TW200815824A - Apparatus for attaching substrates of flat display panel - Google Patents

Description

200815824 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種平面面板顯示器之製造設備，且更特定言 • 之，係關於一種用以固設一種平面面板顯示器基板之裝置，該裝 置係發明用於在一平面面板顯示器之製造製程中使若干基板彼此 固設。 、 【先前技術】 隨著資訊社會之進步，對各種類型顯示器之需求日益增加。 _ 近來，已研發出各種類型之平板顯示器，諸如液晶顯示器 (LCDs)、電漿顯示器面板(PDPs)、有機電致發光顯示器及真空榮 光顯示器(VFDs)，其中一些顯示器已廣泛應用於現實生活。 特別地，由於LCDs不僅比陰極射線管（CRTs)更輕、更薄， 而且具有更佳之圖像品質，因此其被廣泛用作可檇式圖像顯示器 並替代CRTs。 、 口" 一傳統之LCp藉由於一具有若干電極之薄膜晶體管⑺ρτ)基 板與一塗佈有螢光材之濾色(CF)基板之間濺射液晶而形成。每一 φ 該等TFT與CF基板之一外圓周表面上施加一用以防止液晶材料 浪漏之密封層，且在該等TFT與CF基板之間佈置有一用以在兩 者之間保持一預定間隙之墊片。 因此，分別製造一 TFT基板與一 CF基板之後，為製造一 LCD、，該TFT基板與該CF基板之間必須彼此固設，且液晶材料 必須濺射進該等被固設之基板之間的空間内。固設該等基板 程係決定該LCD品質最重要之製程之一。 士通常而言，該基板固設製程中使用固設基板之裝置，其中該 括其間可職—真空狀態之上室與下室，且此技術於韓國 =申請案第ω_·5·_4698號及第1G_2GG5__139中詳細揭 6 200815824 下室=固=3=?二:之用於固設基板之裝置，’ -此，分別固設至該等上;安裝於該下室上方。因 至該下^基nr制’且該等基板之對準藉由移動被固設 室』;室述;構之該等上室與下室之裝置中，該上 而使基板品"上至中剩餘之有可能進人該下室，從 準及ΐί其ft室移動時’該等上、下室之對準、該等基板之對 =ΓΒ,隙將改變’從而改變固設環境。 -板間之 有供一種用以固設平面面板顯示器、之裝置，該裝置且 ===基板彼此固設時使該等基， 之基======= 第一基板;一下室，其佈置二 =固。又-弟—基板；一升降機構，其升降該下室同時押制1上 i構===== 毫’嫩該現料降 【實施方式】 現參照該等關更全面地魏本發明，料 p 200815824 ί某ΐΐ，，本發明之該等树之功能確^ 該等元 ==Λ、,騎由此等術語限定，而射藉由本發明所屬之技術 ，域中之不同術語表示。儘管為便於描述，該等元件藉由該等圖 中之圖式餘符絲示，但其不於料圖巾之說明。 ，外若本發明之改良具體實施例具有類似及一致之功能， 則可認為其制。囉’鮮朗本發明之具體實酬（其部分 更改該等圖帽圖示·之結構），若該等具體實施湖之功能類 似及一致，則視其為等同。

下文將參Α?、該等附圖簡要描述根據本發明之一種用以固設平 面面板顯示器基板之裝置。 參知圖1 ’根據本發明之一種用以固設平面面板顯示器基板之 裝置100包括一框架200、一上室300、一下室4〇〇、一升降機構 600及一位置控制臺500。該框架2〇〇形成該裝置1〇〇之外部，且 使該裝置100之每-元件安裝於其上，稍後將對此予以描述。該 上室300被固定至該框架200之一上部，且一第一基板（一薄膜 曰曰體f(TFT)基板或一濾色（CF)基板）pi被固定至該上室3〇〇。 該下室400可朝該上室300升高，其佈置於該上室3〇〇之下方， 且一第一基板（一 CF基板或一 TFT基板)P2被固設至該下室4〇〇。 該升降機構600女裝於該框架200之下部，用於朝該上室升 高該下室400。該位置控制臺500介於該下室4〇〇與該升降機構 600之間，用於調節該下室400之位置。 更特定§之，該框架200形成該裝置1〇〇之外部，並支撐與 固定該裝置100之每一元件。該框架200包括複數個柱2〇2，自該 下室400向上分離之該上室300固定至該等柱。每一該等柱2〇2 固定至一基座204之一外圓周表面，該基座2〇4形成該框架2〇〇 之下部’且該升降機構600固定至其上。可另外安裝若干標'(未 顯示）與支柱（未顯示）於該等柱202之間，以便加固該等柱202。 8 200815824 外室30〇緊密固設至該下室400,藉此形成一固設空間與一 固設％境。特別地，該上室300包括一上室體31()與一排氣裝置 ‘ 7〇0。該上室體310緊密固定至該下室4〇〇,因此形成該固設空間。 .另外，該排氣裝置700安裝於該上室體31〇之外侧，並藉由使該 固設空間通風而形成該固設環境。 該上室體310之外圓周角處形成複數個突出物311。該等固定 突出物311沿該上室體310之一向外方向突出，且該等柱2〇2分 別穿過並固定至該等固定突出物311。 • 該上室體310之一上表面上形成複數個肋312。該等肋312 防止由於該裝置1〇〇之基板固設製程期間所產生之真空壓力而使 ^ 5亥上至體31〇變形。該等肋312可彼此交叉用以與該上室體31〇 - 之變形方向一致（見圖2)。 用以產生該固設空間之一凹陷部分313形成於該上室體310 之底表面内，且固設該第一基板P1之一上臺316安裝於該凹陷部 分313内。該上臺316包括一用以吸附該第一基板ρι之上吸盤 318。該上吸盤318可為一藉由靜電力固持該第一基板ρι之靜電 吸盤。 ⑩ 一支撐架317自該上臺316之每一外端突出，且向該凹陷部 分313内部延伸。該支撐架317藉由稍後將對其予以描述之該下 至400之一間隙控制器420支撐。該支撐架3Π可為圓柱形。 該凹陷部分313之一内圓周表面界定一插入空間314。該支撐 架317插入該插入空間314内，並在其内移動。該插入空間314 中安裝有一感測該支撐架317移動距離之距離感測器315 (見圖 3)。该距離感測裔315連同稍後作描述之間隙控制器420將因此 限定了該間隙控制器420之操作。 如上所述’禮距離感測器315感測該支撐架317之移動距離。 然而，該距離感測器315同樣可感測該第一基板pi之移動距離， 9 200815824 或固設該第一基板之上臺316 測器315之感測對象。 之移動距離。即，不限制該距離感 -相機單元320與-基板分離裝置33〇安裝於該上室體31〇 頂、面之外圓周上。該相機單元32〇控制該等第一與第二基板 H =之相對位置。該基板分離裝置330吸附該第一基板P1或 向該第-基板Pi施加壓力，以便固定該第—基板ρι至該上臺 316，或自該上臺316分離該第一基板ρι。

特別地，。經由形成於該上室體31〇與該上臺3i6 N之一通孔 322該相機單元32〇觀察該第一基板ρι (其固設至該上臺 之亡及座318)與該第二基板p2 (稍後將對其予以描述）之對準 ^該相機單元320可觀察該等第一與第二基板ρι、p2之重疊對 準軚μ (未示出），或可觀察兩個或更多該等第一與第二基板Μ、 Ρ2彼此成對角之重疊角。 口該基板分離裝置320包括複數個分離銷332與一分離銷控制 器33=，該分離銷332穿過該上室體31〇與該上臺316，該分離銷 ，制為334安裝在該上室體31〇之外側，並用於升起該等分離鎖 332。 該等分離銷332形似具有一通孔之管，且其連接至谢細苗 处之該排氣裝置7GG。如果藉由該排氣裝置在該等分離銷Β2 内形成真空壓力，則該等分離銷332吸住該第一基板ρι。 該排氣裝置700在藉由該上室體31〇之凹陷部分313與稍後 ，描述之該下室400所形成之該固設空間中產生真空壓力。該排 氣裝置7〇0包括-被連接至該固設空間之排氣管7〇2與一真^栗 _(未示出）’該固設空間藉由該上室體31〇與該下室體形成， 該真空泵經由該排氣管702在該固設空間内產生真空壓力。 200815824 由於該排氣管702被連接至用以在該固設空間内產生真空壓 力之該真空泵’因此其用於產生真空壓力。同樣，該排氣管服 -可躲提供該基板隨製程巾所需要之處魏體％，或供給壓 氣體，以便使該固設空間處於大氣壓力狀態。 該下室緊密固設至該上室體31〇，^以形成該固設空間。 該下室400朝該上室300上升時，該下室4〇〇與該上室3〇〇之 準受到控制。該下室400包括該下室體猶與該位置控制臺5〇〇， 該下室體410安裝在該框架2〇〇之下部，該位置控制臺佈置 •於該下室體410之下並藉由稍後將予以描述之該升降機構_支 撐。 〜L下t412安裝於該下室體410之一頂表面上，被插入之該 =-基板m设至該下室體彻。該下臺412包括一用以固持該 =基=\之下吸盤414。該下吸盤414可為一藉由靜電力固持 以弟了基板P2之靜電吸盤。一密封構件416安裝於該下臺化之 -外圓周表面上。該密封構件416與該上室體之底表面接觸。

該間隙控制！ 420安裝於該下室體41〇之一外圓周表面上。 該間隙控制器420穿過該上室體，以支撐 該支撐架317。 現^圖3至圖6描述該間隙控制器。該間隙控制器· =上ϋ之母—支撐架317之—位_應。該間隙控制器420 ^422、、一支撐态424、一編碼器426及一控制器428。 态22上下滑動，以上下移動該支撐架317。該支撐器424 317，且藉由該致動器422移動。該編碼器铘感測 2 4T7 運轉置。藉由比較該編碼器426所感測之該致動 二加 置與由該上室體31G之距離感測器315感測之該支 木之移動量’該控制器似控制該致動器422之移動量。 200815824 ” j於藉由上述相機單元320提供之聚焦資訊以及藉由該編碼 态、與該距離感測器315提供之值，該控制器428可比較每一 •該等第一、第二基板P1、P2之實際移動距離與該致動器422之移 動距離。 ^ 5亥支撐益424之一端有一 “V，，形槽425。在該支樓竿317之 =向上該槽425有-凹部，以便該上臺316之支撐架3n、之夕^ 周表面之部分能插入該凹部中。儘管上述槽425為v形，但該槽 425之形狀並不侷限於此。舉例言之，該槽425可為一 υ形。 • —基板升降機安裝於該下錯彻之絲面上。該基板 升降機430使該第二基板P2固設至該下臺412，或自該 分離該第二基板P2。 該基板升降機430包括複數個穿過該下室體41〇之升降銷432 與一升降銷控制器434，該銷控制器434安装於該下室體41〇之外 側’用於升起該等升降銷432。 該位置控制臺500安裝於該下室體410之底表面上。該位置 控制臺500藉由該升降機構_支撐，其用於調整該下室體彻 之位置，並使該上室體310與該下室體41〇對準。 馨 現將參知、圖7與圖8描述該位置控制臺5〇〇。，該位置控制臺 5〇〇沿該下室體41〇之X軸方向與y軸方向相對於該上室體31〇 移動該下室體410，且同時繞<9軸轉動該下室體41〇。 該位置控制臺500包括一在X軸方向上移動該下室體41〇之乂 軸移動單元510與一 x轴空轉單元512。另外，該位置控制臺5〇〇 包括一y軸移動單元520、一6>軸移動單元53〇、一y軸空轉單元 522及一 0轴旋轉單元532，該y軸移動單元520、Θ軸移動單元 530在該y軸方向上移動該下室體41〇，且同時與該χ軸移動單元 510 —起繞該(9軸旋轉該下室體410。 12 200815824 移動單元51G f 4 nG雜（級轉）之方_分該_ 該X_動單元51Q t Γ520及射轴移動單元⑽每― 包括一驅動馬達（=/軸移^元5如及該0轴移動單元530 件（未示幻。該動、出)二，螺桿（未示出）及-線性引導 之旋^_彳以-馬達 ’輔時傳遞麟雜量至該下室體

該咖動單;單元51G、該y軸移鱗元別及 θ軸該X轴移動單元51G、該y轴移動單元520、該 該θ軸旋轉單元532°m；^512、該y軸空轉單元522及 該X轴移動單元510在平行於該下室體41〇之χ轴方 ，於該下室體彻之底表面。另外，該y軸移動單元52_亥= 早7C 530在與該χ軸移動單元51〇垂直之一方向上彼此相 對文裝。 该X軸空轉單元512安裝於該χ軸移動單元51Ό對面，且該 軸空轉單it 522與該Θ軸旋轉單元532 &別垂直於該y軸移動'單 元520與該Θ轴移動單元530安裝。 该下室體410在該χ軸方向上之移動藉由該乂軸移動單元51〇 與該χ軸空轉單元512控制。該下室體41〇在該y軸方向上之移 動猎由該y轴移動早元520、該0轴移動單元530、該y輛空轉單 元522及該Θ軸旋轉單元532控制。另外，該下室體41〇繞該θ 轴之旋轉藉由聯合操作該y軸移動單元520、該6»軸移動單元 530、該y軸空轉單元522及該0軸旋轉單元而控制。 13 200815824 該升降機構600朝該上室300升起該下室400,以便在該下室 400與該上室300之間形成該固設空間。該升降機構600包括複數 個安裝於該框架200之底座204之外圓周表面上的升降裝置610 與一藉由該等升降裝置610支撐之升降板620。 該升降板620比該下室體410大，且為正方形或矩形。藉由 該升降裝置610支撐之複數個升降支座（未示出）形成於該升降 板620底表面之角落處。

該等升降裝置610與該等升降支座之位置相對應，該等升降 支座形成於该升降板620底表面上且位於該底座204與該升降板 620之間。每一該等升降裝置61〇包括支撐該升降板62〇之一升降 柱614與一升降該升降柱614之升降機612。 該升降機構612係一可用作產生直接升降該升降板62〇之動 力之液壓缸（未示出）。另一選擇為，該升降機構612可用作一馬 達（未不出）、一減速器（未示出）及一螺旋聯接器（未示出）之 組合，該減速H係驗改變該馬達所產生動力之方向及減速該馬 達’而該職聯接n制於轉化該減速器之旋轉運動為—直 ^該升降機構612之結射根據本發日狀各種频實施例而改 k，且並不侷限於上述實例。 之一示例性具體實施例之裝置 之每一元件應基於上述描述及 此後，將詳細描述根據本發明 1〇〇之操作。下面提及之該裝置 圖理解。 L二 W驟⑽之操作流程 之打開 P2(步

麥』9，精由一基板供給器 之上室300與下室400之P气坦山'你次衣J 驟sun)。 _該等第-與第二基相 14 200815824 若先供給該第一基板PI，該第一基板P1在該上室300與該 下室400間前進時，其被固設至該上室體310之上臺316之上吸 盤 318 〇 —藉由為該等分離銷332提供真空壓力之排氣裝置700,在該上 室300與該下室4〇〇之間前進之該第一基板P1可被吸附至該等分 離銷332。在此狀態下，該第一基板ρι可藉由該等分離銷移 動至該上臺316，且然後固設至該上吸盤318。 提供該第二基板P2時，該下室體41〇之升降銷432藉由該升 降，控制器434升高至該下室體410之上方，且該上室3〇〇與該 下至400間之該第二基板？2藉由該等上升升降銷极支撐。 、該升降銷控制器434降低該等升降銷432時，藉由該等升降 銷432支撐之該第二基板？2㈤樣被降低。然後，藉由該第二基板 吸盤414之固持力，該第二基板P2被固設 =圖11A ’該第一與第二基板ρι、p2分別被固設至該上室 ，310㈣下室體，該下室4〇〇藉由該升降機構_之作 =〇=!’其對準該上室300，同時該下室400之位置藉 (ΐ驟S1〇2) /、耕降機構_之間之触置控制臺500控制 之位置基於該等第一與第二基板 兮上室)之位置確定，該等對準標諸係藉由 機單元320觀察。由於該相機單元320之摔作 為口人，知之技術’因此其詳細描述在此省略。 ’、 嗲下;;、：二1圖llc ’該升降機構600朝該上室體310升高 體彻’同日猶下室體相對於該上室體谓之位置受到 15 200815824 升降裝置^升降板⑽藉由該等可獨立運轉之 運轉，且藓*。母一该等升降裝置610之升降機構612獨立 ㈣4咖升降板 位詈改修0士邮 升降板支樓之該下麵410之水準 圖，_亥下室體410與該上室體之垂直對準（見 ，當該下室體410藉由該升降機構6〇〇升高該

室體310之水準對準藉由該下室體彻與該升降機 構▲之升降板62〇之間佈置的該位置控制臺5〇〇調節。 / ΐϊϊ控制臺500之x轴移動單元510與X軸空轉單元512 方向上移動該下室體，而該y軸移動單元汹、該Θ軸 ，動早疋530、該y軸空轉單元522及該0軸旋轉單元532 軸方向上移動該下室體410。 仰一藉由該X軸移動單元51〇、該y軸移動單元52〇、該Θ軸移動 早^30、該x軸空轉單元512、該y軸空轉單元522及該θ軸旋 轉單元532之組合運動，該下室體41〇繞Θ軸旋轉時，該上室體 310與該下室體41〇水準對準（見圖llc)。 該下室體410與該上室體310彼此對準後，該下室體41〇之 頂表面緊岔固設至該上室體31〇之底表面，藉此在該第一基板朽 與该第二基板P2之間形成一固設空間（步驟sl〇3)。藉由安裝於 該下室體410之頂表面上之該密封構件416，該上室體31〇以密封 之方式固設至該下室體410。 & 形成該固設空間之後，該間隙控制器420控制分別固設至該 等上下室300、400之第一和第二基板P1、P2間之間隙，如圖12 與圖13所圖示說明（步驟S104)。 16 200815824 在此情形下，該間隙控制器420即時感測該等第一與第二基 板PI、P2間之間隙，同時基於所感測間隙之資訊調整該等第一與 第二基板PI、P2間之間隙與對準。 參照圖12，為控制該等第一與第二基板pl、p2間之間隙， 若操作該間隙控制器420之致動器422升高或降低該上臺316，則 其升高或降低固設該第一基板？1之上臺316 (步驟S2〇1)。

該致動器422運轉時，該致動器422之編碼器426感測該致 ，斋422之運轉量（步驟S202)，同時該距離感測器315測量該上 臺316，該上臺316之支撐架317之移動距離，且從而感測固設 至該上堂316之第一基板pi之移動距離（步驟S2〇3)。 該控制器428比較該編碼器426所感測之運轉量與該距離感 ，器315所測量之距離（步驟S2〇4)，及由該相機單元32〇 (其被 1成對準該等第-與第二基板π、ρ2)拍攝該等對準標誌之聚 焦貧訊而獲得之距離值，且糾正該第—基板ρι運_導致之誤差 (步驟 S205)。 、=^5鼻所得之誤差值，該控制器428糾正該致動器422之 ，轉里’^此使藉由該上臺316升高或降低之該第一基板？1與固 口又至名下置412之第二基板P2間之間隙保持恒定(步驟S2〇6)。 士如亡所述，若該等第一與第二基板PI、P2之對準完成，該上 堂=藉由支撐該上| 316之間隙控制器42〇之致動器422朝該 =412降低。在此情形下，該上臺316藉由該間隙控制器 ^之同，被降低，用以使固設至該上臺316之第一基板ρι與固 叹至下堂412之第二基板P2間之間隙保持恆定。 仅姓右^至^16之第一基板P1與該下臺412之第二基板P2間 鱼二tn、則停止下降該上臺316 ’且在藉_上室300 …下至4GG形成之該固設空間中產生真空壓力（步驟則6)。在 17 200815824 該固體間中產生該真空壓力之製程中，該間隙控制器42〇亦可 使該等第-與第二基板卩1、P2間之嶋保持怪定。 由於該等肋312形成於該上室體31〇之頂表面上，因此可防 止由於顧設細魏真球態嗔產生之真线力 室體310變形。

*在該固設空間中產生該真空壓力之後，使固設至該上臺316 之第-基板P1自由落至固設至該下臺412之第二基板卩2上 此預結合該等第-與第二基板n、p2 (步驟S1G7)。 曰 2後’藉由向其供給N2氣體祕加壓力至料被預結合之第 二與第二基板P卜P2之外側，以便該等第—與第二基板？卜p2 彼此牢固固設（步應）。亦即，該固設空間中之該直空壓力辦 力:，以便藉由該等被預結合之第—與第二基板n、p2 』 力差而使該等第-鄕二基板Ρ1、ρ2|^^設。 15 等第Γ與第二基板ρ卜Ρ2彼此固設後，該固 二工a人復至大氣壓狀悲（步驟Sl〇9)，且被固設之該等第一與第 二、P2自該裝置1()()卸下（步驟S11Q)。在此情形下，因 ^大祕力更易於控制，因此恢復該固設空間至大氣壓狀態。另 卜=為該等第-與第二基板P1、p2在大氣壓力狀態下即可卸 下，因此不需要另外之製程。 一在根據本發明之一用以固設平面面板顯示器基板之裝置中， 朝—上室升高。因此’可防止由於打開—室時顆粒滲透進 準德由於該等上下室之結構得以改進，因此該等基板被對 丰後^間之解及間_化可降低至最小程度。 管參照其示例性具體實施㈣別地顯示與描述了本發明， 項縣之人士絲解，在不偏離下面巾請專利範圍所界 疋之本發明之精触麵讀提下，可職形式與細節實施各種 18 200815824 3術㈣之鱗具财蝴之贿更改冑應在本發明 拖例2之 '可添加具有不同功能之元件，或可用其他元件替 括太恭日7 、。然而，只要本發明之該等具體實施例之此等更改包 【圖件’其仍在本發明之該技術範圍内。 明夕ft t ’日〜亥等附圖詳細描述本發明之較佳具體實施例，本發 处。其他特徵和優點將更為明顯，其中： 以因fi賴示說明根據本發明之一示例性具體實施例之-種用 叹平面面板顯示器基板之裝置示意圖； ，2為圖^之難財所包括之-上室之透視圖； 圖；'3為圖不說明圖1之該裝置中包括之-間隙控制器之示意 圖4為圖示說明圖3之該間隙控制器結構之框圖； 圖5為圖3之該間隙控制器之透視圖； 圖6為圖3之該間隙控制器之侧視圖； 圖；圖7為圖1之該裝置中包括之-位置控制臺與-下室之透視 圖8為圖7之該位置控制臺與該下室之平面視圖； 圖9為圖示說明圖1之該裝置運轉之流程圖； H為’說之該裝置之基板插人操作之操作圖表； 作之^作圖ί圖11C為圖示說明圖1之該裝置之下室位置控制操 位之棘4料括之該聰控繼之基板 丨爾i t _瞻綱之基板 19 200815824 操作圖表；及 【if1之該裝置之-基板固設操作之 【主要元件符號說明】 P1 第一基板 P2 第二基板 100 用以固設平面， 200 框架 202 才主 204 底座 300 上室 310 上室體 311 固定突出物 312 肋 313 凹陷部分 314 插入空間 315 距離感測器 316 上臺° 317 支撐架 318 上吸盤 320 相機單元 322 通孔 330 基板分離裝置 332 分離銷 334 分離銷控制器 400 下室 ^ 410 下室體 412 下臺 414 下吸盤 416 密封構件 20 200815824

420 間隙控制器 422 致動器 424 支撐器 425 槽 426 編碼器 428 控制器 430 升降機 432 升降銷 434 升降銷控制器 500 位置控制臺 510 X軸移動單元 512 X軸空轉單元 520 y軸移動單元 522 y軸空轉單元 530 0軸移動單元 532 0軸旋轉單元 600 升降機構 610 升降裝置 612 升降機構 614 升降機構 620 升降板 700 排氣裝置 702 排氣管

Claims (1)

1. 200815824 十、申請專利範圍： L -一種框用^固設平賴板顯示_板之錢，膽置包括： 一上室’其狀至該框架之—上部分且—第—基板固設至其 上， 其上丁下室’其佈置於該上室之下、可升高且—第二基板固設至 間隙ϊΓ械構’其升降訂㈣時控繼上室無τ室間之一 二位置控魁’其介於該下室與該升降機構之間，用於調節 通卜至之一位置。 2.如申請專利範圍第i項所述之裝置，其中該上室包括： 一上室體，其固定至雜架之上部分且具有—凹陷部分，★亥 凹陷部分於其—絲面中形成之固設空間；及 排氣衣！_其連接至該凹陷部分且在藉由該凹陷 之該固設空間中產生—為一固設環境之真空固設環境。戌 3室^申二^^财2項所述之裝置’其巾複數働形成於該上 f之^表面上，驗防止該上室體由於—基板固設製程 產生之真空壓力而發生變形。 ^如申請專利範㈣3項所述之袭置，其中該等肋包括—在 向上延伸之第一肋及一與該第一肋交叉之第二肋。 5. ^申請士專利範圍第2項所述之裝置，其中該上室體進一步包括： 及—上堂，其佈置於該凹陷部分上且該第一基板固設至其上； 22 200815824 6.如申請專利範圍第5項所述之裝置，其中該上臺包括一用以固 持該第一基板之上吸盤。 7.如申請專利範_ 5項所述之裝置，其中該相機單元包括一穿 過該上室體無上臺之通孔，並且穿過該通孔自該上室之外側觀 察該第一基板與該第二基板是否對準。 ^如申請專娜圍第5項所述之裝置，其中該相機單元觀察該等 第一與第二基板之重疊對準標誌，且觀察兩個或更多該等第一與 第二基板彼此成對角之重疊角。 〃

   9·如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該上室體進一步包括·· 複數個穿過該上室體與該上臺之分離鎖；及 一安裝在該上室體外侧且升降該等分離銷之分離銷控制器。 10. 如申請專利範_ 9項所述之裝置，其中每一該等分離鎖^具 有一通孔之管狀，其被連接至該排氣裝置，且利用由該排氣裝置 在其中產生之真空壓力吸住該第一基板。 〃 I 11. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該排氣裝置包括： 一被連接至該固設空間之排氣管；及 被連接至該排氣管且提供真空壓力至該固設空間之真空 泵。 ’、二 I2·如申請專利細第n項職之裝置，其巾經職排氣管供給 N2氣體，以便該等第一與第二基板能藉由該基板固設製程 一 壓力差而彼此緊密固設。 13·如申請—專利範圍第i項所述之裝置，其中該下室包括： 該下至體，其緊密固設至該上室以形成該固設空間且 升降機構升降；及 該位置控制臺，其介於該升降機構與該下室體之間，且 調整該專第一基板與第二基板之對準。 ; 23 200815824 =如申請專概财13賴述之裝置，財該下室體進-步包 基板臺’其安胁該下室體之―頂麵上，且翻設該第二 一密封構件’其於該下臺之—外圓周表面上延伸。 ^如申請專利範圍第14項所述之裝置，其中該下室體進—步包 複數個穿過該下室體與一下吸盤之升降銷·及 器。-安裝於該下室體之外側並升降該等升降銷之升降銷控制 _叙妓，其巾該下臺包括用於固 健，且該孩縣—“―料力嗎該第 14 _述H其中—絲槽形成於該 其向釘室軸㈣，且雜置控制臺被 18.如申請專利範圍第π項所述之裝置，其中該位置控制臺包括： - X轴移動單元，其使該下室體在χ軸方向產生—定移動量； -y轴雜單元’其使該下室體在向產生—定移動量； Μ及 ，轴旋轉單由與該y _動單福綠軒级 、άΘ輛方向產生一定旋轉量。 19·如申請專利範圍第18項所述之裝置，其包括· χ Ιΐΐ7" ’ χ讀面且引導該下 至體沿一X轴移動； -y轴空轉單元’其佈置於該y _動單元對面且引導該下 至體沿一 y軸移動；及 24 200815824 室體繞θ軸旋ί早疋/、佈置於§_移動單獨面且引導該下 .20.如帽專利細第！項所述之裝置， -支撐該位置㈣臺之升降板；及，、以升降機構包括. 4c數個fHV裝f，其分》， 於升降該升降板，同時控制該第_美二扳之二干角洛處用 2L如申請專利細第2G項所述之基板卩f間隙。 包括： ,ΤΙ之衣置，其中每一該等升降裝置 _ 一支撐该升降板之每一角之升降柱，·及 -升降該升_且舰料板敲i 22. 如申__丨項所述之裝置，其進H升降機構 固，該第-基板之上臺，且其可相對於該上室升降；及 之、軍：==下：中之間隙控制器’用於感測移動該上臺所需 ^一運轉減該上堂之移動距離，綱正移動該上臺所需之運轉 里〇 23. 如申請專概_ 22酬述之裝置，其巾關隨制器包括： 一升降該上臺之致動器； Φ 一感測該致動器之一運轉量之編碼器； -感測-距離之距離制H ’藉由該感測之距離該致動 動該上臺； -控制器’其比較由該編碼器所感測之運轉量、由該距離感 測器所感測之該上臺之-㈣4，並基於比較結果控制該致動; 之運轉量。 W 24. 如申請專利範圍第23項所述之裝置’其中複數個支座形成於 該上臺之兩端並藉由複數個支撐物支撐，且每一支撐物支撐每一 支座之下部並升降該上臺。 牙、 25 200815824 25.如申請專利範圍第3項所述之裝置，其中一 “V”形槽形成於 每一支撐物之一端，用於支撐每一支座之一外圓周表面之每一 侧，並防止每一支座滑動。 _ 26