TW201007229A - Adhesive polarization plate, image display device and methods for manufacturing adhesive polarization plate and image display device - Google Patents

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201007229 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種僅於偏光元件之單面上設置有透明保 護膜’於另一單面上積層有黏著劑層之黏著型偏光板及其 製造方法。進而’本發明係關於一種使用該黏著型偏光板 之圖像顯示裝置。另外，本發明係關於一種該圖像顯示裝 置之製造方法。 【先前技術】 液晶顯示裝置中’就其圖像形成方式而言，必不可少的 是在形成液晶面板表面之玻璃基板的兩側配置偏光板。偏 光板通常使用在包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性材料之偏 光元件的單面或兩面，利用聚乙烯醇系接著劑（專利文獻 1、專利文獻2)貼合使用三乙醯纖維素等的偏光元件用透 月保護膜而成者。而且，對偏光板要求之耐久性能變得越 來越嚴格，要求其具有低溫下及高溫下之嚴酷環境下的耐 久性〇 將上述偏光板黏貼於液晶胞等上時，通常使用黏著劑。 而且，黏著劑係預先形成為黏著劑層而設置於偏光板之單 面上，原因在於具有以下優點：可將偏光板瞬時固定，以 及在使偏光板固著時無需乾燥步驟等。亦即，於偏光板之 黏貼方面，通常使用黏著型偏光板。 專利文獻 專利文獻1:日本專利特開2006-220732號公報 專利文獻2:日本專利特開2〇〇1_296427號公報 140674.doc 201007229 【發明内容】 發明所要解決之問題 上述黏著劑層通常應用於在偏光元件之兩面設置有透明 保護膜之偏光板，該偏光板中，黏著劑層係積層於透明保 護膜上。另一方面，自薄型化之觀點來考慮，僅於偏光元 件之單面上設置有透明保護膜之偏光板得到使用，該偏光 板中，偏光元件之另一單面上係設置黏著劑層。但是，僅 偏光元件之單側設置有透明保護膜的薄型黏著型偏光板存 在以下問題：其耐久性較差，放置於上述嚴酷環境下時， 容易沿偏光元件之延伸方向（MD方向（Machine Directi〇n， 縱向））產生龜裂。特別是當偏光板之尺寸增大時，容易產 生上述龜裂。 另外，針對薄型化之課題，提出了於偏光元件之至少一 方之側形成有保護膜之偏光板（日本專利第4丨3丨丨〇4號）。但 是，該偏光板係針對薄型化之課題，代替透明保護膜而直 接於偏光元件上形成保護膜者，關於僅於偏光元件之單側 設置有透明保護膜的薄型黏著型偏光板中所出現的偏光元 件產生龜裂之課題’則並未作任何闡述，而且並未想起該 課題。 本發明之目的在於提供—㈣著錢光板其係僅於偏 光凡件之單面上具有透明保護膜，於另一單面上具有黏著 劑層者’即便放置於低溫下及高溫下之嚴酷環境下，其亦 可滿足耐久性。 、 本發月提供#包含上述黏著型偏光板之圖像顯 140674.doc 201007229 示裝置及其製造方法。 解決問題之技術手段 本案發明者等人經銳意研究發現，藉由下述黏著型偏光 板可解決上述課題’從而完成本發明。 • 亦即，本發明係關於一種黏著型偏光板，其特徵在於： 僅於偏光元件（P)之單面上經由接著劑層（G)而設置有透明 保護膜（E)，於上述偏光元件（p)之另一單面上，經由拉伸 彈性模數為100 MPa以上之保護層（H)而設置有黏著劑層 (B)。 上述黏著型偏光板較好的是，形成上述保護層（h)之保 護層形成劑（H，）為氰基丙烯酸醋系形成劑、環氧系形成 劑、異氰酸酯系形成劑、或丙烯酸系形成劑。 上述黏著型偏光板較好的是，形成上述保護層（H)之保 護層形成劑（兄）為含有硬化性成分之活性能量線硬化型形 成劑。 • 上述黏著型偏光板較好的是，上述保護層（H)滿足光彈 性係數（m2/N)x 厚度（m)$ lxi〇-〗4(m2/N)。 另外，本發明係關於一種黏著型偏光板之製造方法，其 特徵在於：其係用於製造僅於偏光元件（p)之單面上經由 接著劑層（G)而設置有透明保護膜（E)，於上述偏光元件（p) 之另一單面上，經由保護層（H)而設置有黏著劑層（B)之黏 著型偏光板者，且 上述保護層（H)之拉伸彈性模數為1〇〇 Mpa以上， 上述偏光兀件（P)與上述黏著劑層（B)之積層，係藉由於 140674.doc 201007229 上述偏光元件（p)之單面上形成保護層（H)後，在該保護層 (H)上積層黏著劑層（B)而進行。 上述黏著型偏光板之製造方法較好的是，形成上述保護 層（H)之保護層形成劑（H，）為氰基丙烯酸酯系形成劑、環氧 系形成劑、異氰酸酯系形成劑、或丙烯酸系形成劑。 上述黏著型偏光板之製造方法較好的是，形成上述保護 層（H)之保護層形成劑（H，）為含有硬化性成分之活性能量線 硬化型形成劑。 上述黏著型偏光板之製造方法較好的是，上述保護層 (H)滿足光彈性係數（m2/N)x厚度（m)$ ixl〇-u(m2/N)。 另外，本發明係關於一種包含上述黏著型偏光板之圖像 顯示装置。 另外，本發明係關於一種圖像顯示裝置之製造方法其 係用於製造上述圖像顯示裝置者，其包括：捲軸素材準備 步驟，準備上述黏著型偏光板之長條狀片材，作為捲轴素 材；切斷步驟，自該捲軸素材中抽出片材製品，使用切斷 機構將上述黏著型偏光板切斷成特定尺寸；以及貼合步 驟，於該切斷步驟後，經由上述黏著型偏光板之黏著劑層 (B)而貼合於光學顯示單元上。 發明之效果 本發明者等人推測偏光元件產生龜裂之機制如下所述。 亦即，偏光元件通常係藉由將聚乙烯醇系膜染色、延伸而 製造’為了使其發揮出高偏光特性而進行程度非常高之延 伸。因此，偏光元件具有如下機械特性：由於聚乙烯醇系 140674.doc 201007229 分子表現出高配向性，故而延袖古—,Α/ΓΤ^ 现阳延伸方向（MD方向）具有非常高 之強度但疋與其垂直之TD方向（Traverse，橫 向)則非常脆。因此，當偏光元件承受外部應力時其容 易沿MD方向產生龜裂。該龜裂會對圖像顯示裝置之顯示 ，特性造成嚴重之問題。作為該外部應力之例，可列舉：加 濕/乾燥、加熱/冷卻’進而機械拉伸、壓縮、f曲等。特 別就加濕/乾燥進行例示，由於偏光元件材料係以親水性 • 之聚乙稀醇等作為原料’因而會根據外部環境而吸附/釋 出水分，藉此引起偏光元件產生伸縮。特別是偏光元件之 吸濕量為約5重量。/。至30重量％，且在此範圍内表現出體積 收縮/膨脹。為了防止偏光元件之表面產生損傷，並且防 止如上所述水分之急遽進出、以及伴隨於此而在偏光元件 上所產生之變化，且機械保持偏光元件，通常係於偏光元 件之兩側使用保護膜。於加熱/冷卻下亦同樣，透明保護 膜具有抑制偏光元件伴隨熱膨脹而伸縮之作用。對於機械 • 拉伸、壓縮等之外力，亦利用透明保護膜來支承偏光元件 所承受之應力，藉此抑制偏光元件產生龜裂等。另一方 面，於透明保護膜僅存在於偏光元件之單面上之偏光板的 情形時，偏光板為非對稱之構成，且偏光元件之單面變成 自由（free)狀態，因而無法抑制偏光元件sMD方向產生龜 裂。黏著劑層亦存在密度較小之情形，因而對水分滲入之 抑制能力較小，而且彈性模數非常小，因此偏光元件之機 械保持能力非常小，處於可謂自由之狀態。 上述本發明之黏著型偏光板係僅於偏光元件之單面 140674.doc 201007229 上具有透明保護膜（E)，於偏光元件（p)之另一單面上具有 黏著劑層（B)的薄型黏著型偏光板，於該黏著劑層（B)與偏 光元件（p)之間，設置有拉伸彈性模數為1〇〇 Mpa以上之保 護層（H)，藉由該保護層（H)而放置於嚴酷環境下時，亦可 抑制偏光元件於MD方向產生龜裂，且可滿足耐久性。 而且，上述本發明之黏著型偏光板雖為薄型，但即便放 置於嚴酷環境下時其耐久性亦良好，故而使㈣著型偏光 板來製造圖像顯示裝置時，作業效率良好。上述本發明之 黏著型偏光板特別適合於將自黏著型偏光板之捲轴素材準 備步驟，至十刀斷步冑、向％學顯*單元上貼纟之貼合步驟 作為一系列之步驟來進行的圖像顯示裝置之製造方法。 【實施方式】 以下，一面參照圖丨，一面對本發明之黏著型偏光板進 行說月本發明之黏著型偏光板例如圖1所示，僅於偏光 元件（P)之單面上經由接著劑層（G)而設置有透明保護膜 ()於上述偏光元件（P)之另一單面上，經由保護層（η)而 °又置有黏著劑層（B)。另外，雖未圖示，但本發明之黏著 型偏光板中，可於透明保護膜斤）上設置易接著層或者實 施活化處理，將該易接著層與接著劑層（G)貼合。再者， 雖未圖示，但可於黏著劑層（B)上設置脫模片材。 再者’對本發明之黏著型偏光板之尺寸並無特別限制， 較好的是其對角值為14英吋〜12〇英吋之範圍。其原因在 於’尺寸越增大，僅單侧具有透明保護膜之薄型黏著型偏 光板在嚴酷環境下越容易產生龜裂。當然，上述尺寸亦可 140674.doc 201007229 為】於14英对之尺寸。通常使用上述尺寸為82英叶以下 者。 [偏光元件] 所明偏光元件，係指可將自然光或偏光轉換成任意之偏 光的膜。作為本發明中所使用之偏光元件，可採用任意適 當之偏光元件，較好的是使用將自然光或偏光轉換成直線 偏光者。 於本發明之偏光板中，偏光元件（P)可根據目的而採用 任意適田者。例如可列舉：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛 1匕聚乙烯醇系膜，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜 等親水性高分子膜，吸附碘或二色性染料等二色性物質且 進行單轴延伸而得者’以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氣 乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。另外，亦可使 用美國專利5,523,863號等中所揭示之使包含二色性物質及 液晶性化合物之液晶性組合物，力固^方向配向的賓主型 之〇型偏光元件，以及美國專利M49,428號等中所揭示之 使溶致型液晶沿固定方向配向之E型偏光元件等。 此種偏光元件中’就具有高偏光度之觀點而言，可較好 地使用利用含有敎聚乙_系膜所得之偏光元件。偏光 元件中所應用之聚乙嫌薛糸胺+从士、丨 ♦ Q砰畔糸膜之材枓，可使用聚乙烯醇或 其衍生物。作為聚乙稀醇之衍生物，可列舉聚乙烯甲搭、 聚乙烯祕等，除此以外可列舉乙婦、丙稀等烯烴，丙婦 酸、甲基丙稀酸、丁烯酸等不飽和幾酸或者其烧基醋以及 以丙稀醯胺等加以改性所得者。通常使用聚乙稀醇之聚合 140674.doc 201007229 度為M〇0〜1〇,000左右，矣化度為80〜100莫耳％左右者。 上述聚乙烯醇系膜中亦可含有增塑劑等添加劑。作為增 塑劑可？丨舉夕元醇及其縮合物等，例如可列舉：甘油、 雙甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、$乙二醇等。增塑劑 之使用量並無㈣限制，較好的是於聚乙烯醇系膜中為 重量％以下。 對上述聚乙烯醇系膜（未延伸琪），依據常法至少實施單 軸延伸處理、碘染色處理。進而，可實施硼酸處理、碘離 子處理。另外’對經實施上述處理之聚乙烯醇系媒（延伸 膜）依據常法加以乾燥，而形成偏光元件。

作為用於本發明之偏光板之偏光元件（P)的厚度，可採 用任意適當之厚度。偏光元件之厚度具有代表性的是5〜80 μιη，較好的是10〜5〇 μιη，更好的是2〇〜4〇。若其厚度 為上述範圍，則光學特性及機械強度優異。 X

[透明保護膜] 作為構成透明保護膜之材料，例如可使用透明性、機械 強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性 樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉：三㈣纖 維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚砜樹脂、聚碾樹脂、 聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯=樹 脂、（曱基）丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂（降袼烯系樹 脂）、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及該 等之混合物。 ~ 再者，透明保護膜中可含有丨種以上之任意適當之添加 140674.doc 201007229 劑作為添加劑，例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化 劑、潤滑劑、增塑劑、脫模劑、防著色劑'阻燃劑'成核 劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護媒中之上述妖 塑性樹脂之含量較好的是5〇〜1〇〇重量％，更好的是5〇〜99 f量％，進而好的是60〜98重量％，㈣好的 - %。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量％ 以下之清形時’熱塑性樹脂本來所具有之高透明性等有可 能無法充分表現。 ❹ 透明保護膜之厚度可適宜地決定，通常就強度或操作性 等作業性、薄層性等方面而言為1〜500 μιη左右。尤其好的 是^300 μπι，更好的是5〜2〇〇 ’進而好的是5〜15〇 μηι，特別好的是20〜1〇〇 μπι之薄型之情形。 作為本發明之透明保護膜，較好的是使用選自聚醋樹 脂、纖維素樹脂、聚碳酸醋樹脂、環狀聚稀烴樹脂以及 (甲基）丙烯酸系樹脂中之任意至少—種。 φ 對聚酯樹脂並無特別限定，例如可列舉下述任一種樹 脂：在對苯二曱酸、間苯二曱酸、鄰笨二甲酸、2,5-萘二 甲酸、2,6-萘二甲酸、1，4-萘二甲酸、^^萘二甲酸、二苯 基曱酸、二苯氧基乙烷二曱酸、二笨基砜曱酸、蒽二曱 ，酸、U3-環戊⑨二甲酸' !，3-環己燒二甲酸、^環己烧二 甲酸、六氫對苯二曱酸、六氫間笨二甲酸、丙二酸、二甲 基丙二酸、丁二酸、3,3-二乙基丁二酸、戊二酸、2,2_二 甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三曱基己二酸、庚 二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二甲酸 140674.doc -11 - 201007229

等二羧酸，與乙二醇、丙二醇、己二醇、新戊二醇、丨，2_ 環己烧二f醇、M-環己院二甲醇、癸二醇、二 醇、M-丁二醇、丨，5-戊二醇、丨，6-己二醇、2,2_雙（4_羥1 苯基）丙烷、雙（4-羥基苯基）碾等二醇中，各取丨種進行^ 縮合而得之均聚物，或取1種以上之二羧酸與2種以上之二 醇進行聚縮合而得之共聚物，或者取2種以上之二羧酸與i 種以上之二醇進行聚縮合而得之共聚物，以及將2種以上 之該等均聚物或共聚物摻合而得之摻合樹脂。其中，較好 的是使用聚對苯二甲酸乙二酯樹脂。 纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯 系樹脂之具體例，可列舉：三乙醯纖維素、二乙醯纖維 素、三丙醯纖維素、二丙酿纖維素等。該等中，特別好的 是三乙醯纖維素。三乙醯纖維素市售有大量製品，於獲得 容易性或成本方面而言亦較為有利。作為三乙醯纖維素之

市售品之例，可列舉：富士軟片(Fuji Film)公司製造之商 品名「UV-50」、「υν_8〇」、「SH_8〇」、「TD 8〇u」、「TD_ TAC」UZ TAC」’或柯尼卡（Konica)公司製造之「Kc系 列」等。通常，該等三乙酿纖維素之面内相位差㈣大致 為零，厚度方向相位差（Rth)為〜6〇nm左右。 作為環狀聚稀煙樹脂之具體例，較好的是降宿稀系樹 脂。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元聚合而成 之樹脂之總稱’例如可列舉··日本專利特開平i侧㈣ 公報、日本專利特開平3·148㈣純、日本專料開件 122137號公報等巾所記敎㈣。具㈣可列舉：環狀稀 140674-doc -12· 201007229 烴之開環（共）聚合物，環狀烯烴之加成聚合物，環狀烯烴 與乙烯、丙烯等α·烯烴之共聚物（具有代表性的是無規共 聚物），及對該等以不飽和羧酸或其衍生物加以改性之接 枝聚合物，以及該等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例 可列舉降捐稀系單體。 環狀聚烯烴樹脂市售有各種製品，作為具體例，可列 舉：曰本瑞翁（ΖΕΟΝ)股份有限公司製造之商品名 鲁 「Zeonex」、「Zeonor」，JSR股份有限公司製造之商品名 「Arton」，TICONA公司製造之商品名「Topas」，三井化 學股份有限公司製造之商品名「APEL」。 作為（甲基）丙稀酸系樹脂’其Tg(玻璃轉移溫度）較好的 是115C以上’更好的是120°C以上，進而好的是i25°C以 上’特別好的是130°C以上。藉由使Tg為115。(：以上，可使 偏光板之耐久性優異。對上述（甲基）丙稀酸系樹脂之Tg之 上限值並無特別限定，就成形性等之觀點而言，較好的是 170C以下。由（甲基）丙稀酸系樹脂可獲得面内相位差 (Re)、厚度方向相位差（Rth)均大致為零之膜。 作為（甲基）丙烯酸系樹脂，可於不損及本發明之效果之 範圍内採用任意適當之（甲基）丙烯酸系樹脂。例如可列 舉··聚甲基丙烯酸曱酯等聚（甲基）丙烯酸酯、甲基丙烯酸 甲酯-(甲基）丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基）丙烯酸 酯共聚物、甲基丙烯酸曱酯-丙烯酸酯曱基）丙烯酸共聚 物、（甲基）丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物（MS樹脂等）、具有脂 環族烴基之聚合物（例如，甲基丙烯酸甲酯-曱基丙烯酸環 140674.doc 201007229 己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯_(甲基）丙烯酸降搐酯共聚物 等）。較好的是可列舉聚（甲基）丙烯酸甲酯等聚（甲基）丙烯 酸C1-6烷基酯。更好的是可列舉以甲基丙烯酸曱酯作為主 成分（50〜1〇〇重量％，較好的是7〇〜1〇〇重量％)之甲基丙烯 酸甲酯系樹脂。 作為（甲基）丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉：三菱 麗陽（Mitsubishi Rayon)股份有限公司製造之Acrypet VH或 Acrypet VRL20A，日本專利特開2004_70296號公報中所記 載之分子内具有環結構的（甲基）丙烯酸系樹脂，藉由分子❿ 内交聯或分子内環化反應而獲得之高、之（甲基）丙烯酸系 樹脂系。 作為（甲基）丙稀酸系樹脂，亦可使用具有内醋環結構之 (甲基）丙烯酸系樹脂。具有内酯環結構之（甲基）丙烯酸系 樹脂可列舉：曰本專利特開2〇〇〇_23〇〇16號公報、曰本專 利特開2001-151814號公報、日本專利特開2〇〇2·12〇326號 公報、曰本專利特開2002_254544號公報、日本專利特開 2005- 146084號公報等中所記載者。 另外，（曱基）丙烯酸系樹脂可使用具有不飽和羧酸烷基 酯之結構單元、及戊二酸酐之結構單元的丙烯酸系樹脂。 - 作為此種丙烯酸系樹脂，可列舉：日本專利特開2〇〇4_ - 7〇29〇號公報、日本專利特開2〇〇4 7〇296號公報、日本專 利特開20〇4-163924號公報、日本專利特開2〇〇4_292812號 公報、曰本專利特開2005-3 14534號公報、日本專利特開 2006- 131898號公報、日本專利特開2〇〇6_2〇6881號公報、 140674.d〇( •14- 201007229 曰本專利特開2006-265532號公報、日本專利特開2〇〇6_ 283013號公報、曰本專利特開2〇〇6_299〇〇5號公報、曰本 專利特開2006-335902號公報等中所記載者。 另外，（甲基）丙烯酸系樹脂可使用具有戊二醯亞胺單 元、（甲基）丙烯酸酯單元、以及芳香族乙烯單元之熱塑性 樹脂。作為該熱塑性樹脂，可列舉：日本專利特開2〇〇6_ 3〇9〇33號公報、日本專利特開2〇〇6_31756〇號公報、曰本 專利特開2〇〇6-328329號公報、日本專利特開2〇〇6_328334 號公報、日本專利特開2006_337491號公報、曰本專利特 開2006-337492號公報、日本專利特開2〇〇6_337493號公 報、曰本專利特開2006-337569號公報等中所記載者。 (透明保護膜之相位差值） a對於透明保護膜（E)，作為雙折射較小，不轉換偏光狀 態者，可使用正面相位差未滿4〇 nm，且厚度方向相位差 未滿80 nm者。如此之雙折射較小之透明保護膜可例示未 延伸膜。 [接著劑層] 上述透明保護膜（E)與偏光元件（P)經由接著劑層（G)而積 層此時’理想的是利用接著劑層而使兩者無空氣隙地積 層。接著劑層（G)由接著劑（G，）形成。對接著劑（G，）之種類 並無特別限制，可使用各種接著劑。 用來將上述偏光元件（P)與透明保護膜（E)貼合之接著劑 層（G)只要光學透明則無特別限制，可使用水系、溶劑 系、熱熔系、自由基硬化型之各種形態者，較好的是水系 140674.doc •15- 201007229 接著劑或自由基硬化型接著劑。 對形成接著劑層⑼之水系接著劑並無特別限定，例如 可例π 6烯聚合物系、明膠系、乙稀系乳膠系、聚胺基 曱酸醋系、異氰酸®旨系、聚醋系、環氧系f。包含此種水 系接著劑之接著劑層’可以水溶液之塗佈乾燥層等之形式 而形成’製備該水溶液時，視需要亦可調配交聯劑或其他 添加劑、以及酸等觸媒。作為上述水系接著劑，較好的是 使用含有乙烯聚合物之接著劑等，乙埽聚合物較好的是聚 乙烯醇系樹脂。另夕卜’聚乙烯酵系樹脂t可含有硼酸或硼 0、戊-搭或三聚氰胺、草酸等水溶性交聯劑。特別是偏 光π件使用聚乙烯醇系聚合物膜之情形時，就接著性方面 而言，較好的是使用含有聚乙烯醇系樹脂之接著劑。進 而，就提昇耐久性方面而言，更好的是含有具有乙醯乙醯 基之聚乙稀醇系樹脂的接著劑。 聚乙烯醇系樹脂可列舉：使聚乙酸乙烯酯皂化而獲得之 聚乙烯醇；其衍生物；進而乙酸乙烯酯與具有共聚性之單 體的共聚物之皂化物，·使聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸酯 化、謎化、接枝化、磷酸酯化等而得之改性聚乙烯醇。上 述單體可列舉：順丁烯二酸（酐）、反丁烯二酸、丁烯酸、 衣康酸、（曱基）丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙 烯等(X-烯烴’（甲基）烯丙基橫酸（鈉）、（順丁烯二酸單烷基 酯）磺酸鈉 '順丁烯二酸烷基酯二磺酸鈉，Ν_羥曱基丙烯 酿胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽，Ν_乙烯基吡咯啶酮、 Ν-乙烯基η比咯啶酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨 140674.doc •16· 201007229 使用一種或併用兩種以上。 對上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，就接著性方面而 言，平均聚合度為100〜5,000左右，較好的是1〇〇〇〜4〇〇〇, 平均皂化度為85〜100莫耳％左右，較好的是9〇〜ι〇〇莫 〇/〇。 、斗 含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂，可藉由公知之方法 使聚乙烯醇系樹脂與二乙烯酮反應而獲得。例如可列舉： 使聚乙烯醇系樹脂預先分散於乙酸等溶劑中，向其中添加 二乙烯酮之方法；預先將聚乙烯醇系樹脂溶解於二甲基曱 醯胺或二呤烷等溶劑中，向其中添加二乙烯鲷之方法等。 另外，可列舉使二乙烯酮氣體或液狀二乙烯鲷直接接觸聚 乙烯醇之方法。 含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醢基改性度 只要為0.1莫耳％以上，則並無特別限制。若未滿〇1莫耳 %，則接著劑層之耐水性不充分，而不適合。乙酿乙釀基 之改性度較好的是0.1〜40莫耳％左右，更好的是1〜2〇莫耳 /〇特别好的疋2〜7莫耳％。若乙醢乙醜基改性度超過莫 耳％，則耐水性之提昇效果較小。乙醯乙醯基改性度係利 用 NMR(Nuclear Magnetic Resonance，磁核共振）而測定之 值。 作為交聯劑，可無特別限制地使用在聚乙烯醇系接著劑 中所使用者。上述交聯劑之調配量可根據聚乙烯醇系樹脂 之種類等而適當設計，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量 伤’其調配量通常為4〜60重量份左右，較好的是1〇〜55重 140674.doc _17· 201007229 量伤左右’更好的是20〜50重量份。於該範圍中，可獲得 良好之接著性。 為了提昇耐久性’係使用含有乙醯乙醯基之聚乙稀酵系 樹脂。於此情形時亦與上述同樣，相對於聚乙烯醇系樹脂 1〇〇重量伤，較好的是於4〜60重量份左右，較好的是1〇〜55 重量份左右’更好的是2〇〜50重量份之範圍使用交聯劑。 若交聯劑之調配量過多’則存在交聯劑之反應於短時間内 完成’引起接著劑凝膠化之傾向。其結果，作為接著劑之 使用壽命（適用期）變得極短，難以進行工業使用。就該觀 點而言’交聯劑之調配量應使用上述調配量，但是由於本 發明之樹脂溶液含有金屬化合物膠體，因此即便如上所述 般交聯劑之調配量較多之情形時，亦可穩定性良好地使 用0 作為上述接著劑’可較好地使用包含聚乙烯醇系樹脂、 交聯劑以及平均粒徑為1〜1〇〇 nm之金屬化合物朦體而成的 樹脂溶液。該樹脂溶液通常係製成水溶液而使用。對樹脂 溶液之濃度並無特別限制’考慮到塗佈性或放置穩定性 等，樹脂溶液之濃度為（^丨〜:^重量％，較好的是〇5~1〇重 量％。 對作為接著劑之樹脂溶液之黏度並無特別限制，可使用 1〜50 mPa，s之範圍者。至於製作偏光板時所產生之裂點， 存在隨著樹脂溶液之黏度下降，裂點之產生亦會增多之傾 向，但是若使用本發明之偏光板用接著劑，則即便於如 1〜20 mPa’s之範圍的低黏度範圍内，亦可抑制裂點之產 140674.doc • 18 - 201007229 生，且無論樹脂溶液之黏度為多少，均可抑制裂點之產 生。含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂與普通之聚乙烯醇 樹脂相比無法提高聚合度，可於如上所述之低黏度下使 用，於本發明中，即便使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系 樹脂之情形時，亦可抑制由於樹脂溶液之黏度較低而產生 裂點。 於上述接著劑層（G1)係由水系接著劑等形成之情形時， φ 該接著劑層（G1)之厚度為1〇〜300 nm左右。就獲得均勻之 面内厚度，獲付充分之接著力方面而言，接著劑層之厚度 更好的是10〜200 nm’進而好的是20〜150 nm。 塗佈水系接著劑之後，用輥貼合機等將偏光元件（p)與 透明保護膜（E)貼合。上述接著劑之塗佈可在透明保護 膜、偏光元件之任一者上進行，亦可在兩者上進行。貼合 之後，實施乾燥步驟，形成由塗佈乾燦層所構成之接著劑 層。乾燥溫度為5〜150。(：左右，較好的是30〜120〇c，乾燥 φ 時間為120秒以上，更好的是300秒以上。 作為自由基硬化型接著劑，可例示電子束硬化型、紫外 .線硬化型等活性能量線硬化型，以及熱硬化型等之各種接 著劑，較好的是可於短時間内實現硬化之活性能量線硬化 型。特別好的是電子束硬化型。本發明中可使用電子束硬 化型接著劑。藉由於用以將偏光元件與透明保護膜貼合之 接著劑之硬化方法中使用電子束（亦即乾式貼合），可無需 如紫外線硬化法之加熱步驟，並生產性非常高。 另一方面，於上述接著劑層（G1)由硬化型接著劑（電子 140674.doc 19 201007229 束硬化型接著劑）形成之情形 τ 上攻接著劑層（Gl)之Μ 度較好km〜20_’更好的是〇 2〜1〇吨，進而好的是 Γ身8之厚度較缚之情形時有可能無法獲得接著力 厘磨韶、請 強度。右接者劑層(G1)之 厚度超過20 μηι，則有可能ψ 』令J I出現成本上升以及接著劑本 之硬化收縮之影響，對偏光板 丁徇尤板之先學特性產生不 [黏著劑層] 音 黏著劑層（Β)可使用谪备夕針&放丨+ 便㈣田之黏者劑來形成，對其種類j 無特別限制。作為黏著劑，可列舉：橡㈣黏著劑、丙力 酸系黏著劑、石夕嗣系黏著劑、胺基甲酸醋系黏著劑… 基炫基㈣黏著劑、聚乙烯㈣黏著劑、聚乙烯基料# 網系黏著劑、聚丙稀醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。 該等黏著劑中’較好的是使用光學透明性優異，表現注 適當之_性、凝聚性及接著性之黏著特性，耐候性及印 熱性等優異者。作為表現出此種特徵者，可較好地 烯酸系黏著劑。 ‘

黏著劑層（B)通常係藉由將上述黏著劑之溶液塗佈於脫 模片材上’並進彳了乾燥而設置1著劑之溶液例如係於包 含甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑之單獨物或混合物的溶劑 中'合解或分散上述組合物，而製備成1〇〜4〇重量％左右 /合液。塗佈法可採用：反向塗佈法、凹版印刷式塗佈法 等輥塗法，旋塗法、絲網塗佈法、喷射式塗佈法、浸潰 法、噴霧法等。設置有黏著劑層（Β)之脫模片材，可利用 將其轉印之方法等。另外，可在設置於偏光元件（Ρ)之單 140674.doc • 20- 201007229 側的保濩層（Η)上塗佈上述黏著劑，藉此以塗膜之形式而 形成黏著層（Β)。 黏著劑層之厚度通常為3〜100 μηι左右，較好的是 5〜50 μπι ’更好的是1〇〜4〇 _。 作為脫模片材之構成材料’可列舉：紙，聚乙稀、聚丙 烯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂膜，橡膠片材，紙， 布，不織布，網狀物，發泡片材或金屬箔，該等之層壓體 等適當之薄片體等。為了提高脫模片材自黏著劑層上之剝 離性，亦可視需要對脫模片材之表面實施矽酮處理、長鏈 烷基處理、氟處理等低接著性之剝離處理。 [保護層] 保護層（Η)設置於偏光元件（ρ)與黏著劑層（Β)之間。該保 護層（Η)係拉伸彈性模數為1〇〇 Mpa以上者。本發明之保護 層（H)藉由使拉伸彈性模數為1〇〇 Mpa以上，而可抑制上述 偏光几件（P)因加濕/乾燥、加熱/冷卻、進而機械拉伸、壓 縮、彎曲等外部應力所致之伸縮，並可抑制偏光元件產生 龜裂。偏光兀件（P)所產生之龜裂主要係基於偏光元件 之收縮方向之尺寸變化而引起的，保護層之拉伸彈性 模數越高，則保護層（H)之機械保持能力越大，因而抑制 偏光元件產生龜裂之效果越大。再者，拉伸彈性模數係根 據實施例中之記載而測定之值。就耐久性方面而言，保護 層（H)之拉伸彈性模數較好的是1〇〇 MPa以上，更好的是 150 MPa以上，進而好的是500 MPa以上，特別好的是 1,000 MPa以上。另一方面，拉伸彈性模數較好的是〇〇〇 140674.doc •21 · 201007229 MPa以下，更好的是30,000 MPa以下，進而好的是2〇,〇〇〇 MPa以下。若拉伸彈性模數過高，則有可能會由於彎曲應 力等之影響而產生破損。 作為形成上述保護層（H)之保護層形成劑（H，），例如可使 用：氰基丙烯酸酯系形成劑、環氧系形成劑、異氰酸醋系 形成劑、或丙烯酸系形成劑。再者，於使用該等保護層形 成劑（H')之情形時’就耐久性等觀點而言，上述拉伸彈性 模數較好的是100〜2,000 MPa，更好的是15〇~1，〇〇〇 MPa， 進而好的是500〜1，〇〇〇 MPa。 _ 作為氰基丙烯酸酯系形成劑，例如可列舉：α_氰基丙烯 酸曱酯、α-氰基丙烯酸乙酯，α_氰基丙烯酸丁酯，α_氰基 丙烯酸辛酯等（X-氰基丙烯酸烷基酯，以及α_氰基丙烯酸環 己酯，甲氧基-α-氰基丙烯酸酯等。作為氰基丙烯酸酯系 形成劑，例如亦可使用用作氰基丙烯酸酯系接著劑者。 環氧系形成劑含有環氧樹脂及其硬化劑。作為環氡系形 成劑例如可使用用作環氧系接著劑者。至於環氧系形成 劑之使用形態’亦可製成含有環氧樹脂及其硬化劑之一液© ^而使用’但通常在使用時才製成將硬化劑調配於環氧樹 2液型來使用。環氧系形成劑通常係製成溶液來使 用。溶液可為溶劑系，亦可為乳液、膠體分散液、水溶液· 等水系。 作為環氧樹脂’可例示分子内含有2個以上之環氧基的 =合物’例如可列舉：雙紛型環氧樹脂、脂肪族系環 氧樹脂、芳香族&甚$ 、’、裒氧樹脂、齒化雙酚型環氧樹脂、聯苯 140674.doc -22- 201007229 系環氧樹脂等。另外，環氧樹脂可根據環氧當量或官能基 適¥地決疋，就对久性之觀點而言，可較好地使用環 氧當量為500以下者。 &對環氧樹脂之硬化劑並無特別限制，可使㈣樹脂系、 酸酐系、羧酸系' 聚胺系等各種硬化劑。作為酚樹脂系硬 =劑’例如可使帛：苯齡祕清漆樹腊、雙紛紛搭清漆樹 脂、笨二曱紛樹脂、甲齡⑽清漆樹脂等。作為酸酐系硬 ^劑’可列舉順丁婦二酸針、四氫鄰苯二甲酸酐、六氨鄰 苯二甲酸肝、丁二酸肝等’作為竣酸系硬化劑，可列舉均 ^四f酸、偏苯三甲酸等缓酸類以及加成乙稀鍵而得之後 段幾酸類。另外’作為環氧系二液形成劑，例如可使用包 含環氧樹脂與多硫醇之二液者’包含環氧樹脂與聚酿胺之 二液者等。 硬化劑之調配量根據與環氧樹脂之當量而不同，相對於 核氧樹脂1〇0重量份，較好的是3〇〜70重量份，更好的是 40〜60重量份。 進而’環氧系形成财除了環氧樹脂及其硬化劑以外， 亦可❹各種硬化促料卜料硬錢㈣ 各種㈣系化合物及其衍生物、二氣二胺等。 上述環氧系形成劑中，本發明 環氧樹脂，較好的是環氧枝吏用-液硬化型 乳樹知成分包含雙盼A型環氧嫩 脂，硬化劑成分包含胺系、 的是上述成分之任—者中環狀胺者。進而，較好 作為陰離子離子系硬化促進劑者。 作為陰離子系硬化促進劑，可列舉：芳香族三級胺化合 140674.doc •23· 201007229 1，2,6-己三醇、N，N_二環己基碳二 亞 物、内酯化合物 胺、琥珀醯胺等 作為異氰酸酯系形成劑’可列舉形成黏著劑層⑼時用 作交聯劑者。異氰酸Μ交聯劑可使用具有至少2個異氛 酸醋基之化合物。例如’可使用上述聚異氰酸龜化合物來 作為異氰酸酯系形成劑。詳細而言可列舉：2,4_曱苯二異 氰酸醋、2,6-甲苯二異氰酸醋、笨二甲基二異氰酸：: 1’3二二異氰酸基甲基環己烷、六亞甲基二異氰酸醋、四甲 基苯二曱基二異氰酸_、間異丙稀基·α，α•二甲基节基異氮 酸醋、亞甲基雙4-笨基異氰酸醋、對伸苯基二異氛酸酿或 者該等之二聚物或異三聚I酸三（6異氰酸醋基己醋）等三 聚物：進而與縮二脲或三經甲基丙烷等多元醇或多元胺反 應而獲得者等。另夕卜，作為異氰酸醋以聯劑，較好的是 異三聚氰酸三（6·異氰酸S旨基己S旨）等具有3個以上異氰酸醋 基者。作為異氰酸料'形成劑，例如可列舉用作異氰酸醋 系接著劑者。 異氰酸S旨㈣成劑中’本發明較好的是使用於分子結構 方面’環狀結構(笨環、三聚氰酸酯環、異三聚氰酸酯環 等）在結構中所佔之比例較大的硬質結構者。作為異氰酸 U形成劑’例如可較好地使用：三經甲基丙燒·三_甲苯 異氮酸醋、三（六亞甲基異氰酸醋基）異三聚氰酸醋等。 再者，上述異氰酸酯系交聯劑亦可使用對末端異氰酸酯 基賦予了保護基者。作為保護基，有肟或内醯胺等。異氰 酸醋基受到保護者可藉由加熱而使保護基自異氰酸醋基上 140674.doc • 24· 201007229 解離，從而使異氰酸酯基反應。 進而為了提同異氰酸酯基之反應性，可使用反應觸 媒。對反應觸媒並益特別限也丨.., •、，特另〗限制’較好的是錫系觸媒或胺系 觸媒。反應觸媒可使用1種或2種以上。至於反應觸媒之使 用^ ’通常相對於異氰酸商旨系交聯劑1〇〇重量份，係使用$ 重董份以下之反應觸媒。若反應觸媒量較多，則交聯反應 速度較快而會引起形成劑發泡。㈣錢後之形成劑會無

法獲得充分之接著性°通常，使用反應觸媒時，較好的是 0.01〜5重量份，更好的是〇〇5〜4重量份。 作為錫系觸媒’可使用無機系、有機系之任一種，較好 的是有機系。作為無機系㈣觸媒，例如可列舉氣化亞 錫、氣化錫等。有機系錫系觸媒較好的是包含至少^種含 有甲基、乙基、㈣、醋基等骨架之脂肪族基、脂環族基 等有機基者。例如可列舉：四正丁基錫、三正丁基乙酸 錫、正丁基三氯化錫、三甲基氫氧化錫、二甲基二氯化 錫、一丁基二月桂酸錫等。 另外，作為胺系觸媒並無特別限制。例如，較好的是奎 寧環（quinuclidine)、脒、二氮雜雙環十—烯等含有至少1 種脂環族基等有機基者。除此以外，胺系觸媒可列舉三乙 胺等。另夕卜’上述以外之反應觸媒可例示：環烷酸鈷 基三甲基氫氧化銨等。 異氛酸酯系形成劑通常係製成溶液而使用。溶液可為六 劑系，亦可為乳液、膠體分散液、水溶液等水系。作為有 機溶劑，只要可將構成形成劑之成分均勾溶解則無特別: 140674.doc •25· 201007229

作為丙烯酸系形成劑， .甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙醋 系溶液之情形時’亦可調配例如正丁 丙酮等_類。於製成水系溶液之情形 欺劑’或者於異氰酸酯系交聯劑中導入 四級銨鹽等與異氰酸酯基之反應性較低 一醇等水分散性成分而進行。 可列舉利用活性能量線或熱而進 打自由基聚合的單體及/或募聚物成分等 硬化性成分。 作為可進订自由基聚合之單體及/或寡聚物成分，可列 舉具有（甲基）丙稀酿基、乙稀基等之不飽和雙鍵的單趙及/ 或寡聚物成分，特別是就反應性優異之優點而言，可較好 地使用具有（曱基）丙烯醯基之單體及/或寡聚物成分。 作為具有（曱基）丙烯醯基之單體成分之具體例，可例示 通常用於構成丙稀酸系聚合物之單體者。 另外’作為可進行自由基聚合之單體及/或寡聚物成 分’可使用：於聚酯、環氧、胺基甲酸酯等骨架上，加成 2個以上之作為與單體成分相同之官能基的（曱基）丙烯醯 基、乙烯基等之不飽和雙鍵而得的聚酯（曱基）丙烯酸酯、 環氧（曱基）丙烯酸酯、胺基曱酸酯（甲基）丙烯酸酯等。上 述不飽和雙鍵較好的是2個以上，更好的是4個以上，進而 好的是6個以上。 另外，作為具有（曱基）丙烯醯基之單體及/或募聚物成分 之具體例，可列舉··三丙二醇二（曱基）丙烯酸酯、四乙二 醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、雙酚 I40674.doc -26- 201007229 A二縮水甘油醚二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯 酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲 基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五 (甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己内醋 改性二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等（甲基）丙烯酸與多元 醇之酯化物。 除了上述以外’可進行自由基聚合之單體及/或寡聚物 攀 成分亦可列舉：2-丙烯基二（3-丁烯基）三聚氰酸酯、2_羥 乙基雙（2-丙烯醯氧基乙基）三聚氰酸酯、三（2_丙烯醯氧基 乙基）異三聚氰酸酯、三（2-甲基丙烯醯氧基乙基）異三聚氰 酸酯等三聚氰酸酯或異三聚氰酸酯化合物。 作為上述保護層形成劑（H')，於丙烯酸系形成劑中，較 好的是使用含有利用活性能量線而硬化之硬化性成分的活 性能量線硬化型形成劑。相對於熱硬化型形成劑（環氧 系、異氰酸酯系、丙烯酸系）需要花費較長時間來進行反 φ 應，活性能量線硬化型形成劑之反應非常迅速，因而生產 性非常優異，就該方面而言較好。再者，熱硬化型形成劑 在塗佈於偏光元件（p)上時，為了使之反應而進行加熱， 藉此會引起偏光元件（p)之特性下降，若使用活性能量線 • 硬化型形成劑，則不存在該由熱所產生之影響，就該方面 而言亦較好。另外，若使用濕氣硬化型形成劑（氰基丙烯 酸酯系）’則由於偏光元件（P)中使用聚乙烯醇系素材，而 使得偏光元件特性因水分而產生變化，若使用活性能量線 硬化型形成劑，則不存在該由熱所產生之影響，就該方面 140674.doc 27· 201007229 而言亦較好。作為硬化性成分，可列舉具有（甲基）丙烯醯 基之化合物、具有乙烯基之化合物（單體及/或寡聚物）。該 等硬化性成分可使用單官能或雙官能以上之任一種。該等 硬化性成分可選擇〗種，或將2種以上組合使用，以使由硬 化性成刀所形成之保護層（H)滿足拉伸彈性模數為1 以上。作為該等硬化性成分，較好的是具有（子基）丙烯醯 基之化合物。作為具有（甲基）丙烯醯基之化合物，可較好 地使用N-取代醯胺系單體。於耐久性方面而言，該等單體

較好。再者，於使用該等保護層形成劑（H,)之情形時，就 耐久性等之觀點而言，上述拉伸彈性模數較好的是 100〜50，G〇G MPa，更好的是15()〜3MGG Mpa，進而好的是 500〜3，_)0 MPa，特別好的是1〇〇〇〜2〇〇〇〇抓。作為活 性能量線硬化型形成劑，可使用活性能量線硬化型接著 劑0 】· _ 系I體可以通式⑴來表示：CHfCd^-CONR'RS) (表丁氫原子或▼基，R2表示氯原子或者可具有經基、 巯基、胺基或四㈣基的碳數為卜4之直鏈或支鍵院基， Ή氫原子或碳數為1〜4之直鍵或支鏈烧基。其中， 為氯原子之情形除外。或者，r2、_結而形 成T含有氧原子之5員環 2 ^ 3 及6員環）。作為上述通式（1)中的 R2或R3之碳數為 且璲或支鏈烷基，例如可列舉甲 基、乙基、異丙基、第三 可列舉經甲基、經乙基等，有經基之烧基， 作為具有胺基之烷基，可列舉 胺基甲基、胺基乙基等。另夕卜，於W而形成可含 140674.doc '28^ 201007229 有氧原子之5員環或6員環之情形時’具有含氮之雜環。作 為該雜環，可列舉味啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌p井環 等。 作為上述N-取代醯胺系單體之具體例，例如可列舉：N_ . 甲基（甲基）丙烯酿胺、N，N-二甲基（甲基）丙烯醯胺、n，N_ 二乙基（甲基）丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-丁基（甲 基）丙烯醯胺、N-己基（甲基）丙烯醯胺、N-羥甲基（甲基）丙 φ 烯醯胺、N-羥乙基（甲基）丙烯醯胺、N-羥甲基_N_丙烷（甲 基）丙烯醯胺、胺基甲基（甲基）丙烯醢胺、胺基乙基（甲基） 丙烯醯胺、鲸基曱基（曱基）丙烯醯胺、巯基乙基（甲基）丙 烯醯胺等。另外，作為具有雜環之含雜環之單體，例如可 列舉：N-丙烯醢基咪啉、N_丙烯醯基哌啶、N_曱基丙烯醯 基派咬、N-丙稀醯基。比洛咬等。該等N_取代醯胺系單體可 單獨使用1種’或將2種以上組合使用。 作為上述N-取代醯胺系單體，較好的是N_羥乙基丙烯醯 Φ 胺N_羥曱基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、以及N-丙烯 醯基咮琳。：N-取代醢胺系單體對低水分率之偏光元件、或 冑用透濕度較低之材料的冑明保護膜亦表現出良好之耐久 ^以上所例示之單體尤其表現出良好之耐久性。其中， 較好的是N-羥乙基丙烯醯胺。 上述N-取代醯胺系單體可單獨使用，或將2種以上組合 使用於組合2種以上之情形時’就耐久性、接著性方面 而言，較好的是N-經乙基丙稀醜胺與N_丙稀醯基咪琳之組 合。另外，於該組合之情形時，於獲得良好之接著性方面 140674.doc 201007229 而言，N-羥乙基丙烯酿胺相對於N-羥乙基丙烯醯胺與N-丙 烯醯基咮啉之合計量的比例較好的是4〇重量％以上。上述 比例更好的是40〜90重量％，進而好的是6〇〜9〇重量％。 另外，至於上述硬化性成分，除了上述以外，作為具有 (曱基）丙稀醯基之化合物’例如可列舉各種環氧（曱基）丙 烯酸酯、胺基甲酸酯（曱基）丙烯酸酯、聚酯（曱基）丙烯酸 醋、或各種（甲基）丙烯酸酯系單體等。該等中，可較好地 使用環氧（曱基）丙稀酸酯，特別是具有芳香環及經基之單 B能（甲基）丙烯酸酯。當將該等硬化性成分單獨使用而無 ❹ 法形成拉伸彈性模數為100 MPa以上之保護層（H)時，可與 上述N-取代醯胺系單體併用。 具有芳香環及羥基之單官能（甲基）丙烯酸酯，可使用具 有芳香環及羥基的各種單官能（甲基）丙烯酸酯。羥基可以 芳香環之取代基之形式存在，於本發明中，較好的是以將 芳香環與（甲基）丙烯酸酯鍵結之有機基（烴基，特別是鍵結 於伸烷基上者）之形式存在。 作為上述具有芳香環及經基之單官能（甲基）丙稀酸醋，❹ 例如可列舉具有芳香環之單官能環氧化合物與（甲基）丙稀 酸之反應物。作為具有芳香環之單官能環氧化合物，例如-可列舉：苯基縮水甘油_、第三丁基苯基縮水甘油醚、苯· 基聚乙二醇縮水甘油趟等。作為具有芳香環及經基之單官 $ (甲基）丙稀酸S日之具體例，例如可列舉：（甲基）丙稀酸_ 2-羥基-3-苯氧基两醋、（甲基)丙烯酸_2_羥基冬第三丁基 笨氧基丙醋、（甲基）丙烯酸_2•經基_3_苯基聚乙二醇丙醋 140674.doc -30- 201007229 等。 另外’作為具有（甲基）丙烯酿基之化合物可列舉敌基單 體。於接著性方面而言，羧基單體亦較好。作為羧基單 體，例如可列舉（曱基）丙烯酸、（曱基）丙烯酸羧基乙酯、 (甲基）丙烯酸羧基戊酯等。該等中，較好的是丙烯酸。 上述活性能量線硬化型形成劑包含硬化性成分，除了上 述成刀以外，視需要亦可添加適當之添加劑。活性能量線 硬化型形成劑可以電子束硬化型、紫外線硬化型之態樣而 使用。於以電子束硬化型來使用上述形成劑時，並無特別 要求上述形成劑中含有光聚合起始劑，於以紫外線硬化型 來使用時，需要使用光聚合起始劑。至於光聚合起始劑之 使用量，相對於硬化性成分100重量份，通常為〇卜⑺重 量份左右’較好的是〇 5〜3重量份。 再者，亦可於上述保護層形成劑（H，）中，進一步調配矽 烧偶合劑、欽偶合劑等偶合齊！，各種賦黏劑，紫外線吸收 劑，抗氧化劑，耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。 上述接著劑（G，）中亦同樣可調配該等穩定劑等。 上述保護層（H)係由上述保護層形成劑（H,)所形成。保護 層（H)通常形成於偏光元件（p)上。上述保護層之厚度為 〇.〇1〜30 μιη左右，較好的是〇 〇5〜15 μπι，更好的是〇丨〜7 $ μπι再者，例如使用氰基丙烯酸酯系形成劑、環氧系形 成劑、或異氰酸酯系形成劑來作為保護層形成劑（Η,)時， 上述保護層（Η)之厚度較好的是〇〇1〜5 μηι，更好的是 0.05〜3 μπι。就形成均勻之塗膜、以及對光學特性之影響 140674.doc 201007229 方面而S，較好的是將保護層（Η)之厚度調整為上述範 圍。 上述保護層（Η)較好的是滿足光彈性係數（m2/N)x厚度 (m)$ 1x10 (m2/N)。光彈性係數係依據下述而加以測 定。 <光彈性係數> 使用日本分光公司製造之橢圓偏光計（M220)，於室溫 (23C)下，測疋對寬度為2 之光學膜施加ΐχΐ〇_6〜3〇χΐ〇 6 之應力時的應力折射率，將該等繪圖，由應力雙折射 △η%δ而計算Ac:光彈性係數（m2/N)。其中，§為應力 (N/m2)。 本發明之目的在於藉由形成於偏光元件（P)表面之保護 層（H)，來防止偏光元件（p)產生龜裂，該偏光元件之龜裂 之原因係在於偏光元件（P)由於吸濕/乾燥、加熱等而引起 膜伸縮。如此，當偏光元件（p)產生伸縮時，該力作用於 配置在偏光元件（P)之表面的透明保護膜（E)或保護層（H) 上。藉由該應力會引起雙折射，於本發明中，由於形成在 偏光元件（P)之表面的保護層（H)係配置於相對於偏光元件 (P)而靠液晶胞侧而使用，因此有時會對圖像顯示裝置之 顯示產生重大影響。具體而言，所產生之雙折射形成相位 差，特別是引起黑顯示下之漏光，使對比度下降，並且其 分布會被識別成顯示不均。此時，使用光彈性係數來作為 因應力產生雙折射之容易度的指標。若該光彈性係數較 大’則容易以更小之應力產生雙折射。另外，若保護層 140674.doc -32- 201007229 (ΓΓ/度較厚，則雙折射增大。所產生之雙折射所引起 :目=差之大小可以相位差=光彈性係數χ應力χ厚度來表 I «面内產生雙折射時，偏光之偏光狀態受到相位差之 〜響而產生變化。於利用偏光之液晶顯示器中，則顯現出 .®内之透射率不均等之影響。目此，為了減小因構成構件 或膨脹之影響所致雙折射之產生，較好的是光彈性 雒量小之材料。另外’當保護層（Η)之厚度較薄時， ❿ #射之衫響減小’因而較好。如上所述，保護層（Η)之 f度較好的是3〇μιη以下，更好的是15 μιη以下進而好的 是7.5 μιη以下。 '、蒦層（Η)之形成方法可根據保護層形成劑（扣）之種類而 適當地選擇，通常係於3〇〜1〇(rc左右，較好的是5〇〜贼 =乾燥0.5〜15分鐘左右而進行。再者於使用氰基丙稀 a日系形成劑之情形時，由於其硬化較快，因而可用比上 述時間短之時間來形成保護層（Η)。 ❿ 本發明之黏著型偏光板中，上述偏光元件（Ρ)與點著劑 層(Β)係經由上述保護層(Η)而積層，冑常藉由將設置於偏 ·%元件（Ρ)之單冑之保護層⑻與黏著劑層（Β)貼合而進行該 積層於此情形時，黏著劑層⑻通常使用設置於脫模片 材上者。另外，上述積層亦可藉由以下方式來進行·在設 置於偏光元件(Ρ)之單側之保護層(Η)上塗佈黏著劑，而以 塗膜之形式形成黏著劑層（Β)。 於上述偏光元件（ρ)上之保護層（Η)之形成、以及該保護 層（Η)與黏著劑層（Β)之貼合’較好的是連續地進行。另 140674.doc •33· 201007229 外’較好的是亦連續地進行上述偏光元件（pm透明㈣ 膜（E)利用接著劑層（G)之貼合。另外，亦可自製造偏光元 件時開始連續地進行上述貼合。 [其他光學層] (表面處理層之形成） 於本發明之黏著型偏光板中，可於未利用接著劑層（g) 而貼合有偏光元件（P)之側的透明保護膜（E)上，追加任意 之光學層。作為此種光學層，可使用：硬塗層或者實施了 抗反射處理，以防黏、擴散或防眩為目的之處理者。 硬塗處理係為了防止偏光板表面受到損傷等而實施者， 7如可藉由將由丙烯酸系、矽_系等適當之紫外線硬化型 樹脂所形成之硬度及滑動特性等優異的硬化皮膜附加於 上述透明保護膜⑻之表面的方式等而形成。抗反射處理 係為了防止外部光於偏光板表面反射而實施者，可藉由依 據先前之技術形成抗反射膜等而達成。另外，防黏處理係 為了防止與鄰接層（例如，背光源側之擴散板）之密著而實 施者。 又，防眩處理係為了防止外部光在偏光板之表面反射而 妨礙偏光板透射光之視認等而實施者，例如可以下述方法 來形成：#由利用喷砂方式或壓紋加工方式之粗面化方式 或者調配透明微粒子之方式等適當的方式，對上述透明保 護膜E之表面賦予微細凹凸結構。作為上述形成表面微細 凹凸結構時所含之微粒子，例如可使用平均粒徑為〇5〜加 μιη之包含二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化锆、氧化 140674.doc •34· 201007229 錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等且亦具有導電性之無機系 微粒子’包含交聯或者未交聯之聚合物等之有機系微粒子 等透明微粒子。形成表面微細凹凸結構時，微粒子之使用 量相對於形成表面微細凹凸結構之透明樹脂1〇〇重量份， 通常為2〜70重量份左右，較好的是5〜5〇重量份。防眩層亦 可兼作用以使偏光板透射光擴散而擴大視角等之擴散層 (視角擴大功能等）。 再者，上述抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等除了 可設置於上述透明保護膜（E)上以外，亦可作為單獨之光 學層而另行設置。 除此以外，作為可應用於本發明之偏光板中的光學層之 例’還可列舉增亮膜、反射層、相位差板等。 [圖像顯示裝置] 本發明之黏著型偏光板可較好地用於形成液晶顯示裝置 或有機EL(Electro-Luminescence，電致發光）顯示裝置等圖 像顯示裝置。 (液晶顯示裝置） 液晶顯示裝置可依據先前之技術來形成。即，液晶顯示 裝置通常係以如下方式來形&:將液晶胞與偏光板貼合， 視需要於適當位置上配置丨層或2層以上之例如擴散板、防 眩層、抗反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣列片材光 擴散板、背光源等適當零件，並組入驅動電路等。在形成 液晶顯示裝置時，除使用本發明之黏著型偏光板之方面以 外並無特別限定，可依據先前之技術來進行。液晶胞亦可 140674.doc -35· 201007229 使用例如TN(Twisted Nematic ’扭轉向列）型或STN型、冗型 等任意類型者。 本發明之黏者型偏光板可設置於液晶胞之單側或兩側。 於將黏著型偏光板設置於兩側之情形時，該等偏光板可為 相同亦可為不同。 [液晶顯示裝置之形成方法] [先前之液晶顯示裝置之形成方法] 但是’在形成液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等圖像顯 不裝置時，於如本發明之黏著型偏光板般，僅於偏光元件 瘳 (P)之單面上積層有透明保護膜（E)之構成之情形時，積層 有透明保護膜（E)之側的主面與另一方之主面上，對偏光 7L件（P)之膜界面賦予之應力有時並不相同。亦即，由於 偏光元件（P)之表背面之層結構不同，因而有時對偏光元 件賦予之外部應力於膜之表背面並不相同。由於該外部應 力之差，使得膜容易具有彎曲性。如下所示，利用先前之 製造步驟’難以將如此容易彎曲之膜加工成圖 置。 衣❹ .如圖2中概念性所示般，先前之圖像裝置之製造步驟大 致分為光學膜製造廠家之製造步驟以及面板加工廠家之製 - 造步驟。首先，光學臈製造廠家將偏光板等之光學膜製造 成長條狀（帶狀）之片狀製品之捲軸素材（#1)。繼而，將捲 轴素材切割成特定尺寸（依照光學顯示單元之尺寸的尺 =)(2)然後，根據液晶胞或有機EL·面板等將要貼合之 光學顯不單兀之尺寸’將所切割出之長條狀素材切斷成固 140674.doc • 36 · 201007229 疋尺寸（#3)。接著，對切斷成固定尺寸的單片之片狀製品 (光學膜）進行外觀檢查（#4)。作為其檢查方法，例如可列 牛視之瑕疫檢查、使用公知之瑕疫檢查裝置之檢查。瑕 疵係指例如表面或内部之污潰、損傷、齧入異物時之衝擊 痕狀缺陷、凹凸缺陷、氣泡、異物等。繼而，進行成品檢 一（)成檢查係依據合格品判定比外觀檢查更為嚴格 之品質基準而進行的檢查。接著 對單片之片狀製品的四

方之端面進行端面加工（#6) ^該端面加工係為了防止在運 輸過程巾黏著料自端面滲出而進行的。然後，於無塵室 %境中’對單片之片狀製品進行無塵包裝（#7)。繼而，進

行包裝（運輸打包）以進行運輸（#8)。如此製造出單片之片 狀製品’然後運輸給面板加工廠家。 面板加工廠家將運輸來之單片之片狀製品解包然 後，進打外觀檢查，以檢查於運輸過程中或者解包時所造 成的損傷、污潰等（#12Η字檢查中判定為合格品的單片之 片狀製=搬送至下—步驟。再者，有時亦省略該外觀檢 查。與早片之片狀製品相貼合之光學顯示單元（例如，作 為封入有液晶胞之玻璃基板單元的液晶胞）係預先製造， 且於貼合步驟之前清洗光學顯示單元（#13)。 繼而，將單片之片狀製品與光學顯示單元（液晶胞）相貼 合(#14)。自單片之片狀製品上剝離脫模膜而保留黏著劑 層，以黏著劑層作為貼合面而貼合於光學顯示單元之一方 之面上。進而，對光學顯示單元之另一面亦可同樣地進行 貼合。於貼合於兩者上之情形時，於光學顯示單元之各面 140674.doc -37- 201007229 ==為相同構成之光學膜相貼合，亦可構成為不同 、學膜相貼合。繼而，進行貼合狀態之檢查以及瑕 疲檢查（#15)。將該檢查中判^為合格品之光學顯示單元搬 送至封裝步驟，封裝於圖像顯示裝置中（#16)。另一方面， 對判疋為不合格品之光學顯示單元實施再加工處理(# 1 7)。 ;再加工處理中’自光學顯示單元上剝離光學膜。於經再 加工處理之光學顯示單元上重新貼合光學卿⑷。、 將如上所述之先前之製造步驟應用於容Η曲之膜時，

於偏光板以捲轴狀存在之(#1)、㈣步驟中，由於係架設 於搬送線間，故而可藉由其張力來抑制彎曲行為。但是， 若將其切斷成ϋ定尺寸（#3)，料制偏絲之彎曲行為之 張力解除而產生彎曲，導致外觀檢查（叫〜與液晶胞之貼 合⑻4)之操作變得困難。進而，於先前之製造步驟之情形 時，除上述由於彎曲性而引起之操作問題以外亦由於須 進行檢查、打包等多步驟’而存在製造成本上升之問題。 [連續方式之製造方法]

藉由將此種形成為長條之捲轴狀之媒，—面於張力存在 下抽出Φ連續地貼合於液晶胞上，而可抑制寶曲，從而 解決上述問題。亦即，可於一處場所，連續地進行先前由 光學膜製造廠家與面板加工廠家分別進行的切斷成固定尺 寸（#3)及對液晶胞之貼合（#14)，因此無需外觀檢查㈣、 成品檢查（#5)、端面加工（#6)、無塵包裝（#7)、運輸打包 w)、解包(#11)、外觀檢查(#12)，並且由彎曲所引起之操 作性問題亦可得到解決。 J40674.doc •38- 201007229 利用此種連續方式來形成圖像顯示裝置時，包括：捲轴 素材準備步驟，準備本發明之偏光板之長條狀片材作為捲 轴素材；切斷步驟’自該捲軸素材中抽出片材製品，使用 切斷機構將上述偏光板切斷成特定尺寸；以及貼合步驟， 於該切斷步驟之後’將上述偏光板經由黏著劑層而貼合於 光學顯示單元上。 [實施例] 以下，列舉實施例來說明本發明，但本發明並不限定於 以下所示之實施例。 [偏光元件之製作] 將平均聚合度為2700、厚度為75 μπ1之聚乙烯醇膜一面 於周速不同之輥間染色一面延伸搬送。首先，一面將聚乙 烯醇膜於30。(：之水浴中浸潰i分鐘使之膨潤，一面沿搬送 方向延伸至1.2倍，之後一面藉由於3〇〇c之碘化鉀濃度為 0.03重量％、埃濃度為〇 3重量％之水溶液中浸潰卜分鐘而對 其染色，一面沿搬送方向，以完全未延伸之膜（原長）作為 基準而延伸至3倍。繼而，—面於6(^c之硼酸濃度為4重量 %、硬化鉀濃度為5重量％之水溶液中浸潰3時、，一面沿搬 送方向以原長作為基準而延伸至6倍。錢，將所獲得之 、申膜於70 C下乾燥2分鐘’藉此獲得偏光元件。再者， 偏光元件之厚度為30 ，水分率為14.3重量°/〇。 [應用於透明保護膜之接著劑] 相對於具有乙酿乙醢基之聚乙烯醇系樹脂（平均聚合度 為〇皂化度為98.5莫耳❽/。，乙醯乙醯基改性度為5莫耳 140674.doc -39· 201007229 %)100重量份，將5〇重量份之經甲基三聚氛胺於3Qt之溫 度條件下溶解於純水中，而製備固形物濃度為37重量％之 水溶液。相對於該水溶液100重量份，添加含有固形物濃 度為ίο重量❶/。之具有正電荷之氧化鋁膠體（平均粒徑為15 nm)的水溶液18重量份，而製備含金屬膠體之接著劑水溶 液。接著劑溶液之黏度為9.0 mPa.s，PH值為4〜4.5之範 圍，氧化銘踢體之調配量相對於聚乙稀醇系樹脂1〇〇重量 份而為74重量份。再者，氧化鋁膠體之平均粒徑係使用粒 度分布計（曰機裝製造，製品名「Nan〇trac UApi5〇」），藉 由動態光散射法（光相關法）來加以測定。 [黏著劑層之形成] <丙烯酸系聚合物之製備> 於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應 容器中，與乙酸乙酯一起加入丙烯酸丁酯1〇〇份、丙烯酸3 份、丙烯酸-2-羥基乙酯〇.1份以及2,2，-偶氮二異丁腈〇 3 份’而製備溶液。繼而，一面於該溶液中吹入氮氣一面挽 拌，於55°C下反應8小時，而獲得含有重量平均分子量為 220萬之丙烯酸系聚合物的溶液。進而’於該含有丙烯酸 系聚合物之溶液中加入乙酸乙酯，而獲得固形物濃度調整 為30%的丙烯酸系聚合物溶液。 相對於上述丙烯酸系聚合物溶液之固形物i 00份，依序 調配0.5份之作為交聯劑的以具有異氰酸酯基之化合物為 主成分之交聯劑（曰本聚胺酯（股）製造，商品名「c〇r〇nate L」）、以及0.075份之作為矽烷偶合劑的γ_縮水甘油氧基丙 140674.doc -40· 201007229 基三甲氧基矽烷（信越化學工業（股）製造，商品名ΓΚΜΒ_ 4〇3」），而製備黏著劑溶液。於由經剝離處理之聚對苯二 曱酸乙二酯膜（厚度為38 μηι)所形成之脫模片材的表面 上，以乾燥後之厚度為25 μηι之方式塗佈上述黏著劑溶 液，並進行乾燥而形成黏著劑層。 [透明保護膜]

透明保護膜係使用厚度為8 0 μηι之三乙醯纖維素膜（富士 軟片公司製造，商品名「TD-TAC」）。 實施例1 [偏光板之製作] 於上述透明保護膜之單面上，以乾燥後之接著劑層厚度 為80 nm之方式塗佈上述接著劑，使用輥壓機，將所得者 經由該接著劑層而貼合於上述偏光元件之單面，於7〇下 乾燥6分鐘’而製作僅單面具有透明保護膜之偏光板。 [保護層形成劑] 保護層形成劑係使用氰基丙烯酸酯系形成劑（商品名 Aron Alpha，東亞合成（股）製造）。 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機’以厚度為3 μιη之方式，於上述偏光板 之偏光元件之面（未設置透明保護膜之偏光元件面）上，塗 佈上述氰基丙稀酸酯系形成劑，並於5〇。〇下進行3秒之後 供烤。然後’貼合上述形成於脫模片材之剝離處理面上之 黏著劑層，而製作黏著型偏光板。 實施例2 140674.doc •41 · 201007229 [保護層形成劑] 保護層形成劑係使用環氧系形成劑（商品名Cemedine， Cemedine(股）製造）。 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為3 μιη之方式，於 實施例1中所獲得的偏光板之偏光元件之面（未設置透明保 護膜之偏光元件面）上’塗佈上述環氧系形成劑，並於 5 0 C下進行3分鐘之後烘烤。然後，貼合上述形成於脫模 片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製作黏著型偏光板。 ❹ 實施例3 [保護層形成劑] 於異氰酸酯系形成劑（商品名Aquanate，日本聚胺酯（股） 製造）100重量份中，添加M-二氮雜雙環[5,4,〇]十一烯_ 7(商品名「DBU」，San-Apro(股）製造）0.2重量份，並將該 等用100重量份之水進行稀釋，使用所獲得之溶液。 [黏著型偏光板之製作]

使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為15 pm之方式 於實施例丨中所獲得的偏光板之偏光元件之面（未設置透 保護膜之偏光元件面）上，塗佈上述異氰酸醋系形成劑 溶液’並於5〇t下進行5分鐘之後烘烤。然後，貼合上 形成於脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製作黏 型偏光板。 實施例4 [保護層形成劑] 140674.doc -42· 201007229 於在混合溶劑（乙酸丁酯：乙酸乙酯（重量比）=89 : 11)中 固形物濃度為66重量％的含有硬化性成分之丙烯酸系樹脂 原料（DIC(股）製造，商品名：GRANDICPC1071)100重量份 (固形物）中，調配光聚合起始劑（汽巴精化（Ciba specialty Chemicals)公司製造，商品名：irgacure 9〇7)3重量份，藉 此準備樹脂成分。用乙酸乙酯稀釋該樹脂成分，使固形物 濃度變成55重量。/❶，使用所獲得之活性能量線硬化型形成 劑之溶液。 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為1〇 μηι之方式， 於實施例1中所獲得的偏光板之偏光元件之面（未設置透明 保護膜之偏光元件面）上’塗佈以上所製備的活性能量線 硬化型形成劑之溶液，並於8〇。(：下加熱2分鐘，藉此形成 塗膜。然後，使用金屬鹵化物燈照射累計光量為3〇〇 mJ/cm2之紫外線進行硬化處理，而形成保護層。然後，貼 合上述形成於脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製 作黏著型偏光板。 實施例5 [保護層形成劑] 於丙烯酸羥基乙酯1〇〇重量份中調配光聚合起始劑（汽巴 精化公司製造’商品名：Irgacure 907)2重量份，使用所獲 得之溶液來作為活性能量線硬化型形成劑。 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為1〇 ^爪之方式， 140674.doc •43- 201007229 於實施例1中所獲得的偏光板之偏光元件之面（未設置透明 保護膜之偏光元件面）上，塗佈以上所製備的活性能量線 硬化型形成劑之溶液，然後，使用高壓水銀燈以4〇 mW/cm2之照度照射30秒（累計光量為12〇〇 mJ/cm2)之紫外 線，進行硬化處理而形成保護層。然後，貼合上述形成於 脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製作黏著型偏光 板。 實施例6 [黏著型偏光板之製作] 於實施例4中，除了以使保護層之厚度為5 μηι之方式塗 佈活性能量線硬化型形成劑之溶液以外，以與實施例4相 同之方法製作黏著型偏光板。 再者，將實施例6中所獲得之黏著型偏光板放置於背光 源上觀察透射光，結果與實施例4中所獲得之黏著型偏光 板相比，正交偏光化之透射光不均較少。其原因在於，實 施例6中所獲得之黏著型偏光板與實施例4中所獲得之黏著 型偏光板相比厚度較薄，因此由保護層之相位差之影響所 引起的透射光不均變小。 比較例1 [黏著型偏光板之製作] 於實施例1中所獲得的偏光板 明保護膜之偏光元件面）上，貼 ’而製作黏著型偏光板。 剝離處理面上之黏著劑層 之偏光元件之面（未設置透 合上述形成於脫模片材之 比較例2 140674.doc 201007229 [保護層形成劑] 保護層形成劑係使用聚乙酸乙烯酯系接著劑（商品名 Gosenyl，曰本合成化學工業（股）製造）。 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為3 μιη之方式，於 貫施例1中所獲得的偏光板之偏光元件之面（未設置透明保 護膜之偏光元件面）上，塗佈上述聚乙酸乙烯酯系接著

劑，並於50t下進行3分鐘之後烘烤。然後，貼合上述形 成於脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製作黏著型 偏光板。 比較例3 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為1〇 μηΐ2方式， 於偏光元件之兩面上塗佈實施例4中所製備之保護層形成 劑（溶液）’並於80。(：下加熱2分鐘，藉此形成塗膜。然後， 使用金屬鹵化物燈照射累計光量為300 mJ/cm2之紫外線進 行硬化處理’而製作於偏光元件之兩面上形成有保護層之 偏光板。然後，於所獲得之偏光板之單面的保護層上，貼 合上述形成於脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製 作黏著型偏光板。 比較例4 [保護層形成劑] 保護層形成劑係使用乳液系聚胺基甲酸酯樹脂（第—工 業製藥（股）製造，商品名：Superflex 460)。 140674.doc -45 - 201007229 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為10 μιη之方式， 將上述水性聚胺基甲酸酯樹脂塗佈於厚度為1〇〇 μηι之降宿 稀系膜（曰本瑞翁公司製造，Zeonor Film)上，並於80°C之 乾燥機中乾燥3分鐘，而形成保護層。使用貼合機，將上 述保護層貼合於實施例1中所獲得的偏光板之偏光元件之 面（未設置透明保護膜之偏光元件面）上，進一步於8〇〇C下 乾燥2分鐘後’將基材（Zeon〇r Film)剝離。然後，貼合上 述形成於脫模片材之剝離處理面上之黏著劑層，而製作黏 ❹ 著型偏光板。 比較例5 [黏著型偏光板之製作] 使用棒式塗佈機，以使乾燥後之厚度為丨〇 4爪之方式， 於偏光元件之兩面上塗佈實施例5中所製備的活性能量線 硬化型形成劑之溶液，並於8(TC下加熱2分鐘，藉此形成 塗膜。然後，使用金屬鹵化物燈，照射累計光量為 mJ/cm2之紫外線進行硬化處理，而製作於偏光元件之兩面 上形成有保護層之偏光板。然後，於所獲得之偏光板之單 面的保護層上，貼合上述形成於脫模片材之剝離處理面上 之黏著劑層’而製作黏著型偏光板。 對上述實施例及比較例中所獲得之黏著型偏光板進行下 述評價。結果示於表丨中。再者，測定拉伸彈性模數時， 在SUS板之間夾設框體，於該框體内注入保護層形成劑， 於與各例相同之條件下使之硬化，而製備縱長120mm、橫 140674.doc -46- 201007229 長120 mm、厚度1 〇〇 μΓη之樣品。於保護層形成劑為活性 能量線硬化型形成劑之情形時，將框體放置於sus板上， 使該形成劑流入於其中’於與各例相同之條件下自該形成 劑側照射活性能量線而進行硬化。 <拉伸彈性模數>

將見度為10 mm、長度為1〇〇 mm之樣品片切割成帶狀， 於25°C之溫度環境下，使用萬能拉伸壓縮試驗機 (Tensilon)於以下之條件下將上述帶狀樣品沿長度方向拉 伸並進行測定，根據所獲得之s_s(strain_strength，應變強 度）曲線求出拉伸彈性模數。作為測定條件，拉伸速度為 5〇 mm/mm ’夾頭間距為5〇 mm，測定溫度為常溫。根據 s-s曲線求出彈性模數之方法如下：於s_s曲線之初始上升 處作切線，讀取切線之延長線達到1〇〇%延伸率之位置的 強度’用該強度值除以所測定的樣品片之剖面積（厚度χ樣 品寬度（10 mm))，將所得之值作為拉伸彈性模數（―般而 言’有時亦稱為揚氏模數）。 <耐久性> 將所獲得之偏光板裁剪成對角為15英吋之尺寸，並沿正 交偏光之方向貼合於0.5随厚之無驗玻璃之兩面上，:而 製作樣品。將該樣品投入至每3〇分鐘進行丨⑼次 之哉〜m:之熱震的環境下，然、後取出，並目視確認偏 光板疋否產生龜裂（條數）^進行5次該試驗。 於上述供於評價之樣品尺寸（尺寸為15英对）之情形時， 若龜裂之產生條數之平均值為2條以下，則例如在行動電 140674.doc •47- 201007229 m 話用途之尺寸較+的偏光板中，纟實際使用時不會產生龜 因此對於行動電話用途之偏光板而言，若保護層之 拉伸彈性模數為！⑽MPa以上，則可認為能夠滿足耐久 、另外例如，為了實現當畫面尺寸與本評價為相同尺 寸（尺寸為15英吋）時不產生龜裂，要求龜裂平均值未滿1 條因此，對於尺寸為15英吋之偏光板而言，若保護層之 拉伸彈性模數為5GG Mpa以上，則可認為能夠滿足耐久 性。進而，例如當畫面尺寸為TV(televisi〇n，電視）等之大 =畫面時’要求樣品尺寸（15英时）之評價實驗中產生〇條龜 :二此’對於TV等之大型偏光板而言，若保護層之拉 莫數為1000 MPa以上，則可認為能夠滿足 [表1]

140674.doc -48- 201007229

評價 龜裂之產生條數 平均1.2條 (0條、2條、3條、0條、1條） 平均0.6條 (0條、1條、1條、1條、0條） 平均1條 (0條、1條、2條、1條、1條） 平均〇條 (0條、0條、0條、0條、0條） 平均0條 (0條、0條、0條、0條、0條） 平均0條 (0條、0條、0條、0條、0條） 平均7.4條 (5條、9條、10條、5條、8條） 平均5.4條 (6條、5條、5條、6條、5條） 平均13.2條 (14 條、10 條、17 條、15 條、11 條） 平均3.4條 (3條、4條、2條、3條、5條） 均為大量之20條以上 保護層(Η) 厚度 (μιη) 〇 〇 ' cn 〇 〇 〇 拉伸彈性模數(MPa) 200 700 400 19000 1600 19000 寸 19000 〇 1600 形成劑(Η’） 硬化型 濕氣硬化型 熱硬化型 熱硬化型 活性能量線硬化型 活性能量線硬化型 活性能量線硬化型 1 1 溶劑去除硬化型 活性能量線硬化型 溶劑去除硬化型 活性能量線硬化型 種類 氰基丙烯酸醋系 環氧系 異氰酸酯系 丙烯酸系 1 _1 丙烯酸系 丙烯酸系 碟 聚乙酸乙烯酯系 丙烯酸系 乳液系 聚胺基甲酸酯系 丙烯酸系 V0 5 V0 V0 V0 V0 β V0 V0 V0 s®(- 0斗 Sif sal- Vf € (N 寸 1 5 (N 寸 ·«? 省 磁 Ik & jlJ £ A3 140674.doc •49- 201007229 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之較佳實施形態之黏著型偏光板的概略剖 面圖。 圖2係表示先前光學顯示單元之製造方法之一例的流程 圖。 【主要元件符號說明】 B 黏著劑層 E 透明保護膜 G 接著劑層 Η 保護層 Ρ 偏光元件 140674.doc -50-

Claims (1)

1. 201007229 七、申請專利範圍： 1. 一種黏著型偏光板，其特徵在於：僅於偏光元件（p)之單 面上經由接著劑層（G)而設置有透明保護膜（E)，於上述 偏光元件（P)之另一單面上，經由拉伸彈性模數為1〇〇 MPa以上之保護層（H)而設置有黏著劑層（B)。 2. 如請求項1之黏著型偏光板，其中形成上述保護層之 保護層形成劑（H，）為氰基丙烯酸酯系形成劑、環氧系形 成劑、異氰酸醋系形成劑、或丙稀酸系形成劑。 攀3.如請求項1之黏著型偏光板，其中形成上述保護層（H)之 保護層形成劑（H，）為含有硬化性成分之活性能量線硬化 型形成劑。 4. 如请求項1之黏著型偏光板，其中上述保護層滿足光 彈性係數（m2/N)x厚度（m)S lXl〇-14(m2/N)。 5. —種黏著型偏光板之製造方法，其特徵在於·· 其係用於製造僅於偏光元件（P)之單面上經由接著劑層 • (G)而D又置有透明保護膜（E) ’於上述偏光元件（？）之另一 單面上，經由保護層（H)而設置有黏著劑層（B)之黏著型 偏光板者，且 上述保護層（H)之拉伸彈性模數為1〇()Mpa以上， 上述偏光元件（P)與上述黏著劑層（B)之積層係藉由於 上述偏光兀件（P)之單面上形成保護層後在該保護 層（H)上積層黏著劑層（B)而進行。 6.如請求項5之黏著型偏光板之製造方法，其中形成上述 保護層（H)之保護層形成剩（Η.)為氛基丙烯酸醋系形成 140674.doc 201007229 劑、環氧系形成劑、異氰酸酯系形成劑、或丙烯酸系形 成劑。 7. 8. 9. 10. 如請求項5之黏著型偏光板之製造方法，其中形成上述 保護層（H)之保護層形成劑（H，）為含有硬化性成分之活性 能量線硬化型形成劑。 如請求項5之黏著型偏光板之製造方法，其中上述保護 層（H)滿足光彈性係數（m2/N)x厚度（m)$ ixl〇-H(m2/N)。 種圖像顯示裝置，其包含如請求項1至4中任一項之黏 者型偏光板。 一種圖像顯示裝置之製造方法，其係用於製造圖像顯示 裝置者’其包括： 捲軸素材準備步驟，準備如上述請求項1至4中任一項 之黏著型偏光板之長條狀片材，作為捲轴素材； 切斷步驟，自該捲軸素材中抽出片材製品，使用切斷 機構將上述黏著型偏光板切斷成特定尺寸；以及 貼合步驟，於該切斷步驟後，經由上述黏著型偏光板 之黏著劑層（B)而貼合於光學顯示單元上。 140674.doc