TW201005286A - Field effect transistor based sensor - Google Patents
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 45
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N azanylidyneindigane Chemical compound [In]#N NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 8
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 16
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 3
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 claims 1
- 101100123850 Caenorhabditis elegans her-1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 claims 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 claims 1
- ZBESNDCVADUCDR-UHFFFAOYSA-N [Nd].[In] Chemical compound [Nd].[In] ZBESNDCVADUCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010437 gem Substances 0.000 claims 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 claims 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 abstract 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 230000005533 two-dimensional electron gas Effects 0.000 description 3
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneindium Chemical compound [In]=S GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 206010011469 Crying Diseases 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000427 antigen Substances 0.000 description 1
- 102000036639 antigens Human genes 0.000 description 1
- 108091007433 antigens Proteins 0.000 description 1
- MPZNMEBSWMRGFG-UHFFFAOYSA-N bismuth indium Chemical compound [In].[Bi] MPZNMEBSWMRGFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N caesium(1+) Chemical compound [Cs+] NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 230000002496 gastric effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- -1 ion ruthenium anion Chemical class 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
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Description
201005286 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種場效電晶體型感測器,並且特別是有 關於一種具有優異的靈敏度及反應時間之場效電晶體型感測 n ° … 【先前技術】 離子感測場效電晶體(ion-sensitive field effect transistor, ISFET)係Piet Bergveld於1970年提出之電化學感測元件,其’ 具備微型化與適合自動化量測之優點。相較於^前積體電^ 中使用之金屬-氧化物-半導體場效電晶體細他丨^ semiconductor field effect transistor,MOSFET),ISFET 與 MOSFET的主要差異在於ISFET藉由離子感測層與電解液^ 代MOSFET之閘極。藉由離子選擇功能與場效電晶體之特 性,ISFET係電化學與半導體相結合之新型感測器。 ’ 請參閱圖一。圖一係繪示一習知的離子感測場效電晶體 1之截面視圖。圖一中之離子感測場效電晶體丨係應用 AlGaN/GaN 高電子遷移率電晶體(high_electlOn mQbility transistor,HEMT)。如圖一所示,離子感測場效電晶體i包含 基板10、氮化銘層U、氮化鎵層12、14、氮化銘鎵層13、 源極15以及汲極16。氮化鋁層η作為一成核層(nudearati〇n layer)。氮化鎵層12作為一緩衝層。其中,一二維電子氣 (two-dimensional electron gas,2DEGs)17 係形成於氮化鎵層 12 及氮化銘鎵層13之介面並位於氮化鎵層12 一侧。如圖1所 示,曝露的閘極區140能夠感測被吸附的離子,使得離子感 測場效電晶體1之表面電位係被調整以影響二維電子氣17之 密度’因而改變源極-汲極電流之大小。 201005286 ,由上述的機制,A1GaN/GaN HEMT可以作為離子感測 ^效笔晶體。細’ A1GaN/GaN HEMT離子制器的靈敏度 ^低亚且反應時間較慢,對於愈來愈重視即時感測及高靈敏 度的現代感測技術來說著實不符所需。 t* ’本發明之主要範•在於提供—種具有高度的靈敏 度及快速的反鱗間之離子制場效f晶體魏測器, 決上述問題。 【發明内容】
本發明之一範嚀在於提供一種場效電晶體型感測器。 -根據,發明之第一具體實施例,場效電晶體型感測器包 含基板、氣化銦(InN)材料層、源極以及没極。 氮化銦材料層形成於基板之上並且具有上表面,並且上 表面其上提供一檢體(福㈣反應區域。此外,氮化鋼材料層 作為;I於源極及汲極間之電流通道(current channei)。藉此, 吸附至檢體反應區域之檢體會引發流動於電流通道中之電汽 之變化,並且該變化進一步係解譯成關於該檢體之一特性。机 、根據本發明之弟一具體實施例亦提供一種場效電晶體型 感測器。需注意的是,第二具體實施例之感測器係以—化 銦錁材料層取代第-具體實施例之感測器中之氮化鋼材 而得。根據本發明之氮化銦鎵之化學式為N,豆: x>0.4。 τ
關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳 附圖式得到進一步的瞭解。 【實施方式】 201005286 请參閱圖二。圖二係繪示根據本發明之第一具體實施例 之一ί效電晶_感測器2之截面視圖。如圖二所示,場效 電曰】體J感測器2包含基板20、氮化銦材料層22、源極% 以及没極28。 ΓΓ I實ΐ1用中,基板20可以由石夕(silicon)、氮化鎵 (G’、1化鋁(A1N)、藍寳石(sapphire)或碳化 成,但不以此為限。 7
❿ 氮化銦材料層22係形成於基板2〇之上 220。於實際應用中,場效電晶體型感測器2進一步【含f j π iayei〇2H_ 24 _狀絲%及氮化崎 '之間’用哺助氮化鋼材料層22之蟲曰曰曰。於此實施 例中,緩衝層24可由氮化鋁(AiN)所製成。 、隨著磊晶技術的發展,氮化銦獨特的光學及電子性質已 研究。舉綱言,在未雜的情況下,氮化銦材料具 有咼度的自由電子濃度,一般係超過1〇18cm_3。此外,經 ,氮化銦材料的表面與生俱有電子累積的現象。這種 電子累積的現象在III-V族半導體中非常獨特。此種電子累 的現象曾被試圖用物理或化學處理來除去,但至今尚^成 ’氮化銦ί料其帶正電荷的表面施體能態(d_ sate)的歧尚達1G em-2,並且在m_v料導财係最大 的0 由於IUb銦材料的表面具有高度的表面施體能態密度, 此非#有利於感測方面的應用。舉例而言,氮化銦材料1 帶正電荷的表面施體能態能夠使溶液中的陰離子吸附至氮^匕 銦材料的表面。換句話說,根據本發明之氮化銦材料層22之 ^表,220能夠提供一檢體反應區域。於實際應用中,檢體 可以疋-離子、-化學分子或一生物分子。此外,檢體可以 201005286 是固態的、液態的或氣態的。 源極26及没極28可形成於氮化銦材料層22上。於實際 應用中’雜26及祕28皆可由能夠形成歐姆接觸之^ 所製成,例如金/鈦(Au/Ti)合金、金或鋁。除了表面包含檢體 反應區域外,根據本發明之氮化銦材料層22並且 極26及没極28間之電流通道。藉此,吸附至檢體反應^ 之檢體會引發流動於電流通道中之電流,即祕·祕電流
Ids發生變化,並且該變化進一步係解譯成關於該檢體之 性,例如濃度。 寸 舉例而言,當根據本發明之場效電晶體型感測器2置放 於含有待測陰離子的水溶液中時,陰離子會吸附至離子反應 區域並同時驅散部份累積於氮化銦材料層之表面的電子,^ 成/瓜動於電流通道中之電流量變少。基本上,電流之變化 係與離子之濃度相關。離子濃度高代表會有較多 附至離子反赫域上,造絲流量下降較多。 流Ids之變化量,根據本發明之場效電晶體型感測器2可以 過定量分析感測出離子濃度。 請參閱圖三。圖三係繪示根據本發明之場效電晶體 測器2進一步包含檢體選擇性薄膜3〇之截面視圖。如圖三^ 不,檢體選擇性薄膜30係形成於氮化銦材料層22之上表面 上。檢體選擇性薄膜30可以選擇性地吸附特定的彳^ 用以感測例如’蛋白質、抗原、抗體等生物或化學物 貝。所以,根據本發明之場效電晶體型感測器2可以作為化 學感測器、生化感測器、生理感測器及臨床上的應用。’、、 —由於當場效電晶體型感測器2置放於含有待測離子的水 溶液中感測時,水溶液中的離子可能會與源極26及汲極% 起反應(例如侵蝕電極),致使流動於電流通道中之電流發生 201005286 不系S疋的現象。請參閱圖四。圖四係彡會示根據本發明之場效 電晶體型感測器2進一步包含一鈍化層(passivati〇n layer)32 之截面視圖。於實際應用中,鈍化層32可以由氮化石夕或 樹酯所製成’但不以此為限。 、,了改善電流不穩定的問題,如圖四所示,鈍化層32可 =覆蓋源極26、汲極28及除了檢體反應區域外之氮化銦材 料層22之上表面220。鈍化層32的功能在於隔絕水溶液中 的,子影響源極26及没極28的性質,以維持電流通道中之 ,流的穩定性。因此’純化層32可以提昇根據本發明之場效 電晶體型感測器2在檢體感測上的穩定性。 另外,於一具體實施例中,氮化銦材料層22中鄰近該上 ,面22〇之。卩份可施以一熱氧化沖ermai⑽丨細丨⑽)處理或— =摻雜(〇xygen-doping)處理以形成一氧化銦或氧氮化銦表面 僧。 处為了,測根據本發明之場效電晶體型感測器2之感測效 犯丄於一範例中,感測器2係置放於一氯化鉀(KC1)水溶液中 # 離子(C1·)的濃度。請參閱圖五。圖五係緣示電流fcs 一 Ik者時間變化之氯離子濃度之關係圖。 如圖五所示,在量測的時間内,氣離子(cr)的濃度由10-扣^降至i〇lM。每當氣離子的濃度上昇時,將會有更多的 ^夕子被吸附至氮化銦半導體層之離子反應區域,此時將有 電子從氮化銦半導體層之表面被驅離,造成氮化 導體層之表面施體能態的密度變小。類比來說,自由電 大子驅離可以看成源極26及没極28間之電流通道的阻抗變 ,,此流動於電流通道中之電流量將下降 。此外,針對氣 雍性^又的變化’根據本發明之場效電晶體型感測器2之反 %、3可以少於10秒。相較之下,習知的八1〇必/〇你 9 201005286 明蒼閱圖六。圖六係緣示電流Ids與氯離子濃度之關係 二卜月’電流1说此夠隨著氯離子濃度的改變呈現線性的 、交化。猎由定量分析’例如透過線性内插,根據本發明之 j:電,體型_器2可以準_感測出氯離子的濃度 的靈敏度而言,由實驗結果推算,當氯離子的濃度 支〇 Μ時,電流IDS產生3%的變化。因此,相較於 =AlGaN/GaN HEMT感測器,根據本發明之感測 度可以大幅提昇。 们孤敏 咸制哭^而/女,較薄的氮化姻材料層22可以使場效電晶體型 ί高的靈敏度。於—具體實施例中,當氮化銦 π托a 0之尽度小於2〇IUn時,氮化銦半導體層之離子反靡 陰離子外’亦可以吸附陽離子。由於氮化銦ΐ 合旦度很薄,因此其下方的半導體層的材料特性可能 θ亂化銦半導體層之表面能態,致使陽離子可以被吸 ❹ 成、目據ί發明之第二具體實補亦提供—種場效電晶體型 庄意的是,第二具體實施例之感測器係以—氮化 而;p材才1 層*代第一具體實施例之感測器中之氮化銦材料層 ^。要強調的是,根據本發明之氮化銦鎵之化丄 刖 in其中X>〇_4。也就是說,只要氮化銦鎵材料中銦 所〇以上的話’氣化姻鎵材料層就能夠具備如先 例銦材料層的感測效能。此外’關於第二具體實% 妹Α 電晶體型感測器之結構示意圖及有關元件之描述, 5月再參閱上述之第一具體實施例即可。 現 相車乂於先前技術,藉由氮化銦材料獨特的電子累積 201005286 象’根據本發明之場效電晶體型感測器可以應用氮化銦半導 體層1為源極-汲極電流通道及檢體感測區。因此,根據本發 =之,效電晶體型感測器適用於作為各種型式的感測器,例 速及生化感測器等,並且具有優異的靈敏度及快 针、太ί由上較佳具體實_之詳述,鱗望能更加清奸 述本發明之特徵與精神,而並非 楚描 Ο 改變及具相等性的安 二”能 作最寬廣的解釋心應該根 支以及具相等性的安排。 蛊所有可能的改 ❹ 11 201005286 體 圖式簡單說明】 圖i繪示1知的離子感測場效電晶體之截面視圖。 圖二係繪示根據本發明之第〜 型感測器之截面視圖 具體實施例之一場效電 曰曰 圖二係繪示根據本發明 含檢體選擇性細之截面視圖。> 電㉟麵制胃進—步包 .圖四係繪示根據本發明 、、 含一鈍化層之截面視圖。 電晶體型感測器進一步包 。圖五係緣示電流&與隨著時間變化之氯離子 圖 濃度之關係 圖六係緣示電流lDS與氣離子濃度之關係圖 【主要元件符號說明】 離子感測場效電晶3 11 :氮化鋁層 13 :氮化鋁鎵層 16 · >及極 140 :曝露的閘極區 2.場效電晶體型感測器 20. ·基板 10 :基板 12、Μ :氮化鎵層 Η :源極 Π:二維電子氣 22 :氮化銦材料声 201005286 24 :缓衝層 26 : 28 :汲極 30 : 32 :鈍化層 220 源極 檢體選擇性薄膜 :上表面
Φ 13
Claims (1)
- 201005286 、申請專利範圍: 1、 一種場效電晶體型感測器,包含: 一基板; 一氮化銦材料層,該氮化銦材 並且具有-上表面,該上表面之上 域; 、上徒供—檢體反應區 一源極;以及 一?氮化銦材料層作為介於該源極及該沒極間之 步係解譯成關於該檢體之一特性。且•化進- 2. 圍第1項所述之場效電晶體型感測器,鮮兮 虱化銦材料層之一厚度大致上小於2〇nm。 ,、中μ 2凊專利範圍第1項所述之場效電晶體型 並 電流之該變化係解譯成該檢體之一濃度。 八中忒 4、 參 二艾清專利la圍第1項所述之場效電晶體型感測器,進一步 巴3 · 一檢體選擇性薄膜,該檢體選擇性薄膜係形成於該檢體 反應區域上。 5、 如申請專利範圍第1項所述之場效電晶體型感測器,進一步 包含: v 一緩衝層’該緩衝層係形成於該基板及該氮化銦材料層 之間。 6、 如申請專利範園第5項所述之場效電晶體型感测器,其中該 緩衝層係由氮化鋁所製成。 14 201005286 2明專利減第1項所述之場效電晶體型感測器,進—步 鈍化層覆蓋麵極、該波極及除了該檢體 反應區域外之該氮化銦材料層之該上表面。 第1項所述之場效電晶體型感測器、,其中兮 气中鄰近該上表面之部份係施以-熱氧化處 机雜處理以形成-氧化銦或氧氮化姻表面層。 - 9、 ❹ 馨 項所述之場效f晶體型感測器,其中該 “、極^由能夠形成歐姆接觸之材料所製成。 人 1〇、第1項所述之場效電晶體型感測器,其中該 組成之-群組中之其-戶^成見她1寶石以及石反化石夕所 、:二圍第i項所述之場效電晶體型感測器’其中該 檢體係固悲的、液態的或氣態的。 圍;,所述之場效電晶體型感測器,其中該 離子、—化學分子以及—生物分子所組成之 13、一種場效電晶體型感測器,包含: 一基板; 銦鎵材料層’該氮化銦鎵材料層係形成於該基板 且具有—上表面,該上表面其上提供一檢體反 5區域’氣化銦鎵之化學式為把 其中x>04; 一源極;以及 汲,’該氮化銦鎵材料層作為介於該源極及該汲極間 =電流通道,吸附至該檢體反應區域之檢體引發一 ▲動於該電流通道中之電流之一變化,並且該變化進 15 201005286 一步係解譯成關於該檢體之一特性。 14、 ,申請專利範圍第13項所述之場效電晶體型 氮化銦鎵材料層之一厚度大致上小於2〇nm。 其中該 15、 如申5月專利範圍第13項所述之場效電晶體型 電流之該變化係解譯成該檢體之一濃度。玖州抑,其中該 16、 ^請專利範圍第13項所述之場效電晶體型感測器,進一步 ❹ 一檢體選擇性薄膜,該檢體選擇性 反應區域上。 專、係形成於该檢體 17、 =請專利範圍第13項所述之場效電晶體型感測器,進1 一 |=。,_層絲成於板及魏化銦鎵材料 m 18' 5 19、g請專利範圍第13項所述之場效電晶體 其中該 型感測器, 進一步 一= 匕層’該鈍化層覆蓋該源極 反應區域外之該氮化銦鎵材料層之該ϋΐ除了該檢體 2〇、如申請專利範圍第ls項所述之場效 氮化銦鎵材料層中鄰近該上表 其中該 或一氧摻雜處理以形成-氧化鋼峨t二ί, 21、如申請專利範圍第13項所述之場 源極及該汲極皆由能夠形成歐姆接觸^•戶 =。’其中該 16 201005286 22、 如申請專利範圍第13項所述之場效電晶體型感測器,其中該 基板係由選自由硬、氮化鎵、氮化銘、藍寶石以及碳化石夕所 組成之一群組中之其一所製成。 23、 如申請專利範圍第13項所述之場效電晶體型感測器,其中該 檢體係固態的、液態的或氣態的。 24、 如申請專利範圍第13項所述之場效電晶體型感測器,其中該 檢體係選自由一離子、一化學分子以及一生物分子所組成之 一群組中之其一。 17
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW097127004A TWI375029B (en) | 2008-07-16 | 2008-07-16 | Field effect transistor based sensor |
| US12/432,071 US7829918B2 (en) | 2008-07-16 | 2009-04-29 | Field effect transistor based sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW097127004A TWI375029B (en) | 2008-07-16 | 2008-07-16 | Field effect transistor based sensor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201005286A true TW201005286A (en) | 2010-02-01 |
| TWI375029B TWI375029B (en) | 2012-10-21 |
Family
ID=41529523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW097127004A TWI375029B (en) | 2008-07-16 | 2008-07-16 | Field effect transistor based sensor |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7829918B2 (zh) |
| TW (1) | TWI375029B (zh) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8008691B2 (en) * | 2009-07-21 | 2011-08-30 | National Tsing Hua University | Ion sensitive field effect transistor and production method thereof |
| CN103364443A (zh) * | 2012-03-31 | 2013-10-23 | 叶哲良 | 丙酮传感器装置 |
| WO2015015253A1 (en) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | Honeywell Romania Srl | Condensation sensor systems and methods |
| EP3442804A4 (en) * | 2016-09-23 | 2019-12-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | FLUID OUTPUT DEVICE AND PARTICLE DETECTOR |
| CN113906574B (zh) * | 2019-06-10 | 2025-05-30 | 苏州晶湛半导体有限公司 | 半导体结构和半导体结构的制备方法 |
| CN110459471B (zh) * | 2019-07-25 | 2020-09-04 | 中山大学 | 一种双栅结构GaN基pH传感器的制备方法 |
| CN114784050B (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-27 | 湖南大学 | 一种神经形态视觉传感器及其应用和制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5833824A (en) | 1996-11-15 | 1998-11-10 | Rosemount Analytical Inc. | Dorsal substrate guarded ISFET sensor |
| US7361946B2 (en) * | 2004-06-28 | 2008-04-22 | Nitronex Corporation | Semiconductor device-based sensors |
| US7868354B2 (en) | 2006-11-08 | 2011-01-11 | Duke University | GaN-based nitric oxide sensors and methods of making and using the same |
-
2008
- 2008-07-16 TW TW097127004A patent/TWI375029B/zh not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-04-29 US US12/432,071 patent/US7829918B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7829918B2 (en) | 2010-11-09 |
| US20100012987A1 (en) | 2010-01-21 |
| TWI375029B (en) | 2012-10-21 |
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