TW200817822A - Light processing structure for a digital light processing projection device - Google Patents

Description

200817822 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ㈣本係關於用於—數位光處理（DLP)投影裝置之光處理 細來說，本發明乃是關於一種用於複數數位微鏡裝置 (D)采構之DLP投影裝置中的光處理結構。 【先前技術】 /第1圖，中華民國第93101928號專利申請案之數位光學處理 投影裝置之示意圖。該案由本案之申請人於2〇〇4年丨月29曰提 出申請。該數位光學處理投影裝置主要係由一合光模組（c〇upUng

Module) 200、一光源 300、一分光模組（Splitting Module) 400、三 數位微鏡裝置500R、500G、500B，以及一投影物鏡（Project Lens) 600所構成。 光源300發出光線W經積分柱（integrati〇n r0(j) 310至分光 模組400。分光模組400係將光線w分為三原色光R、G、β。雙 巧分光鏡402及404將色光R、G與Β分開。各色光R、G、Β係 藉匯聚透鏡（Condenser Lens) 406、408 及 410,反射鏡 412、414、 416、418、420及422入射至合光模組2〇〇。色光B反射至入射面 242a，色光G反射至入射面232a。各色光R、G、B係分別藉由 内部全反射稜鏡（Total Internal Reflection Prism ; TIR Prism) 220a、230a、240a中之空氣間隙反射至數位微鏡裝置5〇〇r、5〇〇G、 500B，再被反射而直接穿透内部全反射稜鏡22〇a、23〇a、2他。 投影物鏡600係配置於合光模組200之後的各色光r、g、B的光 路徑上。後焦（BackFocalLength) 550則為數位光學處理投影裝置 之後焦。 由於光是電磁波的一種，具有光波偏振之性質。就光學之理 5 200817822 論而言，光可分析為二偏振向量。於 射平面之法線構成之平面法線方向為與反 -波長飄移量，且人射域愈A，波長飄)移=λρ偏振先將具有 、習知技術所存在之問題之一即係，前述S、ρ t波^長，移量與S、P偏振光於合光時之波長飄移4，、二二: ^。詳^之。當不同的色絲過分絲組彻時s、p偏振光I 量，與色光通過合光模組2。。時之波長飄移量不一 有光損耗（Llght Loss)之情況發生。光損耗之情形一旦發生 k成投影物鏡成像時之影像光度不足，影響觀賞書面之品質。 習知技術所存在之另一問題係傳統三片DMD式之〇〇> 裝置中’其合光模組乃由交又分色棱鏡（x_Prism)配合三組内$ 王反射稜鏡組合而成，故稜鏡的體積較大，稜鏡的重量較重，因 此4貝格也車父貴。此外，另有習知技術發展出二片式之DLP投影裝 置（未顯示），此系統採用色輪作為三原色中二色的分色系統了 2 — Philip稜鏡加TIR稜鏡的組合總成做為分光和合光系統。此 系統由於使用分光棱鏡同時作為分光及合光之用，故棱鏡的體積 較大、重量亦重，所需要的投影物鏡之後焦亦較長，對鏡頭的設 計困難度加大。 綜上所述，實有必要針對前述DLP投影裝置中分光與合光之 光處理結構重新設計，以符合組裝更容易、體積更小、重/量更輕、 色彩更飽和等需求，以提升產品品質。 $ 【發明内容】 本發明之一目的，係提供一種用於一數位光處理（DLP)投 200817822 影裝置之光處理結構，其中該DLP投影裝置係使用分光鏡和色輪 做為分光系統，再利用由二三角稜鏡所組成之合光稜鏡組作為合 光系統。由於該合光稜鏡組之體積小，其所需要投影物鏡之鏡^ 後焦較短，可以降低鏡頭的設計負擔，重量輕且價格便宜。 本發明之另一目的，係提供一種用於一數位光處理（DLp) 投影裝置之光處理結構，其中合光稜鏡中三角稜鏡之角度設計與 配合之光學鍍膜’可以使分光與合光時S、P偏振光之波長飄移量 趨於一致，因此可以抑制光耗損現象，提升投影影像之品質。 為達上述目的’本發明所揭露之一種用於一數位光處理投影 裝置之光處理結構，其中該DLP投影裝置包含複數數位微鏡裝 置，該光處理結構包含一分光架構、一反射架構以及一合光架構。 其中分光架構包含至少一分光元件，適以將一主入射光分離為複 數次入射光。反射架構包含複數光反射元件，分別接收該複數次 入射光，並將之反射至該複數DMD上。合光架構包含一合光棱鏡 組’具有一二角棱鏡’各該三角棱鏡之其中一斜面係互相鄰接， 接收自該複數DMD上處理後之該複數次入射光，加以耦合並向外 傳送至投影透鏡而成像。 在參閱圖式及隨後描述之實施方式後’該技術領域具有通常 知識者便可暸解本發明之其他目的，以及本發明之技術手段及實 施態樣。 【實施方式】 第2圖顯示本發明用於一數位光處理投影裝置之光處理結構 之一實施例，其中該DLP投影裝置包含一光源10、複數數位微鏡 裝置（圖中所示為二數位微鏡裝置20、21)、一投影物鏡30以及 本發明之光處理結構。該光處理結構包含一分光架構、一反射架 構以及一合光架構。 詳言之，分光架構包含至少一分光元件，適以將光源10所發 200817822 射之主入射光分離為複數次入射光。於具體實施例中，該分光元 件可係為一分光鏡42，依據不同之光源種類以及不同之分光需 求’分光鏡中之分光鍍膜適可將該主入射光分離為複數不同顏色 之次入射光。 其次’分光架構另包含一色輪44，用以配合分光鏡42進行各 色光之分色動作。此外，分光架構可更包含一積分柱46，用以進 行色光均勻化之動作。於本實施例中，色輪44係設於分光鏡42 之前方，而積分柱46則設於分光鏡42及色輪44之間。 本發明如圖所示之實施例中，分光架構中配合分色之色輪 44 ’適可將光源1〇發射之主入射光顏色分為紅色、綠色和藍色三 原色，或是採用紅色、綠色、藍色和藍綠色四色等其他色系組合 皆可。 簡言之，本實施例之入射光線由光源1〇發射進入色輪44分 色後，先經積分柱之均勻化處理，再經過分光鏡42之分色，即會 將主入射光分為例如一紅色之光路，及一綠色和藍色之混合光路 (其中’綠光或藍光係用色輪輪流選出），分別進入反射架構中不 同之反射元件，詳如後述。另一方面，本發明分光鏡之分光頻譜 圖’如第3圖所示’圖中顯示以平板鑛膜而成之分光鏡其s、p偏 振光之波長漂移量介於20奈米至30奈米間。 須說明者，前述實施例中分光架構之顏色配置，主要係考慮 配合該例中之光源10採用高壓水銀燈泡之故，蓋因水銀燈炮所發 射之光譜中，紅光之光量較其他二者為低，因此，為充分利用該 紅光之分量，因此，在設計分光鏡與色輪時，特別設計使紅色與 藍、綠二光分離，以提供足夠量之紅光，俾免各原色光之配比不 平均。 惟熟知此項技藝者可以理解，當DLP投影裝置使用不同種類 之光源時，分光架構所分離之色光亦須隨之調整，以求光源之有 效利用及成像之高品質。當然，色輪44亦非僅設限位於分光鏡42 8 200817822 或積分柱46之前’亦可狀設於分域42後方之 以酉己合分光鏡處理該等:欠人射光其中之—的控制，而於另一未配 置色輪之光路上，保持單一主要色系之輸出。 於本發明之較佳實施例中，光處理結構可另包含 40以及-第二透鏡組5。。其中，第—透鏡組⑽係用以 ^-次入射光’第二透鏡組5〇侧以匯㈣—次人射光 : 弟-透鏡組40係用以匯集紅色次入射光， 以匯集藍找耗奴·。 ^减：ημ·

其次，請續參閱第2 ®，本發明之反射架構包含複數光反射 几件，用时絲自分光_所分離之複數次人射光，並將 反射至複數DMD上。如别述之實施例中，由於本發明dlp投 =裝置中統1G所發射之主人射光經分結構分離為二次要光 路’因此，於本實施例中之反射架構亦配合地利用：DMD2〇、21 及二^目對應之歧射元件，分別位於分絲構後該等次入射光的 光路，上，先由光反射元件接收二光路上之次入射光，對應地反 射至该二DMD 20、21内，再由該二DMD 20、21反射後直接穿 透該二光反射元件，射入合光架構中。於較佳實施例中，該.光反 射元件係一内部全反射棱鏡51、52。 一較佳者，本發明之合光架構係一合光稜鏡組62，其具有二個 :角稜鏡64，其中各該三角稜鏡64之其中一最長斜面係互相鄰 j，以組合成該合光稜鏡組62。此合光稜鏡組62係用以接收自該 f DMD 20、21上處理後之該等次入射光，加以耦合後，並向外 傳送至投影物鏡30。 λ =較佳之實施例中，合光稜鏡組62之各三角稜鏡64均為一 等腰二角稜鏡。更特別地，其各該相對側面之各底角，實質上介 =4&45度間。換言之，若底角為45度時，合光棱鏡組62係由二 等腰直角三角棱鏡所組成；若底角為4〇度時，合光稜鏡組62則 係由二個具4〇度、4〇度、1〇〇度側面641之三角稜鏡所組成。此 200817822 I4包/中至少-缺,等: 間之成何干涉，该缺角面之形狀最佳者為一正三角形。兄 等-欠入射i该等次入射光通過該複合鍍膜層後，該 過it:時，、p偏振光之波長漂移量，二:二ΐί= 総^s、巧振光波長漂移量和分 敘述先前提狀合:，紅^^ 牙透後/、5亥反射之紅色次入射光，進行麵合後，向外傳出。 1具，應用時’該複合膜層係由複數層具高八 ίϊϋ4鑛ii成’其中高折射率⑻之分光_可以利Hi 化鈦（τ1〇2，其折射率約為21)或具等同效 ，歹i^ 率(l)之分光顧可財_如氧 上 =等= 之材料。其中，該複合膜二 層間，較佳者係介於80層至100層間。 ，丨於⑽盾至no 須強調的是，由於稜鏡鑛膜之s、p =二:關:二本.發π 入射光的入射角亦較 鏡組62之 製複合膜層於三“ 低鑛衣合臈層之費用。此外，由於本發明合光稜鏡Lt 200817822 分光气__健齡歧計（Low Pda—)，故合光稜鏡 ，62若改採分光平才反（亦即’平板玻璃上鑛製複合膜層）或其他 等效設計，亦可以達到同樣的功能。 、>另I，，為了整體系統的擺設考慮。本發明光處理架構之 光路不疋疋檢式光路，也可以採用直式設計，以配合不同之DLp 投影裝置之機構配置，僅需在分紐後之二光路上，保持實質上 相同之距離即可，以減少零件干涉之問題，如第6圖所示。、、

么人、Πτ上述’本發明係糊具二個三驗鏡之合紐鏡組62作 ，nr:可以減少投影物鏡之後焦距，使鏡頭的設計較為簡 二，ϋί明之合光稜鏡組62重量較習知技術者為輕，於實際 夺，鏡組62之空収位上亦較不^重力 置誤差，進喊響成像mDLP投 心裝置之使用哥命，可因此延長。 之枯併姓外、，^w〜貝犯俅您，以及闡釋本發明 3術1用來限制本發明之範脅。任何 違背本發明之技術原理及精相情況下，對上述 化’因此本案之權利範圍應以下述中請‘ 【圖式簡單說明】 2I圖係為習知技術中，數位光學處理投影裝置之示意圖； 第2圖係為本發明橫式光處理結構之示意圖； 第3圖係為本發明分光鏡之分光頻譜圖，· 第4圖係為本發明合光稜鏡組之示意圖； 第5圖係為本㈣合光稜鏡之合光_圖；以及 200817822 第6圖係為本發明直式光處理結構之示意圖。

【主要元件符號說明】 10 :光源 30 :投影物鏡 42 :分光鏡 46 :積分柱 51、52 :内部全反射棱鏡 64 :三角稜鏡 200 :合光模組 230a :内部全反射稜鏡 240a :内部全反射棱鏡 310 :積分柱 400 :分光模組 404 :雙向分光鏡 408 ··匯聚透鏡 412 :反射鏡 416 :反射鏡 420 :反射鏡 500R :數位微鏡裝置 500B :數位微鏡裝置 600 :投影物鏡 20、21 :數位微鏡裝置 40 ··第一透鏡組 44 :色輪 50 :第二透鏡組 62 :合光稜鏡組 66 ··缺角面 220a :内部全反射稜鏡 232a :入射面 242a :入射面 300 :光源 402 :雙向分光鏡 406 :匯聚透鏡 410 :匯聚透鏡 414 :反射鏡 418 :反射鏡 422 :反射鏡 500G :數位微鏡裝置 550 :後焦 641 :側面 12

Claims (1)

1. 200817822 十、申請專利範圍： 1· ^種用於一數位光處理投影（DLP)裝置之光處理結構，其中 該DLP投影裝置包含複數數位微鏡裝置（DMDs)，該光處理 結構包含： 一分光架構，包含： 至少一分光元件，適以將一主入射光分離為複數次入 射光； 一反射架構，包含； 複數光反射元件，分別接收該複數次入射光， 反射至該複數DMD上； 一合光架構，包含： 二合光稜鏡組，具有二三角稜鏡，各該三紐鏡之其 之;互相鄰接，用以接收自該複數DMD上處理後 之°亥硬數夂入射光，加以耦合並向外傳送。 2. 項斤述之光處理結構，其中該DLP投影裝置包含- DMD及二相對應之光反射元件。 直匕3— C, 所述之歧理結構，其中各該光反射元件為一全反 4.==似㈣構，射他峨為—等腰直 5·如請求項1所述之光處理結構，苴 角稜鏡，其各底角實質上介於^5度^:兄為—等腰三 6·如請求項1所述之域理結構，其 合鍍臈層，披覆於該三角稜鏡之斜二的；^:二包含一複 7·如請求項1所述之先處理結構，其㈣分光架構·行分光 200817822 時，所量測之一偏振光波長漂移量，與該合光架構於合光時， 所量測之/偏振光波長漂移量，實質上相同。 8. 其中該偏振光波長漂移量實質 9·如請求項1所述之，處理結構，其中該至少一分光元件，包含 一分光鏡，適可將該主入射光分離為複數不同顏色之次入射 光0 10·如請求項9所述之光處理結構，其中該分光架構另包含一色輪。 11·如請求項10所述之光處理結構，其中該色輪設於該分光鏡一 前方。 12·如請求項11所述之光處理結構，另包含一積分柱，設於該分 光鏡及該色輪之間。 13·如請求項12所述之光處理結構，其中該色輪設於該分光鏡一 後方’處理该專次入射光之其中之^一。 14·如請求項2所述之光處理結構，其中該合光稜鏡組另包含一複 合鍍膜層，彼覆於該三角稜鏡之斜面的至少其中之一。 15·如請求項14所述之光處理結構，其中該至少一分光元件，包 含一分光鏡，適可將該主入射光分離為一紅色次入射光、及一 藍綠混合之次入射光。 16·如請求項15所述之光處理結構，其中該紅色次入射光，係透 過该複合链膜層，進行反射；該藍綠混合之次入射光，係透過 5玄複合鍍膜層，進行穿透後，與該反射之紅色次入射光，進行 辆合後，向外傳出。 200817822 如μj1所述之光處理結構，另包含： 二^一透鏡組，匯集該主入射光；及 —第二透鏡組，匯集該等複數入射光之至少其争之一 ，8' 膜。 〜具低折射率(L)之分光鋰 19.=求項！8所述之光處理結構，其中該高折射率⑻之分光鑛 膜係為氧化鈦。 2〇·如請求項18所述之光處理結構，其中該低折射率(L)之分光鍍 膜係為氧化矽。 21·如請求項18所述之光處理結構，其中該該複合膜層的層數係 介於80層至100層間。