl Von Ossietzky Universität Oldenburg Verfahren zur Regelung nanoskaliger elektronenstrahlinduzierter Abscheidungen
JP2007250542A (ja) * 2007-03-13 2007-09-27 National Institute For Materials Science 微細加工方法
DE102008037944B4 (de) * 2008-08-14 2013-03-21 Carl Zeiss Sms Gmbh Verfahren zum elektronenstrahlinduzierten Abscheiden von leitfähigem Material

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3551213A (en) * 1968-09-04 1970-12-29 Bell Telephone Labor Inc Geometrically selective ion bombardment by means of the photoelectric effect
DD89180A2 (de) * 1970-10-26 1972-04-12 Verfahren und vorrichtung zur erhöhung des Wirkungsgrades von Elektronenbeschleunigern bei der Bestrahlung von Flächengebilden bzw. Folien
US3931517A (en) * 1972-02-14 1976-01-06 American Optical Corporation Field emission electron gun
US4472636A (en) * 1979-11-01 1984-09-18 Eberhard Hahn Method of and device for corpuscular projection
US4394282A (en) * 1980-12-19 1983-07-19 Exxon Research And Engineering Co. Composition for use in a magnetically fluidized bed
DE3235068A1 (de) * 1982-09-22 1984-03-22 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Varioformstrahl-ablenkobjektiv fuer neutralteilchen und verfahren zu seinem betrieb
EP0130398B1 (de) * 1983-06-29 1991-01-23 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitfähigen Verbindung und Vorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens
US4605566A (en) * 1983-08-22 1986-08-12 Nec Corporation Method for forming thin films by absorption
US4874460A (en) * 1987-11-16 1989-10-17 Seiko Instruments Inc. Method and apparatus for modifying patterned film
JPH02173278A (ja) * 1988-12-26 1990-07-04 Hitachi Ltd 微細加工方法及びその装置
DE4029470C1 (en) * 1990-09-17 1991-05-23 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De Local gas atmos. generator for vacuum receptacle - has application jet with ID tapering to outlet tip smaller than 100 microns
US5149974A (en) * 1990-10-29 1992-09-22 International Business Machines Corporation Gas delivery for ion beam deposition and etching
DE4102102C2 (de) * 1991-01-25 1995-09-07 Leybold Ag Magnetanordnung mit wenigstens zwei Permanentmagneten sowie ihre Verwendung
KR100246116B1 (ko) * 1992-06-11 2000-03-15 히가시 데쓰로 플라즈마 처리장치

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07192685A (ja) 1995-07-28
NL9401925A (nl) 1995-07-03
US5885354A (en) 1999-03-23
DE4340956C2 (de) 2002-08-22
DE4340956A1 (de) 1995-06-08
NL194932C (nl) 2003-07-04
US5637538A (en) 1997-06-10
JP3230180B2 (ja) 2001-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1003444A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het doorsnijden van een vlak werkstuk.
NL194919B (nl) Werkwijze voor het oxideren van koolhydraten.
NL1000701C2 (nl) Inrichting en werkwijze voor het extraheren van artikelen uit een document.
NL191931C (nl) Werkwijze en inrichting voor het sorteren van artikelen in een open-weg systeem.
NL191112C (nl) Werkwijze en inrichting voor het aan een werkstuk vastlassen van bouten of dergelijke.
NL194518B (nl) Werkwijze in een stelsel in werkelijke tijd voor het beheersen van seismische interferentie.
NL194932B (nl) Werkwijze voor het bewerken van een werkstuk en inrichting voor het bewerken van een werkstuk volgens de werkwijze.
NL191102C (nl) Inrichting voor het bewerken van een oppervlak van een werkstuk en werkwijze voor het gebruik van de inrichting.
NL194171B (nl) Werkwijze en inrichting voor het leggen van een pijpleiding.
NL1000317C2 (nl) Werkwijze en inrichting voor het sorteren van batterijen.
NL194249B (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de richting naar een signaalbron.
FI945906L (fi) Laite työkappaleiden reunojen työstämiseksi
NL192732B (nl) Transportinrichting voor werkstukken, alsmede werkwijze voor het plaatsen van werkstukken in die transportinrichting.
DE69508869D1 (de) Vorrichtung zur Handhabung, insbesondere von Werkstücken, Werkzeugen oder dergleichen
NL1000668C1 (nl) Werkwijze voor het vervormen van een plaat en een hiertoe geschikte plaat.
DE59601164D1 (de) Vorrichtung zum Bearbeiten von Blattlagen oder dgl.
NL193536B (nl) Inrichting voor het transporteren en richten van producten, alsmede werkwijze voor het besturen van de inrichting.
NL193052B (nl) Werkwijze voor het verwerken van mosselen.
DE59500753D1 (de) Vorrichtung zum Einspannen von Werkstücken od. dgl.
NL185859C (nl) Werkwijze en inrichting voor het beglazen van de kap van een warenhuis.
NL1000389C2 (nl) Inrichting en werkwijze voor het separeren van stukken wasgoed.
NL1000026C2 (nl) Werkwijze voor het verwerken van vis, in het bijzonder zalm, alsmede inrichting voor toepassing van de werkwijze.
NL1002673C1 (nl) Werkwijze en inrichting voor de behandeling van een artikelbaan.
NL1004698A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het verwerken van object- en voertuiggegevens in een voertuig.
ATE194519T1 (de) Vorrichtung zum verformen von werkstücken

Legal Events

Date Code Title Description
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: ADVANTEST CORPORATION;ACT ADVANCED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUER TESTSYSTEMENTWICK LUNG MBH;ADVANTEST CORPORATION;ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUER HALBGELEITERPRUEFTECHNIEK MBH

BA A request for search or an international-type search has been filed
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: ADVANTEST CORPORATION

BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20090601