200815177 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種用於排放黏彈性液體之流延 種溶液流延設備、及一種溶液流延方法，而且特 用於排放含聚合物作爲薄膜原料之塗布液之流延 一種用於由塗布液製造薄膜之溶液流延設備及溶 法。 【先前技術】 由於其透明性與撓性優良，進一步由於可減 度，聚合物薄膜（以下稱爲薄膜）廣泛地作爲光 膜。聚合物薄膜之中有由醯化纖維素形成之醯化 膜，而且特別是在醯化纖維素之中使用三乙酸纖翁 以形成TAC薄膜。由於具有強度及可燃性，TAC 薄膜材料之薄膜基料，如感光性材料。應注意， 均乙醯化程度較佳爲5 7 · 5 %至6 2.5 %之範圍。此〈 膜之光學各向同性（isotropy)優良，因此在近年來 之液晶顯示器中作爲偏光濾色片保護膜、光學補 如寬視角膜等）。 至於製造薄膜之方法有熔化擠壓法及溶液流 在熔化擠壓法中，其將聚合物加熱且熔化，然後 合物自擠壓器擠壓形成薄膜。熔化擠壓法具有高 低設置裝備成本之優點。然而熔化擠壓法難以精 薄膜厚度，而且由於在薄膜上形成條紋（即模線 之薄膜幾乎不具有適合光學薄膜之高品質。另夕f 裝置、一 別是一種 裝置、及 液流延方 小薄膜厚 學功能薄 纖維素薄 i 素（TAC) 薄膜作爲 TAC之平 斗TAC薄 市場變大 償膜（例 延方法。 將熔化聚 生產力及 細地控制 ：)，製造 •在溶液流 200815177 延方法中，其將聚合物溶於溶劑，如此製備如聚合物溶液 之塗布液。然後將塗布液自流延模流延至撐體上形成流延 薄膜。在流延薄膜具有自撐性質時，自撐體剝除流延薄膜 成爲濕膜。然後在拉幅機乾燥機中，在夾住濕膜之兩個側 緣部分時將濕膜拉伸且使之鬆弛。同時將濕膜乾燥。在足 夠乾燥後，將濕膜捲成薄膜。在溶液流延方法中，相較於 熔化擠壓法，製造之薄膜的光學各向同性及厚度均勻性較 優良，而且含較少之外來材料。因此習知上溶液流延方法 • 爲較佳之製造薄膜（特別是光學薄膜）方法。 以下解釋溶液流延方法之流延程序的重點。如描述排 放程序之第1 2圖所示，作爲流延裝置之流延模3 0 0將塗布 液301排放至行進撐體3〇2上。對於流延，其藉撐體302 朝行進方向X 1之行進而將塗布液3 01散布在撐體3 02上。 如此形成流延薄膜3 0 3。 流延模3 0 0包括經其排放塗布液3 0 1之塗布液出口 3 0 0 a。如第1 3圖所示，流延模3 0 0具有唇板3 1 〇、3 1 1， _ 側板3 1 2、3 1 3，及內定框板3 1 4、3 1 5，同時安置唇板3 1 0 、311及內定框板314、315形成塗布液出口 300a且各具 有用於接觸塗布液3 0 1之接觸面3 1 〇 a、3 1 1 a、3 1 4 a、3 1 5 a ο 在使流延塗布液3 0 1在撐體3 0 2上流延時，流延塗布 液3 01經塗布液出口 300a自流延模3 00排放，而在出口 3 00 a與撐體3 02之間形成塗布液粒。然而在接近內定框板 314、315之出口 3 0 0a兩側易於發生保留（retaining)流延塗 200815177 布液3 〇 1，而且保留之流延塗布液3 0 1易於乾燥形成結皮 。然後結皮生長而具有冰柱形式，其擾亂流延塗布液3 0 1 經出口 3 0 〇 a之流動。如此抑制流延薄膜3 0 3與排放流延塗 布液粒之形成。因此在發生結皮之情形，流延因降低流延 速度而去除。在此情形，其必須使流延速度較低使得流延 薄膜及粒不被切除。結果流延程序之結皮造成極低之生產 力。 習知上，防止結皮之方法有一種提供溶劑而塗布液可 φ 溶於溶劑以防止流延塗布液乾燥之方法，及一種在接近出 口防止流延塗布液之方法。.日本專利公告第2，6 8 7，2 6 0號及 曰本專利公開待審公告第2 0 Q 2 - 3 3 7 1 7 3號揭示防止結皮之 方法’其在以下稱爲向下流動法。在這些方法中，在將流 延塗布液自流延出口排放時，使溶劑（二氯甲烷等）向下 .流至經排放塗布液之兩個側緣上，其各配置於流延模出口 邊緣之稍微內側。在日本專利公開待審公告第2 0 0 2 - 1 〇 3 3 6 1 號中’依照流延模唇端之兩個側緣的切面形狀，其將唇面 ^ 與唇側面間之角度控制成至少1 2 0。而防止結皮。 然而在流延程序中，接近出口 3 〇 〇 a之風速及溶劑供應 速率難以控制成預定値。在公告第2687260及2002-337173 號之方法中’如果未適當地控制風速及供應速率，則向下 流動之溶劑散佈於撐體上，其造成薄膜之平面性缺陷，及 過度地供應溶劑’其造成外來材料黏附撐體。如果發生外 來材料黏附則必須清理撐體，因此生產力變低。此外依照 液晶顯示器之極咼需求成長，其必須進行高技術溶液流延 200815177 方法。然而如果提高製造速度時，則接近出口 3 00a之風速 及溫度控制更難以控制。因此其難以將以上之向下流動法 應用於溶液流延方法。此外在公告第2002- 1 03 361號之方 法中，出口幾乎不以此種可防止結皮之處理準確度形成。 因此在習知技藝中無法充分地預期防止結皮之效果。 在硏究及深入檢驗中，發明人發現如果唇板3 1 0、3 1 1 及內定框板3 1 4、3 1 5之下端在假想面上，即如果唇板3 1 0 、3 1 1及內定框板3 1 4、3 1 5按塗布液3 0 1之流出方向（稱 ® 爲排放方向）的位移爲預定値時，則可防止造成結皮之保 【發明內容】 本發明之一個目的爲提供一種用於在流延程序中防止 結皮產生之流延裝置。 本發明之另一個目的爲提供一種具有高生產力之溶液 流延設備。 本發明之又一個目的爲提供一種具有高生產力之溶液 β流延方法。 爲了達成此目的及其他目的，一種使塗布液自縫流出 之流延裝置包括一對形成第一縫壁之第一縫構件與一對形 成第二縫壁之第二縫構件，及第一縫壁朝縫之長度方向延 伸且第二縫壁朝縫之寬度方向延伸。對第二縫構件提供自 第一縫構件朝塗布液之流出方向突起之突出，或對第一縫 構件提供自第二縫構件朝流出方向突起之突出，突出之突 出長度爲最大9微米。 200815177 在流延裝置之一個較佳具體實施例中，一對第 件係由一對對立地配置之唇板構成而形成預定長度 ，及一對第二縫構件係由內定框板構成。側板係附 之外緣，及內定框板係配置於唇板與側板包圍之空 接觸側板。在一個特佳具體實施例中，唇板與側板 銹鋼形成且內定框板係由陶瓷形成。 在流延裝置之一個較佳具體實施例中，各第二 具有加寬表面使得該塗布液之流動寬度可在該塗布 Φ 之下游側較大。 本發明之溶液流延設備包括一行進撐體、一種 塗布液流動至撐體上形成流延薄膜之流延裝置、及 於乾燥自撐體剝除之流延薄膜而可獲得薄膜之乾燥 流延裝置包括一對形成第一縫壁之第一縫構件與一 第二縫壁之第二縫構件，及第一縫壁朝縫之長度方 且第二縫壁朝縫之寬度方向延伸。對第二縫構件提 一縫構件朝塗布液之流出方向突起之突出，或對第 ® 件提供自第二縫構件朝流出方向突起之突出，突出 長度爲最大9微米。 在本發明之溶液流延方法中，其提供一種用於 液自縫流出之流延裝置，其使撐體行進，及使塗布 流出而形成流延薄膜。流延裝置包括一對形成第一 第一縫構件與一對形成第二縫壁之第二縫構件，及 壁朝縫之長度方向延伸且第二縫壁向縫之寬度方向 對第二縫構件提供自第一縫構件向塗布液之流出方 一縫構 之距離 著唇板 間中而 係由不 縫構件 液流動 用於使 一種用 裝置。 對形成 向延伸 供自第 一縫構 之突出 使塗布 液自縫 縫壁之 第一縫 延伸。 向突起 ‘200815177 之突出，或對第一縫構件提供自第二縫構件向流出方向突 起之突出，突出之突出長度爲最大9微米。 依照本發明，其將含聚合物之塗布液自流延裝置出口 排放，同時在出口之兩個側緣提供向流出方向突起之突出 。此外突出長度爲最大9微米。因而防止塗布液保留在出 口中，故可防止結皮之產生。此外在溶液流延方法之使用 流延裝置之溶液流延設備中，其不必去除已在先行技藝流 延程序形成之結皮。如此在溶液流延方法中薄膜製造之生 _ 產力變高。 【實施方式】 以下詳細解釋本發明之較佳具體實施例。然而本發明 不限於此說明。 [原料] 至於此具體實施例之聚合物，其可使用已用於薄膜製 造之已知聚合物。例如較佳爲醯化纖維素，而且特佳爲三 乙醯纖維素（TAC)。在醯化纖維素中較佳爲醯基對纖維素羥 ® 基上氫原子之取代程度最好滿足所有下式（I)-(III)。在這些 式（I)-(III)中，A爲乙醯基對纖維素羥基上之氫原子的取代 程度，及B爲碳原子數量爲3至22個之醯基對氫原子之取 代程度。應注意，至少90重量％之TAC爲直徑〇·1毫米至 4毫米之粒子。 (I) 2.5<Α + Β<3.0 (II) 0<Α<3.0 (III) 0<B<2.9 -10- 200815177 此外用於本發明之聚合物不限於醯化纖維素。 構成具β - 1，4鍵之纖維素的葡萄糖單元在第二、第三及 第六位置具有自由經基。醯化纖維素爲一種其中藉醋化將 一部分或所有羥基之氫原子以具有至少兩個碳原子之醯基 取代之聚合物。醯化程度爲第二、第三、第六位置經基之 酯化程度。在各羥基中，如果酯化爲i 00 %則醯化程度爲1 〇 在此’如果醯基係取代葡萄糖單元中第二位置之氫原子 ’則將醯化程度稱爲D S 2 (在第二位置之醯化取代程度）， 及如果醯基係取代葡萄糖單元中第三位置之氫原子，則將醯 化度稱爲D S 3 (在第三位置之醯化取代程度）。此外，如 果醯基係取代葡萄糖單元中第六位置之氫原子，則將醯化程 度稱爲DS6 (在第六位置之醯化取代程度）。醯化程度總和 DS2 + DS3 + DS6 較佳爲 2·00 至 3·0〇,更佳是 2.22 至 2.90,而 且特佳是2·40至2.88。此外DS6/(DS2 + DS3+DS6)較佳爲至 少0.28，更佳是至少〇·30，而且特佳是ο υ至o h。 在本發明中，醯化纖維素中醯基之數量及種類可爲僅 種或至少二種。如果有至少兩種醯基，則其一較佳爲乙 酸基。如果第二、第三及第六位置羥基之氫原子係由乙醯 基取代’則將總取代程度稱爲D S A，及如果第二、第三及 /λ从置翔基之氫原子係由乙醯基以外之醯基取代，則將
絲、取代程度稱爲· D S Β。在此情形，〇 S A + D S Β値較佳爲2.2 2 至 2 Q • 〇，更佳是2 · 4 0至2.8 8。此外D S β較佳爲至少〇 . 3 〇 ，而且更佳是至少ϋ . 7。依照D S β，第六位置之取代對第二 200815177 、第三及第六位置之百分比爲至少2 Q %。此百分比較佳爲 至少2 5 %，更佳是至少3 0 %，而且特佳是至少3 3 %。此外 醯化纖維素之第六位置的D S A + D S B較佳爲至少〇 · 7 5，尤 其是至少0.80，而且特佳是至少〇.85。在使用這些種類之 醯化纖.維素時’其可製造具有較佳溶解度之溶液（或塗布 液），而且特別是對非氯型有機溶劑具有較佳溶解度之溶液 。此外在使用以上醯化纖維素時，製造之溶液具有低黏度 及良好之過濾力。應注意，塗布液含聚合物及用於溶解聚 # 合物之溶劑。此外如果必要，則將添加劑加入塗布液。 作爲釀化滅維素原料之纖維素可得自棉毛與木黎之_. 〇 在醯化纖維素中，具有至少2個碳原子之醯基可爲脂 族基或芳基。此醯化纖維素爲例如醯化纖維素之烷基羰基 酯與烯基羰基酯。此外有芳族羰基酯、芳族烷基羰基酯等 ，而且這些化合物可具有取代基。至於此化合物之較佳實 例有丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、辛醯基、癸醯基 ^ 、十二碳醯基、十三碳醯基、十四碳醯基、十六碳醯基、 十八碳醯基、異丁醯基、第三丁醯基、環己烷羰基、油醯 基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等。其中更佳之基爲 丙醯基、丁醯基、十一碳醯基、十八碳醯基、第三丁廳基 、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等，而且特佳 之基爲丙醯基與丁醯基。 此外至於用於製備塗布液之溶劑有芳族烴（例如苯、 甲苯等）、鹵化烴（例如二氯甲烷、氯苯等）、醇（例如 -12- 200815177 甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、二乙二醇等）、酮（例如 丙酮、甲乙酮等）、酯（例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸 丙酯等）、醚（例如四氫呋喃、甲基賽珞蘇等）等。應注 意’塗布液爲一種其中將聚合物等溶於或分散於溶劑中之 聚合物溶液或分散液。在本發明中亦應注意，塗布液爲一 種藉由將聚合物等溶於或分散於溶劑中而得之聚合物溶液 或分散液。 溶劑較佳爲具有1至7個碳原子之鹵化烴，而且特別 • 是二氯甲烷。關於醯化纖維素之溶解度、流延薄膜自撐體 之剝除力、薄膜之機械強度、_膜之光學性質等，其較佳 爲將一或多種具有1至5個碳原子之醇混合二氯甲烷。醇 .含量對全部溶劑較佳爲2重量％至25重量％之範圍，而且 特別是5重量％至20重量％之範圍。具體而言有甲醇、乙 醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等。醇之較佳實例爲甲醇、 乙醇、正丁醇、或其混合物。 順便地，近來爲了將對環境之影響降至最小，現已逐 ^ 漸考量不使用二氯甲烷之溶劑組成物。爲了達成此目的， 其較佳爲具有4至12個碳原子之醚、具有3至12個碳原 子之酮、具有3至12個碳原子之酯、及具有1至12個碳 原子之醇，而且亦可適當地使用其混合物。例如有乙酸甲 酯、丙酮、乙醇、與正丁醇之混合物。這些醚、酮、酯、 與醇可具有環結構。此外具有醚、酮、酯、與醇之至少兩 種官能基（即-Ο -、- C Ο -、- C Ο Ο -、與-Ο Η )的化合物可用 於溶劑。 >13- 200815177 應注意，醯化纖維素之詳述解釋在日本專利公開公告 第2005-104148號之[0140]至[0195]，而且此公告之說明可 應用於本發明。應注意，溶劑及添加劑之添加劑材料（如 塑性劑、退化抑制劑、UV吸收劑、光學各向異性控制劑、 染料、消光劑、釋放劑、遲滯控制劑等）的詳述解釋在日 本專利公開公告第2 0 0 5 - 1 0 4 1 4 8號之[0 1 9 6 ]至[0 5 1 6 ]。 [塗布液製法] 塗布液係由原料製造。塗布液生產線有用於儲存溶劑 Φ 之溶劑槽、用於混合TAC與溶劑之混合槽、用於對混合槽 供應TAC之加料漏斗、及用於儲存添加劑之添加劑槽。此 外有用於將膨脹液體（其如以下所詳述藉由混合TAC與溶 劑而得）加熱之加熱裝置、用於控制由膨脹液體得到之塗 布液的溫度之溫度控制器、及過濾裝置。此外有用於回收 溶劑蒸氣之回收裝置、及用於精製所回收溶劑之精製裝置 。塗布液生產線係經原料槽3 9 (參見第2圖）連接薄膜生 產線4 0。 ^ 打開球閥而將溶劑送至混合槽。然後測量加料漏斗中 所需里之T A C且測重迭至混合槽。然後將所需量之添加劑 溶液自添加劑槽送至混合槽。應注意，如果添加劑在室溫 爲液態，則其可以液態進料至混合槽而不必製備添加劑溶 液。另外如果添加劑在室溫爲固態，則其可使用加料漏斗 等進料至混合槽。如果使用多種添加劑化合物，則可在添 加劑槽中將含多種添加劑化合物之添加劑累積在一起。另 外可使用多個添加劑槽含各添加劑化合物，其經獨立管，線 -14- 200815177 送至混合槽。 在以上解釋中，依序將溶劑、TAC與添加劑送至 槽。然而送入次序不限於此。例如在將所需量T A C測 至混合槽後可實行較佳量溶劑之進料。此外未必事先 加劑送至混合槽，而且其可加入TAC與溶劑之混合物 混合槽具有覆蓋混合槽外表面之外套、及藉各馬 動之第一與第二攪拌器。第一攪拌器較佳爲具有固定 ，及第二攪拌器較佳爲溶解器型偏心攪拌器。其使用 Φ 套中流動之熱傳遞介質而控制混合槽之內溫。較佳內 -1 ot至5 5 °C之範圍。其適當地選擇第一與第二攪拌器 之一實行轉動。如此得到其中TAC在溶劑中膨脹之膨 體。應注意，其可省略第二攪拌器。然而如同此具體 例，較佳爲裝設第二攪拌器。 .使用泵將混合槽中之膨脹液體送至加熱裝置。較 加熱裝置爲具外套之管線，而且進一步將膨脹液體加 在僅將膨脹液體加熱或加熱且加壓期間，進行TAC之 ^ 而可得到聚合物溶液。應注意，聚合物溶液可爲一種 聚合物完全溶解之溶液、及一種其中聚合物經膨脹之 液體。在此熱溶解法中應注意，膨脹液體之溫度較佳 V至1 20 °c之範圍。取代使用加熱裝置以熱溶解，可 脹液體冷卻至-100 °C至·3 0°C之範圍實行溶解，其係周 冷卻溶解法。在此具體實施例中，其可依照材料之性 擇熱溶解法及冷卻溶解法之一來控制溶解度。如此 TAC足夠地溶於溶劑。將聚合物溶液進料至溫度控制 混合 里送 將添 〇 達轉 輪葉 在外 溫爲 至少 脹液 實施 佳爲 壓。 溶解 其中 膨脹 爲5 0 將膨 知的 質選 可使 裝置 200815177 以將溫度控制成約爲室溫。然後以過濾裝置完成聚合物溶 液之過濾、’使得可自聚合物溶液去除雜質。用於過濾裝置 之過濾、器較佳爲具有最大〗〇 〇微米之平均公稱直徑。過濾 裝置中之過濾流速較佳爲至少5 0公升/小時。如第】圖所 不’過濾後之聚合物溶液在薄膜生產線4 0之原料槽3 9中 累積成塗布液1 1 (參見第2圖）。 聚合物溶液可作爲薄膜製造用塗布液，其在以下解釋 。然而在其中製備膨脹液體後實行T A C溶解之方法中，如 果其係設計成製造高濃度聚合物，則此塗布液之製造時間 變長。因此較佳爲首先製備濃度較預定値低之聚合物溶液 ’然後濃縮聚合物溶液。在此具體實施例中，其將過濾後 之聚合物溶液送至閃蒸裝置。在閃蒸裝置中部分地蒸發聚 合物溶液之溶劑。蒸發產生之溶劑蒸氣係藉冷凝器（未示 )冷凝成液態，及藉回收裝置（未示）回收。回收之溶劑 係藉再循裝置（未不）再循環及再使用。由於製造效率 較局且將溶劑再使用，依照此方法可設計成降低成本。 如以上說明濃縮後之聚合物溶液係經泵自閃蒸裝置抽 取。此外爲了去除聚合物溶液中產生之泡沬，其較佳爲實 行消泡處理。消泡處理有許多種已知方法，例如超音波照 射法等。然後將聚合物溶液進料至另一個過濾、裝置，在其 中去除未溶材料。應注意’過濾聚合物溶液之溫度較佳爲 0 至2 Q 0 °c之範圍。如此將聚合物溶液在原料槽3 9中累 積成塗布液1 1 (參見第2圖）。 如此製造塗布液。製造之塗布液具有5重量。a至40重 -16- ,200815177 量％範圍之TAC濃度。TAC濃度較佳爲15重量％至30重 量％ ’而且特別是1 7重量％至2 5重量％之範圍。此外如果 塗布液中全部固體含量視爲1 0 0重量％，則添加劑（主要 爲塑性劑）之濃度爲1重量％至20重量％之範圍。 應注意，製造聚合物溶液之方法詳述於日本專利公開 公告第2005- 1 04 1 48號之[05 17]至[0616]，例如材料之溶解 與添加方法、用於形成TAC薄膜之溶液流延方法的原料與 添加劑、過濾方法、氣泡去除方法等。 •(薄膜製法） 現在解釋薄膜製法1 0。如第1圖所示，薄膜製法i 〇 包括用於由以上方法得到之塗布液1 1製備流延塗布液i 4 之塗布液製法1 5、用於將流延塗布液1 4流延至撐體上形 成流延薄膜1 6之流延程序1 7、用於在流延薄膜1 6具有自 撐性質時自撐體剝除流延薄膜1 6成爲濕膜1 8之剝除程序 1 9、及用於將濕膜1 8乾燥成薄膜22之乾燥程序20。應注 意，其可實行用於捲繞薄膜22之薄膜捲繞程序。此外在本 w 發明中濕膜1 8相當於自撐體剝除之流延薄膜。 (溶液流延方法） 以下參考第2圖解釋用於由塗布液11製備薄膜22之 薄膜生產線40作爲本發明溶液流延設備及溶液流延方法 之一個具體實施例。然而應注意，本發明不限於第2圖。 薄膜生產線40包括原料槽39、流延模41、支撐輥42、43 、環繞支撐輥42、43作爲撐體之流延帶44、拉幅機乾燥 機45、邊緣切割裝置46、乾燥室47、冷卻室48、捲繞室 -17- 200815177 49等。 原料槽3 9具有馬達55及藉馬—55驅動而轉動之攪拌 器5 6。原料槽3 9經具有泵5 8、過濾裝置5 9與靜態混合器 6 〇之管線6 1連接流延模4 1。 在管線6丨中，其將含消光劑與UV吸收劑之添加劑液 體加入塗布液1 1 ’然後靜態混合窃6 G攪拌塗布液1 1與添 加劑液體之混合物，而可得到均勻混合物作爲流延塗布液 14。 流延模4 1係作爲流延塗布液1 4之流延裝置，而且具 有用於排放流延塗布液1 4之出口 4 1 a (參見第3圖）。流 延模4 1係配置使得出口 4 1 a可與流延帶44對立。如此流 延塗布液1 4自流延模4 1經出口 4 1 a排放至流延帶44。應 注意，以下詳細解釋流延模4 1。 如第2圖所示，流延帶4 4位於流延模4 1下方，而且 環繞支撐輥4 2、4 3。在支撐輥4 2、4 3藉驅動裝置（未示 )轉勳時，如此流延帶4 4依照支撐輥4 2、4 3之轉動循環 地行進。然後流延速度較佳爲1 Q米/分鐘至2 0 0米/分鐘之 範圍。此外支撐輥4 2、4 3之溫度係藉用於循環熱傳遞介質 之熱傳遞介質循環器8 0控制。其較佳爲藉來自支撐輥42 、43之熱傳遞將流延帶44之表面溫度調整成-20 °C至40°C 之範圍。在此具體實施例中，其在支撐輥4 2、4 3中形成熱 傳遞介質路徑（未示），而且使藉熱傳遞介質循環器8 0控 制溫度之熱傳遞介質通過此路徑。如此將支撐輥4 2、4 3之 溫度保持在預定値。 200815177 流延帶44之寬度及長度並未特別地限制。然而其較佳 爲流延寬度之1.1至2·0倍。長度較佳爲20米至200米， 而且厚度爲〇·5毫米至2.5毫米。表面較佳爲經拋光以具有 最大0.05微米之表面粗度。流延帶44較佳爲由不銹鋼， 而且特別是由SUS3 16製成，以具有足夠之腐蝕抗性及強 度。全部流延帶4 4之厚度不均勻性較佳爲最大0.5 %。 應注意，其可使用支撐輥42、43之一作爲撐體。在此 情形，輥較佳爲以高準確度轉動使得轉動顫動可爲最大0.2 • 毫米。因此表面粗度較佳爲最大〇.〇1微米。此外較佳爲對 滾筒實行鍍鉻使得滾筒可具有足夠之硬度及持久性。如上 所述，撐體較佳爲表面缺陷必須減至最小。具體而言，其 每1平方米無至少30微米之針孔，最多1個10微米至30 微米範圍之針孔，及最多2個小於1 0微米之針孔。 流延模4 1、流延帶44等係容納於流延室8 1中。其提 供用於將流延室8 1之內溫控制在預定値之溫度控制裝置 (未示）、及用於冷凝在流延室8 1中蒸發之有機溶劑的冷 ^ 凝器82。此外在流延室8 1外部有用於回收經冷凝有機溶 劑之回收裝置8 3。此較佳具體實施例有用於控制經排放流 延塗布液之塗布液粒的背側壓力之減壓室8 5。如此安定塗 布液粒之形成。 在此具體實施例中，其較佳爲提供用於饋入乾燥空氣 以蒸發流延薄膜1 6 (其隨流延帶44行進而運輸）中溶劑 之吹風機87a、87b、87c。此外將擋風板87d配置於流延模 4 1下游側接近流延薄膜1 6。雖然乾燥風造成恰在形成後之 -19- 200815177 件 薄 延 8 1 90 轉 乾 持 機 乾 其 膜 於 裝 割 壓 於 吸 冷 與 排 流延薄膜1 6的表面條件改變’但擋風板8 7 d減少表面條 之變化。此外流延室有用於隨流延帶4 4行進而輸送流延 膜1 6之通路。接近下游通路有用於自流延帶44剝除流 薄膜1 6成爲濕膜1 8之輥8 9。然後將濕膜1 8自流延室 饋出。 其在流延室8 1下游側提供轉移區域9 0。轉移區域 有用於饋入溫度爲預定値之乾燥空氣的吹風機9 1。緊鄰 移區域9 0將濕膜1 8進料至拉幅機乾燥機4 5。在拉幅機 • 燥機45中，其將濕膜1 8,之兩個側緣部分藉夾子或銷夾 且按濕膜1 8之寬度方向完成拉伸。此外在拉幅機乾燥 4 5中，其對濕膜1 8施加乾燥空氣使得按預定條件完成 燥。應注意，拉幅機乾燥機4 5內部分隔成多個溫度區， 中較佳爲獨立地控制溫度。如此將濕膜1 8乾燥且成爲薄 2 2自拉幅機乾燥機4 5饋出。然後將薄膜2 2進料至配置 拉幅機乾燥機4 5下游之邊緣切割裝置4 6。在邊緣切割 置4 6中切除薄膜2 2之兩個側緣部分。藉.連接至邊緣切 ^ 裝置4 6之壓碎機9 3將薄膜2 2之經切除側緣部分的頂端 碎。 乾燥室4 7含有多個輥1 Q 〇。此外乾燥室4 7附有用 吸附及回收在薄膜2 2之溶劑蒸發中產生之溶劑蒸氣的 附裝置1 01。此外乾燥室47下游有用於冷卻薄膜22之 卻室4 8。此外可提供濕度控制室（未示）以調節乾燥室 冷卻室4 8間之濕度。 在乾燥室4 7下游側，強制中和裝置（中和棒）1 〇 2 - 20· 200815177 除薄膜2 2之帶電靜電電位能至預定値（例如-3 kV至+ 3 kV 之範圍）。中和程序之位置不限於此具體實施例。例如此 位置可在乾燥段或滾紋輥1 03下游側之預定位置，另外中 和可在多個位置完成。在中和後，其藉滾紋輥完成薄膜22 兩個側部分之壓花以提供滾紋。此外捲繞室49有用於捲繞 薄膜22之捲繞軸1 1 0及用於控制捲繞中薄膜張力之壓輥 111、 <流延模> 如第4 & 5圖中，作爲流延裝置之流延模4 1具有兩個 唇板2 1 0、2 1 1。各唇板2 1 0、2 1 1具有預定形狀之凹口， 而且層板2 1 0、2 1 1係配置成使得凹口可組合形成其邊緣爲 環形之歧管2 1 5及縫2 1 6。 如第5 & 6圖所示，兩個側板2 1 8、2 1 9係配置於唇板 21〇、211之側緣上。其將塡料（未示）配置於唇板210、 2 1 1與側板2 1 8、2 1 9之間，以堅固地組合及接觸唇板2 1 〇 、2 1 1與側板2 1 8、2 1 9。歧管2 1 5具有塗架形式，包括連 接管線6 1之入口 22 〇 (參見第2圖）。其在歧管2 1 5下側 形成縫216，而且將內定框板22 3、224配置於縫216兩邊 以墼固地接觸塡料。應注意，上端223 x (第4圖）係位於 縫216。然而本發明不限於此。上端22 3 x可位於歧管之上 端或下端。此外如果唇板2 1 0 ' 2 1 1堅固地黏附側板2 1 8、 21 9 ’而且進一步如果歧管2 1 5、縫2 1 6等夠接近，則可不 使用塡料。 唇板2 1 0、2 1 1各具有接觸流延塗布液1 4且朝長度方 '200815177 向LD形成縫壁之接觸面210a、211a。內定框板223、224 各具有接觸流延塗布液1 4且向寬度方向WD形成縫壁之接 觸面 223a、 224a。接觸面 210a、 211a、 223a、 224a 形成縫 216與出口 41a，而且縫216之末端爲出口 41a。流延塗布 液14係經入口 220供應至歧管215中，流入縫216，及自 流延模4 1經出口 4 1 a排放至流出方向（排放方向）A 1。 唇板211與內定框板223各以端面211b及端面223 b 提供於流出方向A1之下游面上，其爲流延塗布液14通路 • 中之最下游面。此外唇板2 1 1之接觸面2 1 1 a及端面2 1 1 b 形成脊2Uc，而且內定框板223之接觸面223a及端面223b 形成脊223c。理想地，內定框板21 1之下端係配置於理想 面上，其表示在流延模4 1之模唇的下端無突起。然而以理 想方式配置唇板21 1及內定框板223太困難。在實際模製 造中，內定框板211之下端在模唇上形成突出。因此本發 明將突出減少至最多預定値。具體而言，脊211c與脊223c ' 間之距離CL 1爲最大9微米。在出口 4 1 a側，唇板2 1 0及 ^ 內定框板224各具有端面210b及端面224b，其爲流延塗 布液1 4通路之最下游面。此外唇板2 1 0之接觸面2 1 0a及 端面210b形成脊210c，及內定框板224之接觸面224a及 端面224b形成脊224c。以理想方式配置唇板210及內定 框板223之下端亦太困難。在實際模製造中，內定框板223 之下端在模唇上形成突出。因此本發明將突出減少至最多 預定値。具體而言，脊210c與脊224c間之距離CL2爲最 大9微米。此外脊211c與脊224c間之距離CL3及脊210c -22- 200815177 與脊223c間之距離CL4亦爲最大9微米。 應注意，流出方向A 1可由一種其中將追蹤材料注射 至流延塗布液1 4中且觀察追蹤材料粒子之路徑的方法決 定。另外流出方向A 1可由一種使用其中觀察聚合物溶液之 流動雙折射現象的光彈性裝置之方法決定。 (材料） 用於製造流延模4 1中唇板2 1 0、2 U及內定框板223 、224之材料較佳爲具有對接觸流延塗布液14造成之氧化 • 及腐蝕的抗性。此外爲了將距離CL 1 -CL4保持在預定範圍 ，其較佳爲在流延程序中幾乎不發生大小變動。因此唇板 2 1 0、2 1 1及內定框板2 2 3、2 2 4用材料較佳爲具有以下特 性： (1 )在電解質水溶液中之強制腐飩實驗中，腐蝕抗性 與S U S 3 1 ό相同， (2) 在氣-液界面上不發生斑蝕（或斑蝕腐蝕），即使 將此材料浸於二氯甲烷、甲醇與水之混合液體中經三個月 ❿，及 (3) 熱膨脹係數爲最大SxlO^rc·1)。 因此唇板210、211及內定框板223、224用材料較佳 爲不銹鋼及陶瓷，而且特別是沃斯田鐵型不銹鋼，特別是 S U S 3 1 6、S U S 3 1 6 L。此外亦特佳爲經析出硬化不銹鋼，如 SUS630、SUS631等。現在敘述調整距離CL1-CL4之方法 的一個實例。應注意，調整方法不限於以下之說明。首先 得到具有預定大小之唇板21〇、211及內定框板2 2 3、224 -23 - .200815177 。其次如第7A圖所示，組合唇板2 1 0、2 1 1與內定框板223 、224。第三，恰在組合唇板210、21 1與內定框板223、 224後測量距離CL1-CL4。測量時對內定框板223按方向 Α2施力，使得內定框板223之面22 3 d及唇板221之面221 d 可彼此接觸。依照第7A圖未示之內定框板224，以相同方 式測量距離CL1-CL4。第四，去除內定框板223、224，及 處理面223b、224b使得距離CL1-CL4可爲最大9微米。 如此調整距離CL1-CL4而具有預定値。 • 如果進行以上之調整方法，則較佳爲進一步滿足不僅 以上條件（1)-(3)，亦及以下條件： (4) 唇板210、211及內定框板223、224恰在處理後 之體積波動率爲最大〇.〇5 %，及 (5) 內定框板223、224不會硬到損壞唇板210、211。 本發明較佳爲唇板210、21 l·及內定框板223、224之 體積波動率滿足以上條件（4)。體積波動率表示在x、y、z 直角座標系統中大小波動率ax、ay、az之最大値。在按X ^ 軸方向每單位大小（1平方毫米）施加外力F (約90牛頓 )之內定框板2 2 3、2 2 4的大小波動爲△ b X，及施加外力前 內定框板之大小爲bx之情形，大小波動率ax定義爲Abx/bx 。如果按y軸方向施加外力F之內定框板223、224的大小 波動爲Aby，及施加外力前內定框板之大小爲by，則大小波 動率ay定義爲Aby/by。在按z軸方向施加外力F之內定框 板22 3、224的大小波動爲Abz，及施加外力前內定框板之 大小爲bz之情形，大小波動率az定義爲Abz/bz。 -24- 200815177 依照條件（5)，例如如果使用經析出硬化不銹鋼作爲唇 板210、211用材料，則較佳爲內定框板223、224用材料 具有200Hv至iooohv範圍之維克氏硬度。因此較佳爲使 用不銹鋼或陶瓷作爲內定框板2 2 3、2 2 4用材料。此外內定 框板用材料較佳爲具有鎂。在此情形，在處理面223b、224b 時，內定》匡板22 3、224係藉磁鐵固定，因此距離CL 1-CL4 之處理準確度變高。 依照唇板210、211及內定框板223、224之接觸面210a _ ' 21la、223a、224a，其較佳爲修整準確度爲最大1微米 之表面粗度且在任何方向之直線性爲最大1微米。在接觸 面210a、211a、223a、22 4a之修整準確度滿足以上條件時 ，其防止流延薄膜上之條紋及不均勻性形成。面2 1 Ob、2 1 1 b 、223 b、224b之光滑度較佳爲最大2微米。 較佳爲硬化層較佳地形成於面210b、211b、22 3 b、224b 上。形成硬化層之方法並未限制。但是其爲例如陶瓷硬化 塗覆、鍍硬鉻、中和處理等方法。如果使用陶瓷作爲硬化 ^ 層時，則較佳爲使用之陶瓷可硏磨但不易碎，具較低多孔 性，高腐鈾抗性，及不黏著流延模4 1。具體而言，其爲碳 化鎢（WC)、Abo」、TiN、Cr2〇3等。特佳陶瓷爲碳化鎢。 碳化鎢塗覆可藉噴灑法完成。 流延模4 1之寬度並未特別地限制。然而此寬度較佳爲 薄膜寬度之至少1 · 1倍至最大2 · 0倍。此外較佳爲流延模 4 1附溫度控制裝置（未示），使得在薄膜製造期間可維持 預定溫度。此外流延模4 1較佳爲塗架型模。 -2 5 - 200815177 爲了調整薄膜厚度’流延模4 1較佳爲具有自動厚度調 整裝置。例如將厚度調整螺栓（熱螺栓）在流延模4 1之寬 度方向ί女預疋距離配置。依照熱螺检時，其較佳爲在薄膜 製造時基於預定程式依泵（較佳爲高精確度齒輪泵）5 8之 進料速率設定外形。此外可基於如紅外線厚度計等之厚度 計（未示）的外形，藉調整程式完成反饋控制。在流延薄 膜側緣部分以外之寬度方向任何兩點間之厚度差較佳爲控 制成最大1微米。寬度方向厚度之最大値與最小値間之差 φ 爲最大3微米，而且特別是最大2微米。此外厚度之指定 目標値的準確度較佳爲zt 1 · 5微米。此外較佳爲將流延模i 4 之剪切速率控制成1 ( 1 /秒）至5 0 0 0 ( 1 /秒）之範圍。 現在敘述使用薄膜生產線4 0用於製造薄膜2 2之薄膜 製造方法的一個具體實施例。塗布液1 1始終因攪拌器5 6 之轉動而均勻。在攪拌期間可加入添加劑，如塑性劑等。 其驅動、泵5 8以將塗布液1 1進料至過濾裝置5 9，在其 中兀成塗布液1 1之過濾。在管線（未示）中混合消光劑液 ® 體及uv吸收劑液體，而且其混合係藉靜態混合器（未示 )而成爲均勻添加劑液體。然後添加劑液體加入進料至管 線6 1之塗布液丨丨（參見第i圖）。然後藉靜態混合器6 〇 完成塗布液1 1與添加劑液體之混合，及塗布液n變均勻 且自靜態混合器6 0饋出成爲流延塗布液。塗布液〗ί、消 光劑液體與UV吸收劑之混合比例並未特別地限制。然而 較佳爲重量百分比（塗布液11、消光劑液體與UV吸收劑 )之比例爲（9 0重量％ ; 5重量％ ; 5重量％ )至（9 9重量 - 26 - 200815177 % ; 0 · 5 重量 ％ ; 〇 · 5 重量 ％ )。 支撐輥42、43之驅動較佳爲控制使得流延帶44之張 力可在1 〇 4牛頓/米至1 〇5牛頓/米之範圍。然後將流延塗布 液14自流延模41流延至流延帶44上。流延帶44與各支 撐輥4 2、4 3間之相對速度差爲最大0.0 1米/分鐘。依照流 延帶44之控制·，較佳爲行進速度對預定値之變化爲最大 0.5%，及行進一圈在寬度方向之蜿蜒爲最大1.5毫米。爲 了降低蜿蜒，其較隹爲在流延帶44之各側緣部分上方提供 • 偵測器（未示），以基於測量値進行流延帶44位置之反饋 控制。此外流延帶44之位置依照支撐輥42之轉動而上下 偏移。因此較佳爲流延帶4 4之位置控制於流延模4 1之正 下方’使得流延帶4 4之偏移範圍可爲最大2 0 0微米。流延 室8 1之內溫較佳爲藉溫度控制裝置6 5控制在-1 〇。(：至5 7 °C之範圍。流延室8 1中之溶劑蒸氣係藉冷凝器8 2冷凝， 及回收溶劑係藉回收裝置6 7回收，然後再循環作爲塗布液 製備用溶劑。 ® 流延塗布液1 4係經流延模4 1之出口 4 1 a排放。經排 放塗布液粒在流延模4 1與流延帶44之間形成粒，而且流 延塗布液在流延帶4 4上形成流延薄膜1 6。較佳爲流延塗 布液1 4之溫度爲-1 〇°C至5 7 °C之範圍。此外爲了穩定流延 塗布液粒之形成’其有用於控制塗布液粒背側壓力之減壓 室8 5。減壓較佳爲進行使得上游對下游側之塗布液粒壓力 差可爲-10 Pa至- 2000 pa之範圍。 其較佳爲對減壓室8 5提供用於控制內溫之外套（未示 -27 - 200815177 )。減壓室8 5之溫度並未特別地限制。然而 少所使用有機溶劑之最高熔點。此外可對減歷 氣器，其接近流延模4 1之塗布液出口的兩個 塗布液粒之兩個側緣抽氣以安定塗布液粒之 形，抽氣力速度較佳爲1至1 0 〇公升/分鐘之 吹風機87a-8 7c饋入風使得流延薄膜16 更多。在此情形，雖然施加乾燥空氣造成流更 形成後之表面條件改變’但擋風裝置8 7 d減 φ 變化。流延帶4 4之表面溫度較佳爲-2 0 °C至 在流延塗布液具有自撐性質時，以將流曼 成爲以輥8 9支撐之濕膜1 8。剝除時之殘餘 爲固體材料含量之20重量％至25 0重量％的 濕膜1 8在其中提供許多輥之轉移區域9 0運 域9 0中，吹風機9 1饋入溫度爲預.定値之乾 進行濕膜1 8之乾燥。在轉移區域9 0中，各 在上游側變高。如此可對濕膜1 8按運輸方向 •。 在拉幅機乾燥機4 5中，濕膜1 8係藉由 住兩個側緣部分而夾持。在夾子移動而運輸 按預定條件完成乾燥。 濕膜1 8係乾燥直到殘餘溶劑含量變成3 爲薄膜22自拉幅機乾燥機45饋出朝向用於 部分之邊緣切割裝置46。藉切割器吹送機（ 之側緣部分送至壓碎器9 3，及藉壓碎器9 3 溫度較佳爲至 I室8 5提供抽 側緣。如此在 形狀。在此情 範圍。 之溶劑可蒸發 S薄膜1 6恰在 小表面條件之 4 0 °C之範圍。 £薄膜1 6剝除 溶劑含量較佳 範圍。然後將 輸。在轉移區 燥空氣。如此 輥之轉動速度 施加抽拉張力 使用夾子等夾 濕膜1 8時，其 頃定値，而且成 ‘切除兩個側緣 未示）將切割 壓成碎片。碎 -28 - 200815177 片可再用於製備塗布液，其就降低製造成本而言爲有效的 。應注意’其可省略兩個側緣部分之切割.程序。然而較佳 爲在流延程序與捲繞程序之間實行切割。 將已切除其側緣部分之薄膜22送至乾燥室47且進一 步乾燥。在乾燥室47中，薄膜22係環繞輥100而運輸。 乾燥室，4 7之內溫並未特別地限制。然而其較佳爲在5 0 °C 至160 °C之範圍。藉乾燥室47自薄膜22蒸發之溶劑蒸氣 係藉吸附裝置1 0 1吸附。將去除溶劑成分之空氣在乾燥室 Φ 4 7中再使用作爲乾燥空氣。應注意，乾燥室4 7較佳爲具 有多個隔間以改變乾燥溫度。此外在邊緣切割裝置4 6與乾 燥室47之間提供前乾燥室（未示）以實行薄膜22之前乾 燥。如此防止薄膜22之溫度快速地增加，因此減少薄膜 22之形狀變化。 將薄膜22運向冷卻室48，在其中冷卻至大約室溫。 其可在乾燥室47與冷卻室4 8之間提供濕度控制室（未示 )以調節濕度。較佳爲在濕度控制室中將具溫度與濕度經 ® 控制之空氣施加至薄膜22。如此在捲繞程序中可減少薄膜 22之捲曲及捲繞缺陷。 然後強制中和裝置（或中和棒）1 〇 2排除薄膜2 2之帶 電靜電電位至預定値（例如在-3 kV至+3 kV之範圍）。中 和程序之位置不限於此具體實施例。例如此位置可在乾燥 段或滾紋輥1 〇 3下游側之預定位置，另外中和可在多個位 置完成。在中和後’其藉滾紋輥完成薄膜22兩個側部分之 壓花以提供浪紋。由壓彳*6底部至頂部之壓化局度爲1微米 -29 - 200815177 至200微米之範圍。 ' - ‘在最後程序中，薄膜2 2在捲繞室4 9中以捲繞軸1 1 0 捲繞。此時對壓輥1 1 1施加預定値之張力。較佳爲張力係 自捲繞開始至結束逐漸改變。在本發明中，薄膜2 2之長度 較佳爲至少100米。薄膜寬度較佳爲至少600毫米，而且 特別是1 4 0 〇毫米至2 5 0 0毫米之範圍。此外即使寬度超過 2 5 0 0毫米，本發明仍有效。即使厚度爲2 0微米至8 0微米 之範圍，本發明仍適用。 馨現在進行關於流延塗布液1 4經流延模4 1之出口 4 1 a 排放之詳細解釋。 如第3 & 6圖所示，在流延程序1 7中（參見第1圖） ，塗布液1 4流經入口 2 2 0、歧管2 1 5與縫2 1 6。在縫2 1 6 中，流延塗布液14流向出口 41a，同時藉接觸面22 3 a、224a 調節流延塗布液1 4之寬度，及藉接觸面2 1 0 a、2 1 1 a調節 流延塗布液1 4之厚度。流延塗布液1 4按流出方向A 1經流 延模4 1之出口 4 1 a排放。流出方向A 1之脊2 1 0 c、2 1 1 c、 ^ 223 e、224c間的距離CL 1-CL4爲最大9微米，因此經出口 4 1 a排放之流延塗布液1 4自流延模4 1流出至流延帶44上 而未保留。如此流延塗布液1 4在流延帶4 4上形成流延薄 膜1 6而在流延模4 1之出口 4 1 a不形成結皮。 產生流延塗布液1 4結皮之原因並不清楚。然而如果距 離CL1-CL4大，則依照本發明之效果可視爲如下。在黏彈 性流體之流延塗布液1 4經出口 4 1 a排放時，其發生模膨脹 現象。發生模膨脹現象之原因據信爲通常在黏彈性流體通 -30- 200815177 過管線發生之彈性剪切應變在接近管線出口回復。因此在 流延模·4 1中，接近出口 4 1 a之彈性剪切應變回復造成流延 塗布液1 4之保留。通常在由一對唇板或一對內定框板構成 之流延模中，距離CL1-CL4不爲零。因此在模唇下端，自 出口 4 1 a按流出方向A 1饋出之流延塗布液僅接觸接觸面之 一’同時已與對立側之接觸面分開。在此情況，部分流延 塗布液接觸到接觸面，而且此部分之彈性剪切應變因模膨 脹現象而回復。因此，流延塗布液之膨漲會發生。此外其 9 他部分之流延塗布液與對立側之接觸面分開，即未接觸對 側之接觸面，彈性剪切應變未回復。因此如果部分地發 生之彈性剪切應變回復持續一段時間，則完全地發生流延 塗布液之流動失序而造成接觸於流延面之流延塗布液之保 留。此外流延塗布液之失序依距離C L 1 - C L 4放大而變大。 .然而在本發明中，由於距離CL1-CL4爲最大9微米，其防 止因模膨脹現象而造成之流延塗布液保留。因此在本發明 中，其降低流經流延模4 1中通道之流延塗布液1 4的流動 ® 失序或彈性剪切應變。結果防止流延塗布液對唇板2 1 0、 2 1 1之黏附及保留，而黏附及保留通常造成結皮。 在本發明中，排放流延塗布液1 4通過出口 4 1 a之排放 速度或流延塗布液1 4之黏彈性均與用於薄膜製造之出口 4 1 a的形式或流延塗布液1 4的黏彈性無關，而且在任何情 形，其可預期減少結皮之效果。因此本發明廣泛地應用於 用於製造數種薄膜之溶液流延方法。 至於本發明之溶液流延方法、溶液流延設備及流延模 -31- 200815177 4 1，其實行流延程序1 7而降低造成結皮之流延塗布液1 4 保留。因此在薄膜製造期間不需要清潔撐體及去除結皮。 如此可使薄膜之製造有效率。考量溶液流延方法之製造速 度增加，流延程序之速度爲其主要元素之一。爲了增加製 造速度，不僅流延帶44之行進速度增加，減壓室85之減 壓的增加亦不可或缺。然而在本發明中，其亦在高薄膜製 造速度防止結皮發生，而且使流延程序1 7穩定。此外先行 技藝認爲長方形出口容易發生流延塗布液1 4之保留。然而 # 在本發明中，即使流延裝置具有任何形狀仍達成此效果。 因此可將本發明應用於具有長方形出口之流延裝置。此外 結皮及保留造成數種對溶液流延方法有不良影響之元素。 然而本發明亦防止此元素。至於此元素，例如有因在接近 模唇之接觸面210a、211a、223a、224a內側發生塗布液固 化粒子而形成之模線。 此外本發_之流延裝置不僅用於流延模、溶液流延生 產線及溶液流延方法，亦用於排放處理黏彈性流體。在此 ® 情形’其可防止因保留及模膨脹現象造成之不良元素（例 如模線等）。 在以上具體實施例中，唇板2 1 0、2 1 1及內定框板2 2 3 、224之面210b、211b、223b、224b爲平行，而且在此條 件下解釋。然而考量面之實際處理，唇板2 1 0、2 1 1及內定 框板 223、 224 之面 210b、 211b、 223b、 224b接近平行。 然而即使唇板210、211及內定框板223、224之面210b、 2 11b、223b、224b不平行，本發明仍可適用。在此情形， -32 - '200815177 在考量構成出口 4 1 a之構.件之一的側面與接觸面形成之第 一脊及另一構件之第二脊時，第一與第二脊間之差按流出 方向A1爲最大9微米。如此達成本發明之效果。因此在內 定框板223、224爲自側板210、211按流出方向A1突起時 ，或在側板2 1 0、2 1 1爲自內定框板2 2 3、2 2 4按流出方向 A1突起時，其在突出長度爲最大9微米之條件下達成本發 明之效果。應注意，如果在模唇上未發現任何突出則仍滿 足最大9微米之條件。因此在此情形亦達成本發明之效果 •。 順便地，依照在唇端之側板2 1 0、2 1 1及內定框板223 、224，接觸面之任何一個邊緣有時按接觸面之面內方向彎 曲而形成不齊狀（或鋸齒狀）曲線。因此爲了防止連續發 生彈性剪切應變之部分回復，本發明較佳爲調節各邊緣在 接觸面21〇a、211a、2 2 3 a、224a下游端之彎曲差，同時彎 曲差係定義爲不齊曲線之頂部與底部間的最大値。其表示 如果不僅調節垂直於流出方向之不同脊間的突出長度，而 ® 且調節構成塗布液通道之構件的下端部分各邊緣之彎曲差 時，則本發明更爲有效地實行。具體而言，彎曲差較佳爲 最大9微米。例如在此具體實施例中，內定框板223、224 係在縫2 1 6下游端自側板2 1 0、2 1 1按流出方向突起，而且 接觸面2 1 0 a、2 1 1 a、2 2 3 a、2 2 4 a之下游端邊緣不僅有垂直 於流出方向之脊210c、 211c、 223c、 224c，而且有按流出 方向延伸之脊223x、223y、224x、224y。脊223x爲連接 脊21〇c、223c之接觸面223a之邊緣，脊223y爲連接脊211c -33 - 200815177 、223c之接觸面22 3 a之邊緣，脊224x爲連接脊 之接觸面2 2 4 a之邊緣，及脊2 2 4 y爲連接脊2 1 接觸面224a的邊緣。各脊210c、2Uc、223c、 、223y、224x、22 4y之彎曲差較佳爲最大9微 即使側板2 1 0、2 1 1自內定框板2 2 3、2 2 4 A 1突起時，彎曲差之調節亦以相同方式完成。 接觸面210a、211a、223 a、224a之下游端邊緣不 、211c、223c、224c，亦有接觸面 210a > 211a Φ 、2 2 4 c下游側之下游端面邊緣（未示）。 此外較佳爲在本發明中，接觸面2 1 0 a、2 : 224a之下游端邊緣可彎曲而具有弧形。 由於用於溶液流延方法之塗布液爲黏彈性 口與撐體間之經排放流延模粒的兩個側緣因瓶 果而變厚（以下稱爲邊緣缺陷）。即使在薄膜製 之邊緣缺陷時，則所製造薄膜之兩個側緣部分 薄膜產物，因此薄膜之製造效率變低。此外在 ^ ，具有厚側緣部分之流延薄膜造成低撐體黏著 延薄膜在撐體上之自撐性質不足，或者薄膜在 在塗布液之黏度變高之情形，及在出口至 變大之情形，造成邊緣缺陷之瓶頸現象極易發 塗布液之黏度低，其需要改變聚合物組成物或 物濃度之塗布液。改變聚合物組成物因所製造 性質的限制而較不採用。此外由於發生自撐性 用較低聚合物濃度之塗布液造成低生產力。 210c、224c 1 c、224c 之 2 2 4 c、2 2 3 x 米。 按流出方向 在此情形， 僅有脊2 1 0 c i在脊 2 2 3 c 11a、 223a、 流體，在出 頸現象之效 造中發生粒 亦無法作爲 薄膜製法中 性。因此流 輥上纏繞。 .撐體之氣隙 生。爲了使 ;使用低聚合 :薄膜之光學 :質變難，使 -34- 200815177 因此爲了防止因流延塗布液1 4之瓶頸現象造$ 陷，氣隙AG (參見第3圖）較佳爲最大1〇〇毫米，更 最大10毫米，而且特別是最大5毫米。氣隙AG爲撐 流延帶44等）表面與脊210c、211c、233c、234c之 間的最小距離。爲了防止因流延帶44接觸由硬材料形 內定框板223、224造成之流延帶44缺陷，氣隙ag 爲至少0.1毫米。氣隙AG可依流延模41之位置、 CL1-CL4之大小、及行進流延帶44之上下方向位置波 _控制。 此外爲了使氣隙AG較小，其較佳爲形成接觸面 、211a、223a、224a，使得脊 223 c、224c 可較脊 21〇c、 接近流延帶44。爲了防止發生結皮，其可形成接觸面 、211a、223a、224a 使得脊 210c、211c 較脊 22 3 c、 接近流延帶44。. 爲了使氣隙AG較小，其必須在調整氣隙AG及 流延塗布液14時防止因接觸內定框板223、224之流 44缺陷。在習知方、式中，內定框板因此由樹脂製造 Teflon (註冊商標）等。然而在本發明中，內定框板 硬材料形成，如不銹鋼、陶瓷等，因此可以高準確度 距離C L 1、C L 4之調節及氣隙AG之調節。因此在本 ，其防止因瓶頸現象造成之缺陷，同時防止結皮。 爲了防止因模具膨脹現象與瓶頸現象造成之缺 流延模4 1之出口 4 1 a排放之流延塗布液1 4的黏度 lOPa.s 至 200 Pa.s 之範圍。 之缺 佳是 體（ 一之 成之 較佳 距離 動而 210a 2 11c 2 10a 2 2 4c 流延 延帶 ，如 係由 完成 明中 丨，自 丨佳爲 200815177 在此流延模具體實施例中，內定框板22 3、224係配置 使得接觸面223a與224a間之距離可幾乎固定。然而本發 明不限於此具體實施例。以下解釋流延模之第二-第四具體 實施例。應注意，相同號碼適用於流延模4 1之相同構件及 部分，而且省略其解釋。 如第8 & 9圖所示，流延模4 0 0具有連接管線6 1 (流 延塗布液經其流動）之入口 2 2 0，及用於流延塗布液（其 經入口 2 2 0進料至流延模4 0 0中）之排放出口 4 0 0 a。此外 肇 流延模4 0 0有一對唇板4 1 0、4 1 1，及一對板2 1 8、2 1 9。在 側板· 218、219之間有內定框板423、424。此外將塡料（ 未示）配置於側板2 1 8與內定框板423之間，及將其他塡 料（未示）配置於側板2 1 9與內定框板424之間。接觸面 410a、411a各形成於唇板410、411上，及接觸面423a、 4 2 4 a各形成於內定框板4 2 3、4 2 4上。接觸面4 1 0 a、4 1 1 a 、423a、424a形成連接入口 220之歧管415、及連接歧管 與出口 400a之縫416。 W 接觸面41 1 a具有上部45 0、配置於上部4 5 0按流出方 向A 1之下游側的中部4 5 1、及配置於中部4 5 1下端至出口 4 0 0 a之下部4 5 2。上部4 5 0與接觸面4 1 0 a間之距離稱爲 Τ Η 1，及下部4 5 2與接觸面4 1 0 a間之距離稱爲T Η 2。上部 4 5 0與下部4 5 2係形成使得可滿足條件τ Η 1 > Τ Η 2。此外中 部4 5 1至接觸面4 1 0 a之距離按流出方向由上至下游側變窄 。如此在縫416中’流延塗布液之厚度首先藉上部450至 接觸面4 1 0 a控制成Τ Η 1値，然後藉下部4 5 2至接觸面4 1 〇 a -36 - .200815177 控制成TH2値。然後將流延塗布液自出口 400a排放。 接觸面423a與424a間之距離W1係定義成流延 .液之流動寬度。距離W1在歧管415中幾乎完全固定 且在縫4 1 6接近出口 4 0 0 a之下部以預定比率變大。如 定框板423、424之接觸面423a、424a在下端部分具 流延模400之寬度方向傾向外側之傾斜面。由於各接 42 3 a、424a具有傾斜面，經排放流延塗布液粒之兩個 部分變薄，因此防止邊緣缺陷。應注意，傾斜表面對 Φ 發明之加寬表面。 在此具體實施例中，如果將加寬起始位置定爲接 42 3 a、424a間之距離W1開始變大之位置，則接觸面 之中部45 1在加寬起始位置下游側變寬。然而本發明 於此具體實施例。其可形成中部以在延伸起始位置之 部分開始按寬度方向延伸。 代替第二具體實施例之流延模4 0 0，第三具體實 之流延模5 0 0可用於本發明，如第1 0圖所示。流延模 _ 具有歧管5 1 5、縫5 1 6、接觸面5 2 3 a、5 2 4 a、及出口 。接觸面5 2 3 a、524a間之距離W1在較靠近出口 5 0 0 a 置變大。接觸面之下端部分可爲彎向流延模寬度方向 之彎曲面。此外距離W 1之延伸速率在縫5 1 6接近出口 之下部變小。 此外在這兩個具體實施例中，內定框板之接觸面 離在接近出口處變大。然而本發明不限於此。如第1 1. 不’弟二具體貫施例之流延模6 0 0可用於本發明。流 塗布 ，而 此內 有按 觸面 側緣 應本 觸面 4 11a 不限 上游 施例 ；500 5 0 0 a 之位 外側 5 00a 間距 圖所 延模 -37 - .200815177 6 0 0具有內定框板6 2 3、6 2 4、歧管615、縫616、及出口 600a。內定框板623、624各具有接觸面623a、624a，而且 接觸面623 a、624a間之距離W1自縫616之上游端以預定 比率變大，同時縫6 1 6在上游端連接歧管6 1 5。 在此具體實施例中，內定框板爲板構件。然而本發明 不限於此。因此如果內定框構件具有用於調節自出口排放 之流延塗布液寬度的接觸面，則可無關形狀使用其他型式 之內定框板。 # 本發明將由流延帶44形成之流延薄膜1 6乾燥而具有 自撐性質。然而本發明不限於此。例如本發明可應用於一 種其中藉由冷卻流延薄膜1 6而完成膠化，使得流延薄膜 1 6可具有自撐性質之溶液流延方法。特別地，在冷卻膠化 方法中，發生自撐性質所需時間較乾燥流延薄膜之方法短 ，而且快速冷卻之負面效果不大。因此膠化方法適合高速 薄膜製造。此外在以上具體實施例中使用連續地行進之流 延帶44 (參見第3圖）作爲撐體。然而本發明不限於此。 ® 撐體可爲軸向地轉動之流延圓篇。 本發明之溶液流延方法有用於流延多塗布液之流延方 法’例如共流延方法及循序流延方法。在共流延方法中， 進料區可附於流延模，如此具體實施例，或者可使用多歧 管型流延模（未示）。在具有多層結構之薄膜製造中，其將 多種塗布液流延至撐.體上形成具有第一層（最上層）及第 二層（最下層）之流延薄膜。然後在製造之薄膜中，第一 層之厚度與對立之最下層的厚度至少之一較佳爲總薄膜厚 -38 - .200815177 度之0.5 %至3 0%的範圍。此外在將其設計成實行共流延時 ，較高黏度塗布液被低黏度塗布液包夾。具體而言，其較 佳爲用於形成表面層之塗布液具有較用於形成被表面層包 夾之層的塗布液低之黏度。此外在將其設計成共流延時， 其較佳爲在模縫（或模唇）與撐體間之塗布液粒中，醇之 組成物在二外塗布液高於內塗布液。 日本專利公開公告第2005-104148號之[0617]至[0889] 詳述流延模、減壓室、撐體等結構，而且進一步關於共流 ® 延、剝除、拉伸、各程序之乾燥條件、處理方法、捲曲、 修正平面性後之捲繞方法、溶劑回收方法、薄膜回收方法 。其說明可應用於本發明。 [性質&測量方法] (捲曲程度&厚度） 曰本專利公開公告第2 0 0 5 - 1 0 4 1 4 8號之[0 1 1 2 ]至[0 1 3 9 ] 敘述關於捲繞醯化纖維素薄膜之性質及其測量方法。此性 質及測量方法可應用於本發明。 ^ [表面處理] 醯化纖維素薄膜較佳爲在至少一個表面之表面處理後 以數種方式使用。較佳表面處理爲真空輝光放電、在大氣 壓力下電漿放電、UV光照射、電暈放電、火燄處理、酸處 理與驗處理。此外較佳爲利用這些表面處理之一。 [功能層] (抗靜電、硬化、抗反射、易黏著&抗眩層） 醯化纖維素薄膜在至少一個表面上可具底塗層，而且 -39- 200815177 以數種方式使用。 其較佳爲使用醯化纖維素薄膜作爲可對其提供功能層 之一的基膜。較佳功能層爲抗靜電層、硬化樹脂層、抗反 射層、易黏著層、抗眩層、與光學補償層。 用於形成功能層之條件及方法詳述於日本專利公開公 告第2005-104148號之[0890]至[1087]，其可應用於本發明 。如此製造之薄膜可具有數種功能及性質。 這些功能層較佳爲含〇·1毫克/平方米至1 000毫克/平 Φ 方米範圍之至少一種界面活性劑。此外功能層較佳爲含0 . 1 毫克/平方米至1 0 〇 0毫克/平方米範圍之至少一種塑性劑。 功能層較佳爲含0.1毫克/平方米至1〇〇〇毫克/平方米範圍 之至少一種消光劑。功能層較佳爲含1毫克/平方米至1 〇 〇 〇 毫克/平方米範圍之至少一種抗靜電劑。 (各種用途） 製造之醯化纖維素薄膜可有效地作爲偏光濾色片用保 護膜。在偏光濾色片中，其將醯化纖維素薄膜黏附偏光片 ® 。其通常將兩片偏光濾色片黏附液晶層使得可製造液晶顯 示器。應注意，液晶層及偏光濾色片之排列不限於此，而 且數種已知排列爲可行的。日本專利公開公告第 200 5 - 1 04 1 4 8號詳細揭示ΤΝ型、STN型、VA型、OCB型 、反射型、及其他型式之液晶顯示器。此說明可應用本發 明。此外，此公告第2 0 0 5 - 1 0 4 1 4 8號敘述具光學各向異性 層及具有抗反射與抗眩功能之醯化纖維素薄膜。此外由於 爲具適當光學功能之雙軸醯化纖維素薄膜，製造之薄膜可 -40- .200815177 作爲光學補償膜。此外此光學補償膜可作爲偏 保護膜。其詳細說明在公告第2005-1 04 1 48號 [1265卜 在形成本發明聚合物薄膜之方法中，形成 素薄膜的光學性質優良。TAC薄膜可作爲偏光 護膜、感光性材料之基膜等。此外爲了改良液 用於電視等）之視角依附性，製造之薄膜亦可 償膜。特別地，在兼作偏光濾色片用保護膜時 • 使用製造之薄膜。因此薄膜不僅用於如先行模 式，而且用於IPS模式、OCB模式、VA模式等 構成具有保護膜作爲構造元件之偏光濾色片。 此外本發明不限於光學薄膜之製造，而且 液流延方法製造任何薄膜。例如本發明適用於 於燃料電池之質子穿透材料的固態電解膜。應 本發明之聚合物不限於醯化纖維素，而是可爲 合物。 ® [實驗] 本發明之實驗已完成，其如以下之解釋。 五個薄膜製造實例。實例1 & 2爲本發明之實 3-5爲對實例1 & 2之比較。詳細解釋實例1， 2_5之解釋中省略相同處之解釋。 [實例1] 以下解釋實例1。用於製備用於薄膜製造 組成物如下： 光濾色片用 之[1088]至 之醯化纖維 滅色片用保 晶顯示器（ 用於光學補 ，其有效地 式之TN模 。此外其可 適用於藉溶 製造作爲用 注意，用於 任何已知聚 此實驗實行 例，及實例 而且在實例 之塗布液的 -41 - .200815177 <固體化合物> 三乙酸纖維素 8 9.3重纛％ (取代程度：2.8 ) 塑性劑A (磷酸三苯酯） 7 · 1重量％ 塑性劑B (磷酸聯苯基二苯酯） 3.6重纛％ <溶劑> 二氯甲烷（第一溶劑成分） 92重纛％ 甲醇（第二溶劑成分） 8重纛％ 如上所述，塗布液用溶劑含第一及第二溶劑成分。將 固體成分適當地加入溶劑，而得到塗布液1 1。應注意，所 得塗布液1 1之固體含量爲1 9 · 3重量％。然後使用過濾器（ 東洋濾紙（股）製造之#63 LB )將塗布液1 1過濾，而且進一 步使用燒結金屬過濾器（06N，多孔性直徑1 〇微米，日本 精線（股）製造）過濾。此外使用篩過濾器將塗布液1 1過濾 然後儲存在原料槽3 9。 <三乙酸纖維素〉 依照用於此實驗之三乙酸纖維素，乙酸殘餘含量爲最 大0.1重量％’ Ca含量爲5 ppm，Mg含量爲70 ppm，Fe 含量爲〇 · 5 P p m，自由乙酸爲4 〇 p p m，及硫酸離子含量爲 15 ppm。第6位置處乙醯化程度爲0.91，及第6位置德乙 醯基對所有乙醯基之百分比爲3 2.5 %。丙酮萃取物爲8重 量％，及重量平均分子量對數量平均分子量之比例爲25。 此外黃化指數爲1 · 7，霧値爲〇 · 〇 8，及透明度爲9 3 · 5 %。此 三乙酸纖維素係由纖維素作爲得自棉之材料而合成，而且 -42- 200815177 在以下之解釋中稱爲棉TAC。 <消光劑液體之製備>、 製備消光劑液體以含以下化合物，而T A C係與用於塗 布液11之製備者相同： 0.67重量％ 2.93重量％ 0.23重量％ 0.1 2重量％ 8 8.3 7重量％ 7.68重量％ 矽石 (Aerosil R972，Nippon Aerosil Co·，Ltd·製造）
三乙酸纖維素 磷酸三苯酯 磷酸聯苯基二苯酯 二氯甲院 甲醇 使用硏磨器製造以上化合物之混合物的分散液，使得 體積中平均粒徑爲0.7微米。如此製備消光劑液體，然後 使用 Astropore 過濾器（Fuji Photo Film Co·，Ltd·製造）過 濾，然後儲存於消光劑槽中。 <UV吸收劑液體之製備> UV劑A 5.83重量％ (2-(2，-羥基-3’，5’-二第三丁基苯基）-5-氯苯并三唑） ' UV劑B i〗·66重量。 (2- ( 2’-羥基-3’，5 5 -二第三戊基苯基）苯 1.4 8重量％ 并三唑） 三乙酸纖維素 -43 - •200815177 0. 1 2重量％ 0.0 6重量％ 7 4.3 8重量％ 6.4 7重量％ 磷酸三苯酯 磷酸聯苯基二苯酯 二氯甲烷 甲醇 使用 Astropore 過濾器（Fuji Photo Film Co.，Ltd.製造） 將製備之uv吸收劑液體加以過濾，然後儲存於u V劑槽。 此外製備混合物溶劑A以含8 6.5重量％之二氯甲烷、 φ 13重量％之甲醇、0.5重量％之1-丁醇。 將消光劑液體加入UV吸收劑液體，及將混合物藉靜 態混合器攪拌而得到添加劑液體。驅動泵5 8將塗布液1 1 經管線6 1進料，及藉過濾裝置5 9將塗布液1 1過濾。然後 將添加劑液體加入塗布液1 1，而且藉靜態混合器6 0混合 塗布液U與添加劑液體。如此得到流延塗布液1 4。 使用第2圖所示之薄膜生產線40製造薄膜22。泵58 增加主側壓力，及使用變頻馬達以反饋控制將塗布液1 1進 φ 料至泵之上游側，使得主側壓力可爲〇 . 8 MP a。至於泵.5 8 之效率，體積效率爲最大9 9.2 %，排放體積之波動百分比 爲最大〇 . 5 %。此外排放壓力爲1 . 5 MP a。 流延模4 1包括唇板2 1 0、2 1 1、側板2 1 8、2 1 9、內定 框板2 2 3、2 2 4，同時流延模4 1之這些構件係由體積波動 百分比爲0.002 %之SUS316形成。至於唇板210、211及內 定框板223、224之接觸面210a、211 a、22 3 a、224a的修 整精度，表面粗度爲最大1微米且在任何方向之直線性爲 最大1微米。此外至於出口 41a邊緣之突出’距離CL1-CL4 -44 - 200815177 爲最大2微米。 控制流延塗布液1 4在流延模4 1中接近出口 4 1 a之流 速。來自流延模4 1出口 4 1 a之流延塗布液1 4的流延寬度 爲1700毫米。流延速度爲45米/分鐘至55米/分鐘之範圍 。在外套入口將熱傳遞介質之溫度控制成3 6 °C，使得流延 塗布液1 4之溫度可控制成3 6 °C。 在此實驗中，唇板2 1 0、2 1 1及內定框板2 2 3、2 2 4之 大小與大小變化係使用解析度爲1微米之顯微鏡測量。 ® 在薄膜製造期間將流延模4 1及管線之溫度控制成3 6 °C。流延模4 1爲塗架型，其中用於調整薄膜厚度之熱螺栓 係以2 0毫米之節距配置。如此藉熱螺栓自動地控制薄膜厚 度（或塗布液厚度）。熱螺栓之外形可基於預設程式，對應 泵（未示）之流速而設定。如此可基於配置在薄膜生產線 40中之紅外線厚度計（未示）的外形，藉控制程式完成反 饋控制。其進行控制使得除了兩個側緣部分（所製造薄膜 之寬度方向各2 0毫米）之外，兩點（彼此分隔5 0毫米） 間之薄膜厚度差可爲最大1微米，而且寬度方向之薄膜厚 度最小値間的最大差可爲最大3微米/米。此外平均薄膜厚 度可控制在1 . 5 %。 ' · - . 流延模4 1之主側（即上游側）具有減壓室8 5。減壓 室85之減壓率係依照流延速度控制，使得在流延帶44上 方所排放流延塗布液之塗布液粒的上游與下游側間發生1 P a至5 0 0 0 P a範圍之壓力差。此時測定塗布液粒之兩側間 壓力差’使得塗布液粒之長度可爲20毫米至50毫米。此 -45 - 200815177 外提供一種儀器使得減壓室8 5之溫度可設定爲高於流延 段附近氣體之冷凝溫度。此外在塗布液粒之上游及下游側 有曲徑封塡（未示）。 唇板2 1 0、2 1 1、側板2 1 8、2 1 9、及內定框板2 2 3、2 2 4 之材料爲不銹鋼，其熱膨脹係數爲最大2 X 1 (Γ 5 (°C _1)。在 電解質溶液之強制腐蝕實驗中，腐蝕抗性幾乎與 S U S 3 1 6 相同。此外用於流延模4 1之材料具有足夠之腐鈾抗性，使 得在氣-液界面上不發生斑蝕（或斑鈾腐蝕），即使將此材 • 料浸於二氯甲烷、甲醇與水之混合液體中經三個月。各流 延模對流延塗布液1 4之接觸表面的修整精度爲最大1微米 之表面粗度，及將縫餘隙調整成1 . 5毫米之直線性。依照 流延模4 1唇端之接觸部分的邊緣，R在全寬爲最大5 0微 米。此外流延模41中之剪切率係控制於每秒1至5 000次 之範圍。此外藉熔化擠壓法由流延模4 1在唇端上完成WC 塗覆，以提供硬化層。 流延帶44爲寬1.9米及長70米之不銹鋼帶。流延帶 胃 44之厚度爲1.5毫米，而且將流延帶44之表面拋光，使得 使表面粗度可爲最大〇，〇 5微米。材料爲S U S 3 1 6，其具有 足夠之腐蝕抗性及強度。全部流延帶44之厚度不均勻性最 大爲預定値之0.5%。流延帶44係藉由轉動輥42、43而移 動。此實驗係控制使得流延帶44對支撐輥42、43之相對 速度差爲最大〇.〇1米/分鐘。此外控制使得流延帶44之速 度變動最大爲預定値之〇 . 5 %。偵測側端之位置而控制帶在 寬度方向之位置，使得流延帶44行進一圈之蜿蜒降爲1 . 5 -46 - 200815177 毫米。此外在流延模41下方，流延模4 1唇端與流延帶4 4 間之垂直方向位置變動爲200微米。 此實驗對支撐輥42、43供應熱傳遞介質，使得可控制 流延帶44之溫度。其對配置於流延模4 1 一側之支撐輥43 供應5°C之熱傳遞介質（水），及對支撐輥42供應40它之 熱傳遞介質（水）。恰在流延前之位置的流延帶4 4中部之 表面溫度爲1 5 °C，而且帶兩側間之溫度差爲最大6 °C。應 注意，針孔（直徑至少3 0微米）之數量爲零個，針孔（直 ® 徑至少1 0微米且小於3 0微米）之數量爲每平方米最多1 個，及針孔（直徑小於1 〇微米）之數量爲每平方米最多2 個。 首先將乾燥空氣平行於流延薄膜1 6而進料以完成乾 ， 燥。此外自上游空氣導管87a饋出140°C乾燥空氣以將流 延薄膜16乾燥，自下游空氣導管87b饋出140 °C乾燥空氣 以將流延薄膜16乾燥，及自下空氣導管87c饋出65 °C乾 燥空氣以將流延薄膜1 6乾燥。應注意，藉由以氮氣取代空 ^ 氣而將流延帶4 4上乾燥大氣中之氧濃度保持5體積％。爲 了將氧濃度保持5體積％，其將乾燥大氣之內部空氣以氮 氣取代。流延室8 1中之溶劑蒸氣係藉由將冷凝器8 2之出 口溫度設定爲-3 °C而回收。 將接近流延模4 1之靜態波動降至最大± 1 P a。在流延 薄膜16具有自撐性質時，.將流延薄膜16自流延帶44剝除 成爲以輥8 9支撐之濕膜1 8。爲了減少剝除缺陷，其將剝 除速度（剝除輥之抽拉）對流延帶4 4之速度之百分比控制 -47- 200815177 成100.1%至110%。將在蒸發中產生之溶劑蒸氣藉-3°C之冷 凝器8 6冷凝成液態，而且藉回收裝置8 3回收。將所回收 溶劑之水含量調整成最大0.5 %。此外將去除溶劑成分之空 氣再度加熱及再用於乾燥空氣。將濕膜1 8以轉移區域9 0 之輥朝拉幅機乾燥機4 5輸送。在轉移區域9 0中，其自吹 風機9 1將6 0 °C乾燥空氣饋至濕膜1 8。拉幅機抽拉（輥8 9 至拉幅機乾燥機45入口之薄膜長度倍數）爲103.0%。 在拉幅機乾燥機4 5中，其藉夾子夾住或夾持濕膜1 8 ® 之兩個側緣部分，而且將濕膜1 8運輸通過溫度區。在拉幅 機乾燥機4 5之運輸期間對濕膜1 8進行預定拉伸及乾燥， 然後將濕膜1 8自拉幅機乾燥機45饋出成爲薄膜22送至邊 緣切割裝置46。 在拉幅機乾燥機45中蒸發之溶劑蒸氣係藉冷凝器（未 示）在-3 °C冷凝及液化以回收溶劑。然後將所回收溶劑之 水含量調整成最大0.5重量。/〇。 在離開拉幅機乾燥機4 5之3 0秒內，其在邊緣切割裝 • 置4 6中切除薄膜2 2之兩個側緣部分。在此實驗中，其測 定薄膜22之寬度方向各側部分5 0毫米作爲側緣部分，藉 邊緣切割裝置46之NT型切割器將其切除。應用來自吹風 機（未示）之吹風將切除之側緣部分送至壓碎器93，而且 壓碎成約8 0平方毫米之碎片。將碎片儲存在邊緣貯倉中以 再度使用作爲塗布液製備用T A C屑之原料。在乾燥室4 7 中以高溫乾燥前，在供應l〇〇°C吹風之預熱室（未示）中 完成薄膜22之預熱。 -48 - 200815177 薄膜22係在乾燥室47中以高溫乾燥，其分隔成四個 隔間。由吹風機（未示）自上游側將溫度爲1 20 °C、1 3 (TC 、130°C、與130°C之吹風饋入隔間。各輥100對薄膜22 之運輸張力爲1 〇 〇牛頓/米。將乾燥進行1 〇分鐘使得殘餘 溶劑含量可爲 0.3重量％。某些輥1〇〇之餘面角（lapping angle)爲8 0°，而且其他爲190°。輥100係由鋁或碳鋼製成 。在表面上完成硬鉻塗覆。輥100之表面平坦或經消光處 理之噴砂處理。輥轉動之搖動爲5 0微米內。此外將張力爲 ® 1 〇 0牛頓/米之各輥1 0 0的彎曲降爲最大0.5毫米。 使用吸附裝置1 0 1 (其中使用吸附劑）去除含於乾燥 空氣之溶劑蒸氣。吸附劑爲活性碳，而且脫附係使用經乾 燥之氮實行。將所回收之溶劑在水含量可作成最大〇 . 3重 量％後再使用作爲塗布液製備用溶劑。乾燥空氣不僅含溶 劑蒸氣，亦含塑性劑、U V吸收劑及高沸材料。因此使用冷 卻去除用冷卻器及前吸附器去除之。如此再使用乾燥空氣 。吸附及脫附條件係設爲使得廢氣之V 〇 C (揮發性有機化 合物）含量爲最大1 0 p p m。此外在全部蒸氣溶劑中，藉冷 凝方法回收之溶劑含量爲9 0重量％，而且大部分之其餘溶 劑蒸氣係藉吸附回收法加以回收。 將經乾燥薄膜2 2運輸至第一濕度控制室（未示）。在 乾燥室47與第一濕度控制室之間有其中饋入η 〇χ：乾燥空 氣之運輸區域9 0。在第一濕度控制室中饋入溫度及露點各 爲5 0°C及20°C之空氣。此外將薄膜22運輸至第二濕度控 制室（未示）以防止薄膜2 2捲曲。在第二濕度控制室中直 -49 - 200815177 接施加溫度及濕度各爲9 (TC及7 0 %之空氣。 在濕度控制後，將薄膜22在冷卻室48中冷卻使得薄 膜之溫度爲最高3 0°C。然後切除兩個薄膜邊緣部分。此外 強制中和裝置（或中和棒）1 0 2排除薄膜2 2之帶電靜電電 位能至-3 kV至+3 kV之範圍。在中和後藉滾紋輥103完成 薄膜2 2之兩個側部分的壓花以提供滾紋。滾紋區域寬1 〇 毫米，而且決定滾紋壓力使得最大壓花高度平均較平均厚 度大1 2微米。 ^ 將薄膜2 2運輸至捲繞室4 9，其內溫及濕度各保持在 2 8 °C及7 0%。此外提供強制中和裝置（未示），使得薄膜之 帶電靜電電位能可爲-1 · 5 kV至+ 1 . 5 kV之範圍。使用壓輥 將薄膜2 2圍繞捲軸1 1 0捲繞，如此可得薄膜捆。薄膜之厚 度爲7 0微米及寬度爲1500毫米。 [實例2] 流延模包括陶瓷製內定框板，其體積波動百分比爲 0.0 02%。其他條件係與實例1相同，而且藉溶液流延方法 ®製造薄膜22。 [實例3] 在流延模4 1之唇端上’出口 4 1 a邊緣上之突出的距離 C L 1 - C L 4爲至少1 0微米。其他條件係與實例！相同，而且 藉溶液流延方法製造薄膜22。 [實例4] 在流延模4 1之唇端上’出口 4丨a邊緣上之突出的距離 C L 1 - C L 4爲至少3 0微米。其他條件係與實例1相同，而且 -50- 200815177 藉溶液流延方法製造薄膜22。 [實例5] 流延模包括Teflon (註冊商標）製內定框板，其體積 波動百分比爲2 %。其他條件係與實例1相同，而且藉溶液 流延方法製造薄膜22。 [薄膜之評估] 對於以上實例’關於結皮發生之處及薄膜表面之光滑 性而評估所製造薄膜2 2。以下敘述評估方法。應注意，在 ^ 所有實例1 -5中評估係以相同方式完成，而且評估結果示 於表1。 [評估（1):結皮之觀察] 在流延程序中’在將流延塗布液自流延模排放時，以 肉眼觀察流延塗布液之表面是否發生結皮。在未觀察到結 皮時評估爲A。在稍微觀察到結皮但薄膜可使用時評估爲B 。在太明顯地形成結皮且薄膜無法使用時評估爲C。 [評估（2):薄膜表面之光滑性] W 自實例1-5所得之各薄膜切除具有長度方向爲1.5米 之大小及寬度方向之薄膜寬度的薄膜樣品。如此薄膜樣品 具有如所得薄膜之相同寬度。對薄膜樣品照射反射光，而 且觀察薄膜表面之不均勻性。在未觀察到不均勻性時評估 爲A。在稍微觀察到不均勻性但薄膜可使用時評估爲B。 在太明顯地形成不均勻性且薄膜無法使用時評估爲C。 200815177 [表1 ] 評估 ⑴ (2) 實例1 A A 實例2 A A 實例3 C C 實例4 C C 實例5 c c 如表1所示，在應用本發明之實例i & 2中，所製造 薄膜具有優良之薄膜表面光滑性。‘此外由於在流延程序中 減少結皮發生，裝置及流延室中構件（例如流延模、流延 帶等）之清潔爲不必要'，因此溶液流延方法之生產力變高 。然而在各賓例3 - 5中，所製造薄膜之薄膜表面具有不均 勻性且光滑性不適合薄膜產物。此外由於經常發生結皮， 其必需進行裝置及流延室中構件之清潔，而且溶液流延方 法之生產力變低。 結果本發明之流延模可防止結皮發生，而且其中使用 此流延模之溶液流延方法及溶液流延設備可有效地製造光 滑性優良之薄膜。 各種變化及修改在本發明中爲可行的，而且應了解其 在本發明之範圍內。 【圖式簡單說明】 熟悉此技藝者·在閱讀以上詳細說明結合附圖時易於了 解本發明之以上目的及優點。 -52- 200815177 第1圖爲描述應用本發明之薄膜生產線的程序之流程 圖； 第2圖爲薄膜生產線之略示圖； 第3圖爲描述在薄膜生產線中，自本發明第一具體實 施例之流延模排放流延塗布液之位置的略示圖； 第4圖爲流延模之切面圖； 第5圖爲沿第4圖之線V-V的流延模切面圖； ' 第6圖爲流延模底部之正視圖； • 第7A-7B圖爲流延模之側視圖，其描述調整流延模之 內定框板位置的情況； 第8圖爲第二具體實施例之流延模的切面圖； 第9圖爲沿第8圖之線IX-IX的流延模切面圖； 第1 〇圖爲第三具體實施例之流延模的切面圖； 第1 1圖爲第四具體實施例之流延模的切面圖； 第12圖爲描述在先行技藝薄膜生產線中自流延模排 放流延塗布液之情況之略示圖；及 w 第1 3圖爲第1 2圖之先行技藝流延模底部的平面圖。 【主要元件符號說明】 10 薄 膜 製 法 11 塗 布 液 14 流 延 塗 布 液 15 塗 布 液 製 法 16 流 延 薄 膜 17 流 延 程 序 -53 - 200815177
18 濕膜 19 剝除程序 2 0 乾燥程序 22 薄膜 39 原料槽 40 薄膜生產線 4 1 流延模 4 1a 出口 42 支撐輥 43 支撐輥 44 流延帶 45 拉幅機乾燥機 46 邊緣切割裝置 4 7 乾燥室 48 冷卻室 49 捲繞室 55 馬達 56 攪拌器 5 8 泵 59 過濾裝置 60 靜態混合器 61 管線 80 熱傳遞介質循 8 1 流延室 -54 200815177 82 冷 83 回 85 減 87a 吹 87b 吹 87c 吹 87d 擋 89 輥 90 轉 9 1 吹 1 00 輥 10 1 吸 102 強 1 03 滾 110 捲 111 壓 2 10 唇 2 10a 接 2 10b 丄山 m 2 10c 脊 2 11 唇 2 11a 接 211b 端 2 11c 脊
凝器 收裝置 壓室 風機 風機 風機 風板 移區域 風機 附裝置 制中和裝置 紋輥 繞軸 輥 板 觸面 面 板 觸面 面 -55 .200815177
2 15 歧管 2 16 縫 2 18 側板 2 19 側板 22 0 入口 22 0 a 接觸面 22 1 唇板 221a 接觸面 22 1b 端面 22 1 c 脊 223 內定框板 2 2 3 a 接觸面 223 b 端面 223 c 脊 223 d 面 223 x 脊 223 y 脊 224 內定框板 224a 接觸面 224b 端面 224c 脊 224x 脊 2 2 4 y 脊 3 00 流延模 200815177
3 0 0a 出口 30 1 塗布液 3 02 撐體 3 03 流延薄膜 3 10 唇板 3 10a 接觸面 3 i i 唇板 3 11a 接觸面 3 12 側板 3 13 側板 3 14 內定框板 3 14a 接觸面 3 15 內定框板 3 15a 接觸面 400 流延模 400a 出口 410 唇板 410a 接觸面 4 11 唇板 4 11a 接觸面 41 5 歧管 416 縫 423 內定框板 423 a 接觸面 200815177
424 內定框板 424a 接觸面 45 0 上部 45 1 中部 452 下部 500 流延模 5 00a 出口 5 15 歧管 5 16 縫 5 2 3 a 接觸面 5 24a 接觸面 600 流延模 6 0 0 a 出口 6 15 歧管 6 16 縫 623 內定框板 623 a 接觸面 624 內定框板 624a 接觸面