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TW200813163A - Optical recording medium and its manufacturing method - Google Patents

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TW200813163A
TW200813163A TW096103061A TW96103061A TW200813163A TW 200813163 A TW200813163 A TW 200813163A TW 096103061 A TW096103061 A TW 096103061A TW 96103061 A TW96103061 A TW 96103061A TW 200813163 A TW200813163 A TW 200813163A
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TW
Taiwan
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formula
layer
represented
recording medium
organic
Prior art date
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TW096103061A
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English (en)
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TWI417345B (zh
Inventor
Yutaka Wada
Masatsugu Suwabe
Toru Yano
Koichi Shigeno
Original Assignee
Sony Corp
Adeka Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp, Adeka Corp filed Critical Sony Corp
Publication of TW200813163A publication Critical patent/TW200813163A/zh
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Description

200813163 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 一種使用有機色 本發明係關於一種光記錄媒體，尤其是 素作為記錄層之光記錄媒體及其製造方法 【先前技;術】 將有機色素材料用於記錄層中之光記錄媒體（以下記作 有機色素型光記錄媒體），係於塑料等透明基板上，設置 以有機色素作為主成分之記錄層，
U j、巧，於圯錄層之表面，以集
束之雷射光進行掃描，僅於所日自I π π狀射之表面局部形成訊坑， 藉此高密度地記錄資訊’已實用化有CD-R(追記型CD: Compact Disc，註冊商標）及Dvd r、则+汉（追記型 DVD: Digital Versatile —，註冊商標）等。該等有機色 素型光記錄媒體結構簡易，可廉價製造，故作為資料及圖 像等之備份或音樂用途而為市場廣泛接受。 於日本專利廳所公開之日本專利特開·a··公報 及曰本專利特開20()3·231359號公報中，《出有各種可較 好地應用於DVD-R等中之色素材料。 然而，隨著近年來電腦之快速進步，而期待記錄媒體進 :步大容量化，目此銷售有使dvd，dvd+r中之記錄層 形成為雙層結構之可進行雙層記錄之光記錄媒體。 向有機色素型光記錄媒體中記錄資訊係利用熱致模式。 =記錄層上照射雷射光，經照射之部分之有機色素會吸收 田射光，並因熱而分解。由於有機色素已分解之部分與未 刀解之部分之反射率不@，故而可於記錄層中形成訊坑。 115797.doc 200813163 因此，於有機色素型光記錄媒體中，吸收熱之機制較為重 要。為使記錄層中之有機色素分解而必需之熱量，係由雷 射光置及吸光光譜確定。於有機色素型光記錄媒體中，該 專之平衡將决疋兄錄層之反射率及記錄靈敏度。 於如上所述之記錄層為雙層結構之光記錄媒體中，為透 過第1記錄層而記錄第2記錄層，必須開發出高靈敏度且高 射率之材料’以此將第1記錄層之透過率確保為約 5〇%，並且可利用同一雷射光源而較好地記錄第1記錄 — 層、第2記錄層兩者。 進而’於第1記錄層上，介隔極薄之半透射反射膜而積 層有透光性材料層，即所謂間隔層，且第2記錄層係直接 積層於口亥間隔層上，故而將記錄層製成雙層結構之光記錄 媒體中，麵保存可靠性成為非常大之問題。 、，鑒於以上問題’本發明之目的在於，於將有機色素製成 光A錄層之光記錄媒體中，尤其是於將記錄層製成雙層結 〇 冑之光°己錄媒體中，確保良好之記錄播放特性及記錄資訊 之保存可靠性。 【發明内容】 本如明之第1發明係一種光記錄媒體，該光記錄媒體係 於透光I*生基板上至少形成第i記錄層、半透射性反射層、 透光性材料層、第2記錄層、及反射層而成，且第i及第2 S己錄層係含有有機声去A』、 &素而成者；於第1記錄層中，至少含 有以下述化1所示之通式(式中，IU表示碳數為卜4之烷 基，R2、R3分別表示碳數為卜4之烧基、苯甲基或連結而 115797.doc 200813163 Ο ϋ 形成3〜6員環之基’ Υΐ、Υ2分別獨立地表示有機基，χ表 示C104、BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色素、以及以下 述化2所示之通式（式中，R1、R4表示碳數為丨〜々之烧基， R2、R3分別表示碳數為卜4之烧基1甲基或連結而㈣ 3〜6員環之基’ Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示 Cl〇4、BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色素，或者，於第工 記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式（式中，RWR2 表示碳數為卜4之烧基’ Y1、Y2分別獨立地表示有機基， X表示C1〇4、BF4、PF6、㈣)所表示的有機色音以及以 下述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為卜4之烧 基’ M、R3表示碳數為卜4之烷基、或連結而形成36員 環之基’ Y1、Y2分別獨立地表示有機基，χ表示ci〇4、 BF4、PF6、及SbF6)所表示的有機色素，於第2記錄層中， 至少含有以下述化3所示之通式所表示的有機色素、及以 下述化4所示之通式所表示的有機色素。 [化1]
[化2]
H5797.doc 200813163 [化3]
Ο ο 本發明之第2發明係一種光記錄媒體，其係具有i少一 層以上之含有有機色素之記錄層者，於該記錄層中，至少 έ有以it化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4 所示之通式所表示的有機色素。 本發明之第3發明之光記錄媒體之製造方法係利用所謂 2P(Ph0t0 P〇iymerizati〇n，光聚合）法之光記錄媒體之製造 方法，即，於形成有溝槽之透光性基板上，積層形成至少 第1記錄層、及半透射性反射層，於半透射性反射層上， 沈，光硬化性材料層，且於按塵形成有溝槽圖案之遷模的 狀態下，於光硬化性材料層上照射光，使上述光硬化性材 料層硬化’而形成透光性材料層，自該透光性材料層剝離 麼模後，至少積層形成第2記錄層、及反射層， 出光記錄媒體；並且，於第1記錄層中，使用至少含有以 ίΓΐΙΓΓ之通式所表示的有機色素、及以上述化2所示 =至:有機色素的材料，或者，於第1記錄層 y3有以上述化3所示之通式所表示的有機色 115797.doc 200813163 二及以士述化4所示之通式所表示的有機色素的材料。 於弟2§己錄層中，使用至少含有以上述化3所示之通 式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式 有機色素的材料，藉此製造光記錄媒體。 & 丁， Ο Ο 反發明之光記錄媒體之製造方法係利用所謂 隹豐（1請削Stack)法之％記錄媒體之製造方法， 即’於形成有溝槽之透光性第】基板上，至少積層形成第】 =層、及半透射性反射層，於形成有與第!基板之溝槽 ，、有反極性之溝槽的第2基板上，至少積層形成反射層、 ㈣2讀層，且以夾持透光性材料部之方式，使第1基板 之+透射性反射層與第2基板上之第2記錄層相接合，藉 此製造光記錄媒體；並且，該光記錄媒體之製造方法 弟Η己錄層中，使用至少含有以上述化i所示之通式所表示 的有機色素、及以上述化2所示之通式所表示的有機色素 之材料，或者’於第1記錄層中，使用至少含有以上述化3 所示之通式所表示的有機色素、及上述化4所示之通式所 表示的有機色素之材料’於第2記錄層中，使用至少含有 以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所 示之通式所表示的有機色素之材料，而製造光記錄媒體。 士上所述’於本發明之光記錄媒體及其製造方法中構成 如下’即’於第1記錄層中，含有以上述化i及化2所示之 通式所表示的有機g夸，十土 . ^ 或已素或者，含有以上述化3及化4所示 之通式所表不的有機色素，且於第2記錄層中，含有以上 述化3及化4所示之通式所表示的有機色素。 115797.doc 200813163 藉由幵y成為如此之構成，能夠以良好之記錄播放特性而 對第1 °己錄層進行記錄，並且，亦可對第2記錄層實現良好 之圮錄播放特性，且可確保該等第1及第2記錄層之耐久 ^尤其疋與先前相比，可顯著提昇第2記錄層之耐久 性。 即，於利用2Ρ法及反向堆疊法所製造之記錄層為雙層結 構的光δ己錄媒體中，對於該第i及第2記錄層該兩層記錄 η ο 層可確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠 性0 又’於具有至少一層以上含有有機色素之記錄層的光記 錄媒體中，可藉由於其記錄層中，使用含有以上述化3及 化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而確保良好之 記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。 根據本發明之光記錄媒體及其製造方法，於將有機色素 製成光記錄層之光記錄媒體中，可確保良好之記錄播放特 性及記錄資訊之保存可靠性。 “尤其是’於將記錄層製成雙層結構之光記錄媒體中，可 精由使第2記錄層中包含含有以上述化3及化*所示之通式 所表示的有機色素之材料，而確保第2記錄層中之良好的 記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。 【實施方式】 以下’對實施本發明之最佳形態之例進行說明，但本發 明並不限定於以下之例。
本發明係關於一種具有包含有機舍去+ > Μ P 3铖色素之記錄層的例如碟 11 115797.doc 200813163 片型光冗錄媒體，尤其是提供一種如下所述之光記錄媒 體，即，可應用於記錄層為單層之DVD-R及DVD+R，進 而’於利用後文所述之2P法或反向堆疊法而形成的dvd_r DL及DVD+R DL(記錄層為雙層型結構之追記型dvd，註 冊商標）中可進行高速記錄，且資料之保存可靠性較高。 i先，就於利用2P法而製造之光記錄媒體中應用本發明 的實施形態例進行說明。
於圖1中表示將本發明應用於利用2P法而製造之光記錄 媒體中之一實施形態例的概略剖面結構圖。該例中，於包 含PC(P〇iycarbonate，聚碳酸酯）等之透光性基板丨上，至少 積層含有有機色素之第丨記錄層2、包含銀合金等之半透= 性反射層3、包含UV(紫外線)硬化樹脂等之透光性材料層 4、含有有機色素之第2記錄層6、以及包含銀合金等之反 射層7。於此情形時，於反射層7上設置保護層8。對於如 此之光記錄媒冑’自基板Ηιί照射記錄或播放用之光[，而 進行記錄或播放。 再者，於該光記錄媒體中，所謂透光性材料部4,係以 7需之透過率而使記錄及播放用之波長頻帶的透光之材料 :二例#亦可形成為積層有介電體層及⑽更化樹脂 * w。因此’亦可如下構成，即’使具有所需之波長頻 :之透先性的介電體層，插入半透射性反射層3與透光性 ^4層4之間及/或透光性材料層4與第2記錄層之間。如 ’較介電體層插人㈣層與透光性材料層 %，可抑制透光性㈣層對記錄層所造成之影響，且^ H5797.doc -12· 200813163 昇耐久性。 參照圖2A〜圖2C及圖3及圖3B之製造步驟圖，對該光記 錄媒體之製造方法之一實施形態例進行說明。 如圖2A所示，首先準備透光性第丨基板，該透光性第1基 板具有執距及深度特定之溝槽1(}，且包含pc等。該基板！ 例如藉由射出成型而製造。並且，於其上藉由旋塗法等塗 佈第1記錄層2，進而，藉由濺鍍法而積層半透射反射層
、繼而，如圖2B所示，於該半透射反射層3之上，藉由旋 塗法等塗佈UV硬化樹脂等透光性材料層4。並且，如圖2c 所示，如箭頭a所示，將與形成於基板丨上之溝槽…具有反 極性、即凹凸相反形成之壓模，推壓於基板丨上之透光性 材料層4上。於此狀態下，即於圖3A所示之狀態下，昭射 例如紫外線，使透光性材料層4硬化。如此，於透光^材 料層4、即所謂間隔層i ’形成具有特定執距及深度之溝 〇 其後，剝離壓模5,且如圖3B所示，藉由旋塗法等而塗 =第1記錄層6，進而，藉由濺鍍法而形成反射層7，並 、；丨隔UV硬化樹脂等而於其上接著透光性基板等，形 成保遵層8，而獲得利用2P法製造之光記錄媒體。 ^ 冑由如此之製造方法而製造本發明構成之光記錄 媒體’並㈣對其特性進行研究之結果。 於以下之例中，準備厚度為0.575 mm之包含PC之基板作 -基板1 ’於該基板上使含有後文所述之材料的第1記錄層 115797.doc 200813163 2成膜’並藉由濺鍍法於其上積層包含銀合金之半透射反 射層3。其次，為形成透光性材料層即所謂間隔層，而藉 由旋塗法塗佈50，之UV硬化樹脂’並預先推壓壓模5， 該塵模5形成有與基板i之溝槽1〇具有反純的溝槽且包含 曰本Ze〇n(株）製造之Ze〇n〇r，進行uv照射而使。乂硬化樹 脂硬化，以製成透光性材料層4。其後，剝離該麼模，且 於透光性材料層4上形成第2記錄層用之溝槽扣。進而於此 後藉由旋塗法而使含有後文所述之材料的第2記錄層6成 膜，並藉由濺鍍法於其上積層包含銀之反射膜7。並I , 與通常之單層光記錄媒體同# ’介隔⑽硬化樹脂而接著 厚度為G.6 mm之透明基板，形成保護層8，以製成本發明 構成之光記錄媒體。 又，如® 4之概略剖面結構圖所*，亦製作記錄層為單 層型結構之光記錄媒體，其於基板31上形成有含有有機色 素之d錄層32、反射層33、及保護層34。 上述記錄層為雙層型結構之光記錄媒體中的第1及第2記 錄層2及6、以及單層型結構之光記錄媒體中的記錄層％之 塗佈過程中所使用的塗佈液，係使用將有機色素溶解於作 為塗佈溶劑之四氟丙醇（TFP，tetraflu〇r〇pr〇pan〇i)中而形成 之溶液。作為記錄層材料中所使用之有機色素，分別使用 具有上述化5所示之結構式的色素作為上述化丨所示之通式 中之一例，使用具有上述化6所示之結構式的色素作為上 述化2所示之通式中之一例，使用具有上述化7所示之結構 式的色素作為上述化3所示之通式中之一例，進而，使用 115797.doc • 14- 200813163 具有上述化8所示之結構式的色素作為上述化4所示之通式 中之一例。又，去活劑係使用日本化藥（株）製造2 IRG022(商品名）’酞菁色素係使用於高速記錄用之記 錄膜中廣泛使用的Ciba Specialty Chemicals(株）公司製造 之Ultra Green MX(商品名）作為一例。 [化5]
又，對於各記錄層之光學濃度（〇ptical Density)而言， 115797.doc • 15 - 200813163 於將所吸收之最大波長Xmax下之透過率設為τ時，定義為 OD=-log(T)，且設為〇·5〇。所使用之第}基板31，形成為如 圖5之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，將軌距 Tp设為〇·74 μπι，將溝槽g之槽深度D(L〇)及寬度Wg(L〇)分 別设為160 nm、220 nm。再者，將溝槽之槽寬度Wg(L〇)定 義為側面傾斜之槽部的底邊之寬度。又，於記錄層為雙層 型結構之光記錄媒體中的透光性材料層4上所形成之第2記 錄層6用溝槽4G，形成為圖6之概略剖面結構圖所示之形 狀’作為其一例’將執距Tp設為〇 · 74 um，將溝槽4G之槽 深度D(L1)及寬度Wg(Ll)分別設為160 nm、220 nm。於此 情形時，亦同樣地將溝槽4G之槽寬度Wg(Ll)定義為側面 傾斜之槽部的底邊之寬度。 Ί吕號之記錄播放時，使用有Pulstec工業（株）公司製造之 ODU· 1000(商品名）。該評估機之雷射光之波長為65〇 nm， 聚光透鏡之數值孔徑ΝΑ為0· 6 5，且隨機記錄DVD中所使用 之EFM plus信號，而測定播放信號之抖動值。記錄條件係 使用DVD+R(記錄層單層）、及DVD+R DL(記錄層雙層）之 記錄方式之規格之Pulse Strategy，設為2·4倍速記錄（線 速··記錄層單層8.4 m/s，記錄層雙層9.2 m/s)，及使用 Castle Strategy，設為8倍速（線速：記錄層單層27.9 m/s， 記錄層雙層30.7 m/s)，測定相對於以！倍速（線速：記錄層 單層3.5 m/s，記錄層雙層3.8 m/s)進行播放時之記錄功率 的抖動值。向記錄層雙層型之光記錄媒體之第2記錄層進 行記錄，係於第1記錄層之記錄後進行。 115797.doc 200813163 由於抖動值表示播放時之 不均，故而成為# ^ /、間h在時間軸上之 抖動值I 錄之標記及間隔之精度的指數， =越：，意味著信號品質越高。於下述表1及表2中， 二。、不取佳記錄功率下之2·4倍速及8倍速記錄時之抖動 Ο u 卜二於上述表1中，將上述化1所示之有機色素即該例中 Κ 5所不之有機&素的重量設為W1，將上述化2所示 :有機色素即該例中上述化6所示之有機色素的重量設為 •一，將上述化3所示之有機色素即該例中上述化7所示之 有機色素的重量設為W3,上述化4所示之有機色素即該例 中上述化8所示之有機色素的重量為W4，將上述去活劑之 重量設為W5，將上述酞菁色素之重量設為㈣時，使各記 錄層中之各材料的重量比為下述條件而進行製作。 百先，記錄層為單層型之光記錄媒體中的記錄層，係以 如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化？及化8所 不之有機色素的重量W3、W4之重量比W4/(W3 + W4)，及 去活劑之重量奶之重量比W5/(W3 + W4 + W5)，進而酞菁色 素之重量W6之重量比W6/(W3 + W4 + W5 + W6)。 W4/(W3+W4)=0.6 W5/(W3 + W4 + W5)=0.12 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)=0.〇3 又，製作包含以下2種材料之光記錄媒體，作為記錄層 雙層型光記錄媒體。將該等表示為光記錄媒體（1)及光記錄 媒體（2)。 115797.doc 200813163 於光記錄媒體（1)中，第1記錄層（1)係以如下方式選定下 述各重量比而構成，即，上述化5及化6所示之有機色素的 重量Wl、W2之重量比W2/(W1+W2)，及去活劑之重量W5 的重量比W5/(W3 + W4 + W5)，進而酞菁色素之重量W6的重 t tb W6/(W3 + W4 + W5 + W6) 〇 W2/(W1+W2) = 0.6 W5/(W1+W2 + W5)=0.12 W6/(W1+W2+W5 + W6)=0.03 又，光記錄媒體（2)之第1記錄層（2)係以如下方式選定下 述各重量比而構成，即，上述化7及化8所示之有機色素的 重量W3、W4之重量比W4/(W3+W4)，及去活劑之重量W5 的重量比W5/(W3 + W4 + W5)，進而酞菁色素之重量W6之重 量比 W6/(W3 + W4 + W5+W6) 〇 W4/(W3 + W4)=0.4 W5/(W3 + W4+W5)=0.12 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)=0.03 另一方面，光記錄媒體（1)之第2記錄層（1)係以如下方式 選定下述各重量比而構成，即，上述化5及化6所示之有機 色素之重量Wl、W2的重量比W2/(W1+W2)，以及去活劑 之重量W5的重量比W5/(W3 + W4 + W5)，進而酞菁色素之重 量 W6的重量比 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)。 W2/(W1+W2) = 0.4 W5/(W1+W2 + W5) = 0.12 W6/(W1+W2 + W5 + W6) = 0.03 115797.doc -18- 200813163 進而，光記錄媒體（2)之第2記錄層（2)係以如下方式選定 下述各重量比而構成，即，上述化7及化8所示之有機色素 之重量W3、W4的重量比W4/(W3 + W4)，及去活劑之重量 W5的重量比W5/(W3 + W4 + W5)，進而酞菁色素之重量W6 的重量比 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)。 W4/(W3 + W4) = 0.2 W5/(W3 + W4 + W5) = 0.12 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)=0.03 將以上述材料構成而製作之各光記錄媒體之各記錄層的 抖動值表示於下述表1及表2中。 [表1] [2.4倍速] 單層 第1記錄 第1記錄 第2記錄 第2記錄 層⑴ 層⑺ 層⑴ 層⑺ 抖動[%] 6.1 6.0 6.0 6.0 5.2
[表2] [8倍速] 單層 第1記錄層 (1) 第1記錄層 (2) 第2記錄層 (1) 第2記錄層 (2) 抖動[%] 6.5 6.5 6.4 6.2 5.1 根據DVD+R、及DVD+R DL之規格，最佳記錄功率下之 抖動的上限值為9%，故可知上述所有組合，對應單層、 及雙層追記型DVD媒體而言，自低速記錄至高速記錄均具 有非常良好之抖動特性。 115797.doc -19- 200813163 其··人，將為確認記錄資訊之保存可靠性而進行之加速測 試的結果示於圖7中。測試條件為設溫度為70t，濕度為 85%，對於第1記錄層及第2記錄層中分別製作下述2種混 合膜作為樣品，即，於以上述化5及上述化6所示之結構式 所表Λ、的有機色素中添加有酞菁色素及去活劑之混合膜， 或於以上述化7及上述化8所示之結構式所表示的有機色素 中添加有敗菁色素及去活劑之混合膜，且分別進行财久測 〇 試。其結果’確認包含以上述化5及化6所示之結構式所表 —示的材料之第2記錄層，於第W小時時，抖動超過12%而 劣化，除此以外，至400小時為止均保持良好之抖動。因 此可知，於帛i記錄層+，可使用包含以上述化认上述化 2所不之通式所表示的有機色素之材料，或者可使用包含 以上述化3及上述化4所示之通式所表示的有機色素之材 料，對於第2記錄層而言，可藉由形成包含以上述化3及上 述化4所示之通式所表示的有機色素之記錄層，而獲得記 ◎ 錄資訊之保存可靠性優異之光記錄媒體。 又，製作包含以上述化3及化4所示之通式所表示的有機 ^素之記錄層為單層的光記錄媒體，且進行同樣之耐久測 試，其結果，同樣可獲得400小時以上之耐久性。因此， 記錄層為單層之光記錄媒體，可藉由於記錄層中使用包含 以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而 獲得耐久性優異且記錄播放特性良好之光記錄媒體。 其次，將對記錄層雙層型之光記錄媒體中的第丨及第二記 錄層之各溝槽的槽深度D(L0)、D(L1)進行研究之結果表^ 115797.doc •20- 200813163 於圖8中。使用利用與前文所述之光記錄媒體（1)之 δ己錄 層（1 )、及第2記錄層（1)之組成相同的重量比而形成各“己… 層之光記錄媒體，對溝槽之槽深度D(L0)、d(L 1)八別^ 130 nmSD(LO)、D(L1)$ 190 nm的區域中之2 4位、古 迷§己錄時 的抖動谷值加以測定。其結果，根據圖8可知， 炎弟1記錄
ϋ 層、第2記錄層之130 nm$D‘190 nm之範圍中，抖動值均 足以小於9%。因此，可知信號特性良好之溝槽深度為· 130 nm^D(LO)^ 190 nm 及 130 nm$D(Ll)$ 190 nm。 於此情形時，抖動可達到8%以下。 進而，為將抖動抑制在7%左右，較理想的是 140 nm^D(L0)^180 nm 140 nm$D(Ll)$ 180 nm。 又，亦對溝槽寬度Wg加以研究。使用與前文所述之光 記錄媒體（1)之第1記錄層及第2記錄層相同之組成而形成的 記錄層’將第1及第2記錄層之溝槽的槽深度£)(]1〇)及1：)(]^1) 分別设為D(L0)=160 nm、D(L1)=160 nm，而對各自之溝槽 寬度Wg(LO)、Wg(Ll)進行研究。設記錄條件為2·4倍速記 錄’且將相對於各寬度而將最佳記錄功率下之抖動值纷製 成曲線的結果表示於圖9中。根據該圖9可知，可獲得小於 9%之抖動的溝槽寬度Wg(LO)、Wg(Ll)之條件為 160 nm^ Wg(L0)^300 nm 及 115797.doc 21 200813163 140 nm$Wg(Ll)$ 300 nm。 進而，為使抖動為8%以下，較理想的是 170 nm^ Wg(L0)^290 nm 及 150 nm$Wg(Ll)S290 nm， 為使抖動為7 %以下，較理想的是 180 nm^ Wg(L0)^270 nm 及 170 nm$Wg(Ll)$280 nm。 其次，對第1記錄層、第2記錄層各自之有機色素之調配 比的最佳範圍進行研究。溝槽之槽深度分別如下設定， 即，於第1記錄層中D(L0)=160 nm，於第2記錄層中 D(L1)=160 nm，又，設溝槽之槽寬度於第}記錄層中設為
Wg(L0)=220 nm，於第2記錄層中設為Wg(Ll)=220 mn。首 先’對以上述化1及化2所示之通式所表示之有機色素的重 量W1與W2之調配比、及以上述化3及化4所示之通式所表 示之有機色素的重量W3與W4之調配比進行研究。由於該 等調配比主要依存於記錄靈敏度，故對相對於調配比之 2.4倍速記錄時的記錄靈敏度ρ〇(2·4χ)進行了評估。 將其結果表示於圖1〇中。 記錄靈敏度根據上述化卜化4所示之有機色素的調配比 之變化而變化，但若靈敏度過高，則存在於進行播放時於 播放功率下會引起資料劣化之危險。因此’較理想的是記 錄靈敏度之下限為20 mW以上。又，根據dvd+r dl之規 115797.doc -22- 200813163 範 格°己錄虚敏度之上限為3 ο mW，故記錄靈敏度之較好 圍為 20 mW$P〇(2.4X)$30 mW 〇 根據圖1〇可知，於第i記錄層中滿足該條件之調配比例為 0.5^ W2/(W1+W2)^0.9 及 0.4^W4/(W3 + W4)$0.8。 Ο Ο 又，可知於第2記錄層中滿足該條件之調配比例為 〇·1 S W4,/(W3 + W4)g〇-5 〇 其次’說明對去活劑之重量比加以研究之結果。通常， 菁色素之耐光性較差，但可藉由於記錄層中添加去活巧而 克服此問題。於圖U中表示使用日本化藥（株）製二 mG〇22作為去活劑時m戟前後的抖動變化量。此 時，於第1記錄層中，使用含有以上述化i及化2所示之通 式所表示之有機色素之材料(設各有機色素之重量為们、 W2)’^2記錄層中’使用含有以上述化3及化4所示之通 式所表示的有機色素之材料（設各有機色素之重量為Μ、 W4)，且分別將其組成比設為W2/(W1+W2)=0.6、 W4/(W3+W4)=G.4。耐光性測試係以下述方式進行，I 於ATLAS公司製造之suntest咖+中，自光 ^t,Blue Scale(JIS^^ 級褪色為止。根據圖丨丨可知 ^且照射則後之抖動相斜於丰 活劑之添加量的變化量如下，當添加量為〇〇5以上時，、抖 動減小至2〜3 %左右。因此，， 、 此去活劑之添加量較好的是， 115797.doc -23 . 200813163 第1記錄層、第2記錄層均在下述範圍中選定 0.05 ^W5/(W 1+W2+W5)^0.3 0 0.05$W5/(W3+W4 + W5)$0.30。 再者，由於加入去活劑會使色素材料之重量比相對減 少，故而存在抖動谷值上升，調變度降低之傾向。為將該 影響抑制至更低，較好的是儘量減少去活劑之添加量，故 去活劑之重量比更理想的是
°-〇5 ^ W5/(W1+W2 + W5)^0.20 〇 〇5SW5./(W3+W4+W5)SO 20。 進而，為抑制由光引起之劣化，而嘗試以酞菁色素替換 上述去活劑IRG〇22之一部分，以此改善記錄信號之耐光 性。通常，酿菁色素對於光較穩定，故期待可使資料之記 錄部與未記錄部之分界部對於光穩定化。以下之研究中所 使用之光記錄媒體，作為__例係使用作為適合高速記錄之 CD-R的記錄膜材料而廣泛應用的c Speciahy Chemicals(株）公司製造之Ultra如如似（商品名記錄 膜材料之調配比例為，將第i記錄層設為含有以上述化工及 化2所示之通式所表示的有機色素之材料（設各有機色素之 重量為W1、W2)’將第2記錄層設為含有以上述化3及化4 所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重 量為W3、W4)，且設其組成比分別如下，即，將第】記錄 層设為W2/(W1+W2)=0.6，將第2記錄層設為㈣(❹ W4)=0.4。又，準備如下光記 曰 ^ 右將上述去活劑之 重虿設為W5，則設其重量比 里里比於第1記錄層中為 115797.doc -24- 200813163 W5/(W1+W2 + W5)=0.13，於第 2 記錄層中為 W5/(W3 + W4 + WSpO· 1 3 ’且相對於該等而改變Ultra Green MX(商品名） 之重量比而添加該Ultra Green MX作為酞菁色素。於此情 形時，耐光性測試係以下述方式進行，即，於ATLAS公司 製造之SUNTEST CPS+中，自光記錄媒體之記錄面側照射 氙氣燈，直至相當於Blue Scale(JIS規格）之5級褪色為止。 其結果如圖12所示，可知可藉由添加重量比為〇 · 〇 1以上之 酞菁色素，而將抖動變化抑制為2%以下。因此，酞菁色 素之添加量較理想的是，於第1記錄層、第2記錄層中均於 下述範圍内選定 0.01 ^ W6/(W1+W2 + W5 + W6)^0.10 0.01SW6/(W3+W4 + W5 + W6)$0.10。 於以上之研究例中，使用上述Ultra Green MX(商品名） 作為酞菁色素，但本發明者確認使用對於光較穩定之其他 酞菁亦可獲得相同之效果。 再者，與去活劑同樣，於添加酞菁色素之情形時，色素 材料之重量比亦相對降低，故亦存在抖動谷值上升，而調 變度下降之傾向。為將該影響抑制至更低，較好的亦是儘 量減少S大菁色素之添加量，因此酜菁色素之重量比較理想 的是： 0.01 ^W6/(W1+W2 + W5 + W6)^ 0.07 0.01 ^ W6/(W3 + W4 + W5 + W6)^0.07 〇 其次，對記錄層之膜厚所對應之光學濃度（OD)進行研 究。以下之例中，將第1記錄層設為含有以上述化1及化2 115797.doc -25 - 200813163 所示之通式所表示的有機色素之材料（設各有機色素之重 量為Wl、W2)，將第2記錄層設為含有以上述化3及化4所 示之通式所表示的有機色素之材料（設各有機色素之重量 為W3、W4)，又，分別添加日本化藥（株）製造之 IRG022(設重量為W5)作為去活劑，添加Ciba Specialty Chemicals(株）公司製造之Ultra Green MX(商品名）（設重量 為W6)作為酞菁色素。上述各材料之組成比，於第1記錄層 中分別設為 W2/(Wl+W2)-0.6 W5/(W1+W2+W5)=0.13 W6/(W1+W2+W5 + W6)=0.03 ^ 於第2記錄層中設為 W4/(W3 + W4)=0.4 W5/(W3 + W4 + W5) = 0.13 W6/(W3+W4+W5+W6)=0.03 ° 使第1記錄層、第2記錄層各層之光學濃度OD在0.3至 0.75之範圍内變化，測定2.4倍速記錄時之抖動谷值。其結 果示於圖13。根據圖13可知，將第1記錄層及第2記錄層之 光學濃度OD分別設為OD(LO)、OD(Ll)時，藉由於如下範 圍内進行選定 0.35^OD(L0)^0.70 0.35SOD(Ll)S0.70， 可使抖動特性良好。 再者，為使抖動為8%以下，較理想的是使第1記錄層之 115797.doc -26- 200813163 光學濃度OD(LO)為 〇.4$〇D(LO)$〇.65， 進而’為使抖動為7%以下，更理想的是 0.45^〇D(L0)^0.60 〇.40g〇D(Ll)S〇.65。 〇 Ο 其次，於與上述使光學濃度⑽變化之例同樣對第i及第 2記錄層之組成比進行選定而製作的光記錄媒冑中，將光 學漢度OD(L())、〇D(L1)均設為G5q，敎反射率相對於半 透射反射膜之膜厚變化的變化。於記錄層雙層型之光記錄 媒體中，第1記錄層必須可進行記錄及透過兩者，故形成 為非常薄之膜。因此，成膜時粒徑較大之純Ag膜，無法於 形成間隔層時保護色素膜，&而於本發明中，半透射反射 膜之材料必須使用粒徑較小iAg合金。由於最受半透射反 射膜之膜厚影響的係'反射率，㈣第！記錄層及第2記錄層 各層之反射率相對於膜厚的變化進行評估。並且，將其結 ；Θ 14 了知，由於滿足DVD+R DL規格之反射率為 16%以上，故而較理想的是，半透射反射膜包含^合金， 且其膜厚T為 11 nm^T^16 nm。 如上所述，根據本發明可提供一種實用性光記錄媒體， 其於使用有菁系色素之單層型光記錄媒體、或利用2p法製 仏之雙層記錄型光記錄媒體中，於Dvd規格之1倍速至8倍 速之變化範圍較大的記錄速度下，均可獲得分別充分滿足 追記型單層DVD、追記型雙層dVd規格之信號特性，並 115797.doc -27- 200813163 且，尤其是於第2記錄層中，記錄資訊之保存耐久性不存 在問題。 其次，就於利用反向堆疊法而製造之光記錄媒體中應用 本發明之示例進行說明。 於圖15中，表示於利用反向堆疊法而製造之光記錄媒體 中應用本發明之一實施形態例的概略剖面結構圖。於該例 中，於包含PC(聚碳酸醋）等之透光性第i基板丨丨上，積層 形成有含有有機色素之第1記錄層12、包含銀合金等之半 1 -透射性反射層13、包含uv(紫外線）硬化樹脂等之透光性材 料部25、介電體層24、含有有機色素之第2記錄層23、包 含銀合金等之反射層22、以及第2基板21。對於如此之光 圮錄媒體自基板11側照射記錄或播放用之光L，藉此進行 吕己錄或播放。 再者，於該光記錄媒體中，所謂透光性材料部25，係以 所需之透過率而使記錄及播放用之波長頻帶的透光之材料 即可，例如，亦可形成將介電體層及1;¥硬化樹脂進行積 層之構造。於此情形時，既可使具有所需之透光性的介電 體層插入半透射性反射層3與透光性材料部25之間，或者 亦可如後文所述，並不使介電體層24插入第2記錄層24與 透光性材料部25之間。於使介電體層插入第2記錄層24與 透光性材料部25之間之情形時，與上述利用2p法而製造之 光。己錄媒體同樣，可抑制透光性材料部對記錄層之影響， 提昇耐久性。 苓照圖16A〜圖16C及圖17之製造步驟圖，對該光記錄媒 115797.doc • 28 - 200813163 體之製造方法之一實施形態例進行說明。 i圖1 6A所不，首先，準備透光性第丨基板11，該透光性 第1基板11具有具備特定執距及深度之溝槽nG，且包含 PC寺。該第1基板u係藉由例如射出成型等進行製造。並 且，於其上藉由旋塗法#塗佈第1記錄層12,進而藉由減 鍵法而積層半透射反射層13。 . 並且，如圖16B所示，準備獨立於第1基板11之第2基板 p 21 °於該第2基板21上，預先藉由射出成形等，形成與上 述第1基板11上所形成之溝槽具有反極性之溝槽21Ct。 繼而，於該第2基板21上’藉由濺鍍法而形成反射層22, 且於其上藉由旋塗法等而形成第2記錄層23，進而於其上 形成介電體層24作為保護層。 即，於此情形時，根據圖16B可知，首先利用濺鍍法等 物理成膜法，於溝槽21G上使反射層22成膜，藉此，反射 層22以循著溝槽21(}之凹凸形狀的凹凸形狀而形成。相對 Q 於此，於利用上述2P法之情形時，第2記錄層包含含有有 機色素之液狀材料，藉由塗佈等而形成該第2記錄層，之 後使反射層成膜，藉此，反射層與第2記錄層同樣，以較 溝槽之凹凸形狀平緩之形狀而形成。 並且，如圖16C所示，分別形成有第丨及第2記錄層12及 23之基板11及21，於使半透射反射層13與第2記錄層^上 之介電體層24對向之狀態下，介隔uv硬化樹脂等透光性 材料部25，如箭頭b&c所示而接合各基板，並且藉由例如 紫外線照射而使透光性材料部25硬化，使得第i及第2基板 115797.doc -29- 200813163 11及21牢固接著’藉此’如圖17所示’可製造出利用有反 :堆疊法之記錄層雙層型結構的光記錄媒體。於此情形 時，使記錄或播放用之光Li自第i基板u側入射，以進行 5己錄或播放。又，透光性材料部25成為所謂之間隔層。 再於此情形時’對於介電體層24而言，於使用例如 才ί月曰作為透光性材料部25時，其係為使第2記錄層U與 . 以^樹脂等不混合而設置者，於使用例如片狀UV硬^ }曰等作為透光性材料部25之情形時，由於不存在與第2 °:錄層12相混合之危險，故‘而亦可不％成介電體層。於此 月^夸可於使半透射反射層與第2記錄層23對向之狀 心下，”隔片狀等固體之透光性材料部25而進行接合板， 從而獲得光記錄媒體。 其次，藉由如此之製造方法而製造本發明構成之光記錄 媒體，且說明對其特性進行研究之結果。 、X下之例中，準備厚度為0.5 75 mm之包含pc的基板，作 U ^第1基板11 ’於其上使包含後文所述之材料的第i記錄層 成膜且於其上藉由濺鍍法而積層銀合金之半透射反射 層13 Y其次，於形成有與第1基板11上之溝槽11G具有反極 1*生的第2。己錄層用之溝槽21G的第2基板21上，藉由滅鍵法 、形成匕3 Ag合金之反射層22，其後藉由旋塗法而塗佈形 成匕各ί爰文所述之材料的第2記錄層，進而藉由滅鍍法而 積層厚度例如為i 〇麵之包含ZnS系材料之介電體層，作為 ,、 ' 八後，’丨隔厚度為之透光性材料部、即所 明間隔層’藉由例如旧照射而使該等第1及第2基板11及 115797.doc -30- 200813163 21硬化且加以貼合，從而製作出光記錄媒體。 Ο
上述第1及第2記錄層12及23之塗佈過程中所使用之塗佈 液’係使用將有機色素溶解於作為塗佈溶劑之四氣丙醇 (TFP)中而獲得者。作為記錄層之材料中所使用之有機色 素，分別使用具有上述化5所示之結構式的色素，作為上 述化1所示之通式中的—例，使用具有上述化6所示之結構 式的色素，作為上述化2所示之通式中的一例使用具有 上述化7所示之結構式的色素’作為上述化3所示之通式中 的一例，進而，使用具有上述化8所示之結構式的色去， 作為上述化4所示之通式中的一例。又，去活劑之一例係 使用日本化藥（株）製造之IRG〇22(商品名），酞菁色素之一 例係使用廣泛應用於高速記錄用CD_R之記錄膜中的
Specialty Chemicals(株）公司製造之⑴加Green Mx(商品 名）0 關於弟1及第2記錄層之光學濃度qd(l〇)、〇D(L1)，當 將吸收之最大波長Xmax之透過率設為τ時，定義為〇D=： -l〇g(T) ’且均設為〇·50。所使用之第丨基板丨j，製成圖18 之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，軌距Tp設為 0.74 um，溝槽11G之槽深度D(L0)及寬度Wg(LO)分別設為 160 nm、220 nm。將溝槽之槽寬度Wg(L0)定義為側面傾斜 之槽部之底邊的寬度。又，形成於第2基板21上之第2記錄 層23用之溝槽21G，製成圖19之概略剖面結構圖所示之形 狀，作為其一例，設軌距Tp設為〇·74 μιη，溝槽21G之槽深 度D(L1)及寬度Wg(Ll)分別設為25 nm、3 70 nm。於此情形 115797.doc -31 - 200813163 時，由於基板21側上下顛倒而積層於基板11上，故成為凹
凸顛倒之圖案的反極性，因此將作為記錄執道之溝槽2 1 G 的寬度Wg(Ll)定義為凸部之上邊的寬度。 再者，根據圖18及圖19可知，將設置於第2基板21上之 溝槽2 1 G的深度，選定為淺於設置於第1基板11上的溝槽 11G。
Ο 其理由如下。由於第2基板21係如上所述上下顛倒而接 合於弟1基板上，故而記錄執道變成溝槽21Q之凸部。因 此’當糟由塗伟等而使液狀有機色素材料形成於溝槽2 i G 上時’若该溝槽深度不相對較淺，則無法確保凸部之有機 色素材料的厚度，而無法獲得良好之記錄播放特性。 此處’選定溝槽21G之溝槽深度為2511111左右作為一例。 對上述構成之光記錄媒體之信號的記錄播放，係使用 PulStec工業（株）製造之〇Ε>υ·1〇〇〇。該評估機之雷射光之波 長為650 nm，NA為0·65，隨機記錄1^]〇中所使用之 咖信號’而敎播放信狀抖動值。記錄條件為，使用 DVD+R DL之pulse ―吻，且設為^倍速記錄（線速 為9.2 m/S)，並對相對於以丨倍速進行播放時之記錄功率的 抖動值加以測^ °第2記錄層’係於對第1記錄層進行記錄 後加以δ己錄。抖動值’由於其表示播放時之記 轴上之不均…成為表示所記錄之標記及間: 度的指標，抖動值越小，意味著㈣品質越高。於下 \表3中，表示最佳記錄功率下 、 彳°迷δ己錄時之抖動 H5797.doc -32· 200813163 [表3] 第1記錄層 第2記錄層 抖動『％1 6.2 5.6 上述表3中，將上述化1所示之有機色素即該例中上述化 5所示之有機色素的重量設為W1，將上述化2所示之有機 色素即該例中上述化6所示之有機色素的重量設為W2，將 上述化3所示之有機色素即該例中上述化7所示之有機色素 的重量設為W3，將上述化4所示之有機色素即該例上述化 8所示之有機色素的重量設為W4，將上述去活劑之重量設 為W5，將上述酞菁色素之重量設為W6時，使各記錄層中 之各材料的重量比為下述條件而進行製作。 即，於此情形時，對於第1記錄層12而言，將上述材料 之重量比設為 W2/(W1+W2) = 0.6 W5/(W1+W2 + W5)=0.12 W6/(W1+W2 + W5 + W6)=0.03， 對於第2記錄層而言，將上述材料之重量比設為 W4/(W3 + W4) = 0.4 W5/(W3 + W4 + W5) = 0.12 W6/(W3 + W4 + W5 + W6)=0.03 〇 根據DVD+R DL·之規格，最佳記錄功率下之抖動之上限 值為9%，據此可知本實施形態例之光記錄媒體之第1及第 2記錄層，作為雙層追記型DVD媒體均具有非常良好之抖 動特性。 115797.doc -33 - 200813163 再者，如上所述，於利用反向堆疊法之情形時，必須使 第2基板之溝槽深度相對較淺，於上述之例中可知，於使 第2基板之溝槽深度與第丨基板同為16〇 ，以此構成光記 錄媒體之情形時，抖動達到鳩，且無法確保作為記錄執 道之第2基板上之凸部的記錄層膜厚，故無法獲得實用之 記錄播放特性。 其次，就第2記錄層之溝槽寬度Wg(L1)進行研究。使用 與前文所述之第1及第2記錄層相同之組成的記錄層，將第 2記錄層之溝槽之溝槽深度設為〇(1^1)==25 ，對第2記錄 層之溝槽寬度Wg(Ll)進行研究。記錄條件設為2·4倍速記 錄，且相對於各寬度將最佳記錄功率下之抖動值繪製成曲 線。其結果示於圖20。根據圖20可知，藉由於如下範圍内 選定可獲得小於9 %之抖動的溝槽寬度w g (L〗）之條件 190 nmSWg(Ll)$ 550 nm， 可獲得良好之抖動特性。 又，可以認為，為進一步將抖動抑制在8%以内，較理 想的是 200 nm$Wg(Ll)^ 550 nm， 為使抖動為7 %以内，更理想的是 250 nm$Wg(Ll)^ 500 nm 〇 其次，對記錄膜之膜厚所對應之光學濃度（〇D)進行研 究。以下之例中，對於第1記錄層、第2記錄層之色素的調 配比而言，設為與上述表3中所說明之例相同的組成比， 使第2記錄層之光學濃度〇D(Ll)於〇·62至〇·95之範圍内變 115797.doc -34- 200813163 化’且將2.4倍速記錄時之抖動值繪製成曲線。其結果示 方；圖21。根據圖21可知，當將可獲得小於9%之抖動的光 學濃度OD(Ll)之範圍選定如下時 〇.7^〇D(L1)<1.〇 , 可獲得良好之抖動特性。 又’為使抖動為8%以内，較理想的是 〇.75^0D(L1)<1.〇 , 進而，為使抖動為7%以内，更理想的是 〇.8SOD(Ll)<h〇。 如上所述，根據本發明可知，於使用菁系色素且藉由反 向堆豐法而製造之雙層記錄型之光記錄媒體中，於Dvd規 格之1倍速至8倍速之範圍較大的記錄速度下，均可獲得分 別充分滿足追記型單層DVD、追記型雙層DVD規格的信號 特性。又確認，於此情形時，與藉由2p法而製造之光記錄 媒體同樣，亦可於第2記錄層中確保記錄資訊之保存耐久性。 Q 再者，本發明之光記錄媒體並不限定於上述各例，將記 錄層為單層之本發明構成之光記錄媒體應用於依照dvd+r 型之規格或大致依照dvd+r型之規格的光記錄媒體中、或 者依照DVD-R型之規袼或大致依照DVD_Rs之規格的光記 錄媒體中之情形時，亦可獲得相同之效果。 又，將g己錄層為雙層之本發明構成的光記錄媒體應用於 依照DVD+R DL型之規格或大致依照DVD+R DI^之規格 的光記錄媒體中 '或者依照DVD_r DL型之規袼或大致依 妝DVD-R DL型之規袼的光記錄媒體中之情形時，亦可獲 115797.doc -35 - 200813163 得相同之效果。 於下述表4及表5中，表示DVD+R型及DVD+R DL型光記 錄媒體、與DVD-R型及DVD-R DL型光記錄媒體的各規格 之包括記錄播放用波長、聚光透鏡之數值孔徑、1倍速線 速、最短標記長、執距之公差的數值，進而，表示包括折 射率為1.58時的基板或第1基板之厚度、保護層或第2基板 之厚度、間隔層（透光性材料層或透光性材料部）之厚度的 公差之數值。 DVD+R DVD+RDL 波長[nm] 655+10/-5 655+10A5 數值孔徑 0.65 士 0.01 0.65 士 0.01 1倍速線速[m/s] 3·49 士 0.03 3.83 士 0.03 最短標記長[μιη] 0.40 士 0.003 0.44 士 0.003 執距[μηι] 0.74 士 0.03 0.74 士 0·03 基板或第1基板之厚度[μιη] 600土20 -562 保護層或第2基板之厚度[μιη] - €632 間隔層μηι] - 55+15/-10 U [表5] DVD-R DVD-RDL 播放波長[nm] 650士 5 650士 5 記錄波長[nm] 650+10/-5 650+10/-5 數值孔徑 0.80 士 0.01 0.60 士 0.01 1倍速線速[m/s] 3.49 土 0.03 3.83 士 0.03 最短標記長[μηι] 〇_40 士 0.003 0.44 士 0.003 軌距[μηι] 〇·74 士 0.03 0.74 士 0·03 i板或第1基板之厚度[μηι] 600士30 ^562 保護層或第2基板之厚度[μηι] - $632 間隔層μιη] - 55+15/-10 再者，於上述表4及表5中，所謂DVD+R及DVD+R DL之 115797.doc -36- 200813163 記錄及播放用光波長655 nm+l〇 nm/_5 nm，係表示公差 為+10 nm及-5 nm，同樣地，所謂DVD-R及DVD-R DL之記錄 用光波長650 nm+10 nm/-5 nm，係表示公差為+10 nm及_5 nm。 又’本發明之光記錄媒體及其製造方法，並不限定於上 述各實施形態例中所說明之光記錄媒體，勿庸置疑，例如 記錄層以外之基板、保護層及介電體層之材料構成等，亦 可於不脫離本發明構成之範圍内，進行各種變形及變更。 根據本發明之光記錄媒體及其製造方法，於以有機色素 製成s己錄層之光s己錄媒體中，可確保良好之記錄播放特料 及記錄資訊之保存可靠性。 尤其疋’於§己錄層為雙層結構之光記錄媒體中，利用含 有上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料而構 成苐2 g己錄層’可確保第2記錄層中之良好的記錄播放特性 及記錄資訊之保存可靠性。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的概略剖面 結構圖。 圖2A〜圖2C係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的势 造方法之概略製造步驟圖。 圖3A、圖3B係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的 製造方法之一製造步驟圖。 、 圖4係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分 之概略剖面結構圖。 〇刀 °係本务明之一實施形態例之光s己錄媒體的主要部八 115797.doc -37- 200813163 之概略剖面結構圖。 圖6係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分 之概略剖面結構圖。 圖7係表示對本發明之實施形態例及比較例之光記錄媒 體的耐久性加以研究而獲得之結果之圖。 圖8係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體之溝槽深 度與抖動的關係之圖。 q 圖9係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體之溝槽寬 — 度與抖動的關係之圖。 圖10係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層 材料之重量比與記錄靈敏度之關係之圖。 圖11係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層 中之去活劑之重量比與抖動變化的關係之圖。 圖12係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層 中之去活劑之重量比與抖動變化的關係之圖。 圖13係表不本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層 之光學濃度與抖動的關係之圖。 圖14係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的半透射 反射層之膜厚與反射率的關係之圖。 圖15係本發明之—實施形態例之光記錄媒體的概略剖面 結構圖。 〜圖16C係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的 I k方法之概略製造步驟圖。 圖Η係本發明之—實施形態例之光記錄媒體的製造方法 H5797.doc •38- 200813163 之一製造步驟圖。 圖18係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部八 的概略剖面結構圖。 圖19係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分 的概略剖面結構圖。 刀 圖20係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的溝槽寬 度與抖動之關係之圖。 圖21係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層 -之光學濃度與抖動的關係之圖。 【主要元件符號說明】
U 1、 11 弟1基板 1G 、4G、11G、21G 溝槽 2、 12 第1記錄層 3、 13 半透射性反射層 4 透光性材料層 5 壓模 6、 23 第2記錄層 7、 22、33 反射層 8、 34 保護層 21 第2基板 24 介電體層 25 透光性材料部 31 基板 32 記錄層 115797.doc -39-

Claims (1)

  1. 200813163 十、申請專利範圍： L 一種光記錄媒體，其係於透光性基板上，至少形成第工 °己錄層、半透射性反射層、透光性材料層、第2記錄 層以及反射層而成者，且上述第1及第2記錄層含有有 機色素，其特徵在於： 於上述第1記錄層中，至少含有以下述化丨所示之通式 (式中，R1表示碳數為丨〜4之烷基，R2、R3分別表示碳數 為1〜4之烷基、苯甲基或連結而形成3〜6員環之基，Yl、 Y2分別獨立地表示有機基，X表示CIO4、BF4、PF6及 SbFO所表不的有機色素、以及以下述化2所示之通式（式 中’ Rl、R4表示碳數為卜4之烷基，R2、R3分別表示碳 數為1〜4之烷基、苯甲基或連結而形成3〜6員環之基， Yl、Y2分別獨立地表示有機基，χ表示cl〇4、、 PF6、SbF6)所表示的有機色素，或者，於第i記錄層中， 至少含有以下述化3所示之通式（式中，旧及以表示碳數 為1〜4之烷基，Yi、Υ2分別獨立地表示有機基，χ表示 CK)4 BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色素、以及以下述 化4所示之通式（式中，R1、R4表示碳數為卜4之烷基， R2、R3表示碳數為！〜4之烷基、或連結而形成3〜6員環之 基，Yl、Y2分別獨立地表示有機基，χ表示do*、 ' PF6、SbF6)所表示的有機色素， 於上述第2記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式 所表示的有機色素、及以下述化4所示之通式所表示的 有機色素： 115797.doc 200813163 [化1]
    [化2]
    2·如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述基板上之上 述第1記錄層的溝槽之槽深度;D(L0)為 13〇 nm$D(L0)S 190 nm。 3·如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述基板上之上 述第1記錄層的溝槽之槽寬度Wg(LO)為 160 nm^Wg(L0)$300 nm ° 4·如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述透光性材料 115797.doc 200813163 Ο 層上之上述第2記錄層的溝槽之槽深度D(L 1)為 130 nmSD(Ll)$l90 nm 〇 5·如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述透光性材料 層上之上述第2記錄層的溝槽之槽寬度Wg(Ll)為 140 nmgWg(Ll)S300 nm。 6.如請求項丨之光記錄媒體，其甲上述化〖所示之有機色素 為具有下述化5所示之結構式的材料：[化5]
    如請求項1之光記錄媒體，其中上述化2所示之有 為具有下述化6所示之結構式的材料：[化6] 機色素 u
    8·如請求項丨之光記錄媒體，其中上述化3所示 為具有下述化7所示之結構式的材料： <有機色素 [化7] 115797.doc 200813163
    9. 之有機色素 如請求項i之光記錄媒體，其中上述化4所厂、 為具有下述化8所示之結構式的材料·· [化8]
    〇 10.如請求们之光記錄媒體’其中於上述第"己錄層中，上 述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之有 機色素之重量設為W2時，其重量比為 0.5^ W2/(W1+W2)^0.9 ^ 或者，上述化3所示之有機色素的重量設為W3，上述 化4所示之有機色素的重量設為W4時，其重量比為 ϋ 〇.4^W4/(W3 + W4)S0.8。 U.如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第丨記錄層中添加 有去活劑。 12·如明求項11之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中， 上述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之 有機色素之重量設為W2，上述去活劑之重量設為為W5 時，其重量比為 °-°5 ^ W5/(W1+W2 + W5)^0.30 ^ 或者’上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述 115797.doc 200813163 化4所示之有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量 設為W5時，其重量比為 0.05$W5/(W3+W4 + W5)$0.30。 13·如印求項1之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中添加 有酞菁色素。 14·如請求項13之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中， 上述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之 有機色素之重量設為W2，上述去活劑之重量設為， 上述醜菁色素之重量設為W6時，其重量比為 °-01 ^ W6/(W1+W2+W5+W6)^0.10 , 或者，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述 化4所示之有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量 设為W5，上述酞菁色素之重量設為W6時，其重量比為 0-〇l$W6/(W3+W4 + W5+W6)$〇.l〇。 15·如請求項丨之光記錄媒體，其中上述第丨記錄層所吸收之 最大波長下之光學濃度設為〇D(L0)時，〇d(l〇)為 0.35$〇d(L0)$0.70。 16.如請求項丨之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中，上 述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有 機色素之重量設為W4時，其重量比為 0·1 $W4/(W3+W4)$0.5。 1 7.如請求項i之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加 有去活齊ij。 1 8·如請求項i 7之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中， 115797.doc 200813163 上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之 有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量設為w5 時’其重量比為 0.05gW5/(W3 + W4 + W5)S0.30。 I9·如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加 有酞菁色素。 20. 〇 如請求項19之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中， 上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化#所示之 有機色素之重量設為W4,上述去活劑之重量設為w5, 上述酞菁色素之重量設為W6時，其重量比為 〇.01$W6/(W3+W4 + W5+W6)$〇.l〇。 21. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述第2記錄層所吸收之 最大波長下之光學濃度設為OD(Ll)時，〇D(Ll)為 〇.35$〇D(L1)S〇.7〇 〇 22.如請求項！之光記錄媒體，其中上述光記錄媒體之半透 〇 射反射層之材料為Ag合金，將其膜厚設為τ時，丁為 11 nm $ T S 16 nm 〇 23· —種光記錄媒體，其具有至少一層以上之含有有機色素 之兄錄層，其特徵在於： ' 於上述記錄層中，至少含有以上述化3所示之通式（式 中，R1、R2表示碳數為卜4之烧基，γι、γ2分別獨立地 表示有機基’X表示〇〇4,4、打6、歸6)所表示的有 機色素、以及以上述化4所示之通式（式中，ri、r4表示 碳數為卜4之烷基，R2、R3表示碳數為卜4之烷基、或連 115797.doc 200813163 結而形成3〜6員環之基’ Y1、γ2分別獨立地表示有機 基’ X表示ci〇4、BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色素。 24·—種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於： 於形成有溝槽之透光性基板上，至少積層形成第“己 錄層、及半透射性反射層， 於上述半透射性反射層上沈積光硬化性材料層， 於將形成有溝槽圖案之麼模按麼於上述光硬化性材料 Ο
    層上之狀態下，照射光而使上述光硬化性材料層硬化， 形成透光性材料層， —自上述透光性材料層剝離上述壓模後，至少積層形成 第2記錄層、及反射層，藉此製造光記錄媒體； 並且，於上述第以錄層中，使用至少含有下述有機 色素之材料：以上述化丨所示之通式（式中，旧表示碳數 為1〜4之烧基，R2、R3分別表示碳數為卜4之烧基、苯甲 基或連結而形成3〜6員環之基，γι、⑽別獨立地表示 有機基’X表示C1〇4、阳、叫、辦6)所表示的有機色 素、以及以下述化2所示之通式（式中，Ri、r^示碳數 為1〜4之烧基，R2、们分別表示碳數為卜4之烧基、苯甲 基或連結而形成3〜6員環之基，γι、乃分別獨立地表示 有機基，X表示〇〇4、抑4、抒6、邮6)所表示的有機色 素’或者’於上述第!記錄層中，使用至少含有下述有 機色素之材料：以上述化3所示之通式(式中，ri、r# 示碳數為1〜4之炫基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基： X表示⑽^心辦⑽表示的有機色素、^ 115797.doc 200813163 以上述化4所示之通式（式中，Rl、R4表示碳數為^ 烷基，R2、R3表示碳數為卜4之烷基、或連結 4之 g ju. 44- 7 成4 3 〜6 、衣土，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X 一 Cl〇4、BF4、PF6、sbh)所表示的有機色素； 不 並且於上述第2記錄層中，使用至少含有以 一 匀M上述化3 所不之通式所表示的有機色素、以及以上述化*所示 通式所表示的有機色素之材料。 下之
    25· —種光記錄媒體，其係以下述方式形成者：於形成有 槽之透光性第！基板上；至少積層肜成第i記錄層及半 透射性反射層，且於形成有與上述溝槽具有反極性= 槽的第2基板上，至少積層形成反射層、及第2記錄層： 並以夾持透光性材料部之方式使上述第丨基板上之上述 半透射性反射層側與上述第2基板上之上述第2記錄 接合，其特徵在於： θ 於上述第1記錄層中，至少含有以上述化丨所示之通式 G (式巾’ R1表示碳數為1〜4之烧基，R2、R3分別表示碳數 為1 4之烧基、笨甲基或連結而形成3〜6員環之基，Y1、 Y2分別獨立地表示有機基，X表示cio4、bf4、PF6、 SbF6)所表不的有機色素、以及以下述化2所示之通式（式 中，R1、R4表示碳數為卜4之烷基，R2、们分別表示碳 數為1〜4之烷基、笨甲基或連結而形成3〜6員環之基， 1 Y2刀別獨立地表示有機基，X表示C104、BF4、 6 SbF6)所表不的有機色素，或者，於上述第I記錄層 中至少3有以上述化3所示之通式（式中，R1及R2表示 115797.doc 200813163 :數：了，”，別獨立地表示有機基，又 ::: 、陶所表示的有機色素、… ^述化續示之通峨中，Ri、R4表示碳數為mu 二之2、R3表不碳數為w之貌基、或連結而形成w員 衣土，Y!、Y2分別獨立地表示有機基，χ表示⑽、 BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色素， 且於上述第2記錄層中，至少含有以上述化3所示之通 式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示 的有機色素。 26. 27. 28. 29. 30. 31. 32. 如請求項25之光記錄媒體，其中設置於上述光記錄媒體 之透光!·生材料σρ上的上述第2記錄層《溝槽的槽寬度 Wg(Ll)為 190 nmg Wg(Ll)$ 550 nm。 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化丨所示之有機色 素為具有上述化5所示之結構式的材料。 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化2所示之有機色 素為具有上述化6所示之結構式的材料。 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化3所示之有機色 素為具有上述化7所示之結構式的材料。 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化4所示之有機色 素為具有上述化8所示之結構式的材料。 如w求項25之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添 加有去活劑。 如μ求項25之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添 115797.doc 200813163 加有ί太菁色素。 33. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述第2記錄層所吸收 之最大波長下之光學濃度設&〇D(L1)時，〇d(li)為 〇.7〇$OD(L1)<1.〇。 34. -種光記錄媒體之製造方法’其特徵在於：於形成有溝 槽之透光性第1基板上，至少積層形成第i記錄層、及半 透射性反射層， 〇 Ο 於形成有與上述溝槽具有反極性之溝槽的第2基板 上，至少積層形成反射層 '及第2記錄層； 以夾持透光性材料部之方式，使上述第i基板上之上 述半透射性反射層侧、與上述第2基板上之上述“記錄 層側相接合，藉此製造光記錄媒體； 並且，於上述第1記錄層中，祜田π , Λ 么兰 ^使用至少含有下述有機 色素之材料··以上述化i所示之通式（式中’示碳數 為W之燒基，R2、RW別表示碳數為卜4之烧基、苯甲 2或連結而形成3〜6員環之基，γι、γ〜別獨立地表示 機基，X表不c1〇4、BF4、PF6、SbF6)所表示的有機色 2、以及以下述化2所示之通式（式中，R1、_示碳數 為1〜4之烷基，R2、R3分別表示碳 人要文為1〜4之烧基、苯甲 土或連結而形成3〜6員環之基，Yl ^ ^ Y1、Y2分別獨立地表示 有祛基，X表示 C104、BF4、ρρ6、、 .^ ^ 6 SbF6)所表示的有機色 素，或者，於上述第1記錄層中 嬙& ί 使用至少含有下述有 、色素之材料··以上述化3所示 干石山I & 通式（式中，R1及R2表 ”反數為1〜4之烧基，γ ί、γ2分別 另J獨立地表示有機基， 115797.doc •10- 200813163 X表示C】〇4、^ 4、PF6、SbF6)所表示的有嫌 以上述化4所示之 歲、色素、以及 燒基，R2n山Ut ’R1、R4表示碳數為】〜4之 〇 表Μ數K燒基、4之 員環之基，Yl、Yh\ A連^而形成3〜6 Γ1〇 ^ 2分別獨立地表示有機基， Cl〇4、bf4、pf6、SbF X表示 .α )所表不的有機色素； 並且，於上述第2記錄層巾 ^ - 中使用至少含有以上故 所不之通式所表示的有機色 述化3 ^ ^ 巴言、以及以上述化4所+十
    L式所表示的有機色素之材料。 ’、 U 115797.doc
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