TW200832003A - Optical film and method of manufacturing the same - Google Patents

Description

200832003 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學膜，一種製造光學膜之方法， 及一種偏光板及一種包括該光學膜之液晶顯示器。 本申請案請求在2006年11月20日於KIPO申請之韓國 專利申請案1 0-2006-0 1 1 4493之優先權，其揭示整個倂入 本文爲參考。 【先前技術】 近來，液晶顯示器已常用來作爲電腦、文字處理機及 小型電視之顯示裝置。特別地，S TN型液晶顯示器型近來 以實際被使用，且白色STN顯示器及彩色STN顯示器已 受矚目。 然而，液晶顯示器易於著色成具有藍或黃色，因液晶 槽之雙折射率被可見光所校正。在白色STN顯示器及彩 色STN顯示器之液晶顯示器中，因阻滯所致之液晶槽之 著色可以藉添加具有預定阻滯作用之阻滯膜至液晶槽之基 板表面而降低。 已使用拉伸之TAC(三乙醯基纖維素）或環烯烴聚合物 (COP)(例如 ΖΕΟΝ Corp.所製造之 ZEONOR 及 JSR Corp.所 製造之ART0N)以作爲阻滯膜。例如，日本專利申請案2-1 9 1 904及2-42406揭示熱固性樹脂膜之縱向及單軸拉伸或 橫向及單軸拉伸。 同時，在被建議改良廣視角之現有的液晶顯示器中， -5- 200832003 平面內切換液晶顯示器（IPS-LCD)包括在非操作狀態中幾 乎平行於基板表面之均一排列之液晶分子。因此，在平面 內切換之液晶顯示器中，光不受偏光板之影響且因此透入 液晶層且無任何改變。因此，在基板上方及下方表面上之 偏光板之排列在非操作狀態中可以給予幾乎完美的暗度。 在平面內切換之液晶顯示器中，光學補償膜用以改良視角 特性。 【發明內容】 [技術問題] 本發明之目的是要提供一種具有平面內切換（IPS)液 晶顯示器之光學膜中所需之阻滯且容易購得的低價光學膜 :及含彼之偏光板及液晶顯示器。 本發明之另一目的是要提供一種製造光學膜之方法’ 其包括在未經拉伸之膜的縱向及單軸拉伸期間’控制平面 內及厚度阻滯以及平面內及厚度之阻滯變化。 [技術解決方式] 本發明提供一種光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯 烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸而製造且在5 5 0奈米波長下 具有1〇〇至150奈米之平面內阻滯及0至-30奈米之厚度阻滯 〇 另外，本發明提供一種層合之光學膜，其包括a) + C-板及b)光學膜，其安置於+C-板上，藉使用未經拉伸之環 -6- 200832003 烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸而製造且在5 5 0奈米波長 下具有100至150奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻 滯。 另外，本發明提供一種偏光板，其包括a)光學膜，其 係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸而 製造且在550奈米波長下具有1〇〇至150奈米之平面內阻滯 及〇至-30奈米之厚度阻滯；b)安置於該光學膜上之第一保 護膜；c )安置於該第一保護膜上之偏光器；及d)安置於該 偏光器上之第二保護膜。偏光板另外包含於a)光學膜下方 表面上之+ C -板。 另外，本發明提供一種偏光板，其包括a)光學膜，其 係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸而 製造且在550奈米波長下具有1〇〇至150奈米之平面內阻滯 及0至-30奈米之厚度阻滯；b)安置於該光學膜上之偏光器 ;c)安置於該偏光器上之保護膜。偏光板另外包含於a)光 學膜下方表面上之+C-板。 另外，本發明提供一種包含光學膜之液晶顯示器，該 光學膜係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸 拉伸而製造且在550奈米波長下具有1〇〇至150奈米之平面 內阻滯及〇至-3 0奈米之厚度阻滯。液晶顯示器較佳是平面 內切換（IPS)型者。 另外，本發明提供一種製造光學膜之方法。該方法包 括縱向及單軸拉伸一未經拉伸之膜’同時控制膜之經拉伸 部分的寬度對長度之比例。 200832003 [有利的效果] 依本發明，用於平面內切換液晶顯示器之光學膜藉使 用一種易於購得且低價位使用製造之未經拉伸之環儲烴共 聚物膜而低成本地製造。另外，未經拉伸之環烯烴共聚物 膜之經拉伸部分的寬度對長度之比例在膜拉伸期間被控制 以容易地降低阻滯變化且製造具有所要之平面內及厚度阻 滯的光學膜。 【實施方式】 在下文中，本發明將詳細描述。 依本發明之光學膜是一種在550奈米波長下具有1〇〇至 150奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻滯且由環烯 烴共聚物製造之膜。該光學膜藉縱向及單軸拉伸該未經拉 伸之環烯烴共聚物膜而製造。 在本發明中，平面內阻滯可由以下等式1所定義且厚 度阻滯可由以下等式2所定義。 [等式1]

Rin = dx(Nx-Ny) [等式2]

Rth = dx{(Nz-Ny)/2} 在上述等式1及2中，Nx是拉伸方向上之平面內折射 率，Ny是垂直於拉伸方向之方向上的平面內折射率，Nz -8 - 200832003 是厚度折射率，且d是膜之厚度。 在依本發明之光學膜中所用之環儲烴共聚物可易於購 得且是低價位的。當經縱向及單軸拉伸之膜藉使用環烯烴 共聚物來製造時，該環烯烴共聚物具有適於製造平面內切 換液晶顯示器之光學膜的平面內阻滯及厚度阻滯，且該阻 滯是固定的。因此，在本發明中，可以藉使用低成本之環 烯烴共聚物製造光學膜，其能力相同於或優於已知之平面 內切換液晶顯示器之光學膜。 膜藉使用環烯烴共聚物而形成，而後被均一且縱向及 單軸拉伸以製造依本發明之光學膜。 環烯烴共聚物是一種具有環狀結構之聚合物且可以選 自以環狀原冰片烯爲底質之單體及其氫添加劑之開環聚合 物；以環狀原冰片烯爲底質之單體及其氫添加劑之加成聚 合物；及以環狀原冰片烯爲底質之單體及乙烯基化合物及 其氫添加劑之加成聚合物。 在本發明中，較佳使用以原冰片烯爲底質之單體及乙 烯單體之共聚物以作爲環烯烴共聚物。在該等共聚物中， 以原冰片烯爲底質之單體對乙烯單體之比例較佳是65至83 :1 7至3 5重量％。 在本發明中能被使吊之環烯烴共聚物可以包括下式1 所示之重複單元。 200832003 [式i]

以原冰片烯爲底質之單體及乙烯單體之商業上可取得 之共聚物可以用來作爲環烯烴共聚物。 具有原冰片烯樹脂之固有物理性質（例如耐熱性、低 比重、低雙折射率、低比彈性係數及低波長分散性）之環 烯烴共聚物常招來阻滯。 在本發明中，爲要改良光學膜之耐熱性、抗紫外線性 、平坦性及成型性，可以在藉使用本發明申請專利範圍內 之環烯烴共聚物以形成膜之期間在環烯烴共聚物中添加抗 氧化劑例如酚及磷系者，降解抑制劑例如酚系者，抗靜電 劑例如胺系者，潤滑劑例如脂族醇類之酯類、多元醇類、 高級脂肪酸類及醯胺類，及紫外光吸收劑例如二苯甲酮及 苯並三唑系者。 製造未經拉伸之環烯烴共聚物膜之方法不受限制，但 可包括熔融擠出方法、壓延方法或溶液澆鑄方法。在這些 方法中，具有優越產率之熔融擠出方法是較佳的。在熔融 擠出方法中，環烯烴共聚物在圓筒中加熱以熔化，藉使用 螺絲來加壓且經由模例如τ_模來排放。 依本發明之縱向及單軸拉伸方法可以包括預先加熱步 驟、拉伸步驟及熱處理步驟’且這些步驟可以連續進行。 -10- 200832003 可以藉使用一種提供有串聯安置之預先加熱區、拉伸區及 熱處理區之裝置以進行縱向及單軸拉伸方法。 在預先加熱步驟中，膜被預先加熱以軟化以致未經拉 伸之膜在預先加熱步驟後之拉伸步驟期間欲被拉伸。 在預先加熱步驟中，當未經拉伸膜之玻璃轉換溫度是 Tg時，未經拉伸之膜較佳被加熱於Tg-30°c至Tg之間。 預先加熱時間較佳在1至1 〇分鐘之範圍內以抑制不必要之 變形。在本發明中，若預先加熱時間在5至1 0分鐘之範圍 內，則經拉伸之膜之阻滯變化是小的。另外，經拉伸之膜 的阻滯範圍可以適於製造平面內切換液晶顯示器之光學膜 。特別地，若未經拉伸之膜需要在預先加熱期間被預先加 熱，則因未經拉伸之膜充分地軟化，在拉伸期間阻滯之變 化是小的。然而，極長時間之預先加熱非所欲地增加膜之 軟化。因此，高的拉伸比例是需要的或難以獲得想要之雙 折射率。

在預先加熱步驟後所進行之拉伸步驟期間，當未經拉 伸之膜的玻璃轉換溫度是Tg時，未經拉伸之膜較佳在 Tg_20°C至Tg + 20°C之溢度範圍內在移動方向上被拉伸， 亦即縱向且單軸地拉伸。就此而論，拉伸溫度、拉伸速率 及拉伸比率係按照未經拉伸之膜的形式及厚度及光學膜之 所需之平面內阻滯而定。在縱向及單軸拉伸方法期間，拉 伸溫度更佳是在未經拉伸之膜的Tg至Tg + 2(TC之範圍間 。若拉伸溫度低於未經拉伸之膜之Tg-2(TC，則應力在拉 伸期間被集中。若拉伸溫度超過未經拉伸之膜之Tg + 20°C -11 - 200832003 ，則因低的分子排列以致難以獲得雙折射率。 在拉伸步驟期間，拉伸比例按照未經拉伸之膜的厚度 及阻滯而定。然而，拉伸比例較佳是1 · 1至3。若拉伸比例 低於1.1，則因低的雙折射率以致難以形成具有所要阻滯 之膜。若拉伸比例高於3，則經拉伸之膜的阻滯變化增加 以致引起向內彎曲之增加。 在本發明中，未經拉伸之膜較佳以10至500%/分鐘之 拉伸速率被拉伸。 爲了在預先加熱步驟及拉伸步驟後所進行之熱處理期 間固定經縱向及單軸拉伸之膜的排列，熱處理之進行方式 是使未經拉伸之膜的溫度在Tg-5(TC至Tg-20°C之範圍內 ，當未經拉伸之膜的玻璃轉換溫度是Tg時。在熱處理期 間，冷卻是在比拉伸步驟之溫度更低之溫度下進行。因爲 即使進行冷卻也需要熱量，冷卻步驟稱爲熱處理步驟。在 膜處理期間，最終之冷卻區稱爲熱處理區。 若依本發明之光學膜藉使用該等提供有預先加熱區、 拉伸區及熱處理區之裝置以形成時，移動經過預先加熱區 、拉伸區及熱處理區之未經拉伸之膜被連續地加熱、拉伸 及熱處理以冷卻。然而，在各區間之邊界處可以形成中間 溫度區。爲防止中間溫度區被形成，在膜移動所經之各區 間的介面處可以形成窄的縫隙通路，但本發明不限於此。 另外，在介面處提供絕緣分隔壁以隔絕熱，在介面處提供 空氣毯以隔絕熱或進行其結合方法以保持各區之溫度。 另外，本發明人發現：當未經拉伸之膜的經拉伸部分 -12- 200832003 的寬度對長度之比例被控制，同時未經拉伸之膜在光學膜 之製造期間被縱向及單軸地拉伸之時，平面內及厚度阻滯 變化以及平面內及厚度阻滯被控制。因此，本發明提供一 種製造光學膜之方法，其包括在縱向及單軸拉伸期間控制 未經拉伸之膜的經拉伸部分的寬度對長度之比例。長度與 拉伸方向有關，亦即，縱向（L-MD)。 因此，在本發明中，未經拉伸之膜的經拉伸部分的寬 度對長度之比例可被控制以製造具有均一平面內阻滯及厚 度阻滯及關於相同平面內阻滯之不同厚度阻滯的光學膜。 未經拉伸之膜的經拉伸部分的寬度對長度之比例小於 3，較佳是〇 · 5以上且小於3，且更佳是0.5以上及1 . 5以下。 若未經拉伸之膜的經拉伸之部分的寬度對長度之比例是3 或更高，則經拉伸之部分的長度相對於未經拉伸之膜的寬 度是較小的。因此，未經拉伸之膜的寬度方向上之收縮受 限制且在未經拉伸之膜中發生同時的雙軸平面內拉伸。因 此，形成聚合物鏈之排列角度分布以致降低厚度阻滯。此 外，若未經拉伸之膜之經拉伸部分的寬度對長度之比例小 於0.5，則膜之經拉伸部分的寬度與膜之長度相比甚至更 小。因此，在拉伸後，產率可能因膜之極小有效寬度而被 降低。 特別地，當未經拉伸之膜的經拉伸部分的寬度對長度 之比例被控制成小於3時且較佳是0.5以上且小於3，同時 熱處理是在未經拉伸之膜的玻璃轉換溫度（Tg)-20 °C或更 高之溫度下，且較佳在未經拉伸之膜之玻璃轉換溫度（Tg) -13- 200832003 或更高之溫度下進行時，則分子鏈排在膜之流動方向上， 因聚合物鏈有高的流動性，且經拉伸之膜有高的厚度阻滯 ，因聚合物鏈在寬度方向上有自由收縮。 通常，可以控制拉伸比例以調節厚度阻滯。然而，難 以調節厚度阻滯於0至-30奈米範圍內，特別是於0至-15奈 米範圍內。然而，在本發明中，可以控制未經拉伸之膜之 經拉伸之部分的寬度對長度之比例於上述範圍內以使經拉 伸之膜的厚度阻滯容易被調節於〇至-30奈米且較佳於0至-1 5奈米範圍內，且整個膜之阻滯變化被降低。 隨著未經拉伸之膜之經拉伸部分的寬度對長度之比例 接近〇. 5至1 . 5之範圍，因拉伸期間寬度方向上之自由收縮 使厚度阻滯接近〇。詳細地說，因爲厚度阻滯代表垂直於 拉伸方向之方向上的折射率（Ny)與厚度方向上的折射率 (Nz)之間的差異，故隨著二折射率彼此趨於一致，厚度阻 滯即接近〇。若在寬度方向上有自由收縮，則難以將聚合 物鏈排在Ny方向上。因此，Ny被降低以降低Ny與Nz 間之差異。另外，膜之整個表面因寬度方向上之自由收縮 而被均勻地拉伸，因此顯著地降低阻滯變化及厚度變化。 依本發明方法所製造之光學膜在550奈米波長下具有 100至150奈米之平面內阻滯及0至-30奈米，較佳是0至-15 奈米之厚度阻滯。光學膜具有小的阻滯變化。光學膜具有 較佳30奈米或更小且更佳具有15奈米或更小之平面內阻滯 變化。在上述條件下，光學膜不具有阻滯污點。另外，厚 度阻滯變化較佳是10奈米或更小且更佳是5奈米或更小。 -14- 200832003 依本發明之光學膜具有均一之阻滯。光學膜之使用不 受限，只要光學膜具有均一之阻滯。可以使用光學膜以作 爲平面內切換液晶顯示器用之阻滯補償膜。 此外，本發明提供一種層合之光學膜，a) + C-板；及 b)安置於+C-板上之光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯 烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸所製造且在5 5 0奈米波長下 具有1〇〇至15〇奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻滯 〇 + C-板是一種具有幾乎爲0之平面內阻滯及正厚度阻滯 之膜。+C-板具有正常之波長分散、平波長分散及逆波長 分散特性。 + C-板可用聚合物材料或經紫外光固化之液晶膜所製 成。詳細地說，+ C -板可以用垂直（h 0 m e 〇 t r 〇 p i c a 11 y)排列 液晶膜、雙軸拉伸之PC(聚碳酸酯）或雙軸拉伸之COP(環 烯烴聚合物）所製成。 另外，本發明提供一種偏光板，其包含a)—光學膜， 其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸 所製造且在550奈米波長下具有100至150奈米之平面內阻 滯及〇至-30奈米之厚度阻滯；b)安置於該光學膜上之第一 保護膜；〇安置於該第一保護膜上之偏光器；及d)安置於 該偏光器上之第二保護膜。偏光板可以另外包括在a)光學 膜之下方表面上之+C-板。 可以使用在相關技藝中已知的材料以製造偏光器。更 明確地說，可以使用經拉伸之P V A (經拉伸之聚乙烯醇）。 -15- 200832003 可以使用在相關技藝中已知的偏光板之保護膜以作爲 第一保護膜及第二保護膜，但本發明不限於此。保護膜之 特定實例包括由以下物質所製之膜：聚酯聚合物例如聚對 苯二甲酸乙二酯及聚苯二甲酸乙二酯；纖維素聚合物例如 二乙醯基纖維素及三乙醯基纖維素；丙烯系聚合物例如聚 甲基丙烯酸甲酯；苯乙烯聚合物例如聚苯乙烯及丙烯腈一 苯乙烯共聚物（AS樹脂）；及聚碳酸酯聚合物。另外，可 以使用由以下物質所製成之膜：聚烯烴聚合物例如聚原冰 片烯，氯乙烯聚合物，醯胺聚合物例如尼龍及芳族聚醯胺 ，乙烯醇聚合物，偏氯乙烯聚合物，乙烯基丁醛聚合物， 芳族聚合物，聚氧亞甲基聚合物，環氧聚合物及其摻合物 聚合物。另外，可以使用由熱固性或紫外光固化之樹脂例 如丙烯基、胺基甲酸酯、丙烯基胺基甲酸酯、環氧基及聚 矽氧系所製成之膜。 另外，本發明提供一種偏光板，其包含a) —光學膜， 其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸 所製造且在550奈米波長下具有100至150奈米之平面內阻 滯及〇至-3 0奈米之厚度阻滯；b)安置於該光學膜上之偏光 器；及c)安置於該偏光器上之保護膜。偏光板可以另外包 括於a)光學膜之下方表面上之+C-板。 此外，本發明提供一種液晶顯示器，其包含一光學膜 ，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉 伸所製造且在550奈米波長下具有1〇〇至150奈米之平面內 阻滯及〇至-3 0奈米之厚度阻滯。液晶顯示器較佳是平面內 -16- 200832003 切換（IP s)型者。依本發明之液晶顯示器可以具有在相關 技藝中已知的結構，除了該液晶顯示器包含本發明之光學 膜。 本發明之一具體表現提供一液晶顯示器’其包括一液 晶槽，安置於液晶槽之二側上之弟一偏光板及弟一偏光板 及一或多個光學膜。光學膜藉縱向及單軸拉伸在第一偏光 板及第二偏光板之任一者與液晶槽之間的未經拉伸之環烯 烴共聚物而製造，且在550奈米波長下具有100至150奈米 之平面內阻滯及0至-30奈米之厚度阻滯。在第一偏光板或 第二偏光板與光學膜之間或在液晶槽與光學膜之間可以另 外提供+C-板。 本發明之另一具體表現提供一種液晶顯示器，其包括 液晶槽，提供於液晶槽之二側上之第一偏光板及第二偏光 板及作爲保護膜之光學膜。第一偏光板及第二偏光板之任 一者具有光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜 之縱向及單軸拉伸所製造且在550奈米波長下具有100至 150奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻滯。可以在 第一偏光板或第二偏光板與液晶槽之間另外提供+C-板之 膜。另外，在第一偏光板或第二偏光板與液晶槽之間可以 另外提供一光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物 膜之縱向及單軸拉伸所製造且在550奈米波長下具有100至 150奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻滯。 在本發明中，藉使用黏合劑可將光學膜、偏光器、保 護膜及液晶槽彼此連接。然而，黏合劑形式在本發明中不 -17- 200832003 受限制。 [發明模式] 鑒於以下實例及比較性實例（彼等被列出以供說明但 不用於限制本發明），可以更了解本發明。 <材料> 在本實例中，以原冰片烯爲底質之單體及乙烯單體之 共聚物，例如由 Ticona，Co.所製之 Topas 6013(Tg 138°C) 藉使用具有螺絲L/D爲29、T-模寬度爲1 200毫米且端緣爲 1毫米之擠出機來熔化擠出以製造具有1〇〇微米厚度之未經 拉伸之膜。 未經拉伸之環烯烴共聚物膜提供於一拉伸機中以被縱 向且單軸地拉伸，該拉伸機包括預先加熱區、拉伸區及熱 處理區。每一區之長度是1公尺且膜之移動速度是〇·4公尺 /分鐘。 <實例1 > 具有寬650毫米之未經拉伸的環烯烴共聚物在125°C溫 度之預先加熱區中預先加熱。預先加熱之未經拉伸的膜在 拉伸區中於140°C溫度、40%/分鐘之拉伸速率及1.7之拉伸 比例下被縱向及單軸拉伸。經過拉伸區之經拉伸之膜在 110 之熱處理區中冷卻。所得之光學膜具有80微米之平 均厚度、5奈米之寬度阻滯變化、120奈米之平面阻滯及- -18- 200832003 1 5奈米之厚度阻滯。 <實例2 > 具有寬6 5 0毫米之未經拉伸的環烯烴共聚物在1 2 0 °C溫 度之預先加熱區中預先加熱。預先加熱之未經拉伸的膜在 拉伸區中於145 °C溫度、40°/。/分鐘之拉伸速率及2之拉伸比 例下被縱向及單軸拉伸。經過拉伸區之經拉伸之膜在1 0 0 °C之熱處理區中冷卻。所得之光學膜具有75微米之平均厚 度、7奈米之寬度阻滯變化、1〇〇奈米之平面阻滯及15奈米 之厚度阻滯。 <阻滯之測量> 藉使用 ABBE折射計測量光學膜之折射率（η)。此外 ，平面內阻滯（Re)藉使用Axo-maUix，Co.所製之軸掃描計 來測量且以1 〇 °之間隔測量入射光與膜表面間之角度至5 〇 ° 以測量阻滯（Re)。 當拉伸方向上之折射率是Nx，垂直於拉伸方向之方 向上之折射率是Ny且厚度方向上之折射率是Nz時，平 面內阻滯Re = (Nx-Ny)xd且厚度阻滯Rth = (Nz-Ny)xd。就 此而論，d指明經拉伸之膜之厚度。 在製造具有5 5 0至600毫米寬度之經拉伸之膜後，在厚 度方向上以1 0 0毫米間隔所測量之阻滯變化的平均値被獲 得以作爲經拉伸之膜之整個表面的阻滯變化。 -19- 200832003 <比較性實例> 藉使用如實例1之相同步驟製造光學膜’除了縱向及 單軸拉伸被進行。因此，藉使用以上程序所製造之未經拉 伸之膜具有3奈米之平面內阻滯及-4奈米之厚度阻滯。 <實例3至8 > 以原冰片烯爲底質之單體及乙烯單體之共聚物（例如 由 Ticona，Co.所製造之 Topas 6013(Tg 138C)樹脂）藉使 用具有螺絲L/D爲29、T-模寬度爲1 200毫米且端緣爲1毫 米之擠出機來熔化擠出以製造具有厚度爲1〇〇微米之未經 拉伸之膜。在拉伸比例爲50%、拉伸溫度爲140°C且直線 速度爲0.4公尺/分鐘之條件下拉伸未經拉伸之膜。膜之經 拉伸部分的寬度對長度的比例在拉伸期間被控制於0.5至3 之範圍內，膜之寬度爲500毫米且滾筒高度在拉伸區中被 調整以進行縱向及單軸拉伸，由此製造光學膜。光學膜之 阻滯及阻滯傾斜被描述於以下表1中。在光學膜之橫向二 端之每一者被切成20公分後，在其中心處測量Rin及Rth 。及Rth之變化意指在寬度方向上最大阻滯（Max)與最 小阻滯（Min)間之差異。 -20 - 200832003 [表i] 實例編號 膜之經拉伸部分之 寬度對長度之比例 Rin [nm] Rth [nm] Rin 變化 [nm] Rth 變化 [nm] 3 0.5 130 -1.3 5 3 4 1.0 129 -5.7 8 6 5 1.5 127 -10.2 10 10 6 2.0 123 -17.6 15 23 7 2.5 119 -27.8 28 25 8 3.0 114 -43.1 40 30 -21 -

Claims (1)

1. 200832003 十、申請專利範圍 1 · 一種光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物 膜之縱向及單軸拉伸所製造且在550奈米波長下具有100至 150奈米之平面內阻滯及0至-30奈米之厚度阻滯。 2·如申請專利範圍第1項之光學膜，其中該光學膜用 以補償平面內切換（IPS)之液晶顯示器之阻滯。 3 .如申請專利範圍第1項之光學膜，其中環烯烴共聚 物是以原冰片烯爲基質之單體及乙烯單體之共聚物。 4 ·如申請專利範圍第3項之光學膜，其中以原冰片烯 爲底質之單體對乙烯單體之重量比例是65至83: 17至35。 5 ·如申請專利範圍第3項之光學膜，其中環烯烴共聚 物包含式1所示之重複單元：

   6 .如申請專利範圍第1項之光學膜，其中平面內阻滯 變化不大於30奈米且厚度阻滯變化不大於10奈米。 7.如申請專利範圍第1項之光學膜，其中藉一種包含 預先加熱該未經拉伸之環烯烴共聚物膜，拉伸該預先加熱 之膜且熱處理該經拉伸之膜等步驟之方法，將該光學膜縱 向及單軸拉伸。 8 .如申請專利範圍第7項之光學膜，其中該未經拉伸 -22- 200832003 之環烯烴共聚物膜之預先加熱是在Tg-30°C至Tg之濫度 範圍內進行1至10分鐘，其中該Tg是該未經拉伸之環烯烴 共聚物膜之玻璃轉換溫度。 9 ·如申請專利範圍第7項之光學膜，其中預先加熱之 膜在Tg-20°C至Tg + 20°C之溫度範圍內被拉伸I」至3倍且 膜之經拉伸部分的寬度對長度之比例少於3，其中該Tg是 未經拉伸之環烯烴共聚物膜之玻璃轉換溫度。 10. 如申請專利範圍第7項之光學膜，其中該未經拉伸 之膜之熱處理是在Tg-50°C至Tg-20°C之溫度範圍內進行 ，其中該Tg是該未經拉伸之環烯烴共聚物膜之玻璃轉換 溫度。 11. 一種層合之光學膜，其包含： a) — + C -板；及 b) 安置於+C-板上之光學膜，其係藉使用未經拉伸之 環烯烴共聚物膜之縱向及單軸拉伸所製造且在5 5 0奈米波 長下具有100至150奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度 阻滯。 1 2 · —種偏光板，其包含： a) —光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜 之縱向及單軸拉伸所製造且在550奈米波長下具有1〇〇至 150奈米之平面內阻滯及〇至_ 30奈米之厚度阻滯； b) 安置於該光學膜上之第一保護膜； Ο安置於該第一保護膜上之偏光器；及 d)安置於該偏光器上之第二保護膜。 -23- 200832003 1 3 .如申請專利範圍第1 2項之偏光板，其另外包含在 該a)光學膜之下方表面之+C-板。 14. 一種偏光板，其包含： a) —光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜 之縱向及單軸拉伸所製造且在5 5 0奈米波長下具有100至 150奈米之平面內阻滯及0至-30奈米之厚度阻滯； b) 安置於該光學膜上之偏光器；及 〇安置於該偏光器上之保護膜。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之偏光板，其另外包含在 該a)光學膜之下方表面之+C-板。 16. —種液晶顯不器，其包含： 一光學膜，其係藉使用未經拉伸之環烯烴共聚物膜之 縱向及單軸拉伸所製造且在550奈米波長下具有100至150 奈米之平面內阻滯及〇至-30奈米之厚度阻滯。 1 7 .如申請專利範圍第1 6項之液晶顯示器，其中該液 晶顯示器是平面內切換（IPS)型者。 18. —種製造光學膜之方法’該方法包含： 縱向及單軸拉伸一未經拉伸之膜，同時控制該膜之經 拉伸部分之寬度對長度之比例。 1 9.如申請專利範圍第18項之製造光學膜之方法，其 中該未經拉伸之吴由環丨希煙共聚物製成。 2 〇.如申請專利範圍第1 9項之製造光學膜之方法’其 中該環烯烴共聚物是以原冰片烯爲底質之單體及乙烯單體 之共聚物。 -24- 200832003 2 1 .如申請專利範圍第2 〇項之製造光學膜之方法，其 中該以原冰片烯爲底質之單體對乙烯單體之重量比例是65 至 83 : 1 7至 35 ° 2 2.如申請專利範圍第19項之製造光學膜之方法’其 中該環烯烴共聚物包含式1所示之重複單元： <式1 >

   23 .如申請專利範圍第1 8項之製造光學膜之方法，其 另外包含：預先加熱該未經拉伸之環烯烴共聚物膜’拉伸 該預先加熱之膜且熱處理該經拉伸之膜。 24.如申請專利範圍第23項之製造光學膜之方法’其 中該預先加熱是在是在Tg-30t：至Tg之溫度範圍內進行1 至10分鐘，其中該Tg是該未經拉伸之環烯烴共聚物膜之 玻璃轉換溫度。 2 5 .如申請專利範圍第2 3項之製造光學膜之方法’其 中在Tg-20〇C至Tg + 20°C之溫度範圍內、拉伸比例爲1,1至 3及拉伸速度爲1〇至500%/分鐘之條件下進行拉伸’其中該 Tg是未經拉伸之膜的玻璃轉換溫度。 2 6 .如申請專利範圍第2 3項之製造光學膜之方法，其 中該熱處理是在Tg-50°C至Tg-20°C之溫度範圍內進行’ -25- 200832003 其中該Tg是未經拉伸之膜的玻璃轉換溫度。 2 7 .如申請專利範圍第1 8項之製造光學膜之方法，其 中該膜之經拉伸部分之寬度對長度之比例被控制成少於3 〇 2 8 .如申請專利範圍第2 7項之製造光學膜之方法，其 中該膜之經拉伸部分之寬度對長度之比例被控制成至少 〇 . 5但少於3。 2 9.如申請專利範圍第18項之製造光學膜之方法，其 中該光學膜在波長550奈米下具有100至150奈米之平面內 阻滯及〇至-3 0奈米之厚度阻滯。 3 0 .如申請專利範圍第1 8項之製造光學膜之方法’其 中該平面內阻滯變化不大於3 0奈米且厚度阻滯變化不大於 10奈米。 3 1.如申請專利範圍第18項之製造光學膜之方法’其 中該光學膜用以補償平面內切換（IP S)液晶顯示器之阻滯 -26- 200832003 明 說 單 無簡 :號 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 無 代 定一二 ^ (( 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：無