[go: up one dir, main page]

NL1021785A1 - Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object. - Google Patents

Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object.

Info

Publication number
NL1021785A1
NL1021785A1 NL1021785A NL1021785A NL1021785A1 NL 1021785 A1 NL1021785 A1 NL 1021785A1 NL 1021785 A NL1021785 A NL 1021785A NL 1021785 A NL1021785 A NL 1021785A NL 1021785 A1 NL1021785 A1 NL 1021785A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
illuminating
Prior art date
Application number
NL1021785A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1021785C2 (nl
Inventor
Jin-Jun Park
Doo-Hoon Goo
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of NL1021785A1 publication Critical patent/NL1021785A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1021785C2 publication Critical patent/NL1021785C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/701—Off-axis setting using an aperture
    • H10P76/00—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G03F7/70183—Zoom systems for adjusting beam diameter

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
NL1021785A 2001-11-05 2002-10-30 Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object. NL1021785C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0068657A KR100431883B1 (ko) 2001-11-05 2001-11-05 노광방법 및 투영 노광 장치
KR20010068657 2001-11-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1021785A1 true NL1021785A1 (nl) 2003-05-07
NL1021785C2 NL1021785C2 (nl) 2004-10-27

Family

ID=19715713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1021785A NL1021785C2 (nl) 2001-11-05 2002-10-30 Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6757052B2 (nl)
JP (1) JP2003151897A (nl)
KR (1) KR100431883B1 (nl)
CN (1) CN100507717C (nl)
DE (1) DE10237325B4 (nl)
FR (1) FR2831967A1 (nl)
GB (1) GB2381591B (nl)
IT (1) ITMI20021436A1 (nl)
NL (1) NL1021785C2 (nl)
TW (1) TW535029B (nl)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070019179A1 (en) * 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
US8270077B2 (en) * 2004-01-16 2012-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
KR101165862B1 (ko) * 2004-01-16 2012-07-17 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광변조 광학소자
US7324280B2 (en) * 2004-05-25 2008-01-29 Asml Holding N.V. Apparatus for providing a pattern of polarization
TWI456267B (zh) * 2006-02-17 2014-10-11 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於微影投射曝光設備之照明系統
CN100388056C (zh) * 2006-06-02 2008-05-14 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜光学系统
CN102736427B (zh) * 2011-04-07 2014-11-12 上海微电子装备有限公司 一种曝光装置及其方法
US8845163B2 (en) * 2012-08-17 2014-09-30 Ultratech, Inc. LED-based photolithographic illuminator with high collection efficiency
CN103616801B (zh) * 2013-10-28 2016-01-13 东莞科视自动化科技有限公司 一种pcb表面油墨曝光专用高均匀度光源的制备方法及设备
CN110119071B (zh) * 2018-02-06 2021-05-28 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5719704A (en) * 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6252647B1 (en) * 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JPH05335208A (ja) * 1992-06-02 1993-12-17 Nikon Corp 投影露光装置
JP3295956B2 (ja) * 1992-03-05 2002-06-24 株式会社ニコン 露光装置及び半導体素子の製造方法
JP2946950B2 (ja) * 1992-06-25 1999-09-13 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた露光装置
KR970003593B1 (en) 1992-09-03 1997-03-20 Samsung Electronics Co Ltd Projection exposure method and device using mask
JP2917704B2 (ja) * 1992-10-01 1999-07-12 日本電気株式会社 露光装置
EP0648348B1 (en) 1993-03-01 1999-04-28 General Signal Corporation Variable annular illuminator for photolithographic projection imager.
US6285443B1 (en) * 1993-12-13 2001-09-04 Carl-Zeiss-Stiftung Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus
DE4421053A1 (de) * 1994-06-17 1995-12-21 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung
JPH09320952A (ja) 1996-05-29 1997-12-12 Nikon Corp 露光装置
JPH11271619A (ja) * 1998-03-19 1999-10-08 Nikon Corp 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
DE69931690T2 (de) * 1998-04-08 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
EP0949541B1 (en) * 1998-04-08 2006-06-07 ASML Netherlands B.V. Lithography apparatus
KR100596490B1 (ko) * 1999-06-16 2006-07-03 삼성전자주식회사 투영 노광 장치
TW498408B (en) * 2000-07-05 2002-08-11 Asm Lithography Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
EP1170635B1 (en) * 2000-07-05 2006-06-07 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Also Published As

Publication number Publication date
KR100431883B1 (ko) 2004-05-17
ITMI20021436A1 (it) 2003-12-29
FR2831967A1 (fr) 2003-05-09
CN100507717C (zh) 2009-07-01
US6757052B2 (en) 2004-06-29
JP2003151897A (ja) 2003-05-23
TW535029B (en) 2003-06-01
US20030086070A1 (en) 2003-05-08
GB2381591B (en) 2004-02-25
DE10237325A1 (de) 2003-05-22
ITMI20021436A0 (it) 2002-06-28
KR20030037793A (ko) 2003-05-16
CN1417644A (zh) 2003-05-14
NL1021785C2 (nl) 2004-10-27
DE10237325B4 (de) 2009-01-29
GB2381591A (en) 2003-05-07
GB0223465D0 (en) 2002-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1021335A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het verwerken van een uitvoer van een beeldsensor.
NL1022177A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het afhandelen van zeer lange instructiewoorden met variabele lengte.
NL1029261A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het bewerken van een kleurensignaal.
NL1024859A1 (nl) Werkwijzen en inrichting voor het verwerven van perfusiegegevens.
FI20011421L (fi) Menetelmä ja laite toiminnon toteuttamiseksi
NL1024888A1 (nl) Werkwijzen en inrichting voor het bevorderen van een reductie in artefacten.
NL1024856A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het kwantificeren van het vetgehalte van weefsel.
NL1026688A1 (nl) Werkwijze en toestel voor het uitvoeren van rastering.
NL1019394A1 (nl) Inrichting en een werkwijze voor het vervaardigen van meerlagige metaalproducten.
NL1023611A1 (nl) Beeldschermsysteem en werkwijze voor het elimineren van overblijvende beelden daarin.
NL1017025A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het vormen van een sferisch lichaam.
NL1025642A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het reconstrueren van beelden van hoge resolutie.
NL1024195A1 (nl) Inspectiewerkwijze voor een belichtingsinrichting en een belichtingsinrichting.
NL1021785A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object.
NL1019212A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van oppervlakken.
NL1025558A1 (nl) Inrichting voor het walsen en een werkwijze voor walsen.
NL1019490A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het berekenen van een reciproque.
NL1028888A1 (nl) Inrichting voor ontvlechten en werkwijze met gebruikmaking van gedetecteerde lijnbibber.
NL1029018A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het verbeteren van de contrastratio in een projectiesysteem.
EP1634160A4 (en) INFORMATION PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME
NL1025925A1 (nl) Inrichting voor het verwijderen van stoorsignaal met verschillende karakteristiek en werkwijze voor het verwijderen daarvan.
NL1014780A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het melken van vee.
NL1023632A1 (nl) Inrichting en methode voor het onderzoeken van talrijke verschillende materiaalmonsters.
NL1026642A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van een type schijf.
ITSV20030021A1 (it) Metodo e dispositivo per la verniciatura.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20040826

PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20080501

V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20100501