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TW201009988A - Substrate-processing apparatus and method of transferring substrate in the same - Google Patents

Substrate-processing apparatus and method of transferring substrate in the same Download PDF

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TW201009988A
TW201009988A TW098112339A TW98112339A TW201009988A TW 201009988 A TW201009988 A TW 201009988A TW 098112339 A TW098112339 A TW 098112339A TW 98112339 A TW98112339 A TW 98112339A TW 201009988 A TW201009988 A TW 201009988A
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arm
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TW098112339A
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TWI434367B (zh
Inventor
Kwang-Jin Hong
Jun-Ho You
Original Assignee
Semes Co Ltd
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Publication date
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    • H10P72/0604
    • H10P72/3302
    • H10P72/3304
    • H10P72/3311
    • H10P72/3402
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    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/137Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

201009988 ^iio/pn.doc 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於〆種製造半導體基板(semiconductor substrate)的裝置,且特別是有關於一種處理半導體基板 的基板處理裝置以及一種在此基板處理裝置中傳送基板的 方法。 【先前技術】 在基板製造過程中,介電體(dielectrics)與金屬材料 的沈積(deposition )與蚀刻(etching )、光阻材料 (photoresists)的塗布(coating)與顯影(development)、 灰化製程(asher process)等重複執行多次,以實現圖案 (patterning)的精緻排列。然而’儘管執行了這些製程(包 括蝕刻製程或灰化製程),基板中仍然會殘留異物。消除 這些異物的製程包括使用去離子水(deionized water )或化 學品的清潔製程(cleaning process )。 執行清潔製程的基板清潔裝置分為批量式(batch)基 板清潔裝置與單一式(single)基板清潔裝置。批量式基板 /月潔裝置包括化學品槽(chernical bath )、沖洗槽(rinse bath)以及乾燥槽(drybath),它們具有能夠一次處理25 板或50個基板的尺寸。批量式基板清潔裝置是將基板 浸^在各別槽内—段預定時間來清除異物。這種批量式基 板清潔裝置能夠同時清潔基板的上面部分與下面部分,且 能夠同時處理許多基板。但是,隨著基板直徑的增大,這 些槽的尺寸也增大,導致裝置的尺寸與化學品的量都增 201009988 jiid /pir.doc 加此外’從鄰近的基板上分離出來的異物會附在化學品 槽中的正在清潔的基板上。 s近’隨著基板直徑的增大,單—絲板清潔裝置得 顧^的應用。在單—式基板清潔裝置巾,絲被固定在 處理至(chamber)内的基板卡盤(chuck)上,其中處理 室^有適合處理單—基板料尺寸,然後用馬達(m〇⑽ 來帶動基板旋轉,接著透過配置在基板上方的喷嘴 (n〇ZZle)來提供化學品或去離子水給基板。基板的自旋 〇 (_)使得化學品或去軒水在基板的上㈣分被分散 開,從而清除基板上的異物。單一式基板清潔裝置的尺寸 小於批量式基板清«置,且具有均勻清潔的效能。 通常’單一式基板清潔裝置包括(從其侧面來看)載 入/卸載單元(loading/unloadingunit)、指標機械手(index robot)、緩衝單元(bufferunit)、處理室以及主 機 手(main transfer robot)。指標機械手是在緩衝單元與载 入/卸載單元之間傳送基板,且主傳送機械手是在緩衝單元 與處理室之間傳送基板。要清潔的基板在緩衝單元等著被 插入至處理室’或者已經清潔過的基板在緩衝單元等著被 傳送至載入/卸載單元。 參 諸如指標機械手與主傳送機械手之類的傳送機械手包 括多個臂狀物(arms),且基板被載入到每個臂狀物上。 各別臂狀物以水平方式移動,以從諸如前開式晶圓盒(fr〇nt open unified pods,FOUPs)之類的儲存器或緩衝單现元中取 出基板,或將基板載入至此儲存器或緩衝單元。 201009988 31157pif.doc 速度變化的:送機械手中的-個臂狀物的 點ST P休j每個臂狀物從水平移動開始時的起始時 W,^最,’到第一時點T1時,臂狀物達到最大速度 T2,到第-味 UV從第一時點T1保持到第二時點 1時’臂狀物開始逐漸減速。也就是說, 二隹-笙? η i第二時點Τ2,臂狀物是以最大速度UV 碑速軸。從第二_ T2至水平移鱗束時的目 不…,Τ,該傳送機械手的臂狀物逐漸減速,也就是說, 到時點ΕΤ時’臂狀物停在—儲存装置中。 因此,該傳送機械手中的臂狀物的水平移動輪廓線按 順序包括:加速段’速度逐漸增加;等速段,臂狀物以等 速運動方式來移動;以及減速段,速歧漸減小。 這種傳送機械手的臂狀物是以獨立的方式來驅動,所 以各別臂狀物具有單獨的水平驅動軸,且臂狀物之間具有 裝配公差(assemblingtolerance)。因此,當至少兩個臂狀 物一起被驅動時,各別臂狀物的速度是不同的,所以各別 臂狀物到達目標點的時點也是不同的。 請參照圖2,當兩個臂狀物起以水平方式 移動叫·’這兩個臂狀物A1與A2開始水平移動的起始時點 ST疋相同的’且這兩個臂狀物Ai與A2達到最大速度UV 時的時點T1也是相同的。但是,因為這兩個臂狀物A1與 A2中的第一個臂狀物A1開始減速時的時點τ2不同於第 201009988 j i ujjjf-doc 二個臂狀物A2開始減速時的時點T3,所卩這兩個臂狀物 到達目標點的時點ET1與ΕΤ2是不同的。 一因此,當該傳送機械手的多個臂狀物被同時驅動時, XI些臂狀物到達目標點的時點是不同的,故不容易從儲存 裝置中同時取出多個基板。 【發明内容】 本發明提供一種能夠提高基板載入與卸載效率的基 板處理裝置。 法。本發明也提供-種在基板處理裝置中傳送基板的方 署勺if r之實麵提絲板處縣置,這絲板處理震 置匕括儲存構件、傳送構件以及控制單元。 ❹ 儲存構件㈣直方向上_⑼基板,以儲存這些美 i臂包括多個傳送臂(_伽贿s),這些ί '名向上面對面地配置,臂驅動部件以水平方式 動各別的傳送臂’基板被载入到各別的傳送臂上ι 傳送構件從儲存構件中取出至少一個腺^該 :要且基於從多個傳送臂中選出 耗臂分別到達儲存構件中之目標點所消 傳送臂的水平移動速度 月匕夠同時到達目標點。 傳运# 在本發明的其他實施例中,基板處理裳置包括儲存容 201009988 :uo/pii:doc 器指標機械手以及第—控制單元。 過的器在垂直5向上將要處理的基板或已處理 將要i理二广儲存34些基板。緩衝單元在垂直方向上 ΐ 的基板關,以儲存這些基 板才曰標機械手包括:吝個沪抻 標臂在垂直方向上祕身arais) ’這些指 配置;以及臂驅動部件,此臂 各式來移動各別的指標臂。基板被載人到 間傢指標機械手是在儲存容器與緩衝單元之 板I且從儲存容器或緩衝單元中取出至少一個基 控制=以存容器或緩衝單元。第一 制單元基於從械手移動速度與位置’且第一控 別到、>日標臂巾選出的要同時驅動的指標臂分 單元之控標Γ斤消耗的期望時間,根據控制 選之指的水平移動速度’使得所 傳送ί 2實施财,基域理裝置可更包減理室、主 理、J /及第二控制單元。基板在處理室中進行處 ^傳运機械手包括:多個拾取手(pick_up hands), 件了手在垂直方向上面對面地配置;以及手驅動部 it, 11動科以水平方式來移動各別拾取手 。基板被 元手上。主料機械手是在該室與緩衝單 將至二基板,、且從緩衝單元中取出至少—個基板,或 傳送^】基板载人至緩衝單元。第二控制單元控制著主 、*的軸速度與位置,*且第二控制單元控制著 201009988 ID /pif.doc 手驅動部件,以藉由控制各別拾取手的移動速度來使得拾 取手中的至少兩個拾取手能夠同時到達緩衝單元中的 在本發明的其他實施例中,傳送基板的方法包括:產 生傳送基板的傳送構件的各別傳送臂的移動速度資訊,包 括最大速度、減速度以及加速度;根據各別傳送臂所對i 的目標點的位置值以及移動速度資訊來計算各別傳送臂5 it對應之目標點所消耗的期望時間;根據所計算瞎 _及移動速度資訊來重設etting)各別傳送臂的速 度’使得這些傳送臂具有相同的消耗時間;以及按照重嗖 的速度來同時水平移動這些傳送臂,以從儲存構件中、同^ 取出多個基板’或同時將多個基板載入至儲存構件。 在一些實施例中,速度的重設可包括:比較所計算出 的期望時間,將計算出的期望時間中的最長期望時間=定 為最大期望時間;以及對期望時間小於最大期望時間的傳 m速度進㈣設,以將這些傳送臂調節成具有相同的 義 /肖耗簡。 【發明的效果】 ;依,本發明,基板處理裝置包括控制部件,此控制部 可洞gp傳送臂的速度’且控制著被同時驅動的傳送臂, 同時到達目標點。因此,傳送構件能夠-次將 二Γ板載人至儲存構件’或者從儲存構件巾—次取出多 :基板,從而使基板處理農置減少傳送時間,且提高生產 罕0 201009988 *m:>/prE.doc 為讓本發明之上述特徵和優點能更明 舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。下文特 【實施方式】 下面將參__式來詳細描 例。然而,本發明可體現為很多不同的形 ,例。確切地說,提供二 疋為了使揭路_錢義更完整,且將本發明之範 分傳遞給本領域中具有通常技藝者。 下面將 f合所附圖式來描述本發明之實施例。 編依照本發明之—實補的—種基板處理系統 、、、不思圖。圖4是圖3所示之指標機械手2〇〇的立體 透視圖。 ,參照® 3朗4,基板處理緖麵可包括載入/ 卸載單元110、指標機械手200、緩衝單元3〇〇、主傳送機 械手500、多個處理室600、第一控制單元71〇以及第二押 制單元720。 工 載入/卸載單元11〇包括多個載入埠(load ports) l_l〇a、ll〇b、ii〇c及110d。在本實施例中,載入/卸载單 元110包括四個載入埠ll〇a、U〇b、11〇c及11〇d,但是 載入埠110a、li〇b、ii〇c及ii〇d的數量可根據基板處理 系統1000的處理效率以及占地條件(footprint conditions ) 而增加或減少。 前開式晶圓盒120a、120b、120c及120d被放置在載 入埠 110a、11 〇b、11 〇c 及 11 〇d 上。晶圓(wafers)被儲 201009988
Jiij/pAf.d0c 存在前開式晶圓盒120a、120b、120c及12〇d中。各別前 開式晶圓盒120a、120b、120c及12〇d具有多個以水平方 $來儲存晶_槽(slQts),其—麵地面。前開式晶圓 | 120a、120b、120c及120d可儲存已載入至處理室6〇〇 且已、左處理過的晶圓或儲存將要載入至處理室6⑻並且進 仃處理的晶圓。下文為了方便起見,將已經被基板處理系 統1000處理過的晶圓稱為已處理之晶圓(processed wafers),而將尚未處理的晶圓稱為原始晶圓(㈣刷代 • wafers)。 指標機械手200配置在載入/卸載單元11〇鱼缓衝單 3〇〇之間,且第一傳送軌(transfer細)2〇配置在指標機 械手200的下面。指標機械手2〇〇沿著第一傳送軌2〇來移 動,且傳送晶圓。指標機械手2〇〇可包括臂驅動部件21〇、 指標臂部件220、多個連接部件230、旋轉部件24〇、垂直 移動部件250以及水平移動部件260。 詳細地說,臂驅動部件21〇以水平方式來移動各別指 〇 標臂 22卜 222、223 及 224。指標臂 221、222、223 及 224 疋单獨被臂驅動部件210驅動。 臂驅動部件210的上面部分具有指標臂部件22〇。這 些指標臂221、222、223及224在垂直方向上面對面地配 置,且晶圓被載入到每個指標臂221、222、223及224上。 在本實施例中,指標機械手200具有四個指標臂221、222、 223及224,但是指標臂22卜222、223及224的數量可根 據基板處理系統1000的處理效率而增加。 π 201009988 川;>/pii:doc 用來傳送原始晶圓的指標臂221與222可稱為載入指 標臂,而用來傳送已處理之晶圓的指標臂223與224則可 稱為卸載指標臂。在此情形下,載入指標臂221、222與卸 載指標臂223、224可分開配置,而不是以交替方式來配 置。例如,卸載指標臂223與224可配置在載入指標臂221 與222的上面。因此,當指標機械手2〇〇傳送原始晶圓與 已處理之晶圓時,能夠避免已處理之晶圓被原始晶圓污 染’從而提高產品的產量。 被放置在载入/卸載單元110上的載入指標臂221與 222從等待著的前開式晶圓盒120a、120b、120c及120d 當中的任意一個晶圓盒中取出原始晶圓,然後將這些原始 曰曰圓載入至緩衝單元3〇〇。指標機械手2〇〇從等待著的前 開式晶圓盒120a、120b、120c及120d中一次取出至少一 ,原始晶圓。也就是說,載入指標臂221與222可將原始 曰曰圓同%插入至等待處理的前開式晶圓盒、12此、 120%及蘭,然後同時取出原始晶圓。因此,兩個原始日曰日 圓可從等待處理的前開式晶圓盒12〇a、l2〇b、及12⑽ 中同時取出。 ❹ <~同,地,指標機械手200可將至少一個原始晶圓載入 至緩衝單元300。也就是說,載入指標臂221與222可同 時插入至緩衝單元300,然後將放在它們上面的原始晶圓 1時载入至緩衝單元300。如此—來,兩個原始晶圓可同 時被載入至緩衝單元300。 例如,指標機械手200可從等待處理的前開式晶圓盒 12 201009988
Olio / pif.doc 1遍、12Gb、12Ge及12()d中—次取出的晶圓的最大數量 以及可一次載入至緩衝單元3〇〇的晶圓的最大 入至指標臂221與222的數量。 戰 卸載指標臂223與224從緩衝單元300中卸載已處理 的晶圓,且將已處理的晶圓載入至指標機械手沪 ,械手200從緩衝單元細巾一次卸載至少一個已處理二 晶,。也就是說,卸载指標臂223與224可同時插入至缓 衝早兀3〇0,然後從緩衝單元3〇〇中同時卸载原始晶圓。 © 如此-來’兩個原始晶圓可從緩衝單元3〇〇中同時取出。 同樣地,指標機械手2〇〇又將至少一個已處理的晶圓 一次載入至等待處理的前開式晶圓盒12〇a、12〇b、i2⑹ 及120d。也就是說’卸載指標臂223與224同時插入至等 待處理的前開式晶圓盒120a、12〇b、12〇c及12〇d,然後 將放在它們上_已處理之晶顧時載人至等待處理的前 開式晶圓盒120a、12%、120。及i2〇d。如此-來,兩個 已處理的晶圓被同時載入至等待處理的前開式晶圓盒 ❿ 120a、120b、120c 及 12〇d。 例如,指標機械手200可從緩衝單元3〇〇中一次取出 的晶圓的最大數量以及可一次载入至前開式晶圓盒 120a、120b、120c及I20d的晶圓的最大數量等於卸載指 標臂223與224的數量。 因此,指標機械手200可由前開式晶圓盒12〇a、12〇b、 120c及120d與緩衝單元3〇〇中一次取出多個晶圓,或者 一次將多個晶圓載入至前開式晶圓盒12〇a、12〇b、12〇c 13 201009988
JliD/piI.doe ΐ提高元細’從而縮短傳送晶圓所需的時間, 輕接至臂4動^^)連接至連接部件23G。連接部件23〇 G ’以根據此臂鶴部件21G之驅動 A 工移動所連接的指標臂221、222、223及224。 〇 件2二::5=臂卿15件21。下面。此旋轉部 部件训旋轉。部生來旋帶Γ驅動 垂直移動部件250酉己置在旋轉部件240下面,且 配置在垂直移動部件250下面。垂直移動部 旋轉部件240,使旋轉部件240能夠上下移 動,從而調節臂驅動部件21〇與指標臂部件220的垂直位 件麵接至第一傳送執2〇,且沿著此第 專送軌來水平移動。因此,指標機械手2〇〇沿著載入 埠110a、1。觸、⑽及腕的排列方向來移動。 ❹ 緩衝單元300疋配置在指標機械手2〇〇所在的區域與 處理至600和主傳送機械手5〇〇所在的區域之間。緩衝單 元300接收指標機械手2〇〇所傳送的原始晶圓以及已在處 理室600中處理過的晶圓。 圖5是圖3所示之緩衝單元300的立體透視圖。 請參照圖3與圖5,緩衝單元300包括主體31〇、第 一支撐部件(support parts) 320以及第二支撐部件33〇。 詳細地說,主體310可包括底面311、從底面311垂 直伸出的第一側壁312與第二側壁313以及耦接至第一側 14 201009988
Jii3/pxf.d〇c 土 312與第二侧壁313之上端的頂面gw。 料更於存取晶圓,主體310具有一開放的前壁,朝 车5曰械手200 ’還有一開放的後壁,朝著主傳送機械 。因此’指標機械手200與主傳送機械手500將晶 入至緩衝單元300或者從緩衝單元3〇〇中取出晶圓很 方便。 、第側壁312與弟二侧壁313面對面地配置,且頂面 314被局部移除而具有一開口(〇pening) 31如。 第一支撐部件320與第二支撐部件330是配置在主體 内。第一支撐部件320耦接至第一侧壁312,且第二支 樓邛件330麵接至第二侧壁313。第一支樓部件320與第 一支樓σ卩件330均包括多個支座(SUpp〇rts)。第一支樓部 320的支座一對一地對應於第二支撐部件33〇的支座。 晶圓被緩衝單元300接收,晶圓的邊緣被第一支撐部件32〇 的支座與第二支撐部件33〇的支座支撐著。在緩衝單元3〇〇 中’晶圓面朝著底面311。 β 第一支撐部件320與第二支撐部件330的支座在垂直 方向上相互間隔第一間隙(gap),這些支座具有上述載入 指標臂221與222 (參照圖4)的數量以及卸載指標臂223 與224 (參照圖4)的數量。各載入指標臂221與222以及 卸載指標臂223與224也分別間隔第一間隙。因此,指標 機械手200可從緩衝單元3〇〇中一次取出多個晶圓,或一 次將多個晶圓載入至緩衝單元3〇〇。在本說明書中,第一 間隙等於前開式晶圓盒12〇a、120b、120c及120d的槽間 15 201009988 31/pif.doc 隙。 第一支撐部件320與第二支撐部件330的各別支座可 具有導執部件(guide parts ) 31,用來引導晶圓的位置。這 些導執部件31從支座的頂面上突出來,且支樓著晶圓的側 面。 如上所述,緩衝單元3〇〇中連續配置的支座之間的間 隙與同時拾取(pickup)或载入晶圓的指標臂221、222、 223及224之間的間隙相同。因此,指標機械手2⑻能夠 從緩衝單元300中一次取出多個晶圓,或一次將多個晶圓 載入至緩衝單元,從啸高可工作性(workability)與 生產率,且縮短處理時間。 '、 主傳送機械手500將放置在緩衝單元3〇〇中的始 圓傳达至各別處理室_。主傳送機械手·配置在傳送 處,且沿著也配置在傳送通道400處的第二傳送 /移動。傳送通道4〇〇連接至處理室。 主傳送機械手5〇〇從緩衝單元300中 然後沿著第二值η口臂'始日日圓, ❹ 相掛雇傳魏㈣動,且料絲始晶圓提供給 相對應的處理室600。同樣地 室_中已處理過的晶圓載入至緩衝單元^00將處理 :示之主傳送機械手5〇0的立體透視圖。 部件°51rH ’主傳顯財可包括手驅動 。[仵5!〇、拾取手部件52〇、多個丁㈣ 5仙、垂直純輕⑽Ώ 接科530、旋轉部件
if牛及水平移動部H 地說’手驅動部件510以水平方式來移動各別拾 16 201009988 jliO/pif.doc 取手 521、522、523 及 524。各別拾取手 521、522、523 及524是相互獨立地被手驅動部件51〇驅動。 手驅動部件510的上面部分具有拾取手部件52〇。拾 取手521、522、523及524在垂直方向上面對面地配置, 且晶圓被載入到每個拾取手521、522、523及524上。在 本實施例中,主傳送機械手500具有四個拾取手521、522、 523及524,但拾取手521、522、523及524的數量可根據 基板處理系統100的處理效率而增加。 用來傳送原始晶圓的拾取手521與522可稱為載入拾 取手,而用來傳送已處理之晶圓的拾取手523與524則可 稱為卸載拾取手。在此情形下,載入拾取手521、522與卸 載拾取手523、524可分開配置,而不是以交替方式來配 置。例如,卸載拾取手523與524可配置在載入拾取手521 與522的上方。因此,當主傳送機械手5〇〇傳送原始晶圓 與已處理之晶®時,能夠避免已處理之晶圓被原始晶圓污 染’從而提供產品的產量。 各別載入拾取手521與522從緩衝單元300中取出原 始晶圓,且將已處理的晶圓提供給未在使用中的處理室 6〇〇。載入拾取手521與522是按照緩衝單元3〇〇的各別支 座的第一間隙來隔開。如此一來,載入拾取手521與522 可從緩衝單元3〇〇中同時取出多個原始晶圓。 ^各別的卸載拾取手523與524從已完成了處理的處理 至!00 ΐ取出已處理過的晶圓,然後將已處理的晶圓載入 至緩衝單兀300。卸載拾取手523與524相互間隔第一間 201009988 jiiD /pii.doc 隙。如此一來’卸載拾取手523與524能夠將從處理室600 中取出的多個已處理之晶圓同時載入至緩衝單元300。 在本實施例中’各載入拾取手521與522的數量以及 卸載拾取手523與524的數量分別是二,但是各載入拾取 手521與522的數量以及卸載拾取手523與524的數量可 根據基板處理系統1000的處理效率而增加。
例如,緩衝單元300中的按第一間隙來隔開且按順序 配置的支座的數置、指標機械手2〇〇中的能狗從緩衝單元 3〇〇中一次取出晶圓或一次將晶圓載入至緩衝單元300的 指標臂221、222、223及224的最大數量以及主傳送機械 手500中的能夠從緩衝單元3〇〇中一次取出晶圓或一次將 晶圓載入至緩衝單元300的拾取手521、522、523及524 的最大數量是相同的。 土埒达微槭予5〇〇能夠從緩衝單元3〇〇中一 取出多個原始晶圓或-個原始晶圓。同樣地,; :500能夠一次將多個已處理的晶圓或一個已處理的
如此一來’由於晶圓傳送時間減少 基板處理祕1 _可驗處理時間,且提高生產 紅拉拾取手521、522、523及524連接至連接部件53〇 < 接至手驅動部件510的連接部件53G根 來以水平方式移動所連接的拾取手= 旋轉部件540是配置在手驅動部件 轉部件5物至手驅動部件51〇,且透過旋轉:帶二 18 201009988 ^ n ^ /pif.doc 驅動部件510旋轉。所以,拾取手521、522、523及524 可一起旋轉。 垂直移動部件550是配置在旋轉部件540下面,且水 平移動部件560是配置在垂直移動部件550下面》垂直移 動部件550耦接至旋轉部件54〇,使旋轉部件54()能夠上 下移動,藉此來調節手驅動部件51〇與拾取手部件52〇的 f直位置。水平移動部件560耦接至第二傳送軌30,且沿 ❹ 著第一傳送軌30來移動。故而,主傳送機械手500能夠在 緩衝單元300與處理室600之間移動。 主傳送機械手500所在的傳送通道400的兩側具有各 別處理室600,用來處理原始晶圓且形成已處理之晶圓。 處理室600中所執行的製程包括清潔原始晶圓的清潔製 程。母兩個處理室6〇〇面對面地配置,且傳送通道配 置在這兩個處理室600之間。傳送通道4〇〇之兩侧的每一 側配置著三個處理室600。 在本實施例中,基板處理系統1000包括六個處理室 ❹ 600 ’但處理室600的數量可根據基板處理系統1〇〇〇的處 理效率與占地(footprint)條件而增加或減少。同樣地,在本 實施例中,處理室600是按照單層結構(single layer structure )來配置’但疋在多層結構(muhi_iayer s加cture ) 中可將十二個處理室分成兩組,每組有六個處理室。 再參照圖3與圖4 ’指標機械手2〇〇連接至第一控制 單元710,且第一控制單元710控制著指標機械手2〇〇的 位置與各別指標臂221、222、223及224的位置。 19 201009988 *^n^7pn;doc 詳細地說,第一控制單元71〇控制 的水平移㈣件260 ’ 倾手2(^在第一傳送 ί二上標機械手2〇。的水平移動位置,與 ^示機械手的水平移動速度。第—控制單元7 者指標機械手2GG的旋轉部件擔以調節指標 ^ 的旋轉位置與旋轉速度,且第一控制單元71〇控制著午 機械手20㈣垂直移動部件25〇以調節 曰^ 垂直移動位置與垂直移動速度。 牙丨件220的 ▲—同樣地,第一控制單元71〇控制著臂驅動部件21〇以 =各別指標臂221、222、223及224的水平移動位置鱼 度;2Γ是說,第一控制單元710控制獅 22、223及224的速度’使得指標機械手2〇〇能 ^ ^驅動指標臂221、222、223及224來拾取或载入多 1回曰日圓0 詳細地說’第一控制單元71〇計算從指標臂221、222、 士 3及224令選出的要同時驅動的指標臂的移動速度資 即’被選出的要同時驅動的指標臂的各別最大等速度、 別,大減速度以及各別最大加速度。第—控制單元二 1用些移動速度資訊來計算所選的各別指標臂達到目秩 點所消耗的射_,然後根據所計算的期料間之差^ 調節所選的各別指標臂的速度。 j就是說’第一控制單元71〇藉由比較所計算的期望 ^間來,擇最大期望時間。第—控制單元71()控制著速 X,使得具有最大期望時間的所選指標臂以外的所選指標 20 201009988
JiiD/pxf.doc
臂分別具有與最大期望時間相等的時間。就這一點而言, 第一控制單元710控制著期望時間小於最大期望時間的所 選指標臂的最大速度,以將所選指標臂的期望時間設定為 與最大期望時間相等的時間。第一控制單元710將最大速 度調節為低於具有最長期望時間的所選指標臂的最大速 度。當從指標臂221、222、223及224中選出的指標臂以 水平方式移動而達到預設的最大速度時,所選指標臂處於 等速移動狀態。 因此,第一控制單元710控制著指標臂221、222、223 及224的速度’以將指標臂22卜222、223及224到達目 標點所消耗的時間設定為相同的時間。所以,指標機械手 2〇〇 $指標臂221、222、223及224能夠同時到達目標點, 以由則開式晶圓盒120a、120b、120c及12〇d或緩衝單元 300、中同時取出兩個晶圓,或者將兩個晶圓同時载入至前 開式晶圓盒120a、120b、120c及120d或緩衝單元300。 ,傳送機械手500連接至第二控制單元72〇,此第二 控制單元720蝴著主傳送機械手·的位置與各別拾取 手f2]、522、523及524 (參照圖6)的位置。因為第二控 制f72。控制主傳送機械手谓之位置的過程與第一控 制早7G 710控制指標機械手2〇〇之位置的過程相同, 關於第二控制單元72〇的詳細描述將省略。 下文將參照所附圖式來詳細描述指標臂a j、從、功 士 224中的至少兩個指標臂同時到達目標點的過程 ’下面將舉例說明第—卸载指標臂224與第二卸載指標 21 201009988
JiiD/pir'.doc 臂223被同驢動的過程。 圖7是依照本發明之一實施例’指標機械手2〇〇中的 第-卸載指標臂224與第二卸載指標臂223被同時驅動的 過程。 請參照@3、圖4及圖7,在操作步驟siiq中,第一 控ΐ 3 I!鼻要同時驅動的各別f —指標臂224與第 一才曰標臂223的移動速度資訊。 在操作步驟Sl20中,第-控制單元71 ❹ 之Γ點以及第二指標臂223之目標點有關的 犯置值。就這一點而言,由於第一指標臂224與第二 指標臂223取出或裁入不同的曰圆 是不相同的。圓,所以對應的目標點也 ,操作步驟S13〇中,第—控制單元刑模擬 ^臂224與第二指標臂223同時開始與到達對♦之目標 =時的速度變化’以、產生各別第—指24 ^ 〇 臂奶的速度曲線圖。就這一點而言,此速度曲 於操作步驟Slio巾所計算的移動速度資訊。、、、疋土 奶第—指標臂故與第二指標臂 臂=耗的期望時間是透過第-指標 模擬速度變化來分別計算的。 =最長的期望時間設陶大期望 最大期望時間的指標臂的速度被重設(reset): 例如’當第一指標臂224的期望時間長於第二指標臂 22 201009988 3 Η 37plf.doc 223時,第一控制單元710就會調節第二指標臂223的速 度’使得第二指標臂223具有與第一指標臂224相等的期 望時間。 詳細地說,第一控制單元71〇會重設第二指標臂223 的最大速度、加速度以及減速度,使得第二指標臂223與 第一指標臂224具有相等的時間。就這一點而言,第二指 標臂223的最大速度被設定為小於第一指標臂224的最大 速度。 第二指標臂223的最大速度、加速度以及減速度是分 別利用以下的數學圖1來重新計算。 【數學圖1】
KRxDjRI ΜΓ> AVS-
DVS _ ARXDR2 __ΜΓ>~~ DRXDR3 在數學圖1中,VMS、AVS以及DVS分別代表第二 指標臂223的重新計算後的最大速度、重新計算後的加速 度以及重新計算後的減速度。MD代表起始點與目標點之 間的距離。VR代表第一指標臂224的最大速度。dri代 表第一指標臂224以最大速度來等速移動而移動的距離。 23 201009988 j i i y/pii:doc AR代表第一指標臂224的加速度。DR2代表第一指標臂 224以加速運動方式來移動的距離。DR代表第一指標臂 224的減速度。DR3代表第一指標臂224以減少運動方式 來移動的距離。 在操作步驟S160中,第二指標臂223與第一指標臂 224同時開始以水平方式移動,以由前開式晶圓盒i2〇a、 120b、120c或120d或緩衝單元300中取出晶圓,或者將 晶圓載入至前開式晶圓盒UOa、i2〇b、120c或12〇d或緩 衝單元300。 ' 在操作步驟S170中,第二指標臂223與第一指標臂 € 224以第一控制單元710所調節的速度來移動,使得它們 能夠同時到達目標點,且同時取出放在對應之各別目標點 處的晶圓,或將晶圓載入至對應之各別目標點。 因此,第一控制單元710能夠調節指標臂單元Mo的 速度,使得指標臂22卜222、223及224當中的被同時驅 動的指標臂具有相等的肖耗㈣。所以,指標機械手2〇〇 能夠使指標臂22卜222、223及224當中的至少兩個指標 #同時到達對應的目標點,從而—次載人或取出多個晶 圓,縮短晶圓傳送時間,以及提高生產率。 在本實施例中,由於第二控制單元72〇調節主傳送機 械手500之拾取手單元52〇之速度以使得拾取手521、 522、523及524當中的至少兩個拾取手能夠同時到達不同 目標點的過程與第-控制單元71〇調節指標機械手之 才曰標臂早兀220之速度以使得指標臂221、222、223及224 24 201009988 j l i :>/pif.doc 當中的至少兩個指標臂能夠同時到達不同目標點的過程是 相同的,所以第二控制單元72〇的詳細描述將被省略。 圖8繪不為當第二指標臂223與第一指標臂224按照 圖7所述的那樣以第一控制單元71〇所調節的速度來移動 時,起始聘點ST與目標時點Ετ之間的速度變化曲線圖。 參 請參照圖8,A1與A2代表指標臂221、222、223及 224當中的被同時驅動的兩個指標臂,且指標臂A1與 被加速’直到它們達到最大逮度UV1與UV2為止/然後 以最大速度UV1與UV2來等逮運動一段預定的時間,然 後逐漸減速,直至到達目標點為止。 被同時驅動的指標臂A1與A2的最大速度υνι與 UV2被設定為不同的數值,且指標臂A1與A2以各別^ 最大速度UV1與UV2來等速移動的預定時間也是不同 的。也就是說,指標臂A1與A2達到各別最大速度υνι 與im時的時點T1與T2是不同的,且指標臂A1盥Μ 以最大速度UV1與UV2來等速移動之後開始減 點Τ3與Τ4也是不同的。 卞扪吁 、而由於扣“臂A1與A2開始水平移動時的起妒 ’且指標臂A1與A2到達目標點時的目標日i 點也相同’所以所消耗的時間相等。 雖然本發明6以實施例揭露如上,然其並非用以限a ^發明’任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫^ ,當:作些許之更動與_,故本 1月之保5蔓較圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 25 201009988 31157pii.doc [圖式簡單說明】 圖、續'示為~~種典型的傳送機械手中的一個臂狀物的 速度變化曲線圖。 圖2、喻示為—種典型的傳送機械手中的兩個臂狀物同 時移動時這兩個臂狀物的速度變化曲線圖。 圖3疋依照本發明之一實施例的一種基板處理系統的 示意圖。 圖4是圖3所示之指標機械手的立體透視圖。 圖5是圖3所示之緩衝單元的立體透視圖。 圖6是圖3所示之主傳送機械手的立體透視圖。 圖7是依照本發明之一實施例,指標機械手中的多個 指標臂同時到達目標點的過程流程圖。 圖8繪示為當圖7所示之指標臂按照第一控制單元所 調節的速度來移動時,起始時點與目標時點之間的速度轡 化曲線圖。 【主要元件符號說明】 20、30 .傳送軌 31 ·導執部件 110 :載入/卸載單元 110a〜ll〇d :載入埠 120a〜120d :前開式晶圓盒 200 :指標機械手 210:臂驅動部件 220 :指標臂部件 26 201009988 ^ 1 ID /pif.doc 230、530 :連接部件 240、540 :旋轉部件 250、550 :垂直移動部件
I 260、560 :水平移動部件 300 ··缓衝單元 310 :主體 311 :底面 312、313 :側壁 Φ 314 :頂面 314a :開口 320、330 :支撐部件 400 :傳送通道 500 :主傳送機械手 510 :手驅動部件 520 ··拾取手部件 521〜524 :拾取手 φ 600 :處理室 710、720 :控制單元 1000 :基板處理系統 ST、ΤΙ、T2、T3、T4、ET、ET1、ET2 :時點 UV、UV1、UV2 :最大速度 Al、A2 :被同時驅動的指標臂 S110〜S170 :操作步驟 27

Claims (1)

  1. 201009988 /pit.doc 七、申請專利範圍: L一種基板處理裝置,包括: 儲存構件,在垂直方向上排列多個基板,以儲存所述 基板; 傳送構件’包括:多個傳送臂,所述傳送臂在所述垂 ^方向上面對面地配置;以及臂驅動部件,以水平方式來 移,各別的所述傳送臂,所述基板被載入到各別的所述傳 送臂上,所述傳送構件從所述儲存構件中取出至少一個基 板,或者將至少一個基板載入至所述儲存構件 ;以及 ⑩ —控制單元,控制著所述傳送構件的移動速度,且控制 著所述臂驅動部件, …其中所述臂驅動部件根據所述控制單元的控制而從 所述傳送臂titii的要同時驅動的所述傳送臂分別到達所 述儲存構件巾之目標點所消耗的期望時間來調節所選之傳 送臂的水平移動速度’使得所選之傳送臂能齡別 述目標點。 。 、、2.如申請專利範圍第〗項所述之基板處理裝置,其 所述控制單元根據要制時驅動的骑之傳送臂的最 大速度、減速度以及加速度來計算所選之各別傳送 述期望時間,以及 n 所述控制單元根據所計算的所述期望時間之 來調節所選之各別傳送臂的速度。 J查 3.如申請專利範圍第2項所述之基板處理裝置, 所述控制部件對要被同時轉的各騎述傳送臂的逮度進 28 201009988 川 3/pif.doc 行調節,使得所選之傳送臂能夠同時到達所述目標點。 4. 如申請專利範圍第3項所述之基板處理裝置,其中 所述控制單元根據所計算的期望時間為最長的所述傳送臂 的所述最大速度、所述減速度以及所述加速度來調節所述 期望時間小於所述最長期望時間的所述傳送臂的所述最大 速度、所述減速度以及所述加速度。 5. —種基板處理裝置,包括: 儲存容器,在垂直方向上隔開要處理的基板或已處理 的基板,以儲存這些基板; 緩衝單元,在所述垂直方向上隔開要處理的所述基板 與已處理的所述基板’以儲存這些基板; 指標機械手,包括:多個指標臂,在所述垂直方向上 面對面地配置;収臂驅動部件,以水平方絲移動各別 所述指標臂’所述基缝狀到各騎述指標臂上,所述 指標機械手在所存容H與所述輯單元之間傳送所 參 基板,所述指標賊手從所述儲存容器或所賴衝單元 ^至少了個ΐ板,或將至少—個基_人至所述儲存容 态或所述緩衝單元;以及 位置第—控制單元,控制著所述指標機械手的移動速度與 …中所述第控制單元是基於從所述指 的要同時驅動的指標臂分卿達所述儲存容器中$出 f消耗的期望時間,根據所述控制單it之控制來點 域臂的水平移動速度,使得所選指標 29 201009988 31 Ιί) 7pil.doc 述目標點。 6. 如申請專利範圍第5項所述之基域理裝置,更包 括: 處理室’所述基板在所述處理室中進行處理; 主傳送機械手’包括:多餘取手,麵述垂直方向 上面對面地配置;以及手驅動部件,以水平方式來移動各 別所述拾取手,所述基板被載入到各別所述拾取手上,所 述主傳送機械手在所述處理室與所述緩衝單元之間傳送所 述基板,所述主傳送機械手從所述緩衝單元中取出至少一 個基板,或者將至少一個基板載入至所述緩衝單元;以及 第二控制單元,控制著所述主傳送機械手的移動速度 與位置, 其中所述第二控制單元控制著所述手驅動部件,以藉 由控制各別所述拾取手的移動速度來使得所述拾取手當中 的至少兩個拾取手能夠同時到達所述儲存容器或所述緩衝 單元中的不同目標點。 7. —種傳送基板的方法,包括: 產生移動速度資訊,包括用來傳送所述基板的傳送構 件的各別傳送臂的最大速度、減速度以及加速度; 基於各別所述傳送臂所對應之目標點的位置值以及 所述移動速度資訊來計算各別所述傳送臂到達對應之目標 點所消耗的期望時間; 根據所計算的所述期望時間以及所述移動速度資訊 來重設各別所述傳送臂的速度,以使得所述傳送臂具有相 30 201009988 ^ιι^/pif.doc 同的消耗時間;以及 從儲度來’水平地移動所述傳送臂,以 所述儲存構件。5 %取出多個基板或將多個基板同時載入至 中速二範圍第7項所述之傳送基板的方法’其 ❹
    計算的所述期望時間,以將所計算的所述期望 時間中的最長期望時間奴為最大期望_;以及膽 偏、述期望相小於朗最大期望時間的所述傳送 耗=率物重設,以將所述傳送f調節為具有相同的消 9. 如申請專利範圍第8項所述之傳送基板的方法 間小於所述最大期望時間的所述傳送臂的逮 …根據所述期望時間等於所述最大期望時間的所述傳 ^的所述最大速度、麟加速m所賴速度來分別 重叹所述期望時間小於所述最大期望時間的所述傳送臂的 所述最大速度、所述加速度以及所述減速度。 ' 10. 如申請專利範圍第9項所述之傳送基板的方法,其 中期望時間小於所述最大期望時間的所述傳送臂經調節以 使得其最大速度低於期望時間等於所述最大期望時間的 述傳送臂的最大速度。 11. 如申請專利範圍第10項所述之傳送基板的方法, 其中所述最大速度、所述加速度以及所述減速度的重設包 31 201009988 31 K>7pif.doc 括使用以下的等式, VRXDR1 VMS AVS DVS ,AJRXDR2 AID~~DRXDR3 重設別代表重設的最大速度、 MD代表起始點與目標點之間的距離; 臂的Γ大時料大敏__述傳送 DR1代表期望_等於所述 送臂大速,等速移動而移動=的所捕 臂的所述Lii望時間等於所述最大期望時間的所述傳送 送臂娜的所述傳 臂的===:等於所述最大期望時間的所述傳送 DR3代表期望時間 中田 送臂以減速_方式來移_距=期辑_所述傳 12.如申請專利範園 =?的方法,其中從每個所二之 起始"點至所述傳蝴到所設定的 201009988 川 5/pif.doc 第一時點,每個所述傳送臂是以所設定的所述加速度來移 動, 從所述第一時點至第二時點,所述傳送臂是以所設定 的所述最大速度來等速運動,以及 從所述第二時點至所述傳送臂到達所述目標點時的 時點,所述傳送臂是以所設定的所述減速度來移動。 13. —種傳送基板的方法,包括: 在第一控制單元產生臂狀物速度資訊,包括各別指標 ® 臂的最大速度、減速度以及加速度,其中所述基板被载入 到各別所述指標臂上; 在所述第一控制單元,根據各別所述指標臂所對應之 目標點的位置值以及所述臂狀物速度資訊來計算各別所述 指標臂到達對應之目標點所消耗的期望時間; 在所述第一控制單元,根據所計算的所述期望時間以 及所述臂狀物速度資訊來重設各別所述指標臂的速度,使 得所述指標臂具有相同的消耗時間;以及 © 以重設的所述速度來同時水平地移動所述指標臂,以 從儲存容器或緩衝單元中同時取出多個基板,或者將多個 基板同時載入至所述儲存容器或所述缓衝單元。 14. 如申請專利範圍第13項所述之傳送基板的方法, 更包括: 在第二控制單元產生手狀物速度資訊,包括各別拾取 手的最大速度、減速度以及加速度,其中所述基板被载入 到各別所述拾取手上; 33 201009988 31157pit.doc 在所述第一控制單元,根據各別所述拾取手所對鹿 目標點的位置值以及所述手狀物速度資訊來計算各別 拾取手到達對應之目標點所消耗的期望時間; , 在所述第二控制單元,根據所計算的所述期望時間以 巧述手㈣速錢絲线各騎述拾取手的速2 = 件所述拾取手具有相同的消耗時間;以及 以重設的所述速度來同時水平地 從所述緩衝單元中同時取出所述基板 時载入至所述緩衝單元。 土 移動所述拾取手,以 ’或者將所述基板同 ❹ ❿ 34
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