TW201205603A - Transparent conductive film, and conductive substrate using the same - Google Patents

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201205603 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種裝設在觸控面板、電漿顯示器之電 磁波屏蔽等、影像顯示裝置之前面的透明導電膜，以及使 用該透明導電膜之導電性基板。 【先前技術】 觸控面板係在液晶顯示器等影像顯示裝置之前面設置 作為電極片之輸入裝置，而該輸入裝置係在透明的絕緣基 板表面形成透明導電層（透明導電膜）之具有導電性基板 者。 作為構成輸入裝置之導電性基板的透明導電層之材 料，廣為人知的有摻錫氧化銦（ΙΤ0)及聚乙烯二氧噻吩-聚 苯乙烯磺酸所代表之7Γ共軛系導電性高分子（有機導電 體）。 然而，觸控面板用輸入裝置所使用之導電性基板則有 形成電路圖案及天線陣列圖案的情形。 圖案的形成方法有例如專利文獻1所揭示，在透明基 材之全表面藉由塗佈而形成透明導電層後，照射C〇2雷射或 利用Q開關之脈衝寬度100η秒左右的YAG雷射，將成為絕 緣部分之透明導電層藉由燒触（Ablation)而去除之方法。 專利文獻2、3揭示，藉由網版印刷法或凹版印刷法等 之印刷在透明基材之表面以規定之圖案形成導電部之方 法。 專利文獻4揭示，在透明基材之全表面藉由塗佈形成 3 322772 201205603 分之透明導 透明導電層之後，經電漿蝕刻去除作成絕緣部 電層的方法。 專利文獻5揭示，對金屬奈米線（金屬超細纖 於黏合劑（樹脂）中並硬化而成之透明導電膜上進行刀 絕緣化而形成導電圖案之技術。另外，由透明導 外部之金屬奈米線則以雷射去除。 、犬 專利文獻6揭示，對觸控面板用IT〇蒸鍍基板使用紫 外線雷射，控制光束直徑與透鏡之焦點距離，在控制聚光 領域内之加工寬度下藉由1〇//m左右之精細燒蝕而形成精 細圖案之技術。 [先前技術文獻] [專利文獻] 2004- 118381 號公報 2005- 527048 號公報 2008- 300063 號公報 2009- 26639 號公報 2010- 44968 號公報 2008-91116 號公報 [專利文獻1]日本特開 [專利文獻2]日本特開 [專利文獻3]日本特開 [專利文獻4]曰本特開 [專利文獻5]日本特開 [專利文獻6 ]日本特開 【發明内容】 [發明所欲解決之課題] 一般而言’上述有機導電體係著色成綠色至藍色，ιτο 係著色成淡黃色。因此，以專利文獻1至4之方法在絕緣 基板上形成導電圖案時，導電部變成形成各導電膜之導電 體固有的有色’而僅有絕緣基板的絕緣部變成無色。因此， 4 322772 201205603 將所得導電性基板設置在影像顯示裝置之前面時，會產生 看到導電圖案之問題。 另一方面，專利文獻5係有難以看到導電圖案之優 點。然而，在透明導電膜内部，由於金屬奈米線不僅於導 電部而亦殘留在絕緣部，因而難以確實地進行絕緣。亦即， 為使確實地絕緣，而有必要控制透明導電膜的厚度。 並且，專利文獻6方面係加工中有使用利用高次諧波 之紫外線雷射的必要，並且，以控制燒蝕領域之寬度的目 的，為調整雷射光束直徑及變焦透鏡焦點距離，以市售之 雷射加工機則有對應困難之問題。 本發明係因鑑於如此情事而成者，其目的在提供一種 透明導電膜及使用該透明導電膜之導電性基板，不會很容 易看到導電圖案，而能確實地使絕緣部絕緣，且可得到電 氣性能。 [用以解決課題之手段] 為達成上述目的，本發明提案下述手段。 亦即，本發明之透明導電膜，其特徵係：具備具有絕 緣性之透明基體、與由具有導電性金屬所構成且配置在上 述透明基體内之網狀構件，在上述透明基體中設有配置上 述網狀構件之導電部、與配置藉由去除上述網狀構件而形 成之空隙（5)的絕緣部。 本發明之透明導電膜中，上述網狀構件可作成由分散 在上述透明基體内且互相以電連接之金屬超細纖維所構成 者0 5 322772 201205603 本發明之透明導電膜中，上述金屬超細纖維可作成以 銀為主要成分者。 本發明之透明導電膜中，上述絕緣部之空隙可作成在 上述網狀構件上照射脈衝狀雷射而形成者。 本發明之透明導電膜中，上述脈衝狀雷射係脈衝寬度 未達1 p秒之極短脈衝雷射。 本發明之透明導電膜中，上述脈衝狀雷射係YAG雷射 或YV〇4雷射。 本發明之導電性基板，其特徵係：將上述之透明導電 膜設在絕緣基板之至少一面上者。 本發明之導電性基板中，上述絕緣基板可作成透明者。 [發明之效果] 依據本發明之透明導電膜及使用該透明導電膜之導電 性基板，將難以看到導電圖案、確實地使絕緣部絕緣，可 得到穩定的電氣性能。 【實施方式】 [用以實施發明之形態] 本發明之透明導電膜及使用該透明導電膜之導電性基 板，可適用在例如透明部分形成配線圖案之製品，如透明 天線、透明電磁波屏蔽、靜電容量方式或薄膜式之透明觸 控面板等的透明輸入裝置。並且，本發明之透明導電膜及 使用該透明導電膜之導電性基板，以在汽車之方向盤等所 附隨的靜電容量輸入裝置等三維成型品或三維之加飾成型 品的表面所設之靜電容量感測器等形成必要之電極的目 6 322772 201205603 的，即可使用。另外，本實施形態中所謂的「透明」係指 具有50%以上之透光率者。 第1圖係呈示使用本發明之一實施型態的透明導電膜 及導電性基板之輸入裝置1。 輸入裝置1係具備有配置在輸入者侧之導電性基板 10、 配置在影像顯示裝置側使面對該導電性基板10的導電 性基板20、以及設置在該等之間的透明微小間隔物（dot spacer)30之電阻膜式觸控面板。 導電性基板10係具備透明的絕緣基板11、在絕緣基 板11中至少在朝向影像顯示裝置側之面設置的透明導電 膜12。 導電性基板20係具備透明的絕緣基板21、在絕緣基 板21中至少在朝向輸入者側之面設置的透明導電膜22。 絕緣基板11、21除了具有絕緣性之外，同時可在表面 形成透明導電膜12、22，且對於下述之雷射加工，在規定 之照射條件中，以使用不易產生外觀變化者為佳。具體上 可列舉例如：玻璃、聚碳酸酯、以聚對苯二曱酸乙二酯（PET) 為代表之聚酯、丙烯腈· 丁二烯•苯乙烯共聚樹脂（ABS樹 脂）等的絕緣性材料。並且，絕緣基板11、21之形狀可使 用板狀者、具有彎曲性之薄膜狀者、成型為立體（三維）之 成型品等。 將該輸入裝置1使用在透明觸控面板時，絕緣基板 11、 21中可使用玻璃板或PET薄膜等。並且，將輸入裝置 1使用作為附裝於汽車之方向盤的靜電容量輸入裝置等靜 7 322772 201205603 電容量感測器等之必要的電極時，可在絕緣基板ii、 使用由ABS樹脂等所構成之成型品、或在此 及轉錄等而裝設加飾層之加飾成型品。 専臈的層積 例如：將本發明利用作為經由按壓使上下2片電極膜 (透明導電膜）12、22接觸而導通之膜輸入等的透明觸於面 板時，作為輸入者側的絕緣基板u，對於來自輸入者=的 外力，以使用易於弯曲者（例如：透明樹脂薄膜）為佳，作 為影像顯示裝置側之絕緣基板21，係以使用具有介由微小 間隔物30而易於支撐導電性基板10的規定以上（例如與絕 緣基板11同等以上）之硬度者為佳。 並且，一對之導電性基板1〇、20的透明導電膜U、 22間以互相接近之狀態介由微小間隔物20空出間隔使面 對面配置。然後，導電性基板10由輸入者側朝向影像顯示 裝置侧按壓時，上述導電性基板10之絕緣基板11及透明 導電膜12會變彎，同時可使上述透明導電膜12接觸到導 電性基板20的透明導電膜22。藉此接觸，即構成電氣訊 號的產生。 並且，如第2圖所示，透明導電膜12、22係具備具有 絕緣性之透明基體2、以及由具有導電性之金屬所構成且 配置在透明基體2内之網狀構件3。透明基體2係在液狀 之狀態中由可充填（浸潰）於下述之網狀構件3的絲線（鐵 維）間並藉由例如熱、紫外線、電子束、放射線等而硬化之 性質的硬化性樹脂所構成。 並且，網狀構件3係由分散在透明基體2内且互相以 8 322772 201205603 電連接之複數的金屬超細纖維4所構成。詳而言之，該等 金屬超細纖維4之間，係沿著絕緣基板11、21之表面（透 明導電膜12、22所形成之面）的面方向，互朝著不同方向 不規則地延伸存在，同時其至少一部分以上密集地配置成 相互疊合（接合）之程度，而依如此之配置互相以電接合（連 接）。 亦即，網狀構件3係在絕緣基板11、21之表面上構成 導電性的二維網絡，透明基體2中，網狀構件3所配置之 領域成為導電部C。並且，網狀構件3之金屬超細纖維4 係具有埋設在透明基體2内之部分與從上述透明基體2的 表面突出之部分。 具體而言，如此之金屬超細纖維4可列舉如：由銅、 鉑、金、銀、鎳等所構成之金屬奈米線或金屬奈米管。本 實施形態中，金屬超細纖維4係使用以銀為主成分之金屬 奈米線（銀奈米線）。金屬超細纖維4例如形成其直徑為0. 3 至1 OOnm左右、長度為1 # m至100 # m左右。 另外，網狀構件3係使用上述之金屬超細纖維4以外 的矽奈米線或矽奈米管、金屬氧化物奈米管、碳奈米管、 碳奈米纖維、石墨纖維等纖維狀構件（金屬超細纖維），亦 可將該等分散/連接而構成。 並且，如第3圖所示，在透明基體2中，藉由去除網 狀構件3之金屬超細纖維4而形成複數的空隙5，該等空 隙5密集而配置的領域成為絕緣部I。詳而言之，該等空 隙5係藉由在網狀構件3之金屬超細纖維4所配置的領域 9 322772 201205603 中照射脈衝狀雷射而將上述金屬超細纖維4蒸發·去除而 形成。 該脈衝狀雷射係例如脈衝寬度未達lp秒之極短脈衝 雷射。可使用所謂的飛秒雷射（Femtosecond Laser)。並 且’脈衝狀雷射可使用飛秒雷射以外之YAG雷射或YVCU雷 射。在使用YAG雷射或YV〇4雷射時，作為脈衝寬度在5至 300η秒左右之加工機，可利用一般廣泛使用者。 該等空隙5係沿著透明基體2之表面（露出之面）的面 方向互相朝著不同方向不規則地延伸存在或點存在而分別 形成長孔狀（長圓孔狀）或孔狀（圓孔狀），在上述表面具有 開口部分而形成。詳而言之’空隙5係配置成使對應經蒸 發·去除之金屬超細纖維4所配置的位置，同時具有與上 述金屬超細纖維4之直徑略等的直徑（内徑），而形成上述 金屬超細纖維4之長度以下。 又汁si，i個坌屬超細纖維4藉由經完全蒸發· 士 除、或至少-部分經蒸發•去除，即可使上述金屬超細觸 ，4在其延伸存在方向進行分割，使複數個㈣5互相腺 著間隔而形成。亦即’對應金屬超細纖維4之相符位 使互相隔著間隔之複數個空隙5全體成為線、 ^伸存在或點存在而形成。料，對應丨個 ^ ^ =ΓΛ5成為線狀之方式，可僅形成二 …Ρ I中，藉由1¾等空隙5之形成， 細纖維4,同時，上述導電性之，絡; 322772 10 201205603 如此’絕緣部I中’由於從透明基體2去除金屬超細 纖維4 ’因此，在上述透明基體2之導電部C與絕緣部I 中，相立的化學組成不同。 其次’對於製造本實施形態之透明導電膜及導電性基 板的製造裝置以及製造方法進行說明。 在本實施形態說明之導電圖案形成基板（導電性基板） 之製造方法中，係使用在絕緣基板11(21)之一個面所形成 的透明導電層（導電圖案形成前之透明導電膜）a以規定之 圖案照射極短脈衝之雷射光L的方法。 另外’在以下之說明中，具有雷射加工前之絕緣基板 11(21)與上述絕緣基板11(21)之一個面所形成的透明導電 層a的積層體者稱為導電性基板用積層體A。 首先，對於本實施形態之導電圖案形成基板的製造方 法中使用之製造裝置40進行說明。如第4圖所示，該製造 裝置40係具備：使雷射光L產生之雷射光產生手段41、 將雷射光L進行5^光之聚光手段的凸透鏡等之聚光透鏡 42、以及载置導電性基板用積層體A之载置台43。 該製造裝置40中之雷射光產生手段41係使用使波長 未達2/ΖΠ1、脈衝寬度未達200η秒之雷射光（可見光或紅外 線之雷射光）產生者。並且’在可易於利用之點上，雷射 光L之脈衝寬度以1至100η秒為佳。 聚光透鏡42之配置係以雷射光l之焦點？位於透明導 電層a與聚光透鏡42之間者為佳。藉此，絕緣基板以⑴ 及載置台43所碰上的雷射光L之光點直徑（spQt sizes) 322772 11 201205603 變的比透明導電層a所碰上的雷射光L之光點直徑大，絕 緣基板11 (21)及載置台43所碰上的雷射光L之能量密度 變小，因此可防止絕緣基板11(21)及載置台43的損傷。 聚光透鏡42係以低開口數（NA<0·〗）者為佳。亦即，藉 由使聚光透鏡42之開口數成為NA<0. !，即可易於設定雷 射光L之照射條件，特別是雷射光[之焦點F位於透明導 電層a與聚光透鏡42之間時，可防止上述焦點F中之空氣 的電漿化所帶來的能量損失與雷射光L之擴散。 更且，透明導電層a係例如在由金屬超細纖維4所構 成之網狀構件3之纖維（絲線）間填充（浸潰）由樹脂所成之 透明基體2而形成，且設在由透赌脂薄朗構成之絕緣 基板11(21)上時，藉由上述之設定，可使埋設在透明導電 層a之透明基體2内的金屬超細纖維4從透明基體2之表 面喷出而確實地去除。因此，藉由對應所要的絕緣部丨之 形狀使空隙5確實轉成，即可確實地且容易地實現絕緣 化處理。 並且，由於經雷射光L照射在透明導電層a上之照射 點非為點狀而形成面狀，因此，透明導電I a _邊加工亦 不帶給、、’E緣基板11(21)影響之照射能量密度的控制，變的 較以往容易。更且’對於透料電層a，除了可-併描繪 線寬度較粗的絕緣圖案，且易於所謂的填滿（fiu in)加 =，同時，可大幅度地取得上述絕緣圖案的寬度，因而提 尚絕緣部I的絕緣性。 並且，載置台43成為可在水平方向進行二維移動。載 322772 201205603 置台43之至少上面側係以透明的構件或具有光線吸收性 的構件所構成者為佳。 載置台43在絕緣基板11(21)為透明且雷射光L之輸 出超出1W時’係以尼龍系之樹脂材料或矽膠系之高分子材 料為佳。 其次’對於使用上述製造裝置40之導電圖案形成基板 的製造方法進行說明。 首先，在载置台43上載置導電性基板用積層體A，使 透明導電層a載置在絕緣基板11(21)之上。 其次’藉由雷射光產生手段41使雷射光射出，並經由 聚光透鏡42將雷射光l聚光。將該經聚光之雷射光L的超 出焦點F且光點直徑擴散的部分照射透明導電層a。此時， 使雷射光L照射成為規定之圖案的方式而移動該載置台 43。 照射透明導電層a之雷射光L的能量密度及每單位面 積之能量係依雷射之脈衝寬度而異。 脈衝寬度未達lp秒的雷射（例如飛秒雷射）中，係以能 量社、度為1x10至7xl〇17W/m2、每單位面積之照射能量為1 xlO5至 lxl06J/m2者為佳。 脈衝寬度為1至l〇〇n秒之雷射（YAG雷射或γν〇4雷射） 中，係以能量密度為1 χ1 〇π至7xl〇i8w/m2、每單位面積之照 射能量為lxlO6至1><1071/1112者為佳。 ， 亦P此篁岔度·照射能量設定為小於上述數值範圍 之值時，絕緣部I之絕緣會有不足之憂。並且，設定為大 322772 13 201205603 於上述數值範圍之值時，加工痕跡變的顯目，在透明觸控 面板或透明電磁波屏蔽等之用途中變的不妥。 並且，該等之值係藉由以加工區域之聚光光點面積除 以加工領域中之雷射束的輸出值而定義，簡便上，輸出係 來自雷射振盪機之輸出值乘以光學系之損失係數而求得。 並且，光點直徑面積s係依下述式而定義。

S=S〇xD/FL S〇:以透鏡聚光之雷射束面積 FL :透鏡之焦點距離 D:透明導電層a之表面（上面）與焦點之距離 其中，距離D設定在焦點距離FL之0. 2%至3%之範圍 内。較佳者係距離D設定在焦點距離FL之0. 5%至2%之範 圍内。更佳者係距離D設定在焦點距離FL之1. 5%至2%之 範圍内。藉由使距離D設定在上述數值範圍，除了可確實 地進行絕緣部I中之金屬超細纖維4的去除（空隙5的形 成），同時可形成具有電性高之信賴性的絕緣圖案（導電圖 案），並且可確實地防止因絕緣基板11(21)之損傷所引起 的加工痕跡。 並且，在形成精度高之導電圖案之點，透明導電層a 之相同部分宜以雷射光L間歇地照射複數次。具體而言， 以間歇地照射3至500次者為佳，以照射2至200次者更 佳。如為3次以上之照射，可更確實地絕緣化，如為500 次以下之照射，即可防止經雷射光L照射之透明基體2部 分因溶解或蒸發之去除。 14 322772 201205603 如此作法，在透明導電層a上施行圖案化，除了形成 具備由導電部C與絕緣部I所構成之導電圖案的透明導電 膜12(22)，同時，導電性基板用積層體A成為導電圖案形 成基板（導電性基板）10(20)。 另外，在上述說明中，雖在XY台等之移動式載置台 43上裝載導電性基板用積層體A進行圖案化，惟並不僅限 於此。亦即，可為例如：將導電性基板用積層體A作成固 定狀態並使聚光系構件相對地移動之方法、使用鏡測電流 計等將雷射光L進行掃描之方法、或者，將上述者組合後 進行圖案化之方法。 上述製造方法中使用之導電性基板用積層體A係以下 所示者。 導電性基板用積層體A之透明導電層a中，構成網狀 構件3之無機導電體，可列舉如：銀、金、鎳等金屬奈米 線。並且，透明導電層a之中，構成透明基體2之絕緣體 可列舉如：透明之熱塑性樹脂（聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙 烯酯共聚物、聚曱基丙烯酸曱酯、硝基纖維素、氣化聚乙 烯、氯化聚丙烯、偏氟乙烯）、以熱或紫外線或電子束或放 射線而硬化之透明的硬化性樹脂（三聚氰胺丙烯酸酯、胺基 曱酸酯丙烯酸酯、環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂、丙烯酸改質 矽酸鹽等聚矽氧樹脂）。 並且，第5圖係本實施型態之變形例，圖示之例中， 在導電性基板用積層體A中之絕緣基板11 (21)之上下兩面 設有一對透明導電層a。此時，作為聚光透鏡42，如使用 15 322772 201205603 焦點距離FL在50_以上之開口數未達〇. 2者，可使雷射 光L之擴散變小。因此，透鏡之位置調整變的容易，同時， 絕緣基板11(21)之兩面中的光點直徑差距變小，雙方之透 明導電層a所對的能量密度變的略同，因此，可使雙方的 透明導電層a —併形成相同的絕緣圖案。 並且，在絕緣基板11(21)之兩面形成的透明導電屛玨 之中，僅有單面的透明導電層“邑緣化時，作為聚光^ a 42係可使用開口數大於〇. 5者。 兄 如上述之說明，依據本實施型態之透明導電膜12(2 及使用該透明導電膜12⑽之導電性基板1()⑽）、， =中狀ί有導電性之網狀構件3的配置領域作為導電 i缘部I ΐ件3被去除卿叙㈣5的崎_域作為 =，’導電部C係確保依由金屬所構成= 導通，絕緣部I係藉由網狀構件3 ”可確實地得到電性被去除而形成 2内電Γ接之之電财’由分散於遷明基體 3,不僅4 奈米料所糾Μ狀構件 3不僅於導電部c而錢留在絕 錢構件 部I中難以確實地進行絕緣。 ：：在上述絕緣 之構成，由於絕緣部工之網狀構件 實施型態 成空隙5而麵 （金屬超細纖維4)取代 明導電膜1丄 確實地絕緣，因此，除了透 乃导顆12(22)中之電氣特性（性 除了透 製品（輸入敦D之信賴性。 & 5日寺提高作為 周狀構件3被去除㈣成符合（對 更且，絕緣部I中， 322772 16 201205603 應）上網㈣件3(金屬超域維4)之形狀的空隙5 即’耩由形成如此之空隙5，導電部c與絕緣部 夕、 色調與透明性近似，而難以藉由肉眼等而相互判斷（看到)之 並且，由於網狀構件3係由分散於透明基體2 之金屬超細纖維4所構成，因此，該網狀構: [即可較料形成。 金屬超細纖維 本實施型態’金屬超細纖維4中使用以銀作 為主成刀者時，上述金屬超細纖維4㈣容易取得 為網狀構件3使用。並且，將絕緣部ϊ之網狀構件％金 超細纖維4)經雷射加工而錄時，以市售之—般的雷射加 工機即可對應。並且，以銀為域分之金屬超細纖:4， 由於透光率高且表面電阻係數低而可形成無色透明 圖案，因而更佳。 雷射加工機（置造裝置）4〇如使用脈衝寬度未達lp秒 之極短脈衝雷射（飛秒雷射）時，可確實地使雷射加工後之 導電性基板10(20)中的導電圖案不顯目，而更加期待。 如此’依據本實施型態之透明導電膜12(22)及使用該 透明導電膜之導電性基板1〇(2〇)，則導電圖案不易看到， 且確實地使導電圖案中之導電部C成為低電阻且使絕緣部 I確實地絕緣，可得到穩定的電氣性能。 另外，本發明並不限於上述之實施型態，在不脫離本 發明之主旨的範圍内可加入各種變更。 例如：在上述之實施型態中，雖將絕緣基板u、21均 17 322772 201205603 作成透明者，然亦可使該等絕緣基板11、21之任一者或雙 方施行具有某種程度之透明性的著色。 網狀構件3雖作成由分散在透明基體2内且互相以電 連接之複數的金屬超細纖維4所構成者，然並不限定於 此亦即，網狀構件3亦可作成包含將具有導電性之金屬 膜經触刻等而形成格子狀的線栅（Wire~grid)。 導電性基板1 〇 ( 2 0 )可任意地附加點著、抗反射、硬塗 層及微小間隔物等的機能層。 特別是，在使用YAG雷射或YV〇4雷射的基本波等波長 lOOOnm左右的雷射，同時作為上述機能層如使用丙烯酸系 高分子材料時，從外觀特性之觀點，以在雷射照射後裝設 機能層者為佳。 [實施例] 以下，將本發明藉由實施例更具體地進行說明。惟本 發明並不被此實施例所限定。 [製造例1]銀奈米線導電薄膜（導電性基板）之製作（本發明 之實施例） 於厚度100//m之透明的聚酯（PET)薄膜（絕緣基板 11、21)上塗佈Cambrios公司之〇hm(商品名稱）印墨（金屬 超細纖維4)，乾燥後，在其表面塗佈紫外線硬化性之聚酯 樹脂印墨（透明基體2) ’藉由施行乾燥•紫外線處理，在 PET薄膜上形成由線徑50mm左右、長度15/ζιη左右之銀纖 維（金屬超細纖維4)所構成的具有導電性二維網絡（網狀構 件3)之耐磨擦性的透明導電層a(第2圖）。 322772 201205603 S亥銀奈米線導電薄膜（導電性基板10、20)之透明導電 層a的表面電阻為230Ω/□、透光率為的％。 其次，將該銀奈米線導電薄膜裁切加工為長度 寬度50mm的長方形，作成銀奈米線導電薄膜試驗片 80mm、 〇 [製造例2]銀蒸鍍導電薄膜之製作（比較例） 準備在厚度100//ιη之透明的PET薄膜的單面上設有矽 酮/丙婦酸酉旨之硬塗層纟，在該硬塗層之另一面上藉由磁控 濺鍍裝置形成厚度6〇nm之氧化鋅膜。接著，在該氧化鋅膜 之表面使用磁控濺鍍裝置形成厚度27nm之銀膜。更且，在 該銀膜之表面，與上述氧化鋅膜之相同方式，形成厚度6〇nm 之氧化鋅膜（第6圖）。藉此’在pet薄膜上形成由氧化辞 膜與銀膜所構成之具有導電性的二維網絡之透明導電層。 詳言之’如第6圖所示’銀錢層係複數的粒狀物密集連 結而形成如設有若干的空隙。 該銀蒸鍍導電薄膜之透明導電層的表面電阻為95Ω/ 、透光率為85%。 其次，將該銀蒸鍍導電薄膜裁切加工為長度8〇mm、寬 度50mm的長方形，作成銀蒸鍍導電薄膜試驗片。 [實驗例1] 使用波長750nm、輸出10mW、脈衝寬度i3〇f秒、重複 頻率1kHz、電子束直徑5mm的飛秒雷射（製造裝置4〇)，並 使用焦點距離FL=l〇〇mm之聚光透鏡42與鏡測電流計，在 厚度5削1之玻璃板上配置有導電性基板（上述銀奈米線導 電薄膜或上述銀蒸鍍導電薄膜）之試驗片中，從上述透明導 322772 19 201205603 電層之表面朝向聚光透鏡42側調整使雷射光L的焦點ρ % 定在間隔1.5_之位置後，使聚光點以lmm/秒橫切試驗$ 之寬度方向而移動，進行直線描繪（絕緣圖案之形成）。 [實驗例2] 除了雷射光L之焦點F設在上述透明導電層之表面上 以外’作為與實驗例1之相同條件’進行直線=緣。 [實驗例3] 使用波長1064nm、輸出12W、脈衝寬度2〇ri秒、重複 頻率100kHz、電子束直徑6. 7mm之γν〇4雷射（製造裝置 40)，並使用焦點距離FL=300mm之聚光透鏡42與鏡測^流 計，在DURAC0N(註冊商標）上配置有導電性基板（上述銀二 米線導電薄膜或上述銀蒸鍍導電薄膜）之試^片中，從上= 透明導電層之表面朝向聚光透鏡42側調整使雷射光1的焦 點F設定在間隔3mm之位置後，使聚光點以1〇〇mm/秒橫^ 試驗片之寬度方向而移動，進行直線福緣。 [實驗例4] 除了聚光點之移動速度設為3〇〇mm/秒以外，作為與實 驗例3之相同條件，進行直線描繪。 [實驗例5] 除了輸出設為3. 6W、平本* μ 秒以外，作為與實驗例3=^之±移動迷度設為福/ [實驗例6] ^目同條件’進行直線描缘。 除了雷射光L之焦點F 以外，作為與實驗例4 <相 設在上述透明導電層之表面上 同條件，進行直線描繪。 322772 20 201205603 [實驗例7] 作為與實驗例4之相同條件，在相同處重複5次的直 線描繪。 [實驗例8] 使用波長10.6#m、輸出15W之碳酸氣體雷射（持續振 盪：sustained oscillation)，並使用焦點距離 FL=300mm 之聚光透鏡42與鏡測電流計，從試驗片中之上述透明導電 層之表面朝向聚光透鏡42側調整使雷射光L的焦點F設定 在間隔3mm之位置後，使聚光點以300mm/秒橫切試驗片之 寬度方向而移動，進行直線描繪。 對於經上述實驗所得之導電圖案形成基板（導電性基 板），使用測試機，夾住經雷射光L照射之部分測定電阻 值。並且，導電圖案之視認性（加工痕跡）以肉眼評價。評 價結果不於表1。 另外，評價基準（A、B、C、D)係如下述。 A :優。電阻值超出10ΜΩ而確實地進行絕緣，且導電圖案 完全無法看到。 B :良。電阻值超出10ΜΩ而確實地進行絕緣，且導電圖案 幾乎無法看到（在組成觸控面板之際，實質上無法看到加工 痕跡者）。 C :可。電阻值超出10ΜΩ雖確實地進行絕緣，然為可看到 導電圖案者（在組成觸控面板之際，可作為製品使用的程 度）。 D :劣。電阻值在10ΜΩ以下，係絕緣化不足者，或者，形 21 322772 201205603 成能以肉眼確認出燒焦或開孔之程度者。亦即，無法作為 製品使用。 實驗例 〇〇 ε =1 〇 ^4 r1 < 300mm 1 3mm上 300mm/秒 D (明確的加工痕跡） 1 1 1 卜 YV〇4雷射 1064nm 300mm 1 3mm上 300_/秒 LO CQ 〇 CO Ooun i (表面上） 〇 D (燒焦） m 3. 6ff 3mm上 D (無絕緣化） D (無絕緣化） D (無絕緣化） D (無絕緣化） CO 100mm/秒 CQ 〇 飛秒雷射 750nra 10mW lOOmm 0mm (表面上） 1mm/秒 〇 1·^ l 1.5mm 上 D (無絕緣化） 照射條件 雷射加工機 波長 輸出 焦點距離(FL) v0 w錄 ¥ 5 s胡- 聚光點的移動速度 掃描頻率 5^ 5： sS ―画 Ci輕 ^ 1 5贼 <Μ画 22 322772 201205603 如表1所示，在製造例ι(本發明之實施例）之實驗例 1、3、7中，照射領域之透明性及色調等之變化無法在光 學顯微鏡中確認。然後，以電子顯微鏡觀察照射領域時， 確認出由透明基體僅蒸發銀奈米線而形成空隙5(第3 圖）。特別是在實驗例1中，毫無見到照射領域的變化，而 可得到良好的結果。並且，在實驗例2、6中觀察照射領域 後，確認出透明導電層a本身經燒蝕而從PET薄膜上去除。 另一方面，在製造例2(比較例）之實驗例1至7中， 得不到評價A及B。另外，在製造例2之實驗例2、3、7 中，於照射領域（第7圖中以符號LI表示之照射領域）中， PET薄膜之表面的銀蒸鍍層經廣範圍地去除，與具有導電 性之未照射領域（第7圖中以符號UI表示之未照射領域） 相反，確認出絕緣性的確保。 並且，在實驗例8中，導電圖案有明確的加工痕跡殘 留（評價D)，無法成為適用作為製品之程度。 [製造例3]觸控面板（輸出裝置）之製作（本發明之實施例） 其次，對於使用本發明之透明導電膜及導電性基板的 觸控面板（配線基板）之製造例進行說明。 首先，在導電性基板用積層體A之透明導電層a上， 以網版印刷將市售之銀膏印刷成帶狀，形成連接器圖案。 然後，如第8圖及第10圖所示，以實驗例2之條件，在透 明導電層a上將「+」記號作為標記，以5mm間距、長度 1mm者6個為一列，2列記號之間空出25mm間隔，作成輸 入領域之標記。 23 322772 201205603 其次，如第9圖及第10圖所示，將「+」記號在基點 以實驗例1之照射條件照射6條長度35mm之線（雷射光 L)，作為輸入領域内之配線圖案。 接著，將「+」記號在基點以實驗例2之條件，在橫切 連接器圖案之犁態下形成絕緣圖案，得到具有25_四方之 輸入領域的觸控面板用配線基板。另外，準備一對該觸控 面板用配線基板，以測試機確認後，該等觸控面板用配線 基板在輸入領威端部中之配線圖案間為絕緣狀態。 其次’使用網版印刷，在該等觸控面板用配線基板中 之-片，α「+」記號作為標記，將直徑·m、高度8/zm 之丙豨酸錢脂所成之微小間隔物3Q,以lmm間距形成複 數個（參照第1圖）。 接著，分別㈣錢相_ 30之觸控面㈣配線基 板與未形賴小_物3Q之馳面㈣配隸板切取成 規定形狀，以透明導—12(22)互相面對面配置之方式， 2市售之雙面膠貼上四邊，作成透明之膜式觸控面板（輸 入裝置1)(參照第1圖）。 [評價] 線圖t此！! 之觸控面板1並未見到微小間隔物30、配 踝圖案，並且，確纫Ψ从 「劁、幻U一 出作為鍵矩陣之機能。 [製造例彻控面板之製作（比較例） 在預先印有微pq κ 以與製造例3 30之導電性基板用積層體A， 小間隔物30變黑。 進行圖案化後，以肉眼確認出微 24 322772 201205603 【圖式簡單說明】 - 第1圖係將本發明之一實施型態的透明導電膜及使用 該透明導電膜之導電性基板所適用之輸入裝置簡略化呈示 的侧剖面圖。 第2圖係說明本發明之一實施型態的透明導電膜之網 狀構件（導電部）及雷射加工前的透明導電層之放大照片。 第3圖係說明本發明之一實施型態的透明導電膜經去 除網狀構件而形成的空隙（絕緣部）之放大照片。 第4圖係將製造本發明之一實施型態的透明導電膜及 使用該透明導電膜的導電性基板之製造裝置（雷射加工機） 簡略化呈示的側面圖。 第5圖係呈示第4圖之導電性基板及製造裝置的變形 例之侧面圖。 第6圖係說明比較例中之透明導電膜的導電部及雷射 加工前的透明導電層之放大照片。 第7圖係說明比較例中之透明導電膜的照射領域（絕 緣部）之放大照片。 第8圖係說明使用本發明之透明導電膜及導電性基板 製造輸入裝置之實施例（製造例）的侧面圖。 第9圖係說明使用本發明之透明導電膜及導電性基板 製造輸入裝置之實施例（製造例）的侧面圖。 第10圖係說明使用本發明之透明導電膜及導電性基 板製造輸入裝置之實施例（製造例）的剖視圖。 【主要元件符號說明】 25 322772 201205603 1 輸入裝置 2 透明基體 3 網狀構件 4 金屬超細纖維 5 空隙 10、20 導電性基板 11 ' 21 絕緣基板 12、22 透明導電膜 30 微小間隔物 40 製造裝置 41 雷射光產生手段 42 聚光透鏡 43 載置台 A 導電性基板用積層體 C 導電部 I 絕緣部 L 雷射光 LI 照射領域 S 光點直徑面積 UI 未照射領域 26 322772

Claims (1)

1. 201205603 七 1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 、申請專利範圍： 一種透明導電膜，JL特徽位. 體、與由具有導電性金相播具備具有絕雜之透明基 内之網狀構件，在上述且配置在上述透明基體 件之導㈣* 核體巾設有配置上述網狀構 隙的絕緣部/、配置藉由去除上述網狀構件而形成之空 如Π專利範圍第1項所述之透明導電膜，其中，上述 係由分散在上述透明基體内且互相以電連接 之金屬超細纖維所構成。 如申咕專#】|&1|第2項所述之透明導電膜，其中， 金屬超細纖維係以銀為主。 、 述 如申請專利範圍第1項所述之:明導電膜，其中，上述 絕緣部之空隙係在上述網狀構件上照射脈衝狀雷射而 形成者。 如申請專利範圍第2項所述之透明導電膜，其中，上述 絕緣部之空隙係在上述網狀構件上照射脈衝狀雷射而 形成者。 如申請專利範圍第3項所述之透明導電膜，其中，上述 絕緣部之空隙係在上述網狀構件上照射脈衝狀雷射而 形成者。 如申請專利範圍第4項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係脈衝寬度未達lp秒之極短脈衝雷射。 如申請專利範圍第5項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係脈衝寬度未達lp秒之極短脈衝雷射。 1 322772 201205603 9. 如申請專利範圍第6項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係脈衝寬度未達lp秒之極短脈衝雷射。 10. 如申請專利範圍第4項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係YAG雷射或YV〇4雷射。 11. 如申請專利範圍第5項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係YAG雷射或YV〇4雷射。 12. 如申請專利範圍第6項所述之透明導電膜，其中，上述 脈衝狀雷射係YAG雷射或YV〇4雷射。 13. —種導電性基板，其特徵係：將申請專利範圍第1至 12項中任一項所述之透明導電膜設在絕緣基板之至少 一面上。 14. 如申請專利範圍第13項所述之導電性基板，其中，上 述絕緣基板為透明者。 2 322772