TW201014810A - Method for producing flat glass - Google Patents

Description

201014810 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於如申請專利範圍第丨項之平板玻璃之 製法。 【先前技術】 利用浮式法（float process)製得之平板玻璃稱為浮 式玻璃（float glass)，此製程技術主要基於pukingt〇n 所發表之專利（US 3, 083, 551，DE 147 1 9 50)，並且自上 個世紀起開始發展，目前已為眾所皆知的製法。 在浮式法製程中，係利用一通道將液態玻璃自工作槽 中注入一熔融金屬浴槽中，且該金屬通常使用錫。藉由一 活動式閘門的設置，不僅能夠控制液態破璃的流速，同時 亦可控制玻璃之厚度。 順著液態玻璃流動的方向觀察’上述活動式閘門之後 為一；主入口，液態玻璃係藉由此注入口連續地注入溶融金 屬浴槽中’並於此熔融金屬浴槽中塑形（shape)且固化，以 形成一尺寸固定之玻璃帶（glass ribbon)。隨後，為了自 溶融金屬浴槽中取出此固化之玻璃帶，於此浮動浴槽 (float bath)之後需設置一舉升裝置（Hf1;ing instrument) ° 以此法所製造之平板玻璃’ 一般而言其厚度小於 毫米（mm)’常被當作薄型玻璃基材，特別是用於製造平面 顯示器’例如電漿顯示面板（plasma display panels, 201014810 PDPs)、場發射顯示器（fieid-emission displays, FEDs)、 溥膜電晶趙（thin film transistor, TFT)液晶顯示螢幕、 超扭轉向列（super-twisted nematic, STN)液晶顯示螢 幕、電漿輔助液晶（plasma-assisted liquid-crystal, PALC)顯示器以及電致發光（eiect rolumine scent, EL)顯 示器等等，此外也可用於製造薄膜太陽能電池。 在平面顯示器的製程中，依照顯示器類型的不同，可 φ 能是將一液晶分子灌入兩片玻璃平板之間，也可能是將介 電層施加於後玻璃板（rear sheet)之前側以及前玻璃板 (front sheet)之後側，並利用這些介電層形成可容納螢光 體的格狀空腔（cell)。 為了避免干擾色彩缺陷（perturbing colour deieets) 或相似性偏差（similarity deviations)的發生，特別是對 於大尺寸的平面顯示器而言’準確地維持液晶材料層或介 電層的厚度非常重要。由於材料層的厚度（目前約為3〇微 ® 米）趨向薄型化，而顯示器的尺寸則曰漸大型化，上述條件 的精確控制也就顯得益發重要。 浮式玻璃的表面品質會因表面缺陷而降低，這些表面 缺陷被稱為板面斑污（top speck)，主要是因為當使用溶融 錫浴時’含有錫的微粒（例如踢或氧化錫微粒）沉積於玻璃 帶的上表面而形成污潰所致。雖然製程中會以形成氣體 (forming gas)(典型組成為5 - 8%氫氣，其餘為氮氣）沖 洗内部’然而浮動浴槽上方之空氣仍殘留有氧氣，此殘留 的氧氣會進入熔融錫浴槽’並於其中形成氧化錫微粒。隨 201014810 著浴槽溫度的提升，氧化錫或錫會蒸發並接觸到空氣，導 致含有錫的微粒沉積於玻璃帶的上表面而形成污溃。 為避免上述表面缺陷的發生，必須利用各種方法阻止 玻璃帶與其上方受污染的空氣接觸。—方面要使氧氣無法 從外界進入浮動浴槽外罩（float bath h〇using)内部另 方面要使已經存在的氧氣無法進入溶融錫浴槽接觸其表 面。 除了表面缺陷之外’因玻璃帶上方或下方之保護氣氛 所造成的開口氣泡（open bubbles)，可能發生於破璃帶底 側。 在塑形之初，玻璃熔融液的黏度很低，形成位於玻璃 下方的底端開口氣泡（open-bottomed bubble)因受到氣 體擠壓而被壓入玻璃之中。在固化步驟中，開口氣泡被保 留且形成玻璃的缺陷。此類氣泡也被稱為底端開口種核 (bottom open seed, B0S)。 目前的無鹼特種玻璃（Alkali-free speeial glass)(例如LCD顯示器用玻璃）也是採用浮式法製造。由 於會在玻璃表面上施以細微的電子結構，因此即使是很小 的表面缺陷也會引起問題。一般而言，底端開口氣泡的直 徑小於50微米，深度小於1 〇微米。可藉由研磨除去這些 開口氣泡。然而，此最後的研磨步驟亦需要大量的花費。 US 20 04/01 1 0625 A1揭露’位於玻璃底側之氣泡是因 從玻璃中逃脫的水分產生交互作用的結果，此水分之所以 無法溶解於熔融錫中’係因在熔融錫中的氫濃度過高所 201014810 致。水在玻璃中的擴散係受到玻璃中場強度（field strengths)的影響。藉由添加二氧化鈦（Ti〇〇、氧化鎮 (erbium oxide)或鈥（neodymium)增加場強度，能夠減少水 的擴散，進而降低缺陷的發生。 US 20 04/0107732 A1揭露一方法，將浮動浴槽的熱區 中氣氛的氳氣濃度調整至低於3%，即可避免us 2004/01 1 0625 A1揭露的氣泡發生。採取此方法可降低在 φ 溶融錫中的氫濃度，因此從玻璃中擴散的氫能夠溶解於熔 融錫中，從而避免氣泡的產生。 相較於此一先前技術，US 3, 337, 322揭露一保護氣氛 (protective gas atmosphere)，其中含有超過 5〇%的惰性 風體’其餘部分則為還原性氣體（reducing gas)，特別是 氫氣。此專利案揭露保護氣氛之較佳組成為85%氮氣與15% 氫氣；3-10%氫氣，其餘為氮氣；2-8%氫氣，其餘為氮氣； 以及0. 25-⑽氫氣，其餘為氮氣。特別是當保護氣氛中氫 ® 氣含量低時，可在浮動浴槽外罩内部建立不同氫濃度的環 境。 US 5, 364, 435揭露一包括88-95%氮氣與5_12%氫氣之 保護氣氛。 【發明内容】 本發明提供一種平板玻璃之製作方法，包括以下步驟： 將一玻璃置於一熔化槽（melting tank)中以獲得一玻璃熔 融液（glass melt);將該玻璃熔融液倒入一液態金屬浴槽 7 201014810 (liquid metal bath)中並塑造該玻璃熔融液以 〜取I —破璃 帶（glass ribbon)，其中該液態金屬浴槽位於一浮動浴槽 外罩（float bath housing)中，且該浮動浴槽外罩具有一 自由内部體積（free internal volume);導入一含氯之保 護氣氛至浮動浴槽外罩之自由内部體積中，隨後將該含氫 之保護氣氛抽離至浮動浴槽外罩外，其中對每立方八 該浮動浴槽外罩之内部體積而言’導入該保護氣氛之流速 為至少0.2標準立方米/分鐘（^1)。 min 【實施方式】 本發明之目的係為了降低板面斑污與底端開口種核 (bottom 〇pen seed，B〇s)的數量與尺寸。 藉由申請專利範圍第i項可達到本發明之目的。 單位” N，’稱為保護氣氛的標準立方米㈣ 。標準立方求係指一立方米氣體在絕對麼力 UI325巴（bar)、渔度"（乾燥環境）與溫度饥（符合 ISO 2533)的條件下，所測得之數量。 /子動浴槽外罩之自由内部體積（free inf al V〇1滕 係指此*動浴槽外罩内部的體積，其可填充保護氣氛，^ :於玻璃帶表面或溶融錫浴槽表面上方與傳統用來固定加 熱器之懸吊頂蓋下方。 由内部體積，導入 )之保護氣氛，並且 對於每立方公尺之浮動浴槽外罩自 流速至少為0.2標準立方米/分鐘 min 201014810 以相同流速（氣體量/單位時間）將保護氣氛抽出 其抽離浮動浴槽外罩，以將保護氣氛快逮的置換。疋 在平均理論置換時間tav，the。小於等於12分鐘（純粹電 滕核擬計真）的時間内，與此浮動浴槽外軍之自由 相當的保護氣氛被置換。 ° 孩 為了計算平均理論置換時間t—(單位為分鐘），將 自由内部體積（單位為立方公尺）除以在操作狀態 • (〇Peratlng state)下所施加的氣氛流速（單位為立方 公尺/分鐘）。 依上慣例，在標準狀態下所測量3到的氣氛流速標記為 L.S，其早位為標準立方米/分鐘一 min 為了計算匕。與吖5的關係’標準狀態下所測量的氣氛 流速Ls必須乘以在浮動浴槽中氣氛的平均絕對溫度 τ〜ν(單位為飢氏溫度κ)’並除以在標準狀態下氣氛的絕 對溫度 Ti.s.(依據 IS〇 2533 規定，n 288 15Κ)。 • 因此可得到下列關係式： "tev, theo

V

free,FB i.O. 分i.sTWav 本案已經證實如此快速地置換浴槽中的氣氛有助於降 低板面斑污與底端開口種核0—openseed，卜 min 士對於，立方公尺（m3)之浮動浴槽外罩自由内部體積而 保護氣氛之流速較佳為至少0.23標準立方米/分鐘 JVm3 .)，最佳為 更佳為至少0.26標準立方米/分

Nm3 min 至少0.28標準立方米/分鐘 9 201014810 在本案中也已證實，以保護氣氛不斷地置換浮動浴槽 外罩自由内部體積至少8〇%的體積，即可達到功效。 隨著保護氣氛之流入口與流出口的設置與操作位置不 同，上述至少80%的浮動浴槽外由 於浮動浴槽外罩内側的一固定區•，也可能是一變 (例如可能在操作的期間中遷移位置）。 為了避免污染物微粒堆積在無效體積（dead v〇lumes) 中，洋動浴槽外罩中保護氣氛體積完全被置換的平均理論 置換時間tavthe。較佳控制在小於等於1.2分鐘（$12 min)。此外，較佳為所有自由内部體積皆參與保護氣氛置 換的過程。 所有自由内部體積皆參與保護氣氛置換的過程並不表 示沒有任何内部體積的置換過程較為快速，也不表示沒有 任何内部體積的置換過程較為緩慢。保護氣氛置換的過程 較佳為至少80%的自由内部體積具有相同的置換速度。 在本案中也已證實，對於每立方公尺（m3)之浮動浴槽 外罩自由内部體積而言，當保護氣氛之流速為至少〇 2標 準立方米/分鐘（^)，並且以相同流速抽離時，在不同區 域的保護氣氛置換過程具有不同的置換速度應無害於對於 製程。 保護氣氛之導入及/或抽離可以採取連續式實施或脈 衝式實施。 此外’在本案中也已證實，於浮動浴槽外罩前半部分 201014810 :母立方公尺（ffl)之浮動浴槽外罩自由内部體積 而吞，流速為至少〇·2標準立方米/分鐘（^)的保 & min ^ 氛’應有利於製程。 —，護氣t的流速可減要進行調*，例如於浮動浴槽 刖半。P (亦即熱區），可提高導入保護氣氛之流速，例如對 於每立方公尺（m3)之浮動浴槽外罩自由内部體積流速為 標準立方米/分鐘（=_);於其他區域則可降低導入保 護軋巩之流速，例如對於每立方公尺(ffl3)之浮動浴槽外罩 自由内部體積，流速為0.15標準立方米/分鐘（^)。只 min '、文 能確保對於每立方公尺（Π]3)之浮動浴槽外罩自由内部避 積^言，保護氣氛之平均流料至少G.2標準立方米/分鐘 (:)即可。 保護氣氛導入浮動浴槽外罩的過程較佳為在此空間中 皆以均一的速度導入。 一於本案中，將保護氣氛以均一的速度導入並通過整個 子動公槽’較佳為亦以均一的速度將保護氣氛經由浮動浴 槽槽壁上之抽氣設備（亦稱為排氣設備，veirting-out instruments)抽離。 可將浮動浴槽分割成多個浮動浴槽區（n〇at以讣 sections)’此浮動浴槽區也可稱為隔間（bays)。在每一個 浮動浴槽區中，較佳為以相同流速（流量/單位時間）導入並 抽離保護氣氛。 依照本案浮動浴槽之尺寸，為了使保護氣氛的置換時 201014810 間小於等於1. 2分鐘（S 1 · 2 in i η )，必須將流速較佳為高達 1 000標準立方米/小時之保護氣體導入浮動浴槽外罩。相 較於保護氣氛置換時間約等於h5分鐘，藉由控制保護氣 氛置換時間小於等於1.2分鐘1.2 min)，將可降低缺陷 與氣泡數量達60%。較佳之保護氣氛置換時間為小於等於j 刀鐘min)，最佳為（in particular)小於等於〇· 8分 鐘（SO.8min)，且缺陷與氣泡之數量將可隨保護氣氛置換 時間的減少而降低。 依照習知技術，保護氣氛中氩氣的含量介於5-12%之⑩ 間。本案發現當保護氣氛中氫氣的含量增加至超過12%， 將可增強快速置換保護氣氛對製程所造成的正面影響。保 護氣氛中氫氣的含量較佳為大於12%至14%之間（> 12 _ 14/〇。對位於浮動浴槽前半部熱區之浮動浴槽區而言，保 護氣氛中氫氣的含量更佳為大於等於m至14%之間〇 Η 。因此，藉由此方法能夠大幅降低底端開口種核（B0S) 之密度。 如第1圖所示，對於每立方公尺之浮動浴槽外罩自由® 内部體積’導入流速為0.23標準立方米/分鐘（¾之保護 min 氣氛，且保護氣氛中氫氣的含量為5%時，判定其底端開口 核（B0S)數量之平均百分比為約。然而當保護氣氛 中氣氣的含量增加袁1 q # 為13· 5/°時，則底端開口種核（B0S)數量 之平均百分比降低至約30%。 第2圖係將每平方公尺之板面斑污數量百分比對時間 12 201014810 作圖。於起始5週内， 、、母立方公尺之浮動浴槽外罩自 内β體積，導入流速為〇 9標準立方米/分鐘（^)之保護 氣氛之平均理論置換時間“。二鐘; 積，伴雙Ρ料母立心料罩Η内部體 積保護氣氛導入流逮增加至。.28標準立方米/分鐘 :)’且經電腦模擬計算，將保護氣氛之平均理論置換時 Φ ❹ 量百八比2 3() η 1 ^ US圖可確認板面斑污數 罝百刀比明顯降低至少於80% 〇 上述百分比係為在各個指定時 平均值之相對比例。 -時間間隔内板面斑污數量 除氫氣之外，保護氣氛尚包括一 含氮氣、氲氣及/或氦氣。 ’較佳為包 本方法特別適合於製造财酸破璃，例如應用 其Γ包括(成分後方之數字代表該氧 化物之重量百分比）：Si02 70 _ 8 …τ …。 85 β2〇3 7 - 13、Na2〇 + ⑷一-8、_ + Ca0 + Sr00、3、Ai2〇32_7。 又如無驗^⑷讀玻璃，其組成包括：sim H、Al2〇3l0-25、Mg〇〇_1〇、Ca"_i2、w 〇-12二〇〇一15，以及如 + _ + _ + _8_ 2 -1°、Zr〇2°-5'Ti〇2°~5、Sn〇2。— 2。 又如製錢不器用玻璃’包括下列組成：siQ2>55_65、 β2〇3 5 — U、Al2。3〉14 — 25、_ 0 〜8、Ca〇 〇 8 SrOO-8>BaO,l〇^^Mg〇 + Ca〇 + Sr〇 + Ba〇8 13 201014810 21、ZnO 〇 - 5、Zr〇2 〇 _ 2、Ti〇2 0 - 3、Sn〇2 0 - 2 ; 其中特別包括下列組成：Si〇2 > 58 — 65、B2〇s > 6 - l〇. 5、 A1z〇3 > 14 - 25、MgO 〇 - < 3、CaO 0 - 9、BaO > 3 - 8、 以及 MgO + CaO + BaO 8 - 18、ZnO 0 - < 2、無 As2〇3、 無Sb：：〇3 ’其中較佳為不含氧化鋅（Zn 〇xide)、氧化鈽（ce 0Xlde)、氧化錄（Zr oxide)及氧化鈦（Ti oxide)。 本方法尚特別適合於製造玻璃-陶瓷用之各種生胚玻 璃（green glasses)，其組成包括：Si〇2 55 _ 69、19 -25、Li2〇 3 - 5、Na2〇 〇 - 1. 5、K2〇 0 - 1, 5、工 + K2〇0.2-2'Mg00.1-2.2'CaOO-15'SrO〇- BaO 0 - 2. 5、Σ MgO + CaO + SrO + BaO < 6、ZnO 〇 一

Na2〇 1.5、 1.5、

Ti〇2 成：

TiCh 1 - 5、Zr〇2 卜 2. 5、Sn〇2 0-< 1、Σ

Sn〇2 2· 5 - 5、P2〇5 〇 - 3 ;或是具有下列組

Si〇2 55 -69 A 1 2〇3 19 -25 Li2〇 3. 2 -5 Na2〇 0 _ -1.5 K2〇 0 - 1.5 MgO 0 - 2. 2 CaO 0 - 2. 0 SrO 0 - 2. 0 BaO 0 - 2. 5 ZnO 0 - < 1. Ti〇2 0 - 3 14 201014810

Zr〇2 1

Sn〇2 0. 1 - < i Σ Ti〇2 + Zr〇2 + Sn〇22. 5-5 P2O5 O-3 F 0-1 B2O3 0-2

Nd2〇3 0. 01 - 〇. 6

或是一玻璃-陶瓷之前驅物玻璃，其組成包括：Si 〇2 55 -75、AI2O3 15 - 30、LhO 2. 5 - 6、Σ Na2〇 + K2O <6、 Σ MgO + CaO + SrO + BaO < 6 ' B2O3 0 - < 4 ' Σ Ti〇2 + Zr〇2 <2。又或是一玻璃-陶瓷之前驅物玻璃，其組成包括：

Si〇2 60 - 72、Al2〇3 18 - 28、U2O 3 一 6、Σ Na2〇 + K2O 0.2-2、 Σ MgO + CaO + SrO + BaO < 6 ' ZnO 0 - 1· 5、 B2〇3 0 -< 4、SnO 0. 1 - 1· 5、x Ti〇2 + Zr〇2 < 2、P2〇5 〇_3'F〇-2° 適合利用本發明所提供方法製造之其他較佳破璃包 括：為銘梦酸玻璃，其具有至少55重量％SiCh，較佳為至 少60重量％，且最佳為64重量％。其中Si(h之上限為7〇 重量％，較佳為低於68重量％，最佳為至多67重量％。 ㈣酸玻璃尚包…她上…，較佳為至；。。5 重量％，且最佳之最小含量4 0」。此㈣酸玻璃之 Βζ〇3最大含量為2重量％，且較佳為15重量％。 重量％以上之Α!2〇3，較 20重量％ ;而αι2〇3最大 此鋁矽酸玻璃尚包括至少18 佳至少19重量％，且最佳為至少 15 201014810 含量為25重量％，較佳為24. 5重量％，且最佳為24重量 此鋁矽酸玻璃尚包括3 重量％到至多5重量％之 Li2〇，Li2〇最小含量為3.25重量％，且較佳為3.5重量°/〇; 而Li 2〇最大含量為至多5重量％，較佳為至多4. 8重量％， 至多之上限為4. 75重量％，且最佳為至多4. 6重量％。此 鋁石夕酸玻璃尚包括0重量％到至多3重量％之Na2〇及K2O， 其中Na2〇含量上限為至多1.5重量％，較佳為至多1重量 % ;而K2O最大含量為1.5重量％，較佳為1重量％。在此 IS石夕酸玻璃中，驗金屬氧化物Na2〇及K2O之總含量為0重 量％到至多3重量％，最小總含量為0.25重量％，較佳為 0. 5重量％;而最大總含量為3重量％，較佳為2. 75重量 %，且最佳為至多2. 5重量％。 此鋁矽酸玻璃尚包括CaO與SrO，其中CaO與SrO之 含量彼此獨立，分別為0重量％到至多2重量％。在此鋁 矽酸玻璃中，CaO與SrO之較佳最小含量分別為0. 1重量 % ;而CaO與SrO較佳之最大含量分別為2重量％，最佳為 1. 5重量％。此鋁矽酸玻璃尚包括0重量％到至多3重量％ 之Ti〇2與1重量％到至多2.5重量％之21*〇2。其中Ti〇2之 最小含量為0.5重量％，較佳為0.8重量％;Ti〇2之最大含 量為2. 75重量％，最佳為2. 5重量％。而Zr〇2之最小含量 較佳為1.5重量％; Zr〇2之最大含量為2.25重量％，最佳 為2重量％。此鋁矽酸玻璃尚包括0. 1重量％到至多1重 量％之Sn〇2，其中Sn〇2之最小含量為0. 15重量％，較佳為 16 201014810 0.18重量％; SnOz之最大含量為〇· 9重量％’最佳為0.8重 量％。在此銘梦酸玻璃中’氧化物Ti〇2、Zr〇2及Sn〇2之總 含量為至少2. 5重量％到至多5重量％ ’最小總含量為3 重量％，最佳為3.25重量％;而最大總含量為4.9重量％， 最佳為至多4. 8重量％。 此銘梦酸玻璃尚包括MgO及/或BaO，MgO與BaO之含 量彼此獨立並可視需要調整，其中MgO含量為0重量％到 2.2重量％，而BaO含量為0重量％到2. 5重量％。在此鋁 矽酸玻璃中，MgO與BaO之最小含量分別為〇. 〇5重量％， 較佳最小含量分別為0· 1重量％ ;而MgO與BaO之較佳最 大含量分別為2重量％。此鋁矽酸玻璃尚包括ZnO及/或 P2〇s，ZnO及/或P2〇s之含量彼此獨立並可視需要調整，其 中ZnO含量為0重量％到小於5重量％，而p2〇5含量為〇 重量％到3重量其中ZnO之最小含量較佳為〇 〇5重量 %，最佳為0.1重量％; ZnO之最大含量較佳為【重量％， • 最佳為〇. 75重量％。而P❿之最小含量較佳為0.5重量 %，最佳為1重量％ ; P2〇5之最大含量為2·5重量％，最佳 為2重量％。此鋁矽酸玻璃尚包括〇〇1重量％到〇6重量 %之Nd2〇3, Nd2〇3最小含量較佳為〇〇5重量％，最佳為 重量％ ;而NchCh最大含量較佳* 〇 ςς去旦η/ π 双住马ϋ.55重量％，最佳為0.5 重量％。 露如上，然其並非 具有通常知識者， 作任意之更動與潤 雖然本發明已以數個較佳實施例揭 用以限定本發明，任何所屬技術領域中 在不脫離本發明之精神和範圍内，當可 17 201014810 飾’因此本發明之保護範㈣視後m★專利範圍所界 定者為準。 【圖式簡單說明】 第】圓為一底端開口種核（B0S)數量之平均百分比輿 時間之關係圖’用以說明本發明可達成之功效。 第2圏為一板面斑污數量百分比與時間之 以說明本發明可達成之功效。 ^

【主要元件符號說明】 無

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Claims (1)

1. 201014810 七、申請專利範圍： 1· 一種平板玻璃之製作方法，包括以下步驟： 將一玻璃置於一溶化槽（melting tank)中以獲得一玻 璃溶融液（glass melt); 將該玻璃熔融液倒入一液態金屬浴槽（liquid metal bath)中並塑造該玻璃熔融液以形成一玻璃帶（glass . ribbon) ’其中該液態金屬浴槽位於一浮動浴槽外罩（fl〇at bath housing)中，且該浮動浴槽外罩具有一自由内部體積 (free internal volume)； 導入一含氫之保護氣氛至浮動浴槽外罩之自由内部體 積中’隨後將該含氳之保護氣氛抽離至浮動浴槽外罩外， 其中對每立方公尺之該浮動浴槽外罩之内部體積而言，導 入該保護氣氛之流速為至少〇·2標準立方米/分鐘（：^)。 min 2.如申請專利範圍第】項所述之平板玻璃之製作方 法其中對每立方公尺之該浮動洛槽外罩之内部體積而 參言’導人該保護氣氛之流速為至少G. 23標準立方米/分鐘 (^1)。 min 3·如申請專利範圍第1項或第2項中所述之平板玻璃 之製作：法，纟中對每立方公尺之該浮動浴槽外罩之内部 體積而言’導入該保護氣氛之流速為至少02 米/分鐘（^1)。 min 2如申請專利範圍第i項至第3項中任意 作方法，其中對每立方公尺之該浮動洛槽外 19 201014810 罩之内部體積而言，導入該保護氣氛 標準立方米/分鐘（M)。 ^ ^ °*28 min 5·如申請專利範圍第！項至第4項中任意一項所述之 平板玻璃之製作方法，其中該浮動 斤動，合槽外罩中該保護氣氛 體積被元全置換的平均理論置換時間t〜。小於等 分鐘。 z 6. 如申請專利範圍第5項所述之平板玻璃之製作方 法，其中以該保護氣氛不斷地置換該浮動浴槽外罩自 部體積至少80%的體積。 7. 如中請專利範圍第1項至第W任意-項所述之平 板玻璃之製作方法，其中該保護氣氛之導入是以連 施或脈衝式實施。 f 8·如申請專利範圍第丨項至 ^ ^ L $任意一項所述之半 板玻璃之裊作方法，其中該保護 又礼机疋Μ對每立方公 ，3 之浮動洛槽外罩自由内部體積而 a尺⑷ 3 U. 2標準立方米/ 分鐘（1^)的流速導入浮動浴槽外罩前半部分。 9. 如申請專利範圍第丨項至第8項任竟一 板玻璃之製作方法，其中該保護氣氛以均勻八佈迷之平 方式導入該浮動浴槽外罩中。 一刀佈於空間的 10. 如令請專利範圍第i項至第9 平板玻璃之製作方法，其中在每—個浮動#項所述之 同流速（流量/單位時n、道λ *』 s 中’以相 時間）導入並抽離保護氣氛。 11. 如申請專利範圍第丨項至 項任意一項所述之 20 201014810 平板玻璃之製作方法， 12%。 、該保護氣氛中之氫氣含量大於 12. 如申請專利範圍 古 1項所述之平板玻璃之製作 '’其中該保護氣氛中之氫氣含量為大於12_14%。 13. 如申請專利範圍第U項所述之平板玻璃之製作 方法’其中對位於該浮動浴槽前半部熱區之浮動浴槽區而 5 ’該保護氣氛中之氫氣含量為大於等於12%至14%之間。 馨

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