[go: up one dir, main page]

NL185117B - Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk.

Info

Publication number
NL185117B
NL185117B NLAANVRAGE7708553,A NL7708553A NL185117B NL 185117 B NL185117 B NL 185117B NL 7708553 A NL7708553 A NL 7708553A NL 185117 B NL185117 B NL 185117B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
disc
main surface
chemical treatment
worked workpiece
worked
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7708553,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7708553A (nl
Original Assignee
Unisys Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unisys Corp filed Critical Unisys Corp
Publication of NL7708553A publication Critical patent/NL7708553A/nl
Publication of NL185117B publication Critical patent/NL185117B/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/32—Anodisation of semiconducting materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/08—Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Weting (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
NLAANVRAGE7708553,A 1976-08-30 1977-08-02 Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk. NL185117B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US71889776A 1976-08-30 1976-08-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7708553A NL7708553A (nl) 1978-03-02
NL185117B true NL185117B (nl) 1989-08-16

Family

ID=24888003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7708553,A NL185117B (nl) 1976-08-30 1977-08-02 Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4118303A (nl)
JP (1) JPS5329677A (nl)
DE (1) DE2736000C2 (nl)
FR (1) FR2362939A1 (nl)
GB (1) GB1525850A (nl)
NL (1) NL185117B (nl)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4192729A (en) * 1978-04-03 1980-03-11 Burroughs Corporation Apparatus for forming an aluminum interconnect structure on an integrated circuit chip
JPS56102590A (en) * 1979-08-09 1981-08-17 Koichi Shimamura Method and device for plating of microarea
DE3027934A1 (de) * 1980-07-23 1982-02-25 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur einseitigen aetzung von halbleiterscheiben
JPS58110496A (ja) * 1981-12-24 1983-07-01 Fujitsu Ltd シリコン結晶
JPS5918198A (ja) * 1982-07-16 1984-01-30 Shin Etsu Handotai Co Ltd デバイス基板用単結晶シリコン
JPS5973491A (ja) * 1983-07-11 1984-04-25 Osaka Titanium Seizo Kk 半導体単結晶の製造方法
JPS645884Y2 (nl) * 1984-11-21 1989-02-14
JPH0631199B2 (ja) * 1988-04-14 1994-04-27 株式会社東芝 化合物半導体の製造方法
FR2648187B1 (fr) * 1989-06-07 1994-04-15 Pechiney Recherche Dispositif de traitement par anodisation de pistons en alliage d'aluminium utilises dans les moteurs a combustion interne
US6375741B2 (en) * 1991-03-06 2002-04-23 Timothy J. Reardon Semiconductor processing spray coating apparatus
JP3217586B2 (ja) * 1994-03-17 2001-10-09 株式会社半導体エネルギー研究所 陽極酸化装置及び陽極酸化方法
US5750014A (en) * 1995-02-09 1998-05-12 International Hardcoat, Inc. Apparatus for selectively coating metal parts
US6103096A (en) * 1997-11-12 2000-08-15 International Business Machines Corporation Apparatus and method for the electrochemical etching of a wafer
US6322678B1 (en) 1998-07-11 2001-11-27 Semitool, Inc. Electroplating reactor including back-side electrical contact apparatus
DE19859466C2 (de) * 1998-12-22 2002-04-25 Steag Micro Tech Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
US20070084838A1 (en) * 2004-12-07 2007-04-19 Chih-Ming Hsu Method and cutting system for cutting a wafer by laser using a vacuum working table

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE813912C (de) * 1949-11-22 1951-09-17 Eggert Knuth-Winterfeldt Geraet zum elektrolytischen Polieren und/oder AEtzen
US2745805A (en) * 1952-01-16 1956-05-15 Jr Hiram Jones Adjustable masking shield for electro-polisher
FR1157209A (fr) * 1956-08-09 1958-05-28 Procédé et appareil de polissage électrolytique
US3317410A (en) * 1962-12-18 1967-05-02 Ibm Agitation system for electrodeposition of magnetic alloys
US3907649A (en) * 1971-12-02 1975-09-23 Otto Alfred Becker Electroplating of the cut edges of sheet metal panels
US3536594A (en) * 1968-07-05 1970-10-27 Western Electric Co Method and apparatus for rapid gold plating integrated circuit slices
CH499783A (de) * 1968-11-18 1970-11-30 Heberlein & Co Ag Verfahren für die berührungslose elektromagnetische Drehzahlmessung eines in einem magnetischen Feld rotierenden ferromagnetischen Drehkörpers
DE2455363B2 (de) * 1974-11-22 1976-09-16 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung duenner schichten aus halbleitermaterial und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
GB1525850A (en) 1978-09-20
DE2736000C2 (de) 1985-12-12
FR2362939B1 (nl) 1980-04-04
US4118303A (en) 1978-10-03
JPS5329677A (en) 1978-03-20
NL7708553A (nl) 1978-03-02
DE2736000A1 (de) 1978-03-02
FR2362939A1 (fr) 1978-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7711379A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verlagen van de concentratie van waterdamp in een mengsel.
NL189915C (nl) Werkwijze voor het behandelen van een polyvinylideenfluoride-oppervlak.
NL180387C (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van endotherme processen.
NL7610795A (nl) Inrichting en werkwijze voor het behandelen van oppervlakken.
NL7812283A (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een elektrolyseproces.
NL7605927A (nl) Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak.
NL185117B (nl) Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7609805A (nl) Werkwijze en inrichting voor vonkerosie.
NL7601586A (nl) Werkwijze voor het behandelen van een put.
NL7514693A (nl) Werkwijze en inrichting voor onderzoek van de werking van een kathodische beschermingseenheid.
NL7702231A (nl) Werkwijze en inrichting voor het gericht spannen van een werkstuk.
NL179115C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een aan een zijde gesloten houder van blik.
NL7811574A (nl) Werkwijze en inrichting voor het regelen van een pelleteerpers.
NL7806133A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een buisvormig breisel.
NL7702663A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een vloeistof.
NL7710768A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van alkanolamine.
NL7614369A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een houder en inrichting voor het uitvoeren van deze werk- wijze.
NL189506C (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van actieve kool.
NL7610447A (nl) Werkwijze voor het zuiveren van grondwater en daartoe geschikte inrichting.
NL7513111A (nl) Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng.
NL7609226A (nl) Werkwijze en inrichting voor het schuimen van een schuimmiddeloplossing.
NL7511923A (nl) Werkwijze en inrichting voor het titreren van een vloeistof.
NL7714402A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een afvalvloeistof.
NL7703932A (nl) Werkwijze voor het behandelen van een gasvormig effluent.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: BURROUGHS CORPORATION

DNT Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection

Free format text: UNISYS CORPORATION TE DETROIT

V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee