TW201106005A - Optical laminate, polarizing plate and image display device - Google Patents

Description

201106005 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學積層體、偏光板及影像顯示裝 置。 【先前技術】 於陰極射線管顯示裝置（CRT，Cathode Ray Tube )、 液晶顯示器（LCD ’ Liquid Crystal Display)、電漿顯示器 (PDP，Piasma Display Panel )、電機發光顯示器（ELD， Electro-Luminescence Display)、場發射顯示器（FED，Field Emission Display)等影像顯示裝置之最表面，設置有由具 有防眩性、抗反射性或抗靜電性等各種性能之功能層所構 成之光學積層體。 於對此種光學積層體賦予硬塗性之情況下，已知有例 如於透光性基材上形成包含無機微粒子之硬塗層之方法 (專利文獻1 )。 於以單層來製作此種硬塗 但气孟增之情况下，必須增大上述 硬塗層之膜厚。然而，若婵士卜，时广 曰大上述臈厚，則存在如下問題： 光學積層體會變得易於棬曲r如从、 匆於捲曲（翹曲），在將上述光學積層 體貼附於偏光元件而製作 , ^ ^ 乍偏先板時，難以利用輥進行貼 附。另外，由於厚硬塗層中 m , 中所匕3之無機微粒子量亦變多’ 因此於成本方面不利。 里W芰夕 相對於此，已知有使 利女齡S為2層之光學積層體（專 利文獻2)。然而，若為 、寸 藉由添加少量之無機微粒子來賦 201106005 予硬塗性’於例如上層（表面側）中添加無機微粒子，貝4 於上述上層與下層之間會產生折射率差。因此，於使用上 述光學積層體來形成偏光板之情況下，存在產生干擾條紋 而導致外觀不良之問題。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :曰本專利特開平160543號公報 專利文獻2 :日本專利特開平5-8350號公報

容 内 明 發 rL

[發明所欲解決之問題] 鑒於上述現狀，本發明之目的在於廉價地提供一種不 產生干擾條紋，硬塗性、抗靜電性及抗反射性優異之光學 積層體。 [解決問題之技術手段] 本發明係一種光學積層體，其依序具有透光性基材、 位於上述透光性基材之一面上之硬塗層（A )及硬塗層（B )， 其特徵在於：上述硬塗層（B)自與上述硬塗層接觸 之部分起依序具有不含無機微粒子之區域（B1)與含無城 微粒子之區域（B2)，上述不含無機微粒子之區域（B1) 與含無機微粒子之區域（B2)之邊界為凹凸形狀，上述無 機微粒子具有小於可見光波長之粒徑。 較佳為上述不含無機微粒子之區域（B1)以含無機微 粒子之區域（B2)之黏合劑樹脂為主成分，且具有可 201106005 波長以上之平均厚度。 較佳為上述硬塗層（A )之黏合劑樹脂與硬塗層（b ) 之黏合劑樹脂具有相容性。 較佳為上述硬塗層（A)之硬度（Ha)、不含無機微粒 子之區域（B1)之硬度（Hbl)及含無機微粒子之區域（B2) 之硬度（Hb2)滿足下述式（1)。

Ha^ Hbl < Hb2 ( 1 ) 較佳為上述無機微粒子之形狀為念珠狀。 較佳為上述無機微粒子為導電性無機微粒子。 較佳為上述無機微粒子於硬塗層（B)中之含量為⑺ 〜80質量％。 本發明之光學積層體亦可於硬塗層（B)之與硬塗層（A) 相反側之面進而具有低折射率層。 本發明之光學積層體亦可於硬塗層（B)之與硬塗層（A) 相反側之面進而具有防污層。 另外，本發明亦係一種偏光板，其具有偏光元件其 特徵在於：上述偏光元件之表面具有上述光學積層體。 另外，本發明亦係—種影像顯示裝置，其特徵在於： 於最表面具有上述光學積層體或上述偏光板。 以下’對本發明進行詳細說明。 圖1係本發明之光學積層體的剖面之示意圖。如圖^ 所不，本發明之光學積層體依序具有透光性基材丨、位於透 光丨生基材1之一面上之硬塗層2及硬塗層3,硬 _ (B)3具有不含無機微粒子之區域（Bl)4與含無機 201106005 微粒子之區域（B2) 5» 具體而5，於本發明之光學積層體中，硬塗層（B) 3 係以特定之層構成而具有不含無機微粒子之區域（) 4 與含無機微粒子之區域（B2) 5。因此，可形成硬度較高， 硬塗性優異之光學積層體。 另外，於本發明中，由於含無機微粒子之區域（B2) 5 與不含無機微粒子之區域（B1) 4及硬塗層（a) 2係硬度 不同之層，因此其結果，硬度較低之層成為所謂之緩衝層， 藉由-玄緩衝層與硬度較高之層之，组合，可形成硬塗性更優 異之光學積層體。 進而，於本發明之光學積層體中，不含無機微粒子之 區域（B。4與含無機微粒子之區域（B2) 5之邊界為凹巧 ^片因此即使不含無機微粒子之區域（Β 1 ) 4與含無機 微粒子之區域（Β2)5存在折射率差，藉由存在上述凹凸形 狀亦不會產生干擾條紋。進而，即使於硬塗層（A ) 2與透 光性基材1及/或不含無機微粒子之區域⑶）4之界面產 ^干擾條紋之情況下’亦可藉由上述凹凸形狀之擴散而減 ^上述干擾條紋，可形成外觀良好之光學積層體。 再者，於本發明之光學積層體中，上4「不含無機微 之區域（Β1) 4與含無機微粒子之區域（Β2) 5之邊界 二 ^狀」係扣·於觀察本發明之光學積層體之厚度方 面時’在不含無機微粒子之區域（B1)4與含無機微 之區域（B2 ) 5之邊界觀察到凹凸形狀。 本發明之光學積層體有可能於透光性基材i與硬塗層 201106005 界面传在Γ塗層（A) 2與硬塗層（b) 3之間產生界面。 層之間不存在物理性或化學性親和之情況而產 條紋而存在各層之折射率差受到較大影響，產生干擾 二致外觀不良之情況。相對於此，本發 層體由於在A f*、+，nn „ , 變得良好。、凸形狀’因此可減少干擾條紋’外觀 另外’該凹凸形狀係藉由無機微粒子之有無而形成， …無機微粒子之區域。1)4與含無機微粒子之區域 =2) 5之間不存在明確之界面。凹部中存在有於黏合劑樹 月曰分散有無機微粒子之區域，凸部僅由黏合劑樹脂構成 而不存在無機微粒子。由於係此種凹凸形狀，因此亦不會 產生由界面之存在所引起之雜散光等問題，可形成更佳之 光學積層體。再者，上述邊界由於係藉由無機微粒子之有 無而形成者，因此當觀察硬塗層⑻3之剖面時，該邊界 為點狀、線狀兩者混合或為點狀，而不會成為完全之線狀 (界面）。 進而，於本發明中，將硬塗層分成2層，且僅使上述 含無機微粒子之區域（B2) 5中含有無機微粒子。即，於本^ 發明中，由於係使上述無機微粒子以最小限度包含於必要 之部位中，因此於成本方面亦變得有利。 以下，對本發明之光學積層體之各構成進行詳細說明。 <透光性基材> 本發明之光學積層體具有透光性基材。 作為上述透光性基材，較佳為具有平滑性、耐熱性 201106005 且機械強度優異者。 作為形成上述透光性基材之材料之具體例，可列舉： 聚對苯二曱酸乙二醋（PET，Polyethylene Terephthalate )、 聚2,6萘二甲酸乙二酯、聚對苯二曱酸丁二酯、聚萘二甲酸 丁二 g旨、三乙酸纖維素（TAC，Triacetyl Cellulose )、二乙 酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚砜、 聚石風、聚丙稀（PP，Polypropylene )、環稀烴聚合物（COP，

Cyclo-Olefin Polymer)、環烯烴共聚物（C0C，Cyclo-Olefin

Copolymer )、聚曱基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚 酮、聚甲基 丙烯酸曱酯、聚碳酸酯或聚胺曱酸乙酯等熱塑性樹 脂。作為較佳者’可列舉聚對苯二甲酸乙二酯或三乙酸纖 維素。 上述透光性基材之厚度較佳為20〜300 # m，更佳為 下限為30 " m，上限為2〇〇 v m。 上述透光性基材為了提昇與形成於其上之層之接著 性，除電暈放電處理、皂化、氧化處理等物理性處理以外， 亦可預先進行錨固劑或底塗劑等塗料之塗佈。 <硬塗層（A ) > 本發明之光學積層體於上述透光性基材上具有硬塗層 (A )。 作為用於形成上述硬塗層（A )之黏合劑樹脂，較佳為 具有透明性之黏合劑樹脂，例如可列舉：藉由紫外線或電 子束而硬化之樹脂之電離放射線硬化型樹脂、電離放射線 8 201106005 性樹脂等、使塗佈 ’即可成為被膜之 更佳為電離放射線 硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂（如熱塑 時為了調整固體成分所添加之溶劑乾燥 樹脂）之混合物、或者熱硬化性樹脂。 樹脂」之概念亦包 硬化型樹脂。再者，於本說明書中 含卓體、养聚物等樹脂成分。 作為上述電離放射線硬化型樹脂，例如可列舉具有丙 烯酸酯系官能基之化合物等具有i個5戈2個以上不飽和鍵 的化合物。作為具有丨個不飽和鍵之化合物，例如可列舉： (曱基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸乙基己酯、苯乙烯甲基 苯乙稀、N·乙稀基料㈣等。作為具有2個以上不飽和 鍵之化合物，例如可列舉：聚羥甲基丙烷三（曱基）丙烯酸 !!_、己二醇（曱基）丙烯酸醋、三丙二醇二（甲基）丙稀酸酶、 二乙二醇二（曱基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、 二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、丨，6•己二醇二（甲基）丙烯酸 酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯等多官能化合物，以及上述 多官能化合物與（曱基）丙烯酸酯等之反應產物（例如，多元 醇之聚（曱基）丙稀酸酯）等。再者，於本說明書中，「（曱 基）丙烯酸酯」係指曱基丙烯酸酯及丙烯酸酯。 另外，作為上述電離放射線硬化型樹脂，亦可使用具 有不飽和雙鍵之分子量相對較低之聚酯樹脂、聚醚樹脂、 丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺曱酸乙酯樹脂、醇酸樹脂、螺 縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等。 上述電離放射線硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂併 用。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，可有效地防止塗佈面之被 201106005 膜缺陷，藉此可獲得更優異之盤黑感。可與上述電離放射 線硬化型樹脂併用之溶劑乾燥型樹脂並無特別限定，一般 可使用熱塑性樹脂。 又 作為上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如可列舉： 苯乙烯系樹脂、（曱基）丙歸酸系樹脂、乙酸乙稀酿系樹脂、 乙烯麵系樹脂、含函素之樹脂、脂環式稀煙系樹脂、聚碳 酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、 聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂較佳為 非晶性，且可溶於有機溶劑（尤其是可溶解多種聚合物或 硬化性化合物之共通溶劑卜尤其是就製臈性、透明性或 财候性優異之觀點而言’較佳為苯乙烯系樹脂、（甲基）丙稀 酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚醋系樹脂、纖維素衍生 物（纖維素酯類等）等。 於本發明之光學積層體中，於上述透光性基材之材料 為三乙酸纖維素（TAC)等纖維素系樹脂之情況下，作為上 述熱塑性樹脂之較佳之具體例’可列舉：纖維素系樹脂， 例如硝化纖維素、乙酸纖維素 '乙酸丙酸纖維素、乙基羥 基乙基纖維素、乙醯了基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維 素等纖維素衍生物等。藉由使用纖維素系樹脂’可提昇與 透光性基材或硬塗層之密接性或透明性。 進而，除上述纖維素系樹脂以外，可列舉：乙酸乙烯 酯及其共聚物、氣乙烯及其共聚物、氣化亞乙烯及其共聚 物等乙烯系樹脂，$乙烯甲醛、聚乙烯丁醛等縮醛樹脂， 丙烯酸樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸樹脂及其共聚物等丙 201106005 聚碳酸酯樹脂 烯酸系樹脂，聚苯乙烯樹脂、聚醯胺樹脂、 等。 作為上述熱硬化性樹脂，可列舉：紛類樹脂、尿素樹 脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、 不飽和聚醋樹脂、聚胺甲酸乙㈣脂、環氧樹脂、胺基醇 酸樹脂、三聚氰胺.尿素共縮合樹脂1樹脂、聚_氧㈣ 脂等。 上述硬塗層⑷除上述黏合劑樹脂以外，視需要亦可 包含其他成分。作為上述其他成分，可列舉：光聚合起始 劑、調平劑、交聯冑、硬化劑、聚合促進劑、紫外線吸收 劑、衝擊吸收劑、黏度調整劑、有機抗靜電劑等。 上述硬塗層（A)可使用將上述黏合劑樹脂、其他成分 及溶劑均勻地混合而製備之硬塗層（A)用組成物來形成。 上述混合可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機等公知 之裝置。 作為上述溶劑’可列舉：水 '醇（例如甲醇、乙醇、 丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苯甲醇、 PGME ( Propylene Glycol Methyl Ether、丙二醇曱趟））、 酮（例如丙酮、曱基乙基酮、曱基異丁基酮、環戊酮、環 己酮、庚《、二異丁基酮、二乙基酮）、酯（例如乙酸曱 酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸曱醋、甲酸乙 酯、曱酸丙酯、曱酸丁酯、PGMEA( Propylene⑴”⑴Methyl

Ether Acetate、丙二醇甲醚乙酸酯））、脂肪族烴（例如己 烷、環己烷）、鹵化烴（例如二氣曱烷、氣仿、四氣化碳）、 11 201106005 芳香族烴（例如笨、甲笨、二曱笨）、醯胺（例如二曱基 甲醯胺、二甲基乙醯胺、正曱基吡咯啶酮）、醚（例如二 乙醚、二垮烷、四氫呋喃）、醚醇（例如1 -曱氧基-2·丙醇） 等。 上述硬塗層（A)用組成物中所使用之溶劑較佳為滲透 性溶劑。 上述滲透性溶劑係指對於塗佈包含該溶劑之組成物之 透光性基材，可表現出濕潤性、膨潤性之溶劑，或者係指 進而可滲透至透光性基材之中的溶劑。藉由使用上述滲透 性溶劑’可實質上去除透光性基材與硬塗層（A)之界面， 因此可使層間密接性良好’並且可防止干擾條紋之產生。 例如，使用三乙酸纖維素（TAC )基材作為上述透光性 基材時，上述滲透性溶劑可列舉：丙酮、甲基乙基酮、環 己酮、曱基異丁基酮、=丙酮醇等酮類；甲酸曱酯、乙酸 曱西曰、乙酸乙g旨、乙酸丁醋、乳酸乙醋等醋類；石肖基甲貌、 乙腈' N-甲基吡咯啶酮、N，N_:曱基曱醯胺等含氮化合物； 曱基乙二醇、甲基乙二醇乙酸酯等乙二醇類；日氫呋喃、 1，4-二垮烷、二氧雜環戊烷、二異丙醚等醚類；二氣曱烷、 :仿、四氣乙烷等齒化烴；？基、乙基赛璐蘇、丁基賽璐 蘇、乙酸赛璐蘇等二醇醚類；以及二甲基亞砜、碳酸丙烯 醋，或者’可列舉該等之混合物。其巾，較佳為選自由乙 酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基？基異丁 酮及環己酮所組成之群中之至少一種。 土 上述硬塗層（A)之形成方法可根據公知之方法。例如 12 201106005 可將上述硬塗層（A)用組成物塗佈於上述透綠基材上而 形成被膜，視需要使該被膜乾燥後，使上述被膜硬化。 作為上述藉由塗佈而形成被膜之方法，例如可列舉： 旋塗法、浸潰法、喷霧法、壓鑄模塗料法㈣⑽响）、棒 塗法、輥塗法、液面彎曲式塗佈&、軟版印刷法、網版印 刷法、液滴塗佈法等公知之各種方法。 上述被膜之硬化方法只要根據上述組成物之内容等而 適宜選擇即可。例如’若上述組成物為紫外線硬化型之組 成物，則只要藉由對被膜照射紫外線而使其硬化即可。 上述硬塗層 度未達1 /z m， (A)之厚度較佳為1〜以爪。若上述厚 則有本發明之光學積層體之硬塗性變得不 充分之虞。若上述厚度超過10 # m，财捲曲較為劇烈而 偏光板化加工變得困難之虞。上述厚度更佳為2〜8 上述厚度係利用電子顯微鏡（SEM ( Scanning Electr〇n TEM ( Transmission

Microscope，掃描式電子顯微鏡）

Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡）、STEM(以抓以叫

Transmission Electron Microscope ’ 掃描穿透式電子顯微 鏡））對光學積層體之剖面進行觀察，並進行測定所得之 值0 <硬塗層（B) > 本發明之光學積層體於上述硬塗層（A)之上具有硬塗 層（B )。 上述硬塗層（B)自與上述硬塗層（A)接觸之部分起 依序具有不含無機微粒子之區域（B1)與含無機微粒子之 13 201106005 區域（B2 ) 〇 於本發明之光學積層體中，由於包含無機微粒子之含 無機微粒子之區域（Β2)位於表面側（與透光性基材相反 之側），因此成為硬度較高且硬塗性優異者。另外，不包 含無機微粒子之不含無機微粒子之區域（ …區域⑽相比成為硬度較低之區域，：= 之緩衝區域，可形成防止光學積層體捲曲（翹曲），對自 外部施加於光學積層體之力進行緩衝且使硬塗性更優異 者。 進而，於上述硬塗層（Β)中，上述不含無機微粒子之 區域（Β1)與含無機微粒子之區域（Β2)之邊界為凹凸形 狀。藉由存在上述凹凸形狀，可防止由上述不含無機微粒 子之區域（Β1)與含無機微粒子之區域（Β2)之折射率差 所引起的干擾條紋之產生。另外，由於上述不含無機微粒 子之區域（Β1)與含無機微粒子之區域（Β2)之間不存在 界面，因此亦可防止由反射所引起的對比度之下降或雜散 光之產生。 上述不含無機微粒子之區域（Β1)係位於上述硬塗層 (Α)與上述含無機微粒子之區域（Β2)之間的層。 上述不含無機微粒子之區域（Β1)係不包含無機微粒 子之層。藉由形成具有不包含無機微粒子之不含無機微粒 子之區域（Β1)與《麦述之包含無機微粒+之含無機微粒子 之區域（Β2 )的特定之構成，可獲得本發明所需之效果。 上述不含無機微粒子之區域（Β1)較佳為以上述含無 201106005 機微粒子之區域（B2)之黏合劑樹脂為主成分者β 上述不含無機微粒子之區域（βι)較佳為具 波長以上之平均厚度。若為 見先 呼又右為未達上述可見光波長之平均屋 度，則有無法抑制干擾條紋之虞。 _ 域（B1 )之平均 則有無法抑制干 具體而言，上述不含無機微粒子之區 厚度較佳為500 nm以上。若未達5〇〇 nm， 擾條紋之虞。 再者，上述不含無機微粒子之區域（Βι)係藉由 含無機微粒子之+ 卞之域（Β2)中所包含之無機微粒子之存在 的有無而形成有凹凸形狀。 因此，上述不含無機微粒子之區域（Βι)之平均厚度 係指利用電子顯微鏡（SEM、雇、STEM)觀察光學積^ 體之厚度方向之剖面，於—定範圍中測定硬塗層（A)與硬 塗層（B)之界面，與凸部之頂部或凹部之底部的距離所獲 得之值之平均值。 作為上述凹凸形狀，較佳為凸部之間隔為可見光波長 以上之凹凸形狀。其原因在力：若上述凸部之間隔為可見 光波長以上，則會使入射至上述凹凸形狀部分之光適度地 散射’可防止干擾條紋之產生。 上述含無機微粒子之區域（B2)包含無機微粒子。 上述包含無機微粒子之上述含無機微粒子之區域 與上述不含無機微粒子之區域（B1)或硬塗層相比， 具有更兩之硬度。藉由使此種含無機微粒子之區域（B2) 位於更表層側，可提高光學積層體之表面之硬度，而可提 15 201106005 另外由於本發明之光學積層體係組合硬度 此可形成硬塗性優異之光學積層體。 高耐擦傷性》 不同之層，因 上述無機微粒子具有小於可自伞， j見先波長之粒徑。其原因 於：若上述無機微粒子之粒徑為可見光波長以上，則透 明性會下降。具體而言，上述無機微粒子之平均—次粒徑 更佳為1〜200 nm。若未達1 nm，刖古红说 貝J有無法獲得硬度之虞。 若超過200 nm ,則有霧值上升之盧。 俱 上述平均一次粒徑進 而更佳為5〜150 nm。 再者，上述平均-次粒徑係利用電子顯微鏡（贿、 侧、STEM)對本發明之光學積層體之剖面進行觀察，並 進行測定所得之值。 當於光學積層體中之上述含無機微粒子之區域（B2) 之與透光性基材側相反側之面上，進—步積層低折㈣抗 反射層的構成之情況下，上述無機微粒子較佳為折射率較 高。其原因在於於形成後述低折射率層之情況下，可充 分地獲得與該低折射率層之折射率差，且可進一步發揮上 述低折射率層之抗反射效果。 當於光學積層體之上述含無機微粒子之區域（B2)之 與透光性基材側相反側之面上未進—步積層低折射率抗反 射層的構成之情況下’上述無機微粒子較佳為折射率低於 黏合劑樹脂。其原因在於：即使不另外設置低折射率層，、 亦可獲得表面反射率下降且視認性較佳之光學積層體。 另外，較佳為不論有無上述低折射率抗反射層，無機 微粒子與黏合劑樹脂之間均具有折射率差。其原因在=: 16 201106005 於含無機微粒子之區域（B2)與不含無機微粒子之區域（Bl) 之間產生折射率差，可減少透光性基材及/或不含無機微粒 子之區域（B1)與硬塗層（A)之界面所產生之干擾斑。 上述無機微粒子可對應於上述所期望之態樣而適宜選 擇具有適當之折射率之無機微粒子，但通常折射率較佳為 1.2〜3.5。於使用折射率為12〜15之無機微粒子之狀態 下’由於可使硬塗層⑻低折射率化，因此即使不另外： 置低折射率層，亦可獲得視認性較佳之光學積層體。 2外’於形成後述低折射率層之情況下，& 了獲得程 度更高之抗反射效果’無機微粒子之折射率較佳為15〜 3.5。 作為上述無機微粒子，只要係可對上述含無機微粒子 之區域（B2)賦予充分之硬度者即可，可使用公知之無機 微粒子。於本發明之光學積層體中，上述無機微粒子較佳 為導電性無機微粒子。其原因在於：可對本發明 層體賦予抗靜電性。 作為上述無機微粒子，具體而言，可列舉：_“折射 率為1.20〜1.45 :包含多孔質、中咖莫 射率為⑽、ZnO (折射:為二4所㈣態)，(折 表示折射率)、_2 :: 〜叫 1.71)、Sn02( I·””、Ce〇2( 氧化銦錫（簡稱1T〇;1.95)、㈣（2.00)、Al2〇3(l63 之中，當欲對光學積層體較佳地賦予抗靜電性無::= 17 201106005 硬度時，較佳為ΑΤΟ或Sn02 » 上述無機微粒子可為單分散之無機微粒子，更佳為余 珠狀之無機微粒+。若丨念珠片大，則可以少量之添加而較 佳地賦予硬塗性或上述抗靜電性，而且不存在使光學積層 體之透光性下降之虞。進而，藉由上述無機微粒子為念珠 狀’可將上述不含無機微粒子之區域（B1)與含無機微粒 子之區域（B2)較佳地形成於硬塗層（B)中。此點將後文 中敍述。 再者，上述念珠狀係指3〜100個上述無機微粒子相連 接之狀態，上述相連接之狀態既可為直鏈狀，亦可為分枝 狀0 上述無機微粒子亦可為實施過有機處理之無機微粒 子。尤其是於實施過具有反應性基之有機處理之情況下， 藉由與黏合劑樹脂亦進行反應並交聯，硬塗性能得到提 昇’故較佳。 作為上述有機處王里，可列舉使化合物化學士人於上 述無機微粒子之表面之方法，或者不使化合物與上：無機 微粒子之表面化學性結合，而使其滲透至形成無機微粒子 之組成物中所存在之空隙等之類的物理方法，可使用任一 種方法。 -般而言，作為上述有機處理，就處理效率之觀點而 吕’可較佳地㈣利❹基切醇㈣二氧切表面之活 性基之化學處理法。作為處理中所使用之化合物，可使用 與上述活性基反應性較高之矽烷系、矽氧烷系、矽氮烷系 18 201106005 材料等你j如可列舉.甲基三氣石夕统等直鍵烧基單取代聚 矽氧材料、支鏈烷基單取代聚矽氧材料，或者二-正丁基二 氣夕烧〔基一甲基氣石夕貌等多取代直鍵统基聚石夕氧化合 ㈣Mm㈣基聚@氧化合物。同樣地，直鍵统基或 支鏈烧基之單取代、多取切氧糾料，八料料亦可 有效地使用。 對應於所需功能，亦可使用於烧基鍵之末端或中間部 位具有㈣子、不鮮鍵結基、《鍵結基、料族官能 基專之化合物。 於上述硬塗層⑻中，上述無機微粒子之含量較佳為 10〜80質置％。若未達1〇質量％，則存在本發明之光學積 層體之硬塗性等較差之情況。若超過8()質量％，則有含無 機微粒子之層之透明性下降或硬度下降之虞。上述含量更 佳為15〜60質量％。 具有上述不含無機微粒子之區域（B1)及上述含無機 微粒子之區域（B2)的硬塗層（B)可使用包含黏合劑樹脂 及上述無機微粒子之硬塗層（B)用組成物來形成。 作為用於形成上述硬塗層（B)之黏合劑樹脂，可列舉 與用於形成上述硬塗層（A)之黏合劑樹脂相同之樹脂。其 中，作為用於形成上述硬塗層（B )之黏合劑樹脂，較佳為 與上述硬塗層（A)之黏合劑樹脂具有相容性之樹脂。尤其 是於使用與硬塗層（A )之黏合劑樹脂相同之樹脂之情況 下’密接性得到提昇，成為干擾條紋之產生原因之界面亦 變得不明顯，故較佳。另外，於上述硬塗層（B)之黏合劑 201106005 樹脂與上述硬塗層（A)之黏合劑樹脂相同之情況下，不含 無機微粒子之區域（B1)之硬度變得與上述硬塗層（A)之 硬度大致相同，上述不含無機微粒子之區域（βΐ)與上述 硬塗層（A) -併作為緩衝區域而發揮功能，而可形成硬塗 性更優異之光學積層體。 上述硬塗層（B)用組成物可將：用於形成上述硬塗層 (B )之黏合劑樹脂、上述無機微粒子及視需要之其他成分 與溶劑混合而製備。 作為上述其他成分及溶劑，可列舉可於上述硬塗層（A ) 用組成物中使用之其他成分及溶劑。另外，為了提昇抗靜 電〖生亦可與上述無機導電性微粒子一併添加有機抗靜電 劑。 作為上述藉由混合而進行製備之方法，可列舉與上述 硬塗層（A)用組成物之製備方法相同之方法。 上述硬塗層（B )例如可藉由如下方法形成：以送料速 度（web speed )與塗佈速度不同且賦予剪切力之方式將 上述硬塗層（B)用組成物塗佈於上述硬塗層（A)上而形 成被膜後，使該被膜乾燥、硬化。 此處，於上述硬塗層（B)用組成物中，上述無機微粒 子均勻地分散。然而，無機微粒子以使硬化後之硬塗層（B ) 中不含無機微粒子之區域（B1)與含無機微粒子之區域（B2) 之邊界成為凹凸形狀的方式分離之原因推測如下：於上述 被膜之形成中，藉由上述被膜中於其與硬塗層（A)之間發 揮作用之剪切應力，使無機微粒子自硬塗層（A)側之界面 201106005 附近向相反側界面之方向移動。認為藉由使此種狀態之被 膜乾燥、硬化’可形成具有不含無機微粒子之區域 與含無機微粒子之區域（B2)的硬塗層（B)。另外，藉由 調整上述硬塗層（B)用組成物之組成或塗佈速度、乾燥方 法等’可控制所形成之不含無機微粒子之區域（B1)的厚 度及凹凸形狀。 另外，作為形成上述硬塗層（B)之其他方法，例如可 列舉如下方法等：於具有脫模性之基材上塗佈上述硬塗層 (B)用組成物，以一面利用塗液中之無機微粒子之比重差 一面產生對流之方式使上述硬塗層（B)用組成物乾燥，藉 此於不含無機微粒子之區域（B1)與含無機微粒子之區域 (B2)之邊界形成凹凸形狀後，使上述被膜硬化而形成硬 塗層（B)，於其上形成硬塗層（A)，然後將硬塗層 面轉印於基材上。當使硬塗層⑻硬化時，若為半硬化， 則可提昇與硬塗層（A)之密接性， 界面，故較佳。 且不易產生硬塗層間之 作為上述硬塗層（B )用組成物之塗佈方法，只要係可 將-定之剪切力施加於被膜之方法，則並無特別限定，可 列舉與上述硬塗層（A)之形成中之塗佈方法相同之方法。 上述塗佈量較佳為1.5〜I5g/cm2。 可使用一般之乾燥方法，具體而 W〜150°C之暖風或使該暖風停留 具體而 作為上述乾燥方法，可 言，藉由吹附一定時間之4〇 來進行》 作為使上述被膜硬化之方法， 可列舉與上述硬塗層（A) 21 201106005 之硬化方法相同之方法。 藉由以此種方法形成硬塗層（B)，可形成具有不含無 機微粒子之㈣（B1)與含無機微粒子之區域（B2)的硬 塗層（B )。 上述硬塗層（B)之厚度較佳為1〜10 /zm。若上述厚 度未達1 〃m，則有硬塗性變得不充分之虞。若上述厚度 超過10以m，則有捲曲劇烈且偏光板化加工變得困難之 虞。上述厚度更佳為2〜8 vm。 上述厚度係利用電子顯微鏡（SEM、TEM、STEM)對 光學積層體之剖面進行觀察，並進行測定所得之值。 於本發明之光學積層體中，上述硬塗層（A)之硬度 (Ha)、上述不含無機微粒子之區域（B1)之硬度（則㈠ 及上述含無機微粒子之區域（B2 )之硬度（Hb2 )較佳為滿 足下述式（1 )。

Ha^ Hbl < Hb2 ( l ) 藉由滿足上述式，光學積層體具有適度之硬度，且可 防止捲曲等變形。 關於上述硬塗層（A)、上述不含無機微粒子之區域（B1) 及上述含無機微粒子之區域（B2)的硬度，可使用由包含 形成各層及區域之成分的組成物所單獨形成之膜，藉由H· Fischer公司製造之表面被膜物性試驗機（pic〇dent〇r HM500 )來測定。 <低折射率層> 上述光學積層體較佳為進而具有低折射率層。 22 201106005 藉由形成上述低折射率層 學積層體。 ，可形成抗反射性優異之光 上述低折射率層較佳為具有低於上述硬塗層（A)及⑻ 之折射率。根據本發明之較佳態樣，上述硬塗層（A)及⑻ 射率為1.5卩上，低折射率層之折射率較佳為未達 1.5。上述低折射率層之折射率更佳為1 45以下，進而更佳 為1 · 3 5以下。 t上述低折射率層可由D含有二氧化石夕或氟化鎮之樹 脂、2)作為低折射率樹脂之氟系材料、3)含有二氧化矽 或氟化鎮之氟系材料、4)二氧切或氟化鎂之薄膜等之任 一者構成。 上述氟系材料係指分子中至少含有氟原子之聚合性化 合物或其聚合物。作為上述聚合性化合物，並無特別限定， 例如，較佳為具有藉由電離放射線而硬化之官能基（電離 放射線硬化性基）、或藉由熱而硬化之極性基（熱硬化極 f生基）等硬化反應性之基的化合物。另外，亦可為同時兼 具該等反應性之基之化合物。 作為具有含有氟原子之電離放射線硬化性基之聚合性 化合物，可廣泛地使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟之單 體。更具體而言，可例示氟烯烴類（例如氟乙烯、偏二氟 乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟二甲 基-1，3-二D号唑等）。作為具有（曱基）丙烯醯氧基者，亦有（曱 基）丙稀酸2,2,2 -二氣乙g旨、（甲基）丙稀酸2,2,3,3,3-五氟丙 醋、（曱基）丙烯酸2-(全氟丁基）乙醋、（曱基）丙烯酸2_(全氣 23 201106005 己基）乙酯、（甲基）丙烯酸2-(全氟辛基）乙酯、（甲基）丙烯酸 2-(全氟癸基）乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、a_三氟甲基丙 稀酸乙g旨之類的分子中具有氟原子之（曱基）丙烯酸酯化合 物；分子中具有至少含有3個氟原子之碳數為ι〜14之氟 烧基' 氟環烷基或氟伸烷基與至少2個（甲基）丙烯醯氧基的 含氟> 多官能（甲基）丙稀酸酸醋化合物等。 作為具有含有氟原子之熱硬化性極性基之聚合性化合 物，例如可例示：4·氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙 烯-烴系乙烯醚共聚物；環氧樹脂、聚胺曱酸乙酯、纖維素、 苯齡、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質物等。作為上述熱硬化 性極性基’例如可較佳地列舉：羥基、羧基、胺基、環氧 基專虱鍵形成基。該專不僅與塗膜之密接性優異，而且與 一氧化石夕荨無機超微粒子之親和性亦優異。 作為兼具電離放射線硬化性基與熱硬化性極性基之聚 合性化合物（氟系樹脂），可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸 之部分及完全氟化烷基、烯基 '芳基酯類、完全或部分氟 化乙烯醚類 '完全或部分氟化乙烯酯類、完全或部分氟化 乙烯酮類等。 作為含有氟原子之上述聚合性化合物之聚合物，例如 可列舉.含有至少一種上述具有電離放射線硬化性基之聚 合性化合物之含氟（甲基）丙烯酸酯化合物的單體或單體混 合物之聚合物’含氟（甲基）丙烯酸酯化合物之至少一種與 (甲基）丙烯酸甲酯、（曱基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、 (甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸2·乙基己酯之類的分子中 24 201106005 不含氣原子之（曱基）丙烯酸酯化合物之共聚物；氟乙烯、偏 二氣乙稀、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1，1，2- 二氣-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之類的含氟單體之均聚物或 共聚物等。 另外’使該等共聚物含有聚矽氧成分而成之含聚矽氧 之偏一氟乙烯共聚物亦可作為上述聚合性化合物的聚合物 而使用。作為此時之聚矽氧成分，可例示：（聚）二甲基矽氧 烷2 (聚）二乙基矽氧烷、（聚）二苯基矽氧烷、（聚）甲基苯基 石夕氧烧、院基改質（聚）二甲基石夕氧烧、含偶氮基之（聚）二甲 基石夕氧燒、或二甲基聚碎氧、笨基甲基聚石夕氧、院基-芳烧 ，，質聚梦氧 '氟聚石夕氧、聚⑽改質聚碎氧、脂肪酸醋改 ^石夕氧、甲基氫聚#氧、含料基之聚石夕氧、含炫氧基 膝石夕氧、切基之聚♦氧、甲基丙烯醢基改質聚 丙稀酸改質聚矽氧、 乳 基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、 ==氧::：:質聚"，改質_、 聚醚改質聚矽氧等。其巾，較佳A且古一 甲基石夕氧烧結構者。 Y較佳為具有一 脂:： = :有至進而亦可使用如下化合物等作為氟系樹 令具有至少、Γ個斑 個異氛酸基之含氟化合物與分子 能基的化合物㈣、㈣等異氛酸基反應之官 J冗〇物進行反應所獾 元醇、含氟之产其夕- 〇物，使含氟之聚醚多 已内酯改質多元醇笙一 1之聚酗夕元醇、含氟之ε- 多知專含氟之多元醇與且右里 物進行反應所獲得的化合物。醇有異氛酸基之化合 25 201106005 於形成低折射率層時，例如可使用包含原料成分之組 成物（折射率層用組成物）來形成。更具體而言，使用使 原料成分（樹脂等）及視需要之添加劑（例如後述之「具 有空隙之微粒子」、聚合起始劑、抗靜電劑、防污劑、防 眩劑等）溶解或分散於溶劑中而成之溶液或分散液，作為 低折射率層用組成物，藉由上述組成物形成塗膜，並使上 述塗膜硬化，藉此可獲得低折射率層。再者，可使用公知 之聚合起始劑、抗靜電劑、防污劑、防眩劑等添加劑。另 外，可藉由添加有機抗靜電劑來賦予抗靜電性能。 作為上述溶劑，可列舉與可於上述硬塗層（A)之形成 中使用之溶劑相同的溶劑。其中，較佳為甲基異丁基酮 (MIBK，Methyl Isobutyl Ketone)、甲基乙基酮（MEK， Methyl Ethyl Ketone )、異丙醇（IPA，Is〇pr〇pyl Alc〇h〇1 )、 正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、丙二醇單甲醚（，

Propylene Glycol Monomethyl Ether)、丙二醇單甲醚乙酸 m ( PGMEA» Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate ) » 上述組成物之製備方法只要可將成分均勾地混合即 可，根據公知之方法實施即可。例如，可於上述硬塗層之 形成中使用上述公知之裝置而進行混合分散。 低折射率層之形成方法較佳為根據公知之方法。例 如，可於上述硬塗層之形成中使用上述各種方法。 於上述低折射率層中，作為低折射率劑，較佳為利用 「具有空隙之微粒子」。「具有空隙之微粒子」可一面保 持低折射率層之層強度’一面降低其折射率。於本發明中'， 26 201106005 具有空隙之微粒子」係指如下之微粒子：於微粒子之内 部形成填充有氣體之結構及/或包含氣體之多孔質結構體， 與微粒子原來之折射率相比，折射率與微粒子中之氣體之 佔有率成反比例而下降者。另外，於本發明中，亦包含根 據u粒子之形態、結構、凝聚狀態、被膜内部之微粒子之 分散狀態，而能夠於内部及/或表面之至少一部分形成奈米 多孔結構之微粒子。使用該微粒子之低折射率層可將折射 率調節至1.25〜1.45。 作為具有空隙之無機系之微粒子，例如可列舉藉由日 本專利特開讀-23361 1號公報中所記載之方法所製備之 一氧化矽微粒子。另外，亦可為藉由曰本專利特開平 7-133 105號公報、曰本專利特開2〇〇2_79616號公報 =特開襄·Π)6714號公報等中所記載之製法所獲得之 二微粒子。具有空隙之二氧化働子因製造容易 :本身之硬度較高，故當與點合劑混合而形 二夺，可提昇該層之強度，且可將折射率調整至12〇〜J =範圍内。尤其是作為具有空隙之有機系之微粒子的 報中所揭：=地列舉使用曰本專利特開20〇2,503號公 報中所揭不之技術而製備之中空聚合物微粒子。 作為可於被膜内部及/或表 孔結構之微粒子，除上述 /形成奈米多 以增大比表面積為目的而製造，::粒子以外’亦可列舉·· 充用管柱及表面之多孔質部 3化學物質吸附於填 多孔質微粒子或者以組裝 ^材料；用於觸媒固定之 “·、材料或低介電材料為目的 27 201106005 之中空微粒子之分散體或凝聚體。作為此種微粒子之具體 J可自作為市售品之日本二氧化碎卫業股份有限公司 (Won Sihca)製造之商品名沁⑽或咐㈣之中，利 用、多孔：二氧化矽微粒子之集合體，且可自日產化學工業 a司製w之具有二氧化矽微粒子連接成鍵狀之結構的膠體 氧化石夕UP系列（商品名）中，利用本發明之較佳粒徑之 範圍内者。 具有空隙之微粒子」之平均粒徑較佳為5 nm以上300 ηΐΏ以下’更佳為下限為5 nm且上限為100 nm，進而更佳 為下限為丨〇nm且上限為80nm。藉由微粒子之平均粒徑處 於該範圍内，可對低折射率層賦予優異之透明性。再者， 上述平均粒徑係藉由動態光散射法所測定之值。較佳為「具 有空隙之微粒子」於上述低折射率層中，相對於基質樹脂 100質量份，通常為(U〜500質量份左右，較佳為1〇〜· 質量份左右。 於低折射率層之形成中，上述低折射率層用組成物之 黏度較佳為可獲得較佳之塗佈性的〇 5〜5 cps(25(>c )之範 圍，更佳為0.7〜3cps(25t)。藉由設定為上述範圍之黏 度，可實現可見光線優異之抗反射膜，且可形成均勾且不 存在塗佈不均之薄膜，而且可形成對於基材之密接性特別 優異之低折射率層。 樹脂之硬化方法可與上述硬塗層中所說明之方法相 同。於為了硬化處理而利用光照射方法之情況下，較佳為 將藉由光照射而產生例如自由基來使聚合性化合物之聚合 28 201106005 開始之光聚合起始劑添加於氟系樹脂組成物中。 低折射率層之膜厚（nm)dA較佳為滿足下述式（I): dA=mX / ( 4nA) ( I) (上述式中， nA表示低折射率層之折射率， m表示正奇數，較佳為表示1， λ為波長，較佳為480〜580 nm之範圍之值）。 另外，於本發明中，就低反射率化之觀點而言，低折 射率層較佳為滿足下述式（π ): 120< nAdA< 145 ( II)。 <其他層> 上述光學積層體除上述透光性基材、硬塗層（a)及 (B)、以及低折射率層以外，亦可具有其他任意之層。作 為上述任意之層，可列舉：防眩層、防污層、高折射率層、 中折射率層、抗靜電層等。可將公知之防眩劑、低折射率 =、高折射率劑、抗靜電劑、防污劑等與樹脂及溶劑等混 °並藉由么知之方法來形成該等層。其中，較佳為進而 形成防污層。 <光學積層體> 本發明之光學積層體之硬度於JIS K5600 5 4 ( 1999) 之鉛筆硬度試驗（荷重4.9 N)中較佳為2 η〜5 H。 本發明之光學積層體之表面電阻值較佳為ι〇π Ω/〇 以下。 若超過10 Ω /□，則有無法表現出作為目標之抗靜電 29 201106005 性能之虞。上述表面電阻值更佳為1〇9 Ω /α以下。 上述表面電阻值可藉由表面電阻值測定器（三菱化學 公司製造，產品編號：Hiresta IP Mcp_HT26〇)來測定。 本發明之光學積層體之全光線透過率較佳為8〇%以 上。若未達80%，則於安裝於顯示器表面之情況下，有可 此相害色彩再現性或視認性。上述全光線透過率更佳為Μ% 以上，進而更佳為9〇%以上。 上述全光線透過率可使用霧度計（村上色彩技術研究 所製造，產品編號：HM-150)並藉由以JISK 7361為依據 之方法來測定。 作為製造本發明之光學積層體之方法，例如可列舉於 透光性基材之一側之表面形成硬塗層（A )後將硬塗層（B ) 形成於上述硬塗層（A)上的方法。 形成上述硬塗層（A)之方法、及形成上述硬塗層（B) 之方法如上所述。 <偏光板及影像顯示裝置> 本發明《光學積層體可藉由將上述光學積層體之與透 光性基材之硬塗層所存在的面相反側之面側設置於偏光元 件之表面，而製成偏光板。此種偏光板亦為本發明之一。 作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可使用藉由 蛾等進行染色並拉伸之聚乙料膜、I乙稀甲㈣、聚乙 烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂 听寸。於上述偏 光元件與上述光學積層體之層壓處理中，較佳為對透光性 基材進行皂化處理。藉由皂化處理，接著性變得良好且亦 30 201106005 可獲得抗靜電效果。 為上、… 另外’亦可使用黏著劑進行接著。作 m ^ m _ 舉.丙烯酸系黏著劑、胺甲酸乙 黏者劑、聚石夕氧系點著劑、或水系黏著劑等。 茫置ΓΙΓ之光學積層體及上述偏光板可設置於影像顯示 之最表面°此種影像顯示裝置亦為本發明之一。 t述影像顯示裝置可為LCD等非自發光㈣像顯示裝

/、可為 PDP、FED、ELD (有機 EL、無機 EL)、CRT 等自發光型影像顯示裝置。 -作為上述非自發光型之代表例之LCd係具備透過性顯 體以及自老面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成 者。於本發明之影像顯示裝^ LCD之情況下，係於該透 過性顯示體之表面形成上述光學積層體或上述偏光板而成 者0 於具有本發明之光學積層體之液晶顯示裝置的情況 下，光源裝置之光源自光學積層體之透光性基材側照射。 再者，於STN ( Super Twisted Nematic，超扭轉向列）型、 VA ( Vertical Alignment，垂直配向）型、lps ( ΐη_ρι_

Switching ’橫向電場切換）型之液晶顯示裝置中，可於液 晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。該液晶顯示裝置 之各層間視需要可設置接著劑層。 作為上述自發光型影像顯示裝置之PDP係具備表面玻 璃基板（表面形成電極）、以及該表面破璃基板對向中配 置有封入放電氣體之背面玻璃基板（表面形成電極及微小 之槽，槽内形成紅色、綠色、藍色之螢光體層）而成者。 31 201106005 於本發明之影像顯示裝置為PDP之情況下，亦為於上述表 面玻璃基板之表面或其前面板（玻璃基板或薄膜基板）具 備上述光學積層體者。 上述自發光型影像顯示裝置亦可為將一施加電壓就發 光之硫化鋅、二胺類物質：發光體蒸鍍於玻璃基板上，控 制施加於基板之電壓而進行顯示的eld裝置；或者將電信 號轉換為光’產生人眼可看見之影像之CRT等影像顯示裝 置。於此情況下，係於如上所述之各顯示裝置之最表面或 其前面板之表面具備上述光學積層體者。 本發明之光學積層體於任意情況下，均可用於電視 機、電腦、文字處理機等之顯示器顯示。尤其可較佳地用 於CRT、液晶面板、PDP、eld、FED等高精細影像用顯示 益之表面。 [發明之效果] 本發明之光學積層體由於由上述構成所構成，因此係 硬塗性優異，可防止干擾條紋之產生之光學積層體。因此， 本發明之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置 (CRT )、液晶顯示器（LCD )、電漿顯示器（PDP )、電機發 光顯示器（ELD )、場發射顯示器（FED )等。 【實施方式】 以下，列舉實施例及比較例進一步詳細說明本發明， 但本發明並不僅限定於該等實施例及比較例。 再者，文中只要無特別說明，則「份」或「％」係質量 32 201106005 基準。 實施例1 調配下述所示之組成之成分而分別製備硬塗層（A)用 組成物及硬塗層（B )用組成物。 (硬塗層（A)用組成物） 季戊四醇二丙稀酸g旨（PETA，Pentaerythritol Triacrylate) : 30 質量份 IPDI ( Isophorone Diisocyanate ’ 異佛爾酮二異氰酸酯） 骨架丙烯酸胺甲酸乙酯（紫光1700B，產品名，日本合成化 學公司製造）：20質量份

Irgacurel84 (日本汽巴（Ciba Japan)公司製造）：4 質量份 甲基乙基酮（MEK) : 50質量份 (硬塗層（B )用組成物） 季戊四醇三丙烯酸酯（PETA ) : 25質量份 IPDI骨架丙烯酸胺曱酸乙酯（紫光17〇〇b，產品名， 曰本合成化學公司製造）：15質量份

Irgacurel84 (日本汽巴公司製造）：4質量份 Sn02 ( S-2000，商品名，彡=30 nm，折射率為 1.997， 三菱材料（Mitsubishi Materials)公司製造）：10質量份 曱基異丁基酮（MIBK) : 50質量份 其次’於厚度為80 μ m之三乙酸纖維素（TAC )基材 (TD80UL，富士軟片（FUJIFILM)公司製造）之一面上， 利用凹版輥式塗佈法塗佈上述硬塗層（A)用組成物，使溶 33 201106005 ::分蒸發而形成厚度約為3.5…塗佈層[自該塗 佈層側照射20 mj/cm2之紫外结 涂 1外線進仃半硬化處理，從而形成 ，膜1後’利用凹版輥式塗佈法，以送料速度與塗佈速 :不同且賦予剪切力之方式於該塗膜上塗佈上述硬塗層 ⑻用組成物並使其乾燥’形成厚度約為3 一之塗佈 層後"’自該塗佈層側㈣1〇〇 mJ/cm2之紫外線進行硬化處 理從而獲得TAC基材上依序具有硬塗層（A)與硬塗層 (B)之光學積層體。再者’ TAC基材與上述硬塗層（A) 間、上述硬塗層（A)與上述硬塗層（B)間之密接性良好。 實施你| 7 除對硬塗層（B )用組成物之塗佈層照射2〇 mJ/cm2之 紫外線進行半硬化處理以外，以與實施例i相同之方法所 製作的光學積層體之塗佈面側，進而利用凹版輥式塗佈法 塗佈下述低折射率層用組成物C並使溶劑成分蒸發，形成 厚度約為〇. 1 β m之塗佈層後’自塗佈側照射1 〇〇 mJ/cm2 之紫外線進行硬化處理，從而獲得光學積層體。 (低折射率層用組成物C) 季戊四醇三丙烯酸酯：5質量份 表面處理中空矽溶膠（0 = 50 nm ’ 20%MIBK稀釋品）： 25質量份

Irgacurel84 : 0.4 質量份 MEK : 70質量份 實施例3 於經脫模處理之厚度為100 之PET基材（東麗 34 201106005 (oray )公司製造）之一面上利用凹版輥式塗佈法塗佈 表中所n己載之硬塗層（B )用組成物並使溶劑成分蒸發， 形成厚2度約為3·5 " m之塗佈層後’自該塗佈層側照射刊 mJ/cm之紫外線進行半硬化處理，從而形成塗膜。其後， 利用凹版觀式塗佈法，以送料速度與塗佈速度不同且賦予 剪切力之方式於該塗臈上塗佈表1中之硬塗層（A)用組成 物並使其乾燥’形成厚度約& 35 " m之塗佈層後，自該 塗佈層側照射100mJ/cm2之紫外線進行硬化處理。 於經硬化之硬塗層（A)之上塗佈約1〇 下述接 著組成物並使溶劑成分乾燥，然後與TAC基材貼合。將該 積層體於40°C下老化3天並使接著層熱硬化後，剝離PET 脫模膜，藉此製作光學積層體。 (接著組成物（2液熱硬化型胺甲酸乙酯系接著劑）） 主劑LX66〇 ( DIC (大曰本油墨）公司製造）：8質 量份 硬化劑 芳香族系聚異氰酸酯KW75 ( DIC公司製 造）：2質量份 乙酸乙酯：32質量份 复A例4〜9、1 2、比軤例2〜4、春者例 除分別使用表1及2所示之組成之硬塗層（a )用組成 物及硬塗層（B )用組成物以外，以與實施例丨相同之方式 製作光學積層體》 再者，於表1及2中，作為丙烯酸樹脂’除上述pETA 以外’亦使用二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA， 35 201106005

Dipentaerythritol hexaacrylate) 、1，6_己二醇二丙烯酸酯 (HDDA ? 1,6-hexanediol diacrylate)。 作為無機微粒子，Sn〇2使用與實施例i相同者，ato 使用TDL-1 (商品名，折射率為2.0，粒徑為1〇〇 nm，三菱 材料公司製造）。 實施例10、1 1 除使用S 1所示之組成之硬塗層（A)用組成物及以下 所示之硬塗層（B)用組成物以外，以與實施例丨相同之方 式製作光學積層體。 (硬塗層（B )用組成物） (1 )心珠狀一氧化碎微粒子之製備 ，、向二氧化石夕微粒子⑴（SI_55〇,日揮觸媒化成公司 製造’平均1次粒徑為5 nm，Si〇2濃度為2〇質量％，二氧 化石夕中之Na含量為2· ppm)测g中添加離子交換水 6000 g，繼而添加陽離子交換樹脂（SK_1BH，三菱化學公 司製造）4GG g ’搜拌丨小時而進行脫驗處理。繼而，分離 陽離子交換樹脂後’添加陰離子交換樹脂（SANupc，三菱 化學公司製造）400 g’攪拌i小時而進行脫陰離子處理。 再次添加陽離子交換樹脂（SK_1BH，三菱化學公司製造） :〇:g’攪拌H'時而進行脫驗處理，從而製備si〇2濃度為 質量％之二氧化石夕微粒子分散液。此時，二氧化石夕粒子中 之Na含量為200 ppm。 高壓 其次’利用稀鹽酸將分散液之PH值調整成4.0,利用 釜於贿下處理1小時。繼而，於室溫下添加陽離子 36 201106005 交換樹脂，攪拌1小時而進行脫鹼處理，分離陽離子交換 樹脂後’添加陰離子交換樹脂，㈣1小日寺而進行脫陰離 子處理’從而製成Si〇2濃度為5質量％之念珠狀二氧化石夕 微粒子分散液。再者，念珠狀二氧化矽微粒子之平均連結 數為3個。 其次，將Si〇2濃度為5質量％之念珠狀二氧化矽微粒 子分散液濃縮成Si〇2濃度為丨〇質量％，繼而，藉由超濾膜 法將溶劑置換成曱醇，從而製成Si02濃度為丨0質量％之念 珠狀二氧化石夕微粒子甲醇分散液。 (2 )反應性念珠狀二氧化矽微粒子（1 )之製備 於藉由上述方法所製備之念珠狀二氧化矽微粒子甲醇 分散液93質量份中添加甲基丙烯酸系矽烷偶合劑（^ ·甲基 丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷：信越化學工業公司製造 ΚΒΜ-503 ) 1質量份，利用Ηα水溶液將整體之溶液調節成 pH=4後，於8(rc下加熱攪拌5小時。藉此，獲得表面導 入有甲基丙烯醯基之經^ •甲基丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽 烷處理之二氧化矽微粒子（反應性念珠狀二氧化矽微粒子A (1 ))。將所製備之溶液之溶劑由甲醇置換成甲基異丁基 酮（MIBK )，從而獲得上述反應性念珠狀二氧化矽微粒子 AO)之固體成分40質量o/oMIBK分散液。 (3 )硬塗層（B )用組成物之製備（實施例1〇 ) 調配下述所示之組成之成分，製備硬塗層（B )用組成 物。 反應性念珠狀二氧化矽微粒子A ( 1 ) : 1 50質量份（固 37 201106005 體成分：60質量份） 二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA )(曰本化藥公司製 造）：40質量份

Irgacurel84 (商品名，日本汽巴公司製造，自由基聚合 起始劑）：4質量份 (4 )硬塗層（B )用組成物之製備（實施例丨】） 調配下述所示之組成之成分，製備硬塗層（B)用組成 物。 反應性念珠狀二氧化石夕微粒子A(l) : 150質量份（固 體成分：70質量份） 二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA )(日本化藥公司製 造）：30質量份 lrgacure184 (商品名，日本汽巴公司製造，自由基聚合 起始劑）：4質量份 比較例1 於厚度為80 a m之三乙酸纖維素（TAC )基材 (TD80UL ,富士軟片公司製造）之一面上，利用凹版輥式 塗佈法塗佈與實施例1中所使用之硬塗層（A )用組成物相 同之硬塗層（A )用組成物，使溶劑成分蒸發而形成厚度約 為3.5 // m之塗佈層後’自該塗佈層側照射2〇 mJ/cm2之紫 外線進行半硬化處理，從而形成塗膜。其後，利用模塗， 以使送料速度與塗佈條件一致且不施加到剪切力之方式， 於該塗膜上塗佈與實施例1中所使用之硬塗層（B )用組成 物相同之硬塗層（B)用組成物並使其乾燥，形成厚度約為 38 201106005 3,5 之塗佈層後，自該塗佈層側照射100 mj/cm2之紫 外線進行硬化處理，從而於TAC基材上獲得光學積層體。 再者，TAC基材與上述硬塗層（A)間、上述硬塗層 與上述硬塗層（B )間之密接性良好。 關於上述實施例、比較例及參考例中所獲得之光學積 矛J用下述測定方法對各項目進行評價。將結果示於 表3。另夕卜，利肖STEM肖各光學積層體之剖面進行電子顯 昭Γ觀察。將實施例1之光學積層體之剖面的電子顯微鏡 照片示於圖2。 <硬度（光學積層體）> _使用不同硬度之錯筆’利用JIS Κ5600·5-4 ( 1999)中 =不^驗法以4.9 Ν之荷重測^ 5次試驗中未受損傷之次 數於表3中’例如2/5表示於5 -欠兮齡由 <捲曲寬度〉 、5 一驗中2次未受損傷。 ^學積層體之捲曲之程度（捲曲寬度 均值來表示：於水平之台（平面）上放置將所獲得之光ΐ r , 所侍之試樣片，測定自上述水平 之口（千面）至上述試樣片之端 距離之平均值（_)。 幻為止之尚度時之 <干擾條紋> 於光學積層體之無塗臈者上 波長管m 上貼D黑色之膠帶後，於三 戍我s螢先燈下利用目視進 紋之情況π # m收 孑價。將無法辨識出干擾條 H又疋為〇，將可略微辨識出之情 可辨識出之情況設定為X。另外，表 X為^ 中之-表示由於未形成 39 201106005 透明之硬塗層（B )而無法進行干擾條紋之評價 (1 )硬塗層 用試樣膜之製備 (A)及含無機微粒子之區域（B2)測定 於50 ^之PET基材上，利用凹版觀式塗佈法塗佈 表1及2 t之硬塗層（A)用組成物及硬塗層（B)用組成 物，使溶劑乾燥，並利用約！ 2〇 mj/cm2之uv ( u丨travi〇丨^， 紫外線）進行硬化，從而製成使樹脂膜之膜厚約為1〇 “爪 之硬塗層（A)用試樣膜及硬塗層（B)用試樣膜。再者， 所製作之試樣膜之構成分別為PET基材/硬塗層（A ) '以 及PET基材/不含無機微粒子之區域（B1) /含無機微粒子 之區域（B2 )。 不含無機微粒子之區域（B1)測定用試樣膜之製 備 於50 //m之脫模處理PET基材上，利用凹版輥式塗 佈法，以送料速度與塗佈速度不同且賦予剪切力之方式塗 佈表1及2中之硬塗層（B )用組成物，利用約12〇 mJ/cm2 之uv進行硬化，從而製成使樹脂膜厚約為15 v m之試樣。 繼而’於光學用之膜厚為25〜50 的透明雙面黏著 胳帶或膜（例如’日東電工公司製造LUCIACS CS9622T) 之一面上’黏貼上述（1)中所使用之5〇以爪之PET基材， 於剩下之一面上經由黏著劑而貼合上述形成之硬塗層（B ) 之表面。其後，剝離脫模處理PET基材，使硬塗層（B )之 201106005 脫模處理PET側面，即相當於不含無機微粒子之區域（b i : 之面露出，從而製成由PET基材/黏著劑/含無機微粒子之區 域（B2) /不含無機微粒子之區域（B1)之構成所構成的試 樣膜。 再者由於期望測定試樣之最表面平坦，因此當僅利 用各層用組成物難以獲得表面平坦性時，適宜添加樹脂質 量為0.1〜3%之調平劑。 於玻璃基板上，將上述製作之3種試樣膜切成2 cm” cm ’並利用瞬間接著劑（Ar〇n Alpha (註冊商標），東亞合 成公司製造）進行接著，然後於室溫下放置一天。 將固著於該玻璃板上之試樣設置於H Fischer公司製造 之表面被膜物性試驗機（Pic〇dent〇r HM5〇〇)之試驗台上， 以10 mN之壓入荷重進行測定，根據所獲得之壓入深度之 值’將硬度分為5個級別進行評價。級別1<2<3< 4二， 5表示硬度最高。另外’壓入深度越深則越柔軟，越淺則越 硬。另外’表3中之-表示由於各個層不存在而無法進行 價。 1 : 1.40 v m 以上 β m以上 β m以上 β ηι以上 2 :未達 1.40、1.1〇 3 :未達 1.10、〇.9〇 4 :未達 0.90、〇.7〇 5 :未達0.70以m 201106005 [表i] 硬塗層用組成物 丙烯酸樹脂 胺甲酸酯乙樹脂 聚合起始劑 溶劑 無機微粒子 質量份 質量份 質量份 質量份 質量份 實施例1 A PETA 30 I700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA 1700B Irg.184 MIBK Sn02 25 15 4 50 10 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - 實施例2 B PETA 25 1700B 15 Irg.184 4 MIBK 50 Sn02 10 (低折射率層用 PETA Irg.184 MEK + MIBK Sn02 組成物C) 5 0.4 70 + 20 5 實施例3 A DPHA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 B DPHA 1700B Irg.184 甲苯 Sn02 25 15 4 50 10 實施例4 A HDDA 30 1700B 20 Irg.184 4 MIBK 50 - B HDDA 1700B Irg.184 甲苯 Sn02 25 15 4 50 10 實施例5 A PETA 30 I700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B DPHA 1700B Irg.184 甲笨 Sn02 25 15 4 50 10 實施例6 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA 1700B Irg.184 甲苯 Sn02 20 10 4 50 20 實施例7 A PETA 30 I700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA 1700B Irg.184 甲笨 ATO 25 15 4 50 10 實施例8 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA I700B Irg.184 甲笨 ATO 20 15 4 50 20 實施例9 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA 1700B Irg.184 甲苯 Sn02 15 5 4 50 30 實施例10 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B DPHA 40 - Irg.184 4 MIBK 90 Sn02 60 實施例11 A PETA 30 1700B 20 Irg. 184 4 MEK 50 - B DPHA 30 - Irg.184 4 MIBK 80 Sn02 70 實施例12 A PETA 30 1700B 20 Irg.184 4 MEK 50 - B PETA 1700B Irg.184 甲笨 Sn02 26 20 4 50 4 ※-:表示未添加。 42 201106005 [表2] 硬塗層用 丙烯酸樹脂 胺甲酸乙酯樹脂 聚合起始劑 溶劑 無機微粒子 組成物 質量份 質量份 質量份 質量份 質量份 A PETA 1700B Irg.184 MEK 比較例1 30 20 4 50 B PETA 1700B Irg.184 MIBK Sn02 25 15 4 50 10 A PETA 1700B Irg.184 MEK 比較例2 30 20 4 50 B PETA Irg.184 曱苯 Sn02 5 4 50 45 A PETA 1700B Irg.184 MEK Sn02 比較例3 25 15 4 50 10 B PETA 1700B Irg.184 曱苯 30 20 4 50 A PETA 1700B Irg. 184 MEK 比較例4 30 20 4 50 B PETA 1700B Irg.184 甲苯 20 20 4 50 A PETA 1700B Irg.184 MEK Sn02 參考例 25 15 4 50 10 B PETA 1700B Irg.184 甲苯 Sn02 25 15 4 50 10 ※-:表示未添加。

鉛筆硬度 捲曲寬度 (mm) 干擾條紋 壓入深度級別 (層A) (區域B1) (區域B2) 實施例1 3H ： 4/5 30 〇 1 2 3 實施例2 3H ： 4/5 25 〇 1 2 3 實施例3 3H ： 4/5 30 〇 2 3 4 實施例4 3H ： 4/5 25 〇 1 2 3 實施例5 3H ： 5/5 20 〇 1 3 4 實施例6 3H ： 5/5 25 〇 1 2 3 實施例7 3H ： 4/5 25 〇 1 2 3 實施例8 3H ： 5/5 20 〇 1 2 3 實施例9 3H ： 5/5 15 〇 1 2 3 實施例10 3H ： 4/5 30 〇 1 2 3 實施例11 4H ： 4/5 20 〇 1 2 4 實施例12 2H ： 4/5 30 Δ 1 2 2 比較例1 2H ： 4/5 30 X 1 - 2 比較例2 3H ： 4/5 5 - 1 2 3 比較例3 2H ： 4/5 30 X 3 2 - 比較例4 2H ： 3/5 40 X 1 2 - 參考例 3H 3/5 20 〇 2 2 2 43 201106005 由表3可知’實施例之光學積層體之硬度均較高，且 不產生干擾條紋。另外，捲曲寬度亦均較小。 另外’於剖面之電子顯微鏡觀察時，確認實施例及參 考例之光學積層體之硬塗層（B)中存在凹凸形狀。另—方 面’於比較例之光學積層體中未確認上述凹凸形狀。另外， 比較例2之光學積層體之硬塗層（b)用組成物中之無機微 粒子的量較多，僅成為含無機微粒子之區域（B2)，而未形 成不含無機微粒子之區域（B1)。 [產業上之可利用性] 本發明之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示 裝置（CRT)、液晶顯示器（LCD)、電漿顯示器（pDp)、電 機發光顯示器（ELD )、場發射顯示器（Fed )等。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之光學積層體之一例的剖面之示意圖。 圖2係將實施例丨之光學積層體之剖面的一部分放大 之電子顯微鏡照片。 【主要元件符號說明】 1 透光性基材 2 硬塗層（A) 3 硬塗層（B ) 4 不含無機微粒子之區域（B1) 5 含無機微粒子之區域（B2) 44

Claims (1)

1. 201106005 七、申請專利範圍： 位於該透 ，其特徵 1.一種光學積層體，其佑 、依序具有透光性基材 光性基材之一面上之硬塗屉 至屑（A)及硬塗層（b) 在於： (B2)， 穴咏嶸塗層（A)接觸之部分起依序 :有不含無機微粒子之區域（B1)與含無機微粒 (B2)， 該不含無機微粒子之區域⑶）與含無機微粒子之區 域（B2)之邊界為凹凸形狀，且 該無機微粒子具有小於可見光波長之粒徑。 2·如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中不含無機 微粒子之區域（B1)以含無機微粒子之區域（B2)之黏合 劑樹脂為主成分，且具有可見光波長以上之平均厚度。 3.如申料利㈣第1或2項之光學積層體，其中硬塗 層（A)之黏合劑樹脂與硬塗層（B)之黏合劑樹脂具有相 容性。 4.如申請專利範圍第卜2或3項之光學積層體，其中 硬塗層（A)之硬度（Ha)、不含無機微粒子之區域⑶） 之硬度（Hbl)及含無機微粒子之區域（B2)之硬度（Hb2) 滿足下述式（1 ): Ha^ Hbl < Hb2 ( 1 ) 〇 5-如申請專利範圍第1、2、3或4項之光學積層體，其 中無機微粒子之形狀為念珠狀。 6·如申請專利範圍第卜2、3、4或5項之光學積層體， 45 201106005 其中無機微粒子為導電性無機微粒子。 7 ·如申請專利範圍第彳 #固弟】2、3、4、5或6項之光學積層 體’其中無機微粒子於硬塗屠广口ΟΛ哲 尺i層中之含量為1〇〜80質 量％ 〇 8.如申請專利範圍第卜2、3、4、5、6或7項之光學 積層體纟於硬塗層（B)之與硬塗層相反側之面進 而具有低折射率層。 9 ·如_請專利範圍第1、2、3、4、5、6、7或8項之光 學積層體’其於硬塗層⑻之與硬塗層（A)相反側之面 進而具有防污層。 1 °*種偏光板’其具有偏光元件，其特徵在於： 該偏光板於該偏光元件之表面具有如申請專利範圍第 、3、4'5、ό、7'8或9項之光學積層體。 11 · 一種影像顯示裝置，其特徵在於：於最表面具有女 申請專利範圍第卜2、3'4、5、6、7、8或9項之：學, 層體’或者如申請專利範圍第10項之偏光板。 八、圖式： (如次頁） 46