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TW200819796A - Brightness enhancement film having curved prism units and matte - Google Patents

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TW200819796A
TW200819796A TW095138642A TW95138642A TW200819796A TW 200819796 A TW200819796 A TW 200819796A TW 095138642 A TW095138642 A TW 095138642A TW 95138642 A TW95138642 A TW 95138642A TW 200819796 A TW200819796 A TW 200819796A
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prismatic
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Shih-Chieh Tang
Ying-Tsung Lu
Kai-Cheng Chang
Ching-Chin Wu
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Efun Technology Co Ltd
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Description

200819796 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種含墊層之彎曲稜柱聚光片，特別 是關於應用於液晶顯示器〔Liquid Crystal Display〕之聚 光片，其一表面形成數個彎曲稜柱單元，及其另一表面形 成具微凸結構單元之一墊層，以提供散射及聚光等多重效 果之聚光片。 【先前技術】 習用聚光片，請參照第1及2圖所示，其揭示一聚 光片9包含一基材91及數條稜柱單元92，該稜柱單元92 |j平行排列於該基材91之一第一表面上。該稜柱單元92係 由二傾斜面組成，其用以折射光線，以便產生聚光現象。 例如，當一光線93相對該基材91之一第二表面以一較大 之入射角度射入該基材91時(亦即該光線93較不垂直於 該基材91之第二表面），該光線93可順利折射射出該基 材91之第一表面的稜柱單元92。然而，當一光線94相 對該基材91之一第二表面以一較小之入射角度(小於6。至 9°)射入該基材91時(亦即該光線94較垂直於該基材％ 之第二表面），該光線94則無法折射射出該稜柱單元92 ，反而因全反射而再次射出該基材91之第二表面，造成 降低該光線94之一次穿透效率及增加光耗損率。 此外，當組合二聚光片9以構成一雙層聚光片〔未 繪不〕，且在該二聚光片之二接觸表面之間形成_氣隙時 ’即易於在該氣隙中產生潤濕現象或在光線通過時產生牛 C:\Linda\PK Pat\PKI0J35.doc - 5 200819796 頓環。其中S亥氣隙之形成係可能導因於掉落 二取 之間的微小灰塵，造成該二聚光片無法確實密上所 述，當該雙層聚光片存在潤濕現象或產生牛頓環時，即因 此造成不良之輪廓圖案。 另-習用聚光片，請參照美國公告第5，_，462號「 光學薄膜及使用該光學細之液晶顯示裝置〔咖㈣版 and liquid crystal display device using 翻 mm〕」發明專利 ，其中一光學薄膜係包含一基材、—波狀結構及一光學粗 糖結構1基材之-表面具有該波狀結構，該波狀結構規 則的間隔排列數個等邊三角稜柱，該等邊三角棱柱具有平 滑之表面，其用以折射光線。該基材之另一表面具核光 學粗糙結構，以便使光線形成擴散效果。再者，該等邊三 角稜柱係具適當傾角可聚集上述擴散後之光線。 另一習用聚光片，請參照美國公告第5,841，572號「 透鏡陣列板、表面光源及發射型顯示裝置〔Lens an>ay surface light source, and transmission type display devlce〕」發明專利，其中一透鏡陣列板係包含一基材、 透鏡陣列及-群聚，該基材之—表面具有該透鏡陣列， 該透鏡陣列係-維或二維排列有數個透鏡單元，用以折射 光線以便產生聚光現象。該基材之另—表面具有該群聚 Y该群聚係隨機形成群聚單元，鱗料元具有稜鏡 ^狀^群聚單元之長、寬與高係與—錢之波長具相關 性，藉以使光線形成擴散效果。 另一習用聚光片，請參照美國公告第6,280,063號「 C:\Linda\PK PatNPKl0135. doc 200819796 聚光物件〔Brightness Enhancement Article〕」發明專利 ’其揭不-聚iU包含—基材、—線性雜單元層及—光 擴散凸部層〔light瞻_ pn)trusi_〕，_性稜柱單 元層及光擴散凸部層分卿成贿基材之上、τ表面。光 線可由該光擴散凸部相進人該基材，並由該線性棱柱單 兀層射出。該光擴散凸部層具有多數擴散顆粒，可用以造 成光線形成擴散效果；而該線性稜柱單元層顧以折射光 線，以便產生聚光現象。 另一習用聚光片，請參照美國公告第6,322,23ό號「 具減少缺陷表面之光學薄膜及其製造方法〔〇ptical film with defect-reducing surface and method for making same ] 」發明專利，其中-光學薄膜係包含一基材、數個第一潤 濕減少單元(wet_out reducing means)及數個第二潤濕減少 單兀，該基材之一第一表面及一第二表面分別具有該第一 潤濕減少單元及第二潤濕減少單元。該第一潤濕減少單元 用以減少該基材之第一表面與另一光學表面之間的潤濕現 象(wet-out)，且亦可減少牛頓環(Newt〇n，s ring)及莫爾效 應(Moire effect)。 另一習用聚光片，請參照美國公告第6,356,389號厂 次波長光學微結構光視準膜〔Subwavelength optical microstructure light collimating films〕」發明專利，其中 一導光板係包含一基材、一線性稜鏡層及一蛾眼結構層 (moth_eye structures)，該基材具有一第一表面及一第二表 面。該基材之第一表面具有該線性稜鏡層，用以折射光線 C:\Linda\PK Pat\PKI0l35. doc —7 — or./10/19/02 ：2D ™ 200819796 ，以便產生聚光現象。該基材之第二表面具有該蛾眼結構 層，其it由增加光入射量及重新導引光線，以改善光線之 視準能力。 另一習用聚光片，請參照美國公告第6,880,946號「 槽狀光學微結構之光視準膜〔Gr〇〇ved 〇pticd microstructure light collimating films〕」發明專利，其包 含一基材、數個線性光學單元、數個階狀高原及數個基面 ，該基材之一表面具有該線性光學單元，用以折射光線， 以便產生水光現象。该基材之另一表面交錯排列該階狀高 原及基面，以供使光線形成擴散效果。 上述習用聚光片皆於該基材之一表面設置折射圖案 層（例如稜鏡單元等），並於該基材之另一表面設置各種不 同之擴散層，但大多未對折射圖案層進行改良。 ^再者，在申請人先前申請之美國公開第2005/0237641 號/、弓曲牙夂柱單元之聚光片〔Brightness enhancement 1 m havmg curved prism血也〕」發明專利中，其包含一 基材及數辦曲_單元，織狀—絲具有該彎曲棱 柱早凡，該彎曲稜柱單元各具至少-彎曲延伸曲面，豆且 ^表面曲率變化用以折射光線，以便產生二維聚光現象， 八相對上34其他制聚光片具有較佳折射聚光效果。 一 t於此’本發_由申請人先前申請之彎曲稜柱 述其他習用聚光片之缺點，其係在-基材之-:^t個=曲稜柱單元，該彎曲稜柱單減以形成適 田 &面曲率艾化，且該基材之另一表面設有一墊層，該 C:\Linda\PK Pat\PK10l35.doc 200819796 ，層有數個U凸結鮮元。藉此，本發縣可提供二維 Γί，勻擴散、抗潤濕、減少牛頓環、降低莫爾效應、 二缺陷及抗磨損之多纽果，並同時減少小角度之入射 :::皮反王射之機率’進而有效提升一次穿透效率及降低 光耗損率。 【發明内容】 # μ本1/=要目的係提供—種含塾層之f曲稜柱聚 糸土材之—表面形成數個彎曲稜柱單元，及豆 形成Γ凸結構單元之一墊層，以使入射光線傾 7 折射，並使得本發明具有增加抗潤濕性 之功效。 本發明之次要目的係提供—種含塾層之彎曲棱柱聚 先片，其係—基材之_表面形成數個彎曲稜柱單元，及盆 微凸結構單元之一墊層’以使入射光線傾 f生至y二維之折射，並使得本發明具有減少牛頓環之 w本目的係提供—種含墊層之料稜柱聚 一 土材之一表面形成數個彎曲稜柱單元，及1 祕Γ凸結構單元之一墊層，以使入射光線傾 ^力效。厂4之折射，並使得本發明具有降低莫爾效應 另一表面形成具微凸結構單元之一墊層， 本發明之再—目的係提供—種含塾層之f曲稜柱聚 光片，其係一基材之—表面形成數個彎曲稜柱單元，及其 以使入射光線傾 C:\Linda\PK Pat\PKIOI3S. ck>c
〇G^I〇/19/〇2：2〇 PN —9 — 200819796 向產生至少二維之折射，並 度及修飾缺陷之功效。 之件本發明具有提升光源均勻 本發明之又—目 光片，其係一基材之―矣、:、一種含墊層之彎曲稜柱聚 另-表面形成具微凸結構，形成，個彎曲稜柱單元，及其 向產生至少二維之折M早兀之墊層，以使入射光線傾 之功效。 特’域得树料有增加抗磨損性 本發明之又一目@ 光片，且係-侃―種含墊層之彎曲稜柱聚 它/、’、'材表面形成數個彎曲稜柱單元，及盆 另一表面形成具微凸結構單 夂$早兀及，、 而產在H、m“ 塾層，以使入射光線傾 ° 乂一、’、斤射，並使得本發明具有增加一-欠光崎 ,穿透率、避免光線全反射鱗低光耗解之功效。 ，根據本發明之含㈣之彎曲稜絲光4，其包含— 基材、數個彎曲稜柱單元及一塾層。該基材具有一第一表 面及-第二表面。該彎曲稜柱單元排列於該基材之第一^ 面，該墊層排列於該基材之第二表面。該墊層具有數個微 凸結構單元，該微凸結構單元相對該基材之第二表面具有 至少二種之凸出高度變化。該墊層之微凸結構單元用以消 除兩膜片間的潤濕、牛頓環、莫爾效應等光學干涉現象， 並可達到降低聚光片之瑕疵及缺陷，並增加抗磨損之能力 。該彎曲稜柱單元具有至少一彎曲延伸曲面，以形成適當 之表面曲率變化及引導該光線產生至少二維之折射，再射 出該彎曲稜柱單元。 【實施方式】 C:\Linda\PK Pat\PK10l35. doc ΠΠ/Ι〇/Ι9/〇2：2〇 ρ 200819796 了讓本發明之上述及其他目的、特徵、優點能更 /、、懂，下文將特舉本發明較佳實施例 ，並配合所附圖 式’作詳細說明如下。 月芩”、、第3、4及5圖所示，同時參照附照一及二之 =式電子顯微鏡之顯微照相圖所示，本發明較佳實施例 2墊f之彎曲稜柱聚光片1係包含-基材1卜數條彎 —^主單元12及-塾層13(_十該基材n具有一第 :面11a及-第二表自nb，並可供光線穿射經過。該 二11之第一表面lla較佳係做為該基材11之光線射出 貝1 ’而該第二表面llb較佳係做為該基材n之光線入射 二二ΐ之亦可。該f曲稜柱單元12係屬具-曲輪廓之 構單元〔mieiOstr她re〕，該彎曲稜柱單元u平齊 =歹]於該基材11之第一表面lla上，且該彎曲稜柱單元 較佳係位於該基材n之光線射出側，但亦可位於光線 =射側。該彎曲稜柱單元12係由一第一傾斜面i2a及一 弟二傾斜面12b組成’該第-傾斜面12a及第二傾斜面⑽ 之至少-個係選自-彎曲延伸曲面，其可形成規則或不規 則之波浪狀彎曲’以產生表面曲率變化，進而得以在至少 二維之方向上產生光線折射’以便產生良好之聚光現象。 請再參照第3、4及5圖所示，更詳言之，本發明較 ，實施例之各個該彎曲稜柱單元12之第—傾斜面似及 第二傾斜面12b的波峰夾角較佳介於7〇。至16〇。之間，特 別是介於85。至95。之間。各二相鄰之該彎曲稜柱單曰元12 較佳選擇具有實質洲之垂直高度(該垂直高度係指垂直 C:\Linda\PK Pat\PKl〇|35. d( 11 200819796 於該基材li平面之高度），該垂直高度較佳係介於1〇#111( 微米）至100//m之間，特別是介於2〇//m至75#m之間 。再者，各二相鄰之該彎曲稜柱單元12較佳選擇具有水 平寬度(該水平寬度係指平行於該基材n平面之寬度）， 該水平寬度較佳係介於10//m(微米）至25〇//m之間，特 別是介於25/zm至80//m之間。另外，各二相鄰之該彎 曲稜柱單元12較佳選擇沿相同規則之彎曲路徑變化其表 面曲率，例如使該彎曲路徑變化先向右彎曲再向左 彎曲5/zm，但亦可沿不同規則或不規則之彎曲路徑變化 其表面曲率。 此外，請參照第5a圖所示，在本發明另一較佳實施 例^含墊層之彎曲稜柱聚光#丨巾，該f曲齡單元12 之第一傾斜面12a及第二傾斜面12b(亦即至少一彎曲延伸 曲面）係可進一步遥擇相互凸設形成交錯之數個側脊 ，以選擇呈現連續變化、相同表面曲率變化或不同表面曲 率變化。 請再參照第3、4及5圖所示，本發明較佳實施例之 基材11與彎曲稜柱單元12係可由相同之透光材質利用一 體成形方式騎製造；或者，該基材n㈣曲稜柱單元 12亦可由不同之透光材質採貼合、印模、滾壓或模壓或 其他成形方式製造’哺合不同之特性或製造要求，及增 加本發明適用之範圍與生產製造的裕度。例如，該基材^ 可取材自各種可撓性之透明基材，其選自聚乙稀對^二甲 酸酉旨（P〇lyethylene-terephthalate，PET)、聚乙烯㈣聚 C:\Linda\PK Pat\PKI0I35. doc —12 —
〇fi/10/19/02:20 PN 200819796 萘二曱酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯醇(pvA)、 聚氯乙稀(PVC)及其他高分子聚合物之至少一種或其組成 物。該彎曲稜柱單元12較佳可取材自紫外線固化膠(uv 膠)。 / 請再參照第3、4及5圖所示，同時參照附照二之掃 描式電子顯微鏡之顯微照相圖所示，本發明較佳實施例之 墊層13係由透明材質製成，其較佳選自紫外線固化膠(uv 膠），或亦可選自壓克力系透明樹脂〔acrylic resin〕。特 別是，該墊層13之材質硬度較佳相對高於該基材n之材 質硬度，如此該墊層13可用於保護該基材n，以避免該 基材11磨抽。同日守，猎由適當控制該塾層之透光材質 的I料實質相同或近似於材u之透絲f的收縮 _率，如此該墊層13可進一步用以防止該基材u發生翹曲 。再者，該墊層13之厚度較佳維持在5/zm至2〇〇//m之 間’以利於兼具降低成本及控制加工品質。再者，該塾層 13之表面係具有數個微凸結構單元131。該微凸結構單二 131之直獲尺寸較佳維持介於〇2_(微米）至⑽㈣之 門特別疋”於1.0#m(微米）至25#m之間，以利於控 制加工品質。該微凸結構單元131之形狀可選自球弧狀、 類球弧狀、橢圓狀、撖欖狀、綠、十字狀、光栅狀、直 線矛文鏡狀、’考曲稜鏡狀及不規則多面體狀之至少一種或1 混合。特別是，相對該基材u之第二表面仙，該B 結構单元m具有至少二種之凸出高度變化，其係以隨機 不規則之方式散佈在該墊層13的表面。 C:\linda\PK Pat\PKl〇135. doc 13 —
οβ/10/)9/02：2fi PH 200819796 、更砰/之，本發明較佳實施例之墊層13係可選擇利 肖，壓H黏貼、蒸鑛、麟等方式覆蓋在該基材U 第表’且该塾層13較佳係位於該基材11之光 線入射側。本發明在下文列舉數種該墊層I3之製造方法 ，但並不僅限於該些製造方法： (1)第一實施例： 、’ 預備成型滾輪（未繪示）及至少一種砂粒（未 、’、曰不）》亥石_/粒之粒控係介於〇 2^m(微米）至⑽#m之間 ’將該砂粒以噴砂方式喷於該成型滾輪之表面上，並藉由 控制喷砂速度、喷嘴尺寸或其移動速度等，以調節該成型 滾輪上之噴砂疏密度。經過噴砂處理後，該成型滚輪之表 —_面上隨機散佈不規則狀之微凹結構(未繪示）。 "接著’在一基材11之第一表面11a塗佈紫外線固化 • _¥膝），並預先形成該f曲稜柱單元12。隨後，在該 基材11之第二表面llb另塗佈紫外線固化膠，並利用上 祕微凹結構之成·輪滾壓該紫外線固化膠，使得該紫 外線固化膠之表面上隨機散佈不規職之微凸結構單元 ，該微凸結構單元131之形狀互補於該微凹結構，且 可選自球孤狀、類球弧狀、擴圓狀、撖欖狀、印狀及不規 則多面體狀之至少-種或其混合。該第二表面llb之紫外 線固化膠固化後’即形成本發明之墊層13(如附照二所示） Ο (2)第二實施例： 本發明亦可選擇利用上述滾壓方式或其他等效方式 C:\Linda\PK Pat\PKI0I35.doc —14 — 200819796 在^基材11之第二表面lib形成該墊層13，該墊層13 面上同樣隨機散佈不規職之微凸結構單元13卜而 該微凸=構單元131的形狀選自十字狀或光柵狀之至少-種或I、此合，且該微凸結構單元131較佳係為次微米尺寸 ，、呢賴凸結構單元131可為局部大致等高之相似圖案， 可k擇魏數分佈、旋轉或規藝列，其最小高度大於半 個入射光線之波長，但最大高度小於(微米）。再 者口亥U凸結構單元131可包含至少二組不同凸出高度之 ^、、且、—其巾—群組為重複性主微凸結構單元，另-群組則 ^重複14切凸結構單元，該重複性次微凸結構單元之高 又及尺寸明顯小於該重複性主微凸結構單元。 _ (3)第三實施例： 方本發㈣可選擇利用上述滚壓方式或其他等 口口一工、在口亥基材11之第一表面lla預先形成該彎曲稜柱 並接著在该第二表面11b形成該墊層13，該塾 ^匕之表1^上同樣隨機散佈不制狀之微凸結構單元131 鏡=微=構單元131的形狀選自直線稜鏡狀或彎曲稜 至夕種或其混合，且該微凸結構單元131之延伸 質相擇與該f曲棱柱單元12之延伸方向維持為實 吞青答^昭笛 < Tt , “、、“及6圖所示，在本發明較佳實施例之聚 1(亦即由祕當材光ίί初次由該墊層13之表面射人該聚光片 層^^^第二表面llb側入射)時，由於該塾 Λ凸'、、°構早元係不規則狀的散佈於該墊層13 C:\Linde\PK Pat\PKI0i35.doc
QR/10/19/Q2i20 PH ~ 15 — 200819796 的表面，因此各個該微凸結構單元131之表面可提供一光 、、線折，面，使得光線14或15藉此表面形成多樣化之折 , 射及散射，並進入該墊層13内，以相對增加擴散及改變 角度之機率。再著，由於該彎曲稜柱單元U之第一傾斜 ，12a及第二傾斜面12b的形態可選擇相㈣不同，但該 第-傾斜面12a及第二傾斜面12b之至少一個係選自一彎 曲延伸曲面，其可形成規則或不規則之波浪狀彎曲，故得 以產生表面曲率變化，如此有利引導由該基材11之第二 表面lib入射之一光線14或15產生至少二維之折射。 口此如弟6圖所示，不論是該光線14相對該墊層 13及第二表面ilb以一較大之入射角度射入該墊層及 — 基材11(亦即該光線14較不垂直於該微凸結構單元131之 • _表面），或是該光線15相對該墊層13及第二表面iib以 ， 一較小之入射角度(小於6。至9。)射入該墊層13及基材ιι( 亦即該光線15較垂直於該微凸結構單元131之表面），該 光線14及15皆可藉由該墊層13之微凸結構單元131改 變角度造成擴散效果，且該光線14及15亦藉由該墊層13 之微凸結構單元131產生無數擴散分光，以修正射出角度 及集中光線，因此不但能順利折射射出該彎曲稜柱單元12 之第一傾斜面12a及第二傾斜面12b，同時亦可相對提升 光源均勻性。此外，由於該墊層13係直接形成於該基材 11之第二表面11b，故可防止當該聚光片i與另一聚光片 或其他光學膜片（未繪示）互相接觸時所產生之干涉現象， 進而有效增加抗潤濕性並減少牛頓環的產生。 200819796 之機率明之塾層13可有效降低光線全反射 第-傾偏該料稜柱單7^ 12之第—傾斜面仏及 =ll12b亦可提㈣曲延伸曲面，以使入射光線傾 聚光片i声 集中原已擴散開之散射光線，進而增加 又。猎此，本發明確實可大幅提升該光線14及 _之一次穿透效率及降低光耗損率，並獲得極佳之至少 :維聚光效果。相較於第2圖之習用聚光片9,本發明之 聚光片1可提升光源均勻度及修飾光源，增加輝度均勾性 =可藉由較高之霧度，修_聚光片〗之微小結構瑕庇 (列口.斑點spots、刮痕scratches、沾污stains等广以便 $成f良率及降低製造成本。再者，該基材U常因該 —弟一、第二表面lla、llb的形態不同而自發性的產生翹 国曲之傾向。此時，本發明之墊層13可提供較高之硬度， 以相對減少、降低及避免該基材11發生想曲之機率，因 此具有較佳之抗趣曲性。再者，在該聚光片！之堆疊或搬 運期間，本發明之塾層13亦可提供較高之硬度，以保護 該基材11的下表面llb，且該墊層13的表面並非呈尖銳 狀，故亦不致造成刮痕，且另具有較佳之耐磨性。藉此， 本發明將能有利於相對提升產品良率。總言之，本發明不 但可提供一維聚光、均勻擴散、修飾缺陷及抗磨損之效果 ，且更進一步能增加抗潤濕(Anti_Wet_〇m)性、減少牛頓環 (NeWton，s ring)及降低莫爾效應(M〇ire ^保㈨。另一方面 ’請參照第7圖所示’在本發明之一較佳實施例中，該彎 曲稜柱單元12之材質内亦可選擇依一預定比例隨機地混 C:\Linda\PK Pat\PK10135.doc —17——
00./10/19/02:20 PM 200819796 換數個擴散粒子122，該擴散粒子122相對該彎曲稜柱單 兀12之重量比例較佳約介於1%至35%之間，特別是約 介於1%至25%之間。該擴散粒子122較佳係取材自不同 於該彎曲稜柱單元12之材質，例如取材自壓克力（acrylic) 材質及/或玻璃質(glass)材質，該玻璃質材質可進一步選自 二氧化矽（Si02)、三氧化二鋁(A12〇3)、氧化硼(Beg)、氧 化鈣(CaO)、氧化鎂(Mg0)、矽膠(silic〇ne哪叫 、聚酯型
私;1'月曰(polyester resin)及本乙烯型樹脂(styrene之至少 :種或其組成物。因此，在製備時，本發明可採用任一種 習用混摻方式進行混摻，例如可在每1〇〇重量單位之紫外 線固化膠中適當混入！至35重量單位之壓克力材質或玻 璃貝材質’因而製備得顺摻有該擴散粒子122之響曲棱 柱單元12結構。再者，該擴散粒子122之平均粒徑較佳 維持介於0.5,(微米)至3〇//m之間，特別是介於 m(微米)至之間，以利於控制加工品質。該擴散粒 子122之形狀可選自球狀、類球狀、擴圓狀、撤禮狀、印 狀及不規則多面體狀之至少一種或其混合。 請再參照第7圖所示，當光線初次由該墊層13之表 1(亦即由該基材u之第二表 該f層13之微凸結構單元131係不規則狀的 月…塾層13的表面’因此各個該微凸結構單元⑶ =表面可提供-錢折射介面，使得光料此表面 :射(如第6圖所示)’並進入該塾層13内 乂相對增加擴散及改㈣度之機率。再者，在本發明之 C:\Linda\PK Pat\PK10i35.doc
〇Γ»/|〇/|9/〇2：2〇 PM —18 — 200819796 承光片1上，該幫、曲棱柱 二傾斜面12b之至少—始之弟—傾斜面12a及第 表面曲率變化，如此有利料由該 H面以產生 入射之光線(如第6圖所 t表面仙 基於材質不同，本發明之/ 一、，隹之折射。再者， 的混摻於該f曲稜柱』„122不規則狀或規則狀 與彎曲稜柱單元12之交擴散粒子122 一光線折射介面，使得絲（未^)射進—步提供 射及散射後，制” 2 接介㈣成乡樣化之折 交丹射出该彎曲稜柱單元12，
擴散及改變角度之機率。 3 、曰U _ t上所述，相胁第狀 f94之全反射而再次射出該基材91之第二表面Ξ成 ^低該光線94之-:欠效率及增加絲損率等缺點， 弟6圖之本發明藉由在該基材u之第一表面山形成該 f曲稜柱單元12，及在該第二表面爪形成該墊層13， 且該墊層^之微凸結構單元131具有至少二種之凸出高 度變化。藉此’本發明確實可提供二維聚光、㈣擴散、 抗潤濕、減少牛頓環、降低莫爾效應、修飾缺陷及抗磨損 之多重效果’並同時減少小角度之入射光線被反全射之機 率’進而有效提升-次穿透效率及降低光耗損率。 雖然本發明已利用前述較佳實施例詳細揭示，然其 並非用以限定本發明’任何熟習此技藝者，在不脫離本發 明之精神和範圍内，當可作各種之更動與修改，因此本發 明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 ~ 19—— C:\Linda\PK Pat\PKI0I35. ckic
0fi/10/l9/02:20 PM 200819796 【圖式簡單說明】 第1圖：習用聚光片之立體圖。 第2圖：習用聚光片之使用示意圖。 第3圖：本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之上視立體圖。 弟4圖·本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之下視立體圖。 第5圖：本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之局部立體側視圖。 第5a圖：本發明另一較佳實施例之含墊層之彎曲稜 柱聚光片之局部立體侧視圖。 SS! 第6圖：本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之使用示意。 第7圖：本發明再一較佳實施例之含墊層之彎曲稜 柱聚光片之上視立體圖。 一附照一：本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之掃描式電子顯微鏡之正面侧視顯微照相圖。 一附照二：本發明較佳實施例之含墊層之彎曲稜柱聚 光片之掃描式電子顯微鏡之背面側視顯微照相圖。 【主要元件符號說明】 11 基材 lib第二表面 12a第一傾斜面 1 聚光片 11a弟一表面 12彎曲稜柱單元 C:\Linda\PK Pat\PK10135.doc 〇Γ)/1Π/19/〇2；2Π 200819796 12b 第二傾斜面 121侧脊 122 擴散粒子 13 塾層 131 微凸結構單元 14 光線 15 光線 9 聚光片 91 基材 92 稜柱單元 93 光線 94 光線
C:\Linda\PK Pat\PK10135.doc —21 — 06/10/19/02:20

Claims (1)

  1. 200819796 十、申請專利範圍： 、：l、—種含墊層之彎曲稜柱聚光片，其包含： 基^，其具有一第一表面及一第二表面； 數们弓曲稜柱單元，其相互鄰接排列於該基材之第一 表面且㈣曲稜柱單元具有至少一彎曲延伸曲面， 以形成表面曲率變化，並引導該入射之光線產生至少 一維之折射；及 墊層，其排列於該基材之第二表面，該墊層具有數 個微凸結構單元，該微凸結構單元相對該基材之第二 表面具有至少二種之凸出高度變化。 2、 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 gg 片’其中該墊層係取材自紫外線固化膠及壓克力系透 明樹脂之至少一種。 3、 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片’其中該微凸結構單元係隨機不規則狀散佈在該墊 層的表面。 4、 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片，其中該微凸結構單元包含至少二組不同凸出高度 之群組，其中一群組為重複性主微凸結構單元，另一 群組為重複性次微凸結構單元，該重複性次微凸結構 單元之高度及尺寸小於該重複性主微凸結構單元。 5、 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片’其中該微凸結構單元之直徑尺寸介於〇·2微米至 100微米之間。 C:\Linda\PK Pet\PKI0i3S.doc —22 — 200819796 6、 依申請專利額第！韻叙含墊狀f曲棱柱聚光 片，其中該微凸結構單元之形狀選自球弧狀、類球弧 =橢圓狀、橄欖狀1狀、十字狀、光柵狀、直線 棱叙狀、彎曲稜鏡狀及不規則多面體狀之至少一種。 7、 依申請專·㈣6销述之含墊狀彎曲稜柱聚光 二’其中當賴凸結構單元選自直線稜鏡狀及彎曲棱 ^之至少—種時，該微凸結構單元之延伸方向係與 ^崎柱單元之延伸方向轉為實質相同方向。 8、 ，申^利刻第6韻叙含墊紅彎曲稜柱聚光 壯、二中知凸結構單元之形狀選自球弧狀、類球孤 一插^圓狀、撖槐狀、_狀及不規則多面體狀之至少 9、 ^•由二係以經過實砂處理後之成型滾輪滚壓而成。 ' ^二3_第1項所述之含塾層之彎曲稜柱聚光 Ά墊層之材質硬度相對高於該基材之材質硬 項所述之含墊層之彎曲棱柱聚光 質的收縮率實質相同於該基材之 10、依申請專利範圍第t 片，其中該墊層之材 材質的收縮率。 丄丄 U , # 返之含墊層之彎曲稜柱聚光 子，抑1二曲棱+主單元之材質内混摻有數個擴散粒 再射繼生散射， 12、依申請專利範圍第 片，其中該擴散粒含塾層之彎曲棱柱聚光 于相對该彎曲稜柱單元之混摻重量 C:\Linda\PK Pat\PK10l35.doc — 23 — 06/10/19/02:20 ΡΗ 200819796 比例係介於1%至35%之間。 13 .依申請專利範圍第n項 片，並中兮牌與』A 7 墊層之彎曲稜柱聚光 質之二放粒子係取材自塵克力材質及破璃質材 14 依申請專利範圍第13項所述 Η ^ 扎又3墊層之彎曲稜柱聚光 片，中该玻祸貝材質係選自二 、氧化硼、氧_、氧轉、賴，—减一銘 乙婦型樹腊之至少一種。场、聚酉旨型樹脂及苯 15 依=專=圍第η項所述之含塾層料棱柱聚光片 ^中〜擴放粒子之平均粒徑介於〇 5微米至3〇微米 16 依圍第11項所述之含塾層¥曲稜柱聚光片 麵、撖'放::之形狀選自球狀、類球狀、橢圓狀 撖彳見狀、綠及不規财_狀之至少一種。 17、=申1專利範圍第i項所述之含塾層之彎曲棱柱聚光 1裡八中該料稜柱單元之該至少-彎曲延伸曲面係 鱗凸設形成數侧脊，㈣成表面轉變化。 18 =申凊專利範圍第i項所述之含塾層之彎曲棱柱聚光 ’其中該f曲稜柱單元係由—第—傾斜面及一第二 :斜面組成’該第-傾斜面及第二傾斜面之至少一個 係選自該彎曲延伸曲。 19、,申請專利範圍第18項所述之含塾層之彎曲棱柱聚光 二其中該f曲稜柱單元之第_傾斜面及第二傾斜面 糸選擇相互凸設形成交錯之數個側脊，以形成表面曲 C:\Linda\PK Pat\PK10l35.doc 0fi/ID/19/02:20 PM —24 — 200819796 20 21 22 23
    24 25 26 27， 28、 率變化。 依申请專利範圍第18項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片，其中各個該彎曲稜柱單元之第一傾斜面及第二傾 斜面的波峰夾角係介於7〇。至16〇。之間。 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片’其中各二相鄰之該彎曲稜柱單元係沿相同規則之 彎曲路徑變化其表面曲率。 依申明專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片，其中各二相鄰之該彎曲稜柱單元係沿不同規則之 弩曲路徑變化其表面曲率。 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片，其中各二相鄰之該彎曲稜柱單元相對於該基材係 具有實質相同之垂直高度。 、依申請專利範圍第23項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片，其中该彎曲稜柱單元之垂直高度係介於1〇微米至 1〇〇微米之間。 依申明專利範圍第丨項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片’其中該彎曲稜柱單元之水平寬度係介於10微米至 250微米之間。 依申請專利範圍第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片’其中該彎、曲稜柱單元係取材自紫外線固化膠。 依申明專利_第1項所述之含墊層之彎曲稜柱聚光 片其中該基材係取材自可撓性之透明基材。 依申請專補_ 27韻述之含墊層之”稜柱聚光 C；\Unds\n Pat\PK10I35.doc 06/10/19/02:20 PH ~ 25 — 200819796 片，其中該可撓性之透明基材係選自聚乙烯對苯二曱 酸酯、聚乙烯、聚萘二曱酸乙二酯、聚碳酸酯、聚乙 烯醇、聚氣乙烯及高分子聚合物之至少一種。
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