TW200404165A - Enhanced heat mirror films - Google Patents

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200404165 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於雙折射介電多層反射膜以及依此所製得之光 學物件。 •【先前技術】 鑲嵌玻璃材料有時包含一或多種經建造以增強鑲嵌玻璃 效能之功能層。一種重要的功能層降低紅外輕射之透射。 紅外阻隔功能層通常係由可反射或吸收不想要的日光輕射 之部分透明的金屬化或染色聚合物膜結構體製成。描述此 等功能層之文獻包含美國專利第4,590，118、4,639,069及 4,799,745 號。 一種特別有用的紅外阻隔功能層可自紅外阻隔法布一柏 羅（Fabry-Perot)四分之一波堆疊體形成。於此一堆疊體中， 透明的介電—間隔層分開二或多個部分反射性薄金屬或金屬 合金層。金屬或金屬合金層（為了簡潔之目的，有時於此中 將稱為金屬層"）通常含元素或合金的銀、銅或金。介電層 通常含無機氧化物（自有機溶液施用或使用濺鍍沉積施 用）。介電層光學厚度（係定義為物理厚度乘以其面内折射率） 較佳為所欲通過頻帶（pass band)中央波長之約四分之一。其 波長在通過頻帶内之光主要穿透薄金屬層。其波長超過通 過頻帶之光主要受薄金屬層反射或因破壞性干涉而抑制。 描述此等紅外阻隔法布·柏羅四分之一波堆疊體之文獻包 含美國專利第 4,590，118、4,639,069及4,799,745號。 紅外阻隔功能層亦已製自含交替介電材料層之雙折射非 87152 200404165 金屬膜。雙折射介電多層膜（亦可稱為多層光學膜或，，m〇f，，) 可經建造以便在令人感興趣的頻譜區域中反射或吸收所需 光，同時在頻譜的可見光區透射充足的可見光以成為 大體上透明的。多層光學膜較佳包含具第一折射率之第一 材料與具第二折射率（與第一折射率不同）之第二材料的交 替層。多層光學膜可具有非常大或不存在的布魯斯特角 (Brewster angle)(p偏振光之反射率為零處之角度）。此膜可 製為其p偏振光之反射率以緩慢入射角降低、與入射角無關 或隨著離開法線的入射角提高之多層鏡。多層光學膜在任 一入射方向可具高反射率（就s&p偏振光兩者而言描述此 等多層光學膜之文獻包含美國專利第5,699，188、5,882,774 及6,049,419號及PCT公開申請案第97/〇1778號。 已嘗試包含具透明金屬化膜結構體之功能層於鑲嵌玻璃 (例如建築及汽車安全鑲嵌玻璃）中。然而，此等嘗試僅具有 有限的成功。非平面鑲嵌玻璃之製法特別困難。本案發明 人相信此等困難係部分地由於一或多層堆疊層之，易碎性、 由於金屬層之腐蝕趨向或由於金屬層間距離之局部變化 (藉奢於層壓、熱壓及接、續使用镶嵌玻璃期間出現之拉直、 加熱及冷卻而造成）。本案發明人相信，當功能層放置於與 才几撕破機械能吸收層（例如聚乙婦基丁縮醛（，下从以，））時，可 能加劇此等困難性。PVB板片通常含相當大量的增塑劑及 其他輔助劑。本案發明人相信，此等輔助劑可移入紅外阻 隔官能層中，且造成腐蝕、溶脹、法布-柏羅堆疊體之金屬 層間距離的局部變化或其他可造成製造或效能問題之效 87152 200404165 應。 本案發明人發現，藉任一順序形成薄金屬層及交聯聚合 · 層於雙折射介電多層支持體頂部上，且視情況於其上形成 一或多個額外薄金屬層或交聯聚合層，本案獲致改良的功 月匕層本案發明人亦發現，藉改質改質介於薄金屬層與膜 · 内相鄰層間之界面可達到進一步改良，俾增強層間黏附性。 【發明内容】 本案揭示一種製膜之方法，其包含： a) 挺供在另人感興趣的波長區域之至少1〇〇毫微米寬頻 帶中反射至少50%光線之透可見光雙折射介電多層支 持體，及 b) 依任一順序在該支持體頂部形成： 0 透可見光的金屬或金屬合金層，及 交聯聚合層， 其中該金屬或金屬合金層之厚度係使得該膜是透可見光的 且其反射頻帶相對於該支持體之反射頻帶為寬。不同的說 · 法為，完成的膜之反射頻帶較支持體本身之反射頻帶為寬。 - 本案亦揭示一種製造鑲嵌玻璃物件之方法，其包含組裝 一層鑲嵌玻璃材料及一膜，該膜包含在另人感興趣的波長 區域之至少100毫微米寬頻帶中反射至少50%光線之雙折射 介電多層支持體、其厚度使得該膜是透可見光的且其反射 頻帶變寬（相對於支持體本身之反射頻帶）之金屬或金屬合 金層及交聯聚合層，及使該鑲嵌玻璃材料與該膜一起形成 單一物件。 87152 200404165 本案亦揭示一種製造層壓物件之方法，其包含： a) 組裝： i) 第一層鑲嵌玻璃材料， H) 第一機械能吸收材料層， ui)透可見光及紅外反射膜，其包含在另人感興趣的 波長區域之至少100毫微米寬頻帶中反射至少 50%光線之雙折射介電多層支持體、其厚度使得 該膜是透可見光的且其反射頻帶變寬（相對於支 持體本身之反射頻帶）之金屬或金屬合金層及交 聯聚合層， iv) 第二機械能吸收材料層，及 v) 第二層鑲嵌玻璃材料， b) 自此等層間移除殘餘空氣，及 c) 加熱及·施壓以使此等層一起形成單一物件。 本案亦揭示一種膜，其包含在另人感興趣的波長區域之 至少100毫微米寬頻帶中反射至少50〇/〇光線之雙折射介電多 層支持體、其厚度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶變 寬之金屬或金屬合金層及交聯聚合層。 本案亦揭示一種鑲嵌玻璃物件，其包含至少一層接合於 透可見光及紅外反射膜之鑲嵌玻璃材料，該透可見光及紅 外反射膜包含在另人感興趣的波長區域之至少毫微米 寬頻帶中反射至少50%光線之雙折射介電多層支持體、其厚 度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶變寬（相對於支持 體本身之反射頻帶）之金屬或金屬合金層及交聯聚合層。 87152 200404165 本案亦揭示一種安全鑲嵌玻璃預層壓物，其包含至少一 層接合於透可見光及紅外反射膜之機械能吸收材料，該透 可見光及紅外反射膜包含在另人感興趣的波長區域之至少 微米寬頻帶中反射至少50%光線之雙折射介電多層支 持體、其厚度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶變寬（相 對於支持體本身之反射頻帶）之金屬或金屬合金層及交聯 聚合層。 本案亦揭示一種具鑲嵌玻璃之汽車，該鑲嵌玻璃包含具 有透可見光及紅外反射膜之至少一擋風玻璃、後燈、侧窗 或天®，琢透可見光及紅外反射膜包含在另人感興趣的波 長區域 < 至少100耄微米寬頻帶中反射至少5〇%光線之雙折 射介電多層支持體、其厚度使得該膜是透可見光的且其反 射頻V變寬（相對於支持體本身之反射頻帶）之金屬或金屬 合金層及交聯聚合層。 乂上般摘要係為了提供讀者便利性。其不應取代或混 看如附中請專利範圍（有時可能修正），因為本發明之範圍僅 受限於申請專利範圍。 【實施方式】 #吏用足位用Μ，例如用於所揭示膜或物件中各層位置 <在頂邵、在上万’’、，，最上方，，及類似用語，其代表關於 水平支持層之-或多層的相對位置。本案巾請人不打算使 膜或物件於製造期間或之後應具有在空間中之任何特殊定 位。 夂聚a物4代表藉共價化學鍵（通常經由交聯分子 87152 -9 - 200404165 或基團）將聚合物鏈接合在-起以形成網絡聚合物之聚合. 物。交聯聚合物之通常特徵在於不溶性，但可能在適當溶. 劑存在下溶脹。”聚合物，，一詞代表均聚合物及共聚物，以 及可形成於混溶摻合物中之均聚合物或共聚物（例如藉共 擠壓作用或藉反應，含例如轉酯化反應）。”共聚物，，及"共聚 ’ 醋”等用語同時代表無規及嵌段共聚物。 可延伸的金屬或金屬合金層代表當合併於透可見光膜 時可於面内方向扛直至少3%之層，而不喪失電連接性且於 金屬或金屬合金層表面不形成可見的不連續性（以裸眼於 至少約0.25公尺之距離偵測）。 ••透可見光的”支持體、層、膜或物件代表支持體、層、 膜或物件在頻譜的可見光部分具平均透射率丁心之至少約 20% (沿著法線軸測定）。，，紅外反射的，’支持體、層、膜或物 件代表在至少100毫微米寬之頻帶（於波長為約7〇〇毫微米 至約2000毫微米）反射至少5〇〇/0光（以近直角（例如約入射角 之6度角）測得）之支持體、層、膜或物件。，’光"代表日光輕 響 射。 ~ 反射頻V代表大體上由討論中的膜或物件反射之光的 波長範圍。於膜或其他物件包含多層支持體及與該支持體 不同的額外層時，膜或其他物件之反射頻帶稱為”變寬，，（當 整個膜或物件大體上反射的波長範圍跨越較與（1)多層支持 體本身及（2)額外層本身有關之大體上反射的波長範圍更大 的波長範圍時）。 M非平面的’’表面或物件（例如玻璃或其他鑲嵌玻璃材料） 87152 -10- 200404165 代表具連續、間斷、單向或複合曲率之表面或物件。具，，複 合曲率，，之表面或物件代表表面或物件在二個不同的非線 性方向（自單一點）彎曲。 非大τ斷裂或弄皺”代表已層壓為物件之膜，且其中在 膜或可見金屬或金屬合金層表面上缺乏可見的不連續性 (係以裸眼於約1公尺距離，較佳為约0 5公尺偵測p ,，非大 量起敏’’代表已層壓為物件之膜’且其中缺乏由於平滑膜表 面集中所造成的小隆起線或皺紋（係使用裸眼於約〗公尺距 離，較佳為约0.5公尺偵測）。"光學上透明的，，代表其中缺乏 可見的明顯扭曲、混濁或裂隙（係以裸眼於約丨公尺距離， 較佳為約0·5公尺偵測）之膜或物件。 睛看圖1，二層MOF支持體4係以透視圖顯示。一般而言， 支持體將具有數十或數百或甚至數千個此等層。層6係於x_ 及y-軸方向具面内折射率nlx及nly，且於2_軸方向具折射率 nlz。層8係於χ-及严軸方向具面内折射率η2χ及n2y，且於z_ 軸方向具折射率n2z。入射光線5當通過層6時折射，在界面 7處反射，田再度通過層6時折射，且以反射光線9離開層6。 多層支持體之反射性質（當自身考量時）係由支持體内之此 等層的面内折射率所決定。確切地，反射率係取決於每一 層材料在X、y&z方向之折射率間的關係。M〇F支持體較佳 係使用至少一個單軸雙折射材料而形成，其中二折射率（通 常沿著X及y軸，或nx及ny)大約相等且與第三折射率不同（通 常沿著z軸，或nz)。 於圖2A中，膜10係以斷面示意圖顯示。層12已拉直且具 87152 -11 - 200404165 有比相鄰層14之折射率n2更高的折射率ni。層12、14之堆 疊體一起形成MOF支持體15。交聯聚合層16係位於支持體 15頂部。金屬或金屬合金層18(如上述可簡單地稱為”金屬層 π)係位於層16頂部。入射光線（例如光線2〇)部分地在金屬層 18之第一表面處、層18與16間之界面22、層16與相鄰層12 間之界面24及相鄰層12與14間之界面（例如界面26a、26b及 類似者）反射。層18係夠薄，以致於層16及膜10整體而言是 透可見光的。層20係夠厚，以致於膜10之反射頻帶整體而 言是變寬的。因此，於此等膜中，金屬層18合併MOF支持 體15以提供具有相較於僅含金屬層或僅含m〇f支持體之較 寬反射頻帶（例如用於紅外輻射）的膜。交聯聚合層丨6與金屬 層18緊密接觸，且咸信當膜1〇經拉直或者受應變時可防止 金屬層18斷裂、起皺或分離。於膜1〇中使用交聯聚合層使 得膜10更易定向’而不會破壞附近的金屬層或改變此等金 屬層堆疊體之間隔。 於圖2B中，另一膜28係以斷面示意圖顯示。膜28類似膜 10 ’但金屬層18位於支持體15與交聯聚合層29間。層18係 夠薄，以致於層18及膜28整體而言是透可見光的。層18係 夠厚，以致於膜28之反射頻帶整體而言是變寬的。交聯聚 合層29與金屬層18緊密接觸，且咸信當膜28經拉直或者受 應變時可防止金屬層18斷裂、起皺或分離。層29亦於金屬 層18上發揮保護層之功能。 於圖2C中，第三膜30係以斷面示意圖顯示。膜3〇類似膜 10及28,但金屬層18係於其相鄰面具交聯聚合層32、34。 87152 -12- 200404165 交聯聚合層32、34兩者係與金屬層18緊密接觸，且當膜30 經拉直或者受應變時特別有效於防止金屬層18斷裂、起皺 或分離。 於圖2D中，第四膜40係以斷面示意圖顯示。於膜40中， 交聯聚合層42係位於金屬層18頂部，且適合用作金屬層18 與第二金屬層44間之間隔層。交聯聚合保護層46係位於第 二金屬層44頂部。層1 8、42、44形成法布-柏羅干擾濾、波器 堆疊體48。堆疊體48中之金屬層18、44及膜40係夠薄，以 致於層18、44及膜40整體而言是透可見光的。層18、44及 交聯聚合間隔層42係夠厚，以致於膜40之反射頻帶整體而 言是變寬的。 於圖2E中，第五膜50係以斷面示意圖顯示。膜50類似膜 30，但第二交聯聚合間隔層52係位於第二金屬層44頂部， 且適合用作，二金屬層44與第三金屬層54間之間隔層。交 聯聚合層42係且適合用作金屬層18與第二金屬層44間之間 隔層。交聯聚合保護層56係位於第三金屬層54頂部。層18、 44、54係夠薄，以致於層18、44、54及膜50整體而言是透 可見光的。層18、42、54及交聯聚合間隔層42、52係夠厚， 以致於膜50之反射頻帶整體而言是變寬的。 於圖3中，黏附背襯膜60係以斷面示意圖顯示。膜60類似 圖2D之膜40，但於支持體15之最低表面上具一黏附層62。 黏附劑容許膜60安裝於許多表面上，含非平面表面及具複 合曲率之表面。 圖4顯示預層壓物140。預層壓物140包含接合於膜130的 87152 -13 - 200404165 保護層122之由PVB製成的機械能吸收層134。膜130包含由 二聚酯交替層（未顯示於圖4中）製成的m〇F支持體112。法布 -柏羅干擾堆疊體114係位於支持體H2頂部。堆疊體Π4包含 由銀製成的第一薄層116、由交聯丙烯酸酯聚合物製成的交 聯聚合間隔層118及由銀製成的第二薄金屬層丨2〇。交聯聚 合基底塗層132係位於堆疊體114與支持體112間。由交聯丙 烯酸酯聚合物製成之視需要選用的保護層122係位於堆疊 體114頂部。 圖5顯示另一預層壓物150。預層壓物15〇包含接合於膜 140的MOF支持體112之第二機械能吸收層134。此提供較圖 4中顯示的預層壓物更持久的預層壓物。 圖6顯示經層壓的安全擋風玻璃160之斷面圖。擋風玻璃 160具有連續彎曲表面，其曲率半徑於擋風玻璃16〇中央區 域附近（僅以虚線顯示於圖6中）相對大，但於更陡的彎曲末 端區域161附近降至相對低值，全部係揭示於標題為”聚合 物-金屬紅外干擾濾波器”之共同申請的美國專利序號第 10/222,466號。如圖6中所示，夾輥166、168係用以除去空 氣及黏住兩片玻璃32a與32b間之預層壓物150。 圖7顯示圖6之擋風玻璃160的透視圖。彎曲區域161、 162、163及164具複合曲率。倘若預層壓物150於用以形成 擔風玻璃160之去除空氣/層壓及熱壓步驟中稍微收縮，則 其將容易地得到遍及播風玻璃160之無皺外觀。 所揭示的膜包含多層光學膜支持體。可使用多種MOF支 持體。用以製備適合的MOF支持體之較佳方法涉及雙軸定 87152 -14- 200404165 向（沿兩軸拉直）適合的多層聚合膜。倘若接合的層具不同之 應變誘導雙折射，則多層料膜之雙軸定向造成接合層折 射率間=差異（就平行於兩轴之平面而言），因而造成兩偏振 光軸之光反射。單轴雙折射材料可為正或負的單抽雙折 =。當Z万向之折射率㈣大於面内折射率㈣及叩）時，正 單軸雙折射出現。各+ A、 兄田z万向 <折射率（nz)小於面内折射率（nx 及ny)時，負單軸雙折射出現。 倘右η1ζ、’Λ選擇符多層光學膜為雙軸定 向’則此等層間之界面沒有布魯斯特角（就Ρ偏振光而言）且 具固疋反射率（就所有入射角而言）。視諸如層數 、f-比例（兩 成分光學膜中之光學厚度比例，請參見美國專利第 6,〇49,419號）及折射率等因素而^，^位^兩相互垂直於面 内軸之夕層光予膜可反射異常高百分比之入射光，且為高 效率的鏡片一。 MOF支持體中之層厚度亦影響多層光學膜之反射性質。 此中討論之MOF層的所有物理厚度係於任一或其他處理後 測待相鄰《層對(一者具高折射率，另一者具低折射率） 較佳具總光學厚度為欲反射之光的二分之一波長。為了在 兩成分系統中獲致最大反射率，M〇F支持體之個別層較佳 具光學厚度為欲反射之光的四分之一波長（雖然基於其他 理由可選擇層對内之其他光學厚度比例）。舉例來說，藉選 擇MOF層厚纟以反射近紅外光及定位紅外區内之反射頻帶 邊緣，使得反射率甚至在入射之掠射角處未轉移至頻譜的 可見光區，則紅外]VIOF支持體在頻譜之可見光區可製為透 87152 -15- 200404165 明的（甚至在高入射角處）。 較佳的MOF支持體是高反射的，（就任一方向之s及p偏振 · 光而言）且在另人感興趣的波長區域之至少100毫微米寬頻 帶中具平均反射率為至少50%，較佳為70%，更佳為90%。 視所欲的應用而定，另人感興趣的波長區域可廣泛地改 . 變。於較佳具體例中，另人感興趣的波長區域係於紅外區 - 内（約700毫微米至約2000毫微米），且膜經建造以便在此區 域之至少1 00毫微米寬頻帶中反射入射輻射光。此一 IR反射 _ MOF支持體較佳將亦具至少約70%之可見光透射率（於550 毫微米處）。 於一較佳IR反射MOF支持體具體例中，MOF支持體係經 設計可消除可見顏色（由於出現於頻譜的可見光區之高階 反射至出現於超過約1200毫微米IR區域之第一階反射頻帶） 之兩成分窄濒帶多層光學膜。欲藉此MOF支持體於零度觀 察角阻斷（即未透過）之光頻帶係自約700至1200毫微米。為 了進一步降低非直角處之可見顏色，短波頻帶邊緣通常離 Φ 開長波可見光轉移約100至150毫微米至IR，使得反射頻帶 — 在最大使用角處未轉移至頻譜的可見光區。此提供在直角 處反射約850至約1200毫微米之窄頻帶IR反射MOF支持 體。就四分之一堆疊體而言，此一 MOF支持體之層對較佳 具光學厚度在425至600毫微米之範圍内（所欲反射之光的 二分之一波長），以便反射近紅外光。更佳地，就四分之一 堆疊體而言，此一 IR反射MOF支持體之個別層為每一具光 學厚度在212至300毫微米之範圍内（所欲反射之光的四分 87152 -16- 200404165 之一波長）。

於另一MOF支持體具體例中，MOF支持體之層對具有改 變的厚度（此中稱為層厚梯度），其係經選擇以於變寬的反射 頻帶中獲致所欲的反射頻帶。舉例來說，層厚梯度可為線 性的，其中層對之厚度係以固定速率通過MOF支持體提 高，使得每一層對較前一層對厚度更厚某一百分比。層厚 度亦可降低，接著提高，接著再度自MOF之一主要表面降 低至另一者，或可具交替的層厚度分布（經設計以提高一或 兩頻帶邊緣之銳度，例如揭示於美國專利第6，157,490號）。 於又另一 MOF支持體具體例中，MOF支持體可包含具六

層交替重複單元（如揭示於美國專利第5,360,659號）之延伸 頻帶邊緣兩成分IR反射膜結構體。此結構體在介於約380至 約700毫微米可見波長區中抑制不想要的第二、第三及第四 階反射，同時在介於約700至約2000毫微米紅外波長區中反 射光線。較第四階高之反射率通常將在頻譜之紫外（非可見） 區或將具此一低強度（無瑕疵的）。此一 MOF支持體具第一 (A)及第二（B)聚合材料之交替層，其中六層交替重複單元具 相對光學厚度為約 0.778A、0.111B、0.111A、0.778B、 0.111 A、0.111B。於重複單元中使用僅六層造成更有效率的 材料使用且相當容易製造。於此一具體例中，引導上述之 重複單元厚度梯度通過MOF支持體厚度亦是必要的。 於又另一MOF支持體具體例中，兩成分MOF支持體可使 用具上述六層交替重複單元之第一部分交替層（反射波長 介於約1200-2000毫微米之紅外光）及具AB重複單元且實質 87152 -17- 200404165 上等光學厚度之第二部分交替層（反射波長介於約700-1200 毫微米之紅外光）。此一交替層之組合稱為混成設計，且造 成通過紅外波長區之變寬的反射光。此混成設計可揭示於 例如美國專利第5,360,659號，但具較廣應用性（因為以此中 所述之任一膜是有效的）。可調整兩部分交替層之層厚度， 以便將反射頻帶放置於紅外頻譜内，俾使任一察覺的顏色 變化（隨角度）減至最少。

於又另一 MOF支持體具體例中，MOF支持體可包含超過 兩個光學上可區別的聚合物。舉例來說，第三或接續的聚 合物可用作MOF支持體内之第一聚合物與第二聚合物間之 黏附促進層、作為用於光學目的之堆疊體的額外成分、作 為光學堆疊體間之保護邊界層、作為表皮層、作為功能塗 料或用於任一其他目的。因此，第三或接續聚合物（若有的 話）之組成未受限制。含有超過二種不同聚合之IR反射MOF 支持體的實例包含揭示於美國再發證第Re 34,605號。Re 34,605揭示一種含三個不同之實質上透明的聚合材料A、B 及C且具重複單元ABCB之膜。此等層具有介於約90毫微米 至約450毫微米間之光學厚度，且某一聚合材料具不同的折 射率。亦可通過此一 MOF支持體之厚度引入層厚梯度，其 中層厚度較佳係通過MOF支持體厚度而單調地提高。較佳 地，就三成分系統而言，第一聚合材料（A)與第二聚合材料 (B)於折射率差為至少約0.03，第二聚合材料（B)與第三聚合 材料（C)於折射率差為至少約0.03，且第二聚合材料（B)之折 射率為第一（A)與第三（C)聚合材料之個別折射率的中間。藉 87152 -18- 200404165 使用共聚物或聚合物之㈣“物，任—或所有聚合材料 可經合成以便具所需的折射率。 又另-MOF支持體具體例係揭示於美國專利第6，加⑽ 號中。此專利之光學膜及其他光學體展現第一階反射頻帶 (就頻請第-區域中之至少—電磁輕射偏振而言），同時抑制 第-反射頻帶至少第二，且較佳亦至少第三、更高階之調 和。第-階調和之反射百分率保持大體上固^或增加（為入 射角之函數）。此可藉著以聚合材料A、B&c (以重複順序 ABC排列）形成至少部*M〇F支持體而實現，其中a沿著相 互垂直軸X、分別具折射率n/、η》Λ及"，『沿著軸X、 y及z分別具折射率nxB、nyB&nzB，沿著轴x、分別具 折射率nxc、nyc&nzc，其中軸z垂直於膜或光學體之平面， 其中《、。或《>η,，且其中。較佳 地，差值nzA:nzl nzB-nzc中至少之一係小於或等於約_〇 〇5。 藉著於此等限制内設計M0F支持體，可抑制至少某些第 一、第三及第四較高階反射之組合，而不會隨入射角大量 降低第一凋和反射率（尤其是當第一階反射頻帶位於頻譜 之紅外區時）。 於又另一 MOF支持體具體例中，上述M〇F支持體中之任 一者可合併”間隙填料”成分，其係當反射頻帶選擇地離開 頻譜的可見光區定位時可提高MOF支持體之光學效率，俾 使卩过角度所察覺之顏色變化減至最少。此一成分係以直角 運作’以便吸收或反射IR輻射（於可見頻譜邊緣與IR反射頻 帶之短波頻帶邊緣間之區域中）。此一MOF支持體係更完整 -19- 200404165 地揭示於美國專利第6,049,419號。 於MOF支持膜平面之方向間或為此等之組合。第一聚合物 應於拉直後保持雙折射性，以致於所需的光學性質提供予 完成的MOF支持體。 +於堆疊體中選用之層材料亦決定卿支持體之反射性 =可使用許多不同材料，且針對料應用之精確的材料 選擇絲決於所需的相配者及不相配者（可於沿著特殊轴 光學層間之折射率得到）以及取決於完成的膜所需 《物理性質。為了簡化，以下討論將集中於含有層對（僅製 ^兩材料’此中稱為第_聚合物及第二聚合物）之娜支持 體。為了討論之目的，將假設第一聚合物具有較大絕對值 之應力光學係數。因此’第—聚合物當拉直時將可發展出 大的雙折射性。視應用性而^，雙折射性可發展於购F支 持體平面中之兩垂直方向間、於一或多個面内方向與垂直 為了製造反射鏡或MOF支持體，折射率準則同樣地適用 於膜平面中之任一方向。就任一特定層之折射率相等或接 近（於面内方向呈正交）是普遍的。然而，第一聚合物之面内 折射率較佳儘可能地與第一聚合物之面内折射率不同。倘 若第一聚合物於定向前具有高於第二聚合物之折射率，則 第一聚合物之面内折射率較佳係於拉直方向提高，且2_轴 折射率較佳降低以符合第二聚合物。同樣地，倘若第一聚 合物於定向前具有低於第二聚合物之折射率，則第一聚合 物之面内折射率較佳係於拉直方向降低，且z-軸折射率較 佳提南以符合第二聚合物。第二聚合物較佳係當拉直時發 87152 -20- 200404165 展出少量或無雙折射性或發展出相反意義（正-負或負·正） 之雙折射性，使得其面内折射率儘可能地與完成的MOF支 持體之第一聚合物的面内折射率不同。倘若MOF支持體意 欲具某些程度之偏振性質，則此等準則可適當地與以上所 列使膜偏振者合併。

就一些應用而言，較佳既不是第一也不是第二MOF支持 體聚合物在另人感興趣的頻寬内具有明顯的吸收度頻帶。 因此，頻寬内之所有入射光將反射或者透射。然而，就一 些應用而言，使第一及第二聚合物中之一或兩者吸收特定 波長（完全地或部分地）可能是有用的。

MOF支持體亦可含有如以下更詳細說明之視需要選用的 非光學層。MOF支持體之光學層（例如第一及第二聚合物層） 及MOF支持體之視需要選用的非光學層較佳係由聚合物構 成。此等聚-合物可使用共單體形成。使用此等共單體較佳 應不會相當地賦予MOF支持體之應力光學係數或於拉直後 保留雙折射性。實際上，此將強加實際上限於共單體含量， 其真正數值將隨著選用之共單體而改變。然而，倘若共單 體合併造成其他性質改良，則可接受光學性質中之一些妥 協。 聚酯係為用於製造MOF支持體之較佳第一聚合物，且通 常包含藉羧酸酯單體與二醇單體反應所產生之羧酸酯及二 醇次單元。每一羧酸酯單體具有二或更多個羧酸或酯官能 基團，且每一二醇單體具有二或更多個羥基官能基團。羧 酸酯單體可全部相同，或可能有二或更多個不同類型的分 87152 -21 - 200404165 于。二醇單體亦同。亦包含於”聚酯” 一詞範圍内者為衍生 自二醇單體與碳酸酯反應之聚碳酸酯。 用於形成MOF支持體中之聚酯層的二醇次單元之較佳幾 酸酿單體包含例如2,6-莕二羧酸及其異構物、對酞酸、異酞 故、欧酸、壬二酸、癸二酸、正冰片晞二竣酸、雙環辛垸 二幾酸、1，6-環己烷二羧酸及其異構物、第三丁基異酞酸、 苯偏二酸、磺酸鈉異酞酸、2,2’-二苯基二羧酸及其異構物 以及此等酸之低碳燒基酯（例如甲基或乙基酯）。”低碳燒基” 一到在本文中代表Ci-Cw直鏈或分支鏈烷基基團。 用於形成聚酯層的二醇次單元之較佳二醇單體包含乙二 醇、丙二醇、1,4-丁烷二醇及其異構物、；ι，6-己烷二醇、新 戊基二醇、聚乙二醇、一縮二乙二醇、三環癸烷二醇、L4-壤己少元_甲Sf*及其異構物、正舶規二醇、雙環-辛燒二醇、 三幾曱基丙烷、季戊四醇、1，4-苯二甲醇及其異構物、雙驗 A、1，8-二經基聯苯及其異構物以及i，3_雙（2_經基乙氧基） 苯。

聚蓁二甲酸伸乙酯（"PEN”）係為用於製造m〇F支持體之 特別有效的聚酯，且通常經選用為第一聚合物。舉例來說， 可藉萘二羧酸與乙二醇之反應製造PEN。聚2,6·莕二甲酸伸 乙酯為特佳的PEN。PEN具有大的正應變光學係數、於拉直 後有效地保留雙折射性且於可見光區内具少量或無吸收 度。PEN亦於等向狀態中具大折射率。當偏振平面平行於 拉直方向時，其折射率（就550毫微米波長之偏振入射光而 言）係自約1.64增加至高達約1.9。提高分子定向可提高pEN 87152 -22- 200404165

之雙折射性。藉拉直MOF支持體至較大拉直比例且維持其 他拉直條件固定可提高分子定向。其他適合用作第一聚合 物之半結晶萘二羧酸聚酯包含例如聚2,6-莕二甲酸伸丁酯 (’’PBN")、聚對酞酸伸乙酯（"PET")及其共聚物。非酯類聚合 物亦適合用於製造MOF支持體。舉例來說，聚醚醯亞胺可 與聚酯（例如PEN或PEN共聚物（"coPEN”））一起使用，俾生成 多層反射鏡。亦可使用其他聚酯/非聚酯組合，例如PET及 聚乙烯（例如以商標名PE-PO ENGAGE™ 8200市售自 Dow-Dupont Elastomers之聚（乙烯-共-辛晞）或’’PE-PO丨’）。其 他適合的第一聚合物係揭示於例如美國專利第6,268,961 號、PCT公開申請案第WO 99/36248及WO 99/36262號及美 國專利第6,498,683號中。其他較隹的第一聚合物為coPEN 與羧酸酯次單元（衍生自90莫耳％莕二羧酸二甲酯與10莫耳 %對酞酸二甲酯）與二醇次單元（衍生自100莫耳％乙二醇次 單元且具内在黏度（’’IV’’）為0.48 dL/克）。折射率為約1.63。 此聚合物於此中稱為”低熔體PEN (90/10)’’。又其他較佳的 第一聚合物為市售自Dow-Dupont Elastomers之具IV為0.74 dL/克的 PET 〇 如上述，MOF支持體中第二聚合物較佳經選擇使得第二 聚合物之折射率（於完成的MOF支持體之至少一方向）明顯 與第一聚合物之折射率（於相同方向）不同者。由於聚合材料 通常具分散性（意即，其折射率係隨著隨著波長而改變），故 基於另人感興趣的特殊頻譜頻寬，必須考量此等條件。自 上述討論應瞭解，第二聚合物之選擇不僅取決於本發明之 87152 -23 - 200404165 膜所欲的應用性，且亦取決於用於第一聚合物之選擇及 MOF支持體與膜處理條件。第二光學層可製自多種具玻璃 轉變溫度可與第一聚合物相容且具有類似第一聚合物的等 向折射率之第二聚合物。適合的第二聚合物之實例包含乙 烯基聚合物及製自諸如乙烯基莕、苯乙烯、馬來酸酐、丙 烯酸酯及甲基丙烯酸酯等單體之共聚物。此等聚合物之其 他實例包含聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯（例如聚（甲基丙烯 酸曱酯）（ΠΡΜΜΑ’’））及全同立構或間同立構的聚苯乙烯。其 他適合的第二聚合物包含縮聚聚合物，例如聚颯、聚醯胺、 聚胺基甲酸酯、聚醯胺酸及聚醯亞胺。於MOF支持體中之 第二光學層亦可自諸如聚酯及聚碳酸酯等聚合物形成。 較佳的MOF支持體第二聚合物包含均具ΡΜΜΑ，例如以 商標名CP71及CP80市售自Ineos Acrylics，Inc.者及具有比 ΡΜΜΑ低玻璃轉變溫度之聚甲基丙烯酸乙酯（”ΡΕΜΑΠ)。額 外較佳的第二聚合物包含PMMA (ncoPMMA”）之共聚物，例 如製自75重量％甲基丙烯酸甲酯（"MMA”）單體與25重量％ 丙烯酸乙酯（’ΈΑ”）單體之共聚物（例如以商標名PERSPEXtm CP63市售自Ineos Acrylics，Inc.者）；以MMA單體單元及甲 基丙烯酸正丁酯（πηΒΜΑπ)共單體單體形成之coPMMA ;及 ΡΜΜΑ與聚（亞乙烯基氟）（”PVDF”）之摻合物（例如以商標名 SOLEFTM 1008市售自 Solvay Polymers，Inc.者）。又其他較佳 的第二聚合物包含聚烯烴共聚物，例如上述的PE-PO ENGAGE™ 8200 ；以商標名 Z9470 市售自 Fina Oil and Chemical Co.之聚（丙烯-共乙烯）（’·ΡΡΡΕ”）；及以商標名 87152 -24- 200404165 REXFLEXTM Wl 11 市售自 Huntsman Chemical Corp.之無規立 構聚丙烯（naPPn)及全同立構聚丙烯（"ipp”）。第二光學層亦 可製自官能化聚烯烴，例如線型低密度聚乙婦-g-馬來酸酐 ("LLDPE-g-MA”），例如以商標名BYNELTM 4105市售自 duPont de Nemours & Co.，Inc.者；製自共聚酯醚彈性體 (’’COPE”），例如以商標名 ECDELTM市售自 Eastman Chemical Company者；製自間同立構聚苯乙烯（”sPSn);製自以對酞酸 為基礎之共聚物或摻合物（’’coPET”）；製自使用第二醇（例如 環己烷二甲醇（’’PETG”）之PET共聚物）；及製自以商標名 THVtm市售自3M Company之氟聚合物。 用於IR反射MOF支持體膜中之光學層第一 /第二聚合物 的較佳組合包含 PEN/PMMA、PET/PMMA或 PET/coPMMA、 PEN/COPE、PET/COPE、PEN/sPS-PET/sPS、PEN/coPET、 PEN/PETG及PEN/THV。數種此等組合提供相對於入射角之 固定反射率（即沒有布魯斯特角）。舉例來說，於特定波長 處，面内折射率可為1.76 (就雙軸定向的PEN而言），而面内 z-軸折射率可降至1.49。當PMMA用作多層結構體中之第二 聚合物時，其在相同波長處之折射率可為1.495(在所有三個 方向）。另一實例為PET/COPE系統，其中類似内面及z-軸折 射率可為1.66及1.51 (就PET而言），而COPE之等向折射率可 為 1·52〇 MOF支持體視情況包含一或多個非光學層，例如一或多 個表皮層或一或多個非光學内層’例如介於光學層封包間 之保護邊界層（’’PBL’’）。可使用非光學層提供額外強度或剛 87152 -25- 200404165 性予MOF支持體或保護其免於在處理期間或之後損害或損 壞。就一些應用而言，包含一或多層犧牲保護表皮可能是 必要的，其中表皮層與MOF支持體間之界面黏附力經控 制，使得於使用前可自MOF支持體或自完成的膜下面剝離 表皮層。就非光學層而言，亦可選擇提供或改良許多性質 (例如本發明之MOF支持體或膜的耐撕裂性、耐穿刺性、韌 度、耐候性及财溶劑性）之材料。一般而言，一或多層非光 學層經放置，使得至少部分欲受本發明之MOF支持體或膜 透射、偏振或反射之光亦通過此等層（換言之，此等非光學 層可放置於通過之光路徑中或受本發明之MOF支持體或膜 反射）。非光學層較佳實質上不會影響本發明MOF支持體或 膜於另人感興趣的波長區域中之反射性質。非光學層之性 質，例如結晶度及收縮性質，可能需要同時考慮MOF支持 體光學層之性質，俾提供當層壓於嚴格彎曲基板時不斷裂 或起皺之膜。 於此一 MOF支持體中之非光學層可選自許多適當的材 料。於選擇供非光學層用之材料中所考量的因素包含達破 裂點之伸長百分率、楊氏模量、撕裂強度、對内層之黏附 性、於另人感興趣的電磁頻帶中之透射率及吸收度、光學 澄清度或霧度、折射率（為頻率之函數）、質地、粗糙度、熔 體熱安定性、分子量分布、熔體流變性、共擠壓性、混溶 性及光學與非光學層中之材料間的相互擴散（inter-diffusion) 、黏彈性回應、於拉伸條件下之緩和及結晶行為、於使用 溫度之熱安定性、耐候性、黏附於塗層之能力以及對許多 87152 -26- 200404165 氣體及溶劑之滲透性。當然，如上述，重要的是選用的非 光學層材料不具有害於MOF支持體之光學性質。非光學層 可形成自多種聚合物，例如聚酯，含用於MOF支持體第一 及第二光學層中之任一種聚合物。於一些具體例中，於非 光學層之選用材料將類似或與於第二光學層之選用材料相 同。舉例來說，使用coPEN、coPET或其他共聚物材料於表 皮層可降低MOF支持體之”分裂性”（由於應變引起的結晶度 及大部分聚合物分子配置於定向方向造成MOF支持體斷 裂）。含coPEN之非光學層將極稍微定向（當在用於定向第一 光學層之條件下拉直時），因而具少量應變引起的結晶度。 於MOF支持體中之第一光學層、第二光學層及視需要選 用的非光學層之聚合物較佳係選擇具類似流變性質（例如 熔體黏度），以致於其可無流體擾動地共擠壓。於MOF支持 體中之第二_光學層、表皮層及視需要選用的其他非光學層 具玻璃轉變溫度（’’Tg”）超過第一光學層玻璃轉變溫度之低 於或者不大於約40°C。第二光學層、表皮層及視需要選用 的其他非光學層之Tg更佳係低於第一光學層之Tg。當使用 長度定向（’’LOn)滾筒以定向MOF支持體時，使用所欲的低 Tg表皮材料可能不是可能的，因為低Tg材料可能黏住滾 筒。倘若未使用LO滾筒，則此限制不是問題。就一些應用 而言，較佳的表皮層材料包含PMMA及聚碳酸酯，此係由 於此等材料之持久性及其保護MOF支持體免於UV輻射之 能力。 亦可於製造期間在MOF支持體之一或兩主要表面上共擠 87152 -27- 200404165 壓表皮層，俾保護MOF支持體光學層免受到沿進料及模口 壁之高剪切條件。此外，藉混合一或多種適合的添加劑（例 如UV安定劑）於組成表皮層之聚合物熔體中及共擠壓生成 的表皮層於MOF支持層之一或兩側上（於製造期間），可製得 具所欲化學或物理性質之表皮層。必要時，於製造MOF支 持體期間可共擠壓額外層於比皮層外側上；其可於分開的 塗覆操作中塗覆於MOF支持體上；或其可層壓於MOF支持 體上，作為分開的膜、箔片或堅硬或半堅硬的增強基板。 於MOF支持體中之表皮層及其他視需要選用之非光學層 可較MOF支持體之光學層厚度更厚、更薄或具相同厚度。 表皮層及其他視需要選用之非光學層的厚度通常MOF支持 體個別光學層至少之一的厚度之至少4倍、通常為至少10 倍、且可為至少100倍。可改變非光學層之厚度以使MOF支 持體具特殊厚度。MOF支持體之總物理厚度將取決於所欲 的應用性。MOF支持體較佳為約0.01至約1毫米厚。 用於製造特佳MOF支持體之技術係詳細地揭示於上述 PCT公開申請案第WO 99/36248及WO 01/96104號。 本發明之膜亦於MOF支持體頂部包含金屬或金屬層及交 聯聚合層。此等層可以任一順序存在，即以金屬或金屬合 金層介於MOF支持體與交聯聚合層間，或以交聯聚合層介 於MOF支持體與金屬或金屬合金層間。較佳超過一金屬或 金屬合金層存在於所揭示膜中。如上述，為了簡化，此等 金屬或金屬合金層可稱為金屬層。所揭示膜包含至少二個 受交聯聚合間隔層分開之金屬層，其中金屬層及交聯聚合 87152 -28 - 200404165 間隔層形成紅外阻隔法布_柏羅光學干擾堆疊體。必要時， 超過一個此堆疊體可存在於膜中。可藉放置額外的交聯聚 合層及金屬層於先前堆疊體頂部而便利地形成額外的堆疊 體。 & 膜中之第一、第二及任一金屬層可彼此相同或不同。較 佳金屬包含元素銀、金、銅、鎳、鉻及不銹鋼，其中以銀 為特佳。亦可使用含此等金屬（於彼此混合物中或與其他金 屬之混合物中）之合金或分散液。金屬層不需具相同厚度。 金屬層較佳足夠厚，俾為連續的，且夠薄以確保膜及使用 此膜之物件將具有所欲的可見光透射率。金屬層之物理厚 度（相反於光學厚度）較佳為約3至約5〇毫微米，更佳為約4 至約15¾微米。金屬層及任一額外的金屬層係藉使用用於 膜金屬化技藝之技術，例如濺鍍（例如陰極或平面磁電管濺 鍵）、蒸發（例如抵抗性或電子束蒸發）、化學氣體沉積、電 鍍及類似方法，而沉積於上述支持體上。 除了其光學功能外，金屬層可用於諸如天線、電磁屏蔽 等目的及用於薄膜加熱應用（例如除霧、除靄、除霜或除 冰）。薄膜加熱應用需要大量的電流運送能力。於此等薄膜 加熱應用中，較佳二或多個金屬化膜層係使用匯流排（例如 顯示於美國專利第 3,529,074、4,782,216、4,786,783、 5,324,374及5,332,888號）而並聯地電連接在一起。受交聯聚 合間隔層分開之複數傳送電流的金屬層當受到·實曲、屈曲 及拉直時提供具增加耐分層性或耐斷裂之堆疊體，如更詳 細地揭不於標題為柔勃導電膜’’之共同申請案序號第 87152 -29- 200404165 1 〇/222,449號及標題為”持久性透0月EMI屏蔽膜”之美國申請 案序號第10/222,465號。甚至在金屬層内之極小的刮痕或裂 缝可造成膜之傳送電流具體例之較早失效。此等失效通常 係由於熱斑形成之緣故，尤其是當刮痕或裂縫垂直於通過 金屬層之電流方向時。此等層較佳將於施以超過〇15瓦/平 方公分之功率至膜時維持導電性。 第一金屬之平滑性及連續性以及其對於支持體之黏附性 較佳係藉適當預處理支持體而增強。較佳的預處理法涉及 在反應性或非反應性氣壓存在下放電預處理支持體（例如 電漿、輝光放電、電暈放電、介電障壁放電或大氣壓放電）； 化學預處理；火焰預處理；或施加成核層（例如揭示於美國 專利第3,601，471及3,682,528號中之氧化物及合金）。此等預 處理可有助於確保支持體表面可被接續施用的金屬層接 受。電漿處理為特佳。進一步特佳的預處理法涉及以無機 或有機基底塗層（例如以上討論圖4之層丨32)塗覆支持體，視 情況接著進一步使用電漿或上述其他預處理之一預處理。 有機基底塗層，且特別是以交聯丙缔酸酯聚合物為基礎之 基底塗層，為特佳。因&，於一較佳具體例中，交聯聚合 層係位於MOF支持體與金屬層間。 可採用許多方式將交聯聚合層施用於膽支持體（或施 用於支持體頂部之第_金屬層）。交聯聚合層最佳係藉急速 蒸，及氣體沉積-或多個輕射可交聯的單體（例如丙婦酸 醋早體）’接著原位地交聯而形成（使用例如電子束裝置、 UV光源、放電裝置或其他適合的裝置），例如揭示於美國專 87152 -30- 200404165 利第 4,696,719、4,722,515、4,842,893、4,954,37 卜 5,018,048、 5,032,461、5,097,800、5，125，138、5,440,446、5,547,908、 6,045,864、6,231，939 及 6,214,422號；於公開的 PCT申請案第 WO 00/26973號；於D· G· Shaw及M. G. Langlois，”一 種用於 塗覆紙及聚合物織物之新穎的氣體沉積法’’，第6版，

International Vacuum Coating Conference (1992)；於 D. G.

Shaw及M. G· Langlois，n—種用於氣體沉積丙烯酸酯薄膜之 新穎的高速法：更新版 ”，Society of Vacuum Coaters 36th Annual Technical Conference Proceedings (1993);於 D. G. Shaw及M· G. Langlois，”使用氣體沉積的丙婦酸酯塗料改良 金屬化膜之障壁性質··，Society of Vacuum Coaters 37th Annual Technical Conference Proceedings (1994)；於 D. G· Shaw、M. Roehrig、M. G. Langlois及C. Sheehan，”使用蒸 發的丙烯酸褊塗料以平坦化聚酯及聚丙烯膜基板之表面”，

RadTech (1996);於 J. Affinito、P. Martin、M. Gross、C· Coronado及E. GreenweH，’’用於光學應用之真空沉積的聚合 物/金屬多層膜”，Thin Solid Films 270，43-48 (1995);於J. D. Affinito、Μ. E. Gross、C. A· Coronado、G. L· Graff、Ε. Ν· Greenwell及Ρ· M. Martin，’·聚合物-氧化物透明障壁層’’，

Society of Vacuum Coaters 39th Annual Technical Conference Proceedings (1996))。必要時，亦可使用習知的塗覆法，例 如滾動塗覆（例如凹版輥塗覆）或噴淋塗覆（例如靜電喷淋塗 覆），施用交聯聚合層，接著使用例如UV輻射而交聯。交聯 聚合層所需之化學組成及厚度將部分地取決於MOF支持體 87152 -31 - 200404165 之本性。舉例來說，就PET支持體而言，交聯聚合層較佳係 自丙埽酸酯單體形成，且通常將具僅數毫微米至約2微米之 厚度。

交聯聚合層可自多種有機材料形成。間隔層較佳係於施 用後原位地交聯。交聯聚合層較佳係藉急速蒸發、蒸氣沉 積及單體交聯作用形成。可揮發的（甲基）丙晞酸酯單體較佳 用於此一方法中，其中可揮發的丙烯酸酯單體為特佳。較 佳的（甲基）丙烯酸酯具分子量係在約150至約600之範圍 内’更佳為約200至約400。其他較佳的（甲基）丙烯酸酯每分 子具分子量對丙烯酸酯官能基團數之比例係在約1 5 〇至約 6〇〇克/莫耳/(甲基）丙烯酸酯基團範圍内，更佳為約2〇〇至約 4〇〇克/莫耳/(甲基）丙缔酸酯基團。可使用較高分子量範圍 或比例之氟化的（甲基）丙烯酸酯，例如約400至約3000分子 量或約400至約3000克/莫耳/(甲基）丙烯酸酯基團可藉冷卻 支持體而改良塗覆效率。特佳的單體包含多官能（甲基）丙缔 酸酯’係單獨地使用或合併其他多官能或單官能（甲基）丙烯 酸酯，例如己烷二醇二丙烯酯、丙烯酸乙氧基乙酯、丙烯 酸丙氧基乙酯、（單）丙烯酸氰基乙酯、丙烯酸異柏基酯、甲 基丙烯酸異柏基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸異癸基酯、 丙烯酸月桂基g旨、丙晞酸β-幾基乙基g旨、丙烯酸四氫吱喃 曱基酯、二腈丙烯酸酯、丙烯酸五氟苯基酯、丙稀酸硝基 苯基酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲基丙烯酸2-苯氧基乙酯、 (甲基）丙烯酸2,2,2-三氟甲酯、一縮二乙二醇二丙烯酸酯、 二縮三乙二醇二丙烯酸酯、二縮三乙二醇二甲基丙缔酸 87152 -32- 200404165 酉曰、·宿一丙—醇二丙缔酸酯、三縮四乙二醇二丙婦酸酯、 新戊基二醇二丙埽酸酯、丙氧基化的新戊基二醇二丙缔酸 酉曰聚乙一醇二丙烯酸酯、三縮四乙二醇二丙烯酸酯、雙 氧基二丙缔酸酯、1,6-己烷二醇二甲基丙烯酯、三羥 甲基丙醇二丙缔酸酯、乙氧基化的三羥甲基丙醇三丙烯酸 酯、丙氧基化的三羥甲基丙醇三丙缔酸酯、三（2_羥乙基）· 異一聚氨酸二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、丙烯酸苯 基瓜代乙g曰、丙缔酯茶氧基乙酯、丨4環二丙烯酸酯（自 UCB Chemicals)、丙烯酸環氧基酯仙乂麵％ (自Rad心代 Corporation)及其混合物。多種其他可熟化材料可包含於交 聯聚合物中，例如乙缔基酯、乙婦基伸蓁基化合物、丙烯 月月及其組合。交聯聚合物層之物理厚度將部分地取決於折 射率且部分地取決於膜堆疊體所欲的光學特性。為了用於 含紅外阻隔法布-柏羅干擾堆疊體，交聯聚合層通常將具折 射率為約1·3至約ι·7，且較佳將具光學厚度為約75至約2〇〇 愛微米，更佳為約100至约150毫微米，且對應物理厚度約 50至約130¾微米，更佳為約μ至約〗〇〇毫微米。 可使用光學模型設計所揭示物件中之適合的層厚度。舉 例來說’就塗覆5層紅外阻隔丙烯酸酯/金屬/丙烯酸酯/金屬 /丙晞酸酯光學堆疊體之51微米厚之PET支持體而言（其中 基底塗層、交聯聚合間隔層及頂部塗層係由二縮三丙二醇 二丙缔酸酯（折射率1.4662)製成，且金屬層則由磁電管濺鍍 的銀（折射率0.1 54)製成），二個代表性之標|巴結構具個別層 厚度為自基底塗層至頂部塗層為129/12/104/12/54毫微米或 87152 -33 - 2UU4U4165 116/10/116/10/55 毫微米。 交聯聚合間隔層具有數個優於未交聯聚合間隔層之優 人、聚口間隔層將不會如同未交聯聚合間隔層明顯加 熱時產生熔化或軟化’因而較不可能流動、形變或明顯地 薄(同時於溫度及壓力作用下，例如在形成或層壓期間)。交 :聚合間隔層是高度耐溶劑的，而未交聯聚合間隔層可受 办劑(例如用以形成未叉聯聚合間隔層者”容解或明顯地軟 化°交聯聚合間隔層可具較大的耐液性（本發明之膜可能遇 到者，例如用於窗口應用之清潔溶液及汽車流體，例如用 於汽車應用之汽油、油及運送流體等）。相較於製自類似聚 合物之非交聯聚合間隔層，交聯聚合間隔層亦可具有所欲 的物理性質，例如較高模量及剛性、較佳彈性回復（當拉緊 時）或較佳彈性。 可藉放置-第一金屬層於交聯聚合層間而改良第一金屬層 對交聯聚合層之黏附性。亦可藉包含黏附促進或抗腐蝕添 加劑於交聯聚合層中而改良黏附性。此可能影響介於交聯 λ合層與弟一^金屬層間界面之表面能量或其他相關特性。 適合的黏附促進或抗腐蝕添加劑包含硫醇、含硫醇化合 物、酸（例如羧酸或有機磷酸）、三唑、染料及潤濕劑。乙二 醇雙硫代乙醇酸酯（揭示於美國專利第4,645,714號）為特佳 的添加劑。添加劑較佳係以足以得到所欲提高的黏附程度 之含量存在，而不會造成第一金屬層之氧化反應或其他降 級情形。 必要時，額外的交聯聚合間隔層及金屬層可施於第一金 87152 -34 - 200404165 屬層頂部°舉例來說’含3個金屬層或4個金屬層之堆疊體 提供用於-些應用之所欲特性。含2至4個金屬層（其中每— 金屬層鄰近於其每一表面具有交聯聚合層)之堆疊體為特 佳。 第二金屬層之平滑性及連續性以及其對於下層（例如交 聯聚合間隔層)之黏附性較佳係於施用第二金屬層前藉適 當預處理下層或藉包含適合的添加劑於下層中而增強。較 佳的預處理法包含上述之支持體預處理法，其間隔層之電 漿預處理為特佳。 另人驚訝地，本案發明人亦發現，當使用上述預處理之 一或兩者時，且當一或多種上述基底塗層合併於用於形成 間隔層之單體混合物中時，於電流影響下之金屬層的耐腐 蝕性明顯地增強。電漿處理為較佳的預處理法，其中氮氣 電漿為特佳-。乙二醇雙硫代乙醇酸酯為合併於單體混合物 中之較佳添加劑。 最上方心金屬層較佳係塗覆適合的保護層，例如以上之 層122。必要時，可使用習知的塗覆法，例如滾動塗覆（例 如凹版輥塗覆）或喷淋塗覆（例如靜電喷淋塗覆），施用保護 層，接著使用例如UV輻射而交聯。保護層最佳係藉急速蒸 發、蒸氣/儿和及上述之單體交聯作用形成。可揮發的（甲基） 丙烯酸酯單體較佳用於此保護層中，其中可揮發的丙缔酸 醋單體為特佳。當本發明之膜含有保護層或其他表面層且 層壓於機械能吸收材料（例如PVB)之板片間時，可選擇保護 層或其他表面層之折射率，以便使界面處由PVB與膜間之 87152 -35- 200404165 任折射率差所造成的反射率減至最少。亦可後處理保護 層’以便增強保護層對機械能吸收材料（例如pvB)之黏附 性。較佳的後處理包含上述之支持體預處理，其中膜兩側 尤電漿後處理為特佳。用於保護層之較加添加劑包含上述 之交聯聚合層添加劑。 可便利地用以製造所揭示膜之裝置18〇顯示於圖6A中。動 力驅動的捲筒181 a及181b係前後移動m〇F支持體182通過 裝置180。控溫的旋轉輥1833及183b及導輪184a、以朴、 184c、184d及184e運送MOF支持體182通過金屬濺鍍塗抹器 185、電漿預處理器186、單體蒸發器187及^束交聯裝置 188。液態單體189係自貯存器19〇供應至蒸發器187。使用 多通道通過裝置180可將接續層施加至m〇f支持體182。裝 置180可封入適合的室中（圖8中未顯示）且維持於真空下或 供應適合的稽性氛圍，俾阻擋氧氣、水蒸汽、粉塵及其他 大氣污染物免於干擾許多預處理、單體塗覆、交聯及濺鍍 步驟。 有關形成本發明膜中之金屬層及交聯聚合層之進一步細 節可發現於標題為”聚合物-金屬紅外干擾濾波器，，之共同申 請案序號第1〇/222,466號。 所揭示之預層壓物係藉接合本發明之膜於一或多個機械 能吸收層（例如層134)而形成。機械能吸收層可製自熟習本 技藝之人士熟悉的多種材料，含PVB、聚胺基甲酸酯（，，PURS，，) 、聚氣乙烯、聚乙烯基乙縮醛、聚乙烯、乙晞醋酸乙烯基 醋及 SURLYNTM樹脂（Ε·Ι· dixPont de Nemours & Co.)。 PVB為 87152 -36- 200404165 用於機械能吸收層之較佳材料。機械能吸收層厚度將取決 於所欲的應用，但通常將為約0.3至約1毫米。

可添加許多功能層或塗料至本發明之MOF支持體、膜或 預層壓物，以便改變或改良其物理或化學性質，尤其是在 MOF支持體、膜或預層壓物之表面處。此等層或塗料可包 含例如低摩擦塗料或滑劑顆粒（以便在膜製造期間使MOF 支持體、膜或預層壓物更易操作）、增加擴散性質予MOF支 持體、膜或預層壓物或防止浸濕之顆粒、或牛頓環（當MOF .支持體、膜或預層壓物放在緊鄰另一膜或表面時）、黏附劑 (例如感壓性黏附劑或熱熔性黏附劑）、用以促進黏附於相鄰 層之引劑（primers)及低黏附性背側塗料（當欲以黏附輥形式 之MOF支持體、膜或預層壓物使用時）。功能層或塗料亦可 含对粉碎、耐侵入或财穿刺撕裂膜及塗料，例如揭示於公 開的PCT申請案第WO 01/9611 5號中之功能層。額外的功能 層或塗層可包含振動·阻尼膜層，例如揭示於WO 98/26927 及美國專利第5,773，102號，以及障壁層，俾提供防護或改 變MOF支持體、膜或預層壓物對於液體（例如水或有機溶劑） 或對於氣體（例如氧、水蒸汽或二氧化碳）之透射性質。此等 功能成分可合併MOF支持體、膜或預層壓物之一或多個最 外層中，或其可以分離膜或塗料施用。

就一些應用而言，改變MOF支持體、膜或預層壓物之外 觀或效能可能是必要的，例如藉層壓染色膜層至MOF支持 體、膜或預層壓物、施用著色的塗料至MOF支持體、膜或 預層壓物表面或包含染料及顏料於一或多種用以製造MOF 87152 -37- 200404165

支持體、膜或預層壓物之材料。染料或顏料可吸收於頻譜 之一或多個選擇區中，含部分紅外、紫外或可見頻譜。染 料或顏料可用以補充MOF支持體、膜或預層壓物的性質， 尤其在MOF支持體、膜或預層壓物傳送某些頻率同時反射 其他頻率之情形中。可用於本發明MOF支持體、膜或預層 壓物之特別有用的著色層揭示於公開的PCT申請案第WO 2001/5 8989號中。此層可經層壓、擠壓塗覆或共擠壓為表皮 層於MOF支持體、膜或預層壓物上。顏料裝載含量可於介 於約0.01及約1.0重量％間改變，以便如所欲地改變可見光 透射率。添加UV吸收覆蓋層亦可為必要的，以便保護MOF 支持體或膜之任一内層（當暴露於UV輻射時可能是不穩定 的）。

可添加至MOF支持體、膜或預層壓物之額外的功能層或 塗料包含例如抗靜電塗層或膜、阻焰劑、UV安定劑、耐磨 或硬膜（hardcoat)材料、光學塗料、抗霧材料、磁性或磁-光塗料或膜、液晶面板、電致發光或電激光面板、攝影乳 液、棱鏡膜及全像攝影膜或影像。額外的功能層或塗料揭 示於例如 W0 97/01440、W0 99/36262 及 W0 99/36248。 亦可以例如墨水或其他印刷標記（例如用以顯示製造標 誌、定位資訊、廣告、警語、裝飾或其他資訊者)處理M0F 支持體、膜或預層壓物。可使用許多技術以印刷於M0F支 持體、膜或預層壓物上，例如篩網印刷、噴墨印刷、熱轉 移印刷、凸版印刷、平版印刷、橡膠版輪轉印刷、點刻印 刷、雷射印刷等等，且可使用多種墨水，含一及二成分墨 87152 -38- 200404165 水、氧化乾燥及uv乾燥墨水、溶解墨水、分散墨水及100〇/〇 墨水系統。 所揭示之膜及預層壓物可接合或層壓於多種基板。典型 的基板材料包含鑲嵌玻璃材料，例如玻璃（可為絕緣、回 火、層壓、退火或加熱強化）及塑膠（例如聚碳酸酯及聚甲基 丙婦酸甲酷）。所揭示之膜及預層壓物特別有效於非平面基 板。膜或預層壓物較佳可於層壓及除空氣期間與此非平面 基板相合，而不會大量斷裂或弄皺。 所揭示膜（或此膜可形成於其上之M0F支持體）可經定 向’且視情況於足以輔助膜相配合之條件下加熱固定，而 不會對於非平面基板大量起皺。當膜欲層壓之非平面基板 具已知形狀或曲率時，此特別有用，尤其是當層壓物具已 知的嚴格複合曲率時。藉個別地控制膜或M〇F支持體於每 一面内方向之收縮率，可造成膜於層壓作用期間（尤其在夾 輥層壓作用期間）以受控方式收縮。舉例來說，倘若膜欲層 壓<非平面基板具複合曲率，則可修改每一面内方向之膜 收縮率以符合此等方向之基板的特殊曲率性質。具最大收 縮率之面内膜或M0F支持體方向較佳對準具最小曲率（即 最大曲率半徑）之基板尺度。除了或替代根據曲率半徑之特 性化曲率，必要時可使用其他測量法（例如自幾何表面（由基 板主要表面定義）測得之隆起或凹處區域的深度）。為了層壓 於典型非平面基板，膜收縮率較佳大於約04% (於兩面内方 向），更佳大於約0.7% (於至少一面内方向），且最佳大於約 1 % (於至少一面内方向）。總膜收縮率較佳係受限於減少邊 87152 -39- 200404165 緣分層作用或"拉進”。因此，膜收縮率較佳小於約3% (於每 面内方向更佳小於約2.5% (於每一面内方向）。收縮行 為將王要由諸如所用的膜或支持體材料及膜或支持體拉直 比例、熱固溫度、滞留時間及内束角（toe-in)(於拉幅機熱固 區域（軌道間隔相對於最大軌道設定之減少量）等因素控 制。塗料亦可改變膜之收縮性質。舉例來說，引劑塗料可 月匕降低檢向（TD”）收縮率約〇 2%至約〇 4%，且提高機械方 向（"MD”）收縮率約〇 1%至約〇 3%。定向及熱固設備可廣泛 地改變，且理想的製程設定值通常係在每一例中實驗地決 足。用於製造具目標收縮性㈣⑽支持體之相關技術的細 節揭示於WO 01/96104中。 如上述，所揭示膜可首先層壓於機械能吸收層，以便形 成預層壓物（例如預層壓物14〇或15〇)，且接著層壓為汽車镶 嵌玻璃板片_。亦可於單一層壓步驟中組裝含此膜、機械能 吸收層及鑲嵌玻璃板片之三明治結構。於任一例中，應於 每一層壓步驟期間自各層間移除空氣。一般而言，層壓前 在烘箱中預熱膜及機械能吸收層至溫度低於座外層之丁^將 為較佳。較佳應可於機械能吸收層與鑲嵌玻璃板片間建立 某些黏附水平。然而，機械能吸收層較佳應不變為夠軟以 致於最終層壓步驟發生前流動。機械能吸收層較佳應有助 於將預層壓物邊緣黏在適當位置，使得膜可自己收縮及形 成完成的層壓物之形狀。較佳係於熱壓後以受控速率冷卻 層壓物，俾避免可能的膜内起皺或膜邊緣處之分層現象。 可使用上述之真空除空氣或夾輥法加速去除空氣。可使用 87152 -40- 200404165 一或多個央輥進行除空氣及層壓作用。具代表性的夾輥裝， 置顯示於美國專利第5,085，141號中。熟習本技藝之人士當 . 可明白其他此等裝置。 — 於層壓後，較佳於壓力鍋中加熱層壓物至足以造成機械 能吸收層及本發明之膜與鑲嵌玻璃板片輪廓相配合且形成 最終層壓的鑲嵌玻璃物件之溫度。於層壓期間亦應施加充 ‘ 足的壓力，俾得到層壓物許多層之至少部分結合。就含pvB 疋層壓物而言，通常的溫度為約138艺至約15〇<t，且壓力 為約0.5至約1.5 MPa。熱及壓力造成機械能吸收層流動及散% 佈以填滿空隙、形成均勻的三明治結構體及堅固地使層壓 物層結合在一起，同時於最小時間架構中移除殘餘空氣（或 使其溶解於PVB中）。雖然熱壓循環可明顯地改變（取決於製 造商）’ 一典型的熱壓循環涉及（a)於約丨5分鐘内將溫度及壓 力自環境提-高至約93°C及約0.55 MPa，（b)提高溫度至143 C ’同時保持壓力於約〇·55 MPa於約40分鐘内，（c)提高壓 力至約1.38 MPa，同時保持溫度於143。(：於約10分鐘内，（d) φ 保持於最大溫度及壓力達約20分鐘，（e)於約15分鐘内將溫 ♦ 度及壓力降低至約38°C及約1 MPa，及（f)於約4分鐘内將壓 力降至環境壓力。整個熱壓循環通常為約60分鐘至約12〇分 鐘。 所揭示膜亦可用於建築鑲嵌玻璃，例如揭示於美國專利 第4,799,745號之鑲嵌玻璃物件。熟習本技藝之人士當可明 白製造此等鑲嵌玻璃物件之方式。舉例來說，藉取代MOF 支持體為揭示於美國專利第4,799,745號之界面層20及間隔 87152 -41 - 200404165 層18 (用於交聯聚合層）可製造有用的建築鑲嵌玻璃。完成 的鑲嵌玻璃物件較佳具光學透明性。圖9顯示含MOF支持體 192及法布-柏羅堆疊體193(含由間隔層195分開之第一及第 二金屬層194及196)之膜191。膜191係使用感壓性黏附劑層 197而接合於玻璃板片198。 所揭示之膜可遠較使用濺鍍塗覆的無機介電層或溶劑施 用的未交聯聚合介電層製得的膜更快地製造。於後二方法 中’介電層沉積步驟為速率限制因子，而所揭示的方法使 得介電層遠更快地沉積。此外，可於單一室中進行所揭示 方法’而所報告的未交聯聚合介電層似乎已形成於金屬層 沉積出現之室外。 以下試驗係用以評估此中所揭示之膜： 導電率對應變試驗 使用SINTECH™ 200/S拉伸測試機（Instr〇n

Corp·)拉直 膜，以便測定膜停止導電時之應變百分率。自膜樣品中央 切割25.4毫米寬乘以2〇〇毫米長之條狀物。條狀物窄端之兩 側上塗上No.22-201銀塗料（Katy Company)。於銀塗料乾燥 後，將銅對摺於已塗漆之邊緣，以便在條狀物之每一端形 成持久性電極。將製得的條狀物夹在拉伸測試機之顎口 中，且使用顎口夾使電源供應區連接至銅電極。當使用規 度1 ·6笔米及十孚頭速率為25 4毫米/分鐘時，將4伏 争之固足％壓供應至條狀物，且測量及記錄對％應變之電 >見。 板片電阻試驗 87152 -42- 200404165 使用未接觸導電率測量裝置（Model 717B Benchtop Conductance Monitor，Delcom Instruments Inc·)，評估本發 明之膜的板片電阻。 日照得熱係數及遮光係數

數值Te係定義為由樣品透射之太陽能（自250毫微米至 2500毫微米）除以總入射太陽能之比例（以百分率表示）。數 值Ae係定義為由樣品吸收之太陽能（自250毫微米至2500毫 微米）除以總入射太陽能之比例（以百分率表示）。使用自 ASTM E891之太陽發光數據（使用空氣質量1.5)計算日光性 質。曰照得熱係數（SHGC)經計算為 SHGC = Te + 0.27(Ae)。 遮光係數（SC)係定義為通過特定鑲嵌玻璃對於通過標準3.2 毫米厚窗玻璃之單平面的日照得熱係數比例，且經計算為 - SC = SHGC / 87.0 此刻將參照以下非限制的實施例說明EMI屏蔽膜，其中除

非特別指明，否則所有份數及百分率係以重量計。 實施例1 (層1)將約6公尺長（0.05毫米截面）之厚MOF支持體膜 (3Mtm Solar Reflecting Film No. 41-4400-0146-3)疊接於一 捲約300公尺長之0.05毫米厚乘以508毫米寬PET支持體 (MELINEX™ No. 453膜，DuPont Teijin Films)上。將生成的 疊接膜裝載於如圖8中所示之捲帶式（roll to roll)真空室中。 將真空室中之壓力降至3x 10·4托耳。以36.6公尺/分鐘之織 物速率同時地電漿預處理支持體及塗覆丙烯酸酯。電漿預 87152 -43 - 200404165 處理係於氮氣氛圍下（以102 seem (每分鐘標準立方公分）之 氮氣流），利用以1〇〇〇瓦功率（402伏特及2.5安培）操作之鉻 標靶及不平衡的dc磁電管。丙烯酸酯塗料係使用IRR214丙

烯酸酯（UCB Chemicals)與丙烯酸月桂基酯之50 : 50混合 物，其已藉放置液態單體混合物之容器於鐘形玻璃罩中脫 氣1小時，且降壓至約1毫托耳。以2.45毫升/分鐘之流率泵 送已脫氣的單體通過超音波噴霧器至維持於276 °C之蒸發 室中。使用-21 °C之轉鼓溫度下，將單體蒸氣冷凝於移動織 物上，且使用單絲槍（於8.0 kV及6.5毫安培操作）進行電子束 交聯。 (層2)倒轉織物方向。再度以36.6公尺/分鐘操作，使丙烯 酸酯表面經電漿處理且塗覆磁電管濺鍍的銀。電漿預處理 係如前述，但使用309伏特及3.34安培。以10,000瓦功率（570 伏特及7.88安培）、轉鼓溫度21°C及氮氣氛圍（以每分鐘93.2 標準立方公分之氬氣流）錢鍵銀。 (層3)再度倒轉織物方向。再度以36.6公尺/分鐘操作，於 φ 聚合間隔層沉積及交聯前電漿預處理銀表面。電漿預處理 · 係利用鉻標靶及1000瓦功率（308伏特及3.33安培）。使用轉 鼓溫度-23°C及上述之其他單體沉積條件，將單體蒸氣冷凝 於移動織物上，且使用單絲槍（於8.0 kV及6.0毫安培操作） 進行電子束交聯。 (層4)再度倒轉織物方向。再度以36.6公尺/分鐘操作，電 漿預處理丙烯酸酯表面且塗覆磁電管濺鍍的銀。電漿預處 理係如前述，但使用316伏特及3.22安培。如前述濺鍍銀， 87152 -44 - 200404165 但以567伏特、17.66安培、轉鼓溫度20°C及每分鐘90標準立 方公分之氬氣流進行。 (層5)再度倒轉織物方向。於沉積保護層前，電漿預處理 銀表面。使用與層3中相同的電漿預處理。使用轉鼓溫度-23 °C及上述之其他單體沉積條件，將單體蒸氣冷凝於移動織 物上，且使用單絲槍（於8.0 kV及6.2毫安培操作）進行電子束 交聯。 生成的紅外阻隔膜及畏途附的支持體之光學性質分別顯 示於圖10及圖11中。於圖10及圖11中每一者之曲線T及R分 別顯示透射率及反射率。此可藉檢視介於約700與約1100毫 微米間之反射率曲線理解，生成的紅外阻隔膜展現明顯變 寬的反射頻譜。 實施例2及3 使用實施例1之方法，具視需要選用的頂部塗層電漿預處 理之5層紅外阻隔丙烯酸酯/Ag/丙烯酸酯/Ag/丙烯酸酯光學 堆疊體形成於相同的MOF支持體上。生成的膜經評估外 觀、透射率（透射發光率（T vis))、反射率（反射發光率）、曰照 得熱係數、遮光係數及板片電阻。處理條件及評估結果說 明於以下表1中。 表1 實施例2 實施例3 支持體 MOF MOF 層1 沉積的材料 單體 單體 -45 -

87152 200404165 線速率（公尺/分鐘） 36.6 36.6 電漿（瓦） 1000 1000 轉鼓溫度（°c) -21 -21 單體進料（毫升/分鐘） 2.65 2.65 層2 沉積的材料 Ag Ag 線速率（公尺/分鐘） 36.6 36.6 電漿（瓦） 1000 1000 轉鼓溫度（°C) 19 19 錢鍵功率（千瓦） 10 10 層3 沉積的材料 單體 單體 線速率（公尺/分鐘） 36.6 36.6 電漿（瓦）- 1000 1000 轉鼓溫度（°C) -20 -20 單體進料（毫升/分鐘） 2.85 2.85 層4 沉積的材料 Ag Ag 線速率（公尺/分鐘） 36.6 36.6 電漿（瓦） 1000 1000 轉鼓溫度（°C) 23 23 賤鍍功率（千瓦） 10 10 層5 沉積的材料 單體 單體 87152 -46 200404165 線速率（公尺/分鐘） 36.6 36.6 電漿（瓦） 1000 1000 轉鼓溫度（°c) -17 -17 單體進料（毫升/分鐘） 1.35 1.35 後處理 線速率（公尺/分鐘） 36.6 電漿（瓦） 1000 結果： 外觀 良好 良好 透射發光率（Tvis) 72.69 72.51 反射發光率 11.16 10.15 SHGC 44.97 45.63 SC 0.5169 0.5244 板片電阻（歐姆/square) 3.927 4.389 表1中之結果顯示形成具Tv is高達約73%且板片電阻低達 3.9歐姆/square之塗覆膜。使用導電率對應變試驗，亦評估 實施例3之兩膜樣品。於達到50%或更多應變時，兩膜樣品 傳導電流。 比較例1 使用導電率對應變試驗，評估以透明銀層及氧化銦無機 電介質（XIRTM 75膜，Southwall Technologies Inc.)為基礎之 市售產品。當僅受1%應變時，樣品不合格。 實施例4 使實施例2及實施例3之膜在膜的兩側上受到視需要選用 87152 -47- 200404165 的電漿後處理，且接著藉放置304毫米乘以304毫米之膜樣 品於三明治（製自二個〇·〇5毫米厚PVB放置於二個2毫米玻 璃板片間）中央而層壓於玻璃板片間。使用真空使生成的層 物組件去除空氣，接著經熱壓形成光學上透明的鑲嵌玻 璃物件。評估鑲嵌玻璃物件以其壓縮剪切力強度。以下表2 中係顯示膜實施例編號、於堆疊體最上層頂部或在支持體 之下方存在或缺乏電漿後處理以及測得的壓縮剪切力強 度。 膜實施例 基板 電漿 編號 (: 於堆疊體上 2 MOF 否 3 MOF 是 3 MOF 是 本發明之—許多修飾及變化 白’而不脫離本發 明之範圍 電漿 壓縮剪切力 (於支持體下方） （Mpa) 否 1.5 否 6.35 是 15.19 ，熟習本技藝之人士當可明 本發明應不受限於僅為了說 明目的而提出者。 【圖式簡單說明】 圖1為形成界面之二聚合層堆疊體的示意透視圖； 圖2Α、圖2Β、圖2C、圖2D及圖2Ε為本發明之膜的示意斷 面圖； 圖3為本發明具黏附背襯之膜的示意斷面圖； 圖4及圖5為本發明預層壓物的示意斷面圖； 圖6為本發明擋風玻璃的示意斷面圖； 圖7為圖6擒風玻璃的透視圖； 87152 -48- 200404165 圖8為進行本發明方法之裝置的示意圖； 圖9為本發明建築鑲嵌玻璃的示意斷面圖； 圖10為顯示實施例1中所述具雙折射介電多層支持體及 金屬層之膜的透射率及反射率圖；及 圖11為顯示圖10之雙折射介電多層支持體（無金屬層）之 透射率及反射率圖。 圖式之許多圖中相同的元件符號代表相同的元件。圖式 中之元件未按比例繪製。 【圖式代表符號說明】 4 、 15 、 112 、 192 MOF支持體 5 - 20 入射光線 6-8-12-14 MOF支持體之層 7 ^ 22 x 24 ^ 26a ^ 26b 界面 9 - 反射光線 10 、 28 、 30 、 40 、 50 - 60 - 130 膜 16 、 29 、 32 、 34 、 42 、 52 18 ^ 44 ^ 54 32a、32b 交聯聚合層 金屬或金屬合金層 玻璃 46、56 交聯聚合保護層 48 、 114 、 193 62 法布-柏羅堆疊體 黏附層 116 第一薄層 118 交聯聚合間隔層 87152 -49- 200404165 120 122 132 134 140 、 150 160 16卜 162 〜163 > 164 166 ^ 168 180 181a、181b 182 183a、183b 184a、184b、184c、 184d、184e- 185 186 187 188 189 190 194 195 196 197 87152 第二薄金屬層 保護層 交聯聚合基底塗層 機械能吸收層 預層壓物 擋風玻璃 彎曲區域 夾輥 製膜裝置 捲筒 MOF支持體 旋轉輕 導輪 金屬濺鍍塗抹器 電漿預處理器 單體蒸發器 E-束交聯裝置 液態單體 貯存器 第一金屬層 間隔層 第二金屬層 黏附劑層 -50- 200404165 198 玻璃板片 nix、n2x 沿x-軸方向之折射率 nly、n2y 沿y_軸方向之折射率 nlz、n2z 沿Z-軸方向之折射率 nl、n2 折射率 T 透射率 R 反射率 87152 -51 -

Claims (1)

1. 200404165 拾、申請專利範圍： L 一種製膜之方法，其包含： a) 提供在有效益的波長區域之至少1〇〇毫微米寬頻帶中 反射至..少50%光線之透可見光雙折射介電多層支持 體，及 b) 依任一順序在該支持體頂部形成： 0 透可見光金屬或金屬合金層，及 ii)交聯聚合層， 其中該金屬或金屬合金層之厚度係使得該膜是透可見光 的且其反射頻帶相對於該支持體之反射頻帶為寬。 2· 如申請專利範圍第1項之方法，其中有效益之該波長區域 係為紅外區。 3·如申請專利範圍第1項之方法，其中該金屬或金屬合金層 係形成於該支持體與該交聯聚合層間。 4·如申請專利範圍第1項之方法，其中該交聯聚合層係形成 於該支持體與該金屬或金屬合金層間。 5·如申請專利範圍第1項之方法，其中該交聯聚合層係藉急 速蒸發、氣體沉積及輻射可交聯的單體之交聯作用形成。 6· 如申請專利範圍第1項之方法，其中該膜是可延伸的。 7·如申請專利範圍第1項之方法，其中該金屬或金屬合金含 有銀，且該交聯聚合層含有丙烯酸酯聚合物。 8·如申請專利範圍第1項之方法’尚包含改質介於該金屬或 金屬合金層與膜内至少一相鄰層間之界面，俾增進層間 點附4生。 87152 200404165 9·如申請專利範圍第8項之方法，其中介於該金屬或金屬合 金層與膜内一相鄰層間使用電漿處理。 10·如申請專利範圍第8項之方法，其中介於該金屬或金屬合 金層與膜内二相鄰層間使用電漿處理。 U.如申請專利範圍第1項之方法，尚包含拉直該膜，而未大 量斷裂或弄皺該金屬或金屬合金層。 12·如申請專利範圍第丨丨項之方法，其中倘若受熱時，該膜 在二個面内方向展現不同的收縮率。 13·如申請專利範圍第1項之方法，尚包含加熱或使該膜與至 少一層機械能吸收材料接合在一起，俾提供安全鑲嵌玻 璃預層壓物。 14· 一種製造鑲嵌玻璃物件之方法，其包含： a) 組裝一層鑲嵌玻璃材料及一膜，該膜包含在有效益的 波長區域之至少100毫微米寬頻帶中反射至少50%光 線<雙折射介電多層支持體、其厚度使得該膜是透可 見光的且其反射頻帶變寬之金屬或金屬合金層，及交 聯聚合層，及 b) 使該鑲嵌玻璃材料與該膜一起形成單一物件。 15·如申請專利範圍第14項之方法，其中該鑲嵌玻璃材料包 含玻璃’且該物件係於該膜與該玻璃間具黏附層。 16· 一種製造層壓物件之方法，其包含·· a)組裝： 1) 第一層鑲嵌玻璃材料， u)第一機械能吸收層， 87152 200404165 ill)透可見光及紅外反射膜，其包含在有效益的波長 區域之至少100毫微米寬頻帶中反射至少50〇/〇光 線之雙折射介電多層支持體、其厚度使得該膜是 透可見光的且其反射頻帶變寬之金屬或金屬合 金層及交聯聚合層， iv) 第二機械能吸收層，及 v) 第二層鑲嵌玻璃材料， b) 自此等層間移除殘餘空氣，及 c) 加熱及施壓以使此等層一起形成單一物件。 17. 18. 19. 20. 21. 22. 如申請專利範圍第16項之方法，其中係使用至少一夾輥 進行殘餘空氣移除或施壓於此等層。 如申請專利範圍第16項之方法，其中該鑲嵌玻璃材料層 為非平面的。 如申請專利範圍第1 8項之方法，其中此等層係未實質地 斷裂、弄皺或起皺該膜而結合在一起。 如申請專利範圍第16項之方法，其中該交聯聚合層係藉 急速蒸發、氣體沉積及輻射可交聯的單體之交聯作用形 成。 如申請專利範圍第16項之方法，其中該交聯聚合層含有 丙埽酸酯聚合物。 一種膜，其包含在有效益的波長區域之至少1〇〇毫微米寬 頻帶中反射至少50%光線之雙折射介電多層支持體、其厚 度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶相對於該支持體 為寬之金屬或金屬合金層及交聯聚合層。 87152 200404165 23·如申請專利範圍第22項之膜，其中另人感興趣之該波長 區域係為紅外區。 24. 如申請專利範圍第22項之膜，其中該金屬或金屬合金層 係介於該支持體與該交聯聚合層間。 25. 如申請專利範圍第22項之膜，其中該交聯聚合層係介於 該支持體與該金屬或金屬合金層間。 26. 如申請專利範圍第22項之膜，其中介於該金屬或金屬合 金層與膜内相鄰層間之界面已受到黏附增強處理，或膜 内之一或多個相鄰層具有黏附増強輔助劑，藉以提高層 間黏附性。 27·如申請專利範圍第26項之膜，其中該金屬或金屬合金層 或相鄰層已受到電漿處理。 28.如申請專利範圍第22項之膜，其中該膜經拉直。 29·如申請專利範圍第22項之膜，其中該金屬或金屬合金層 相鄰於其每一面具有交聯聚合層。 3〇·如申請專利範圍第22項之膜，尚包含一或多對額外的交 聯聚合層及額外的金屬或金屬合金層。 31·如申請專利範圍第22項之膜，其中該金屬或金屬合金層 含有銀。 32·如申請專利範圍第22項之膜，其中該交聯聚合層含有丙 烯酸酯聚合物。 33·如申請專利範圍第22項之膜，其中該膜可經層壓為汽車 擋風玻璃，而未實質地起皺。 34· —種安全鑲嵌玻璃預層壓物，其包含至少一層接合於透 200404165 可見光及紅外反射膜之機械能吸收材料，該透可見光及 紅外反射膜包含在有效益的波長區域之至少⑽毫微米 寬頻帶中反射至少50%光線之雙折射介電多層支持體、其 厚度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶相對於該支持 體為X之金屬或金屬合金層，及交聯聚合層。 35· -種鑲嵌玻璃物件’其包含至少—層接合於透可見光及 紅外反射膜之鑲歲玻璃材料，該透可見光及紅外反射膜 包含在有^的波長區域之至少⑽毫微米寬㈣中反 射至少鄕光線之雙折射介電多層支持體、其厚度使得該 膜是透可見光的且其反射頻帶相對於該支持體為寬之金 屬或金屬合金層，及交聯聚合層。 3^申請專利範圍第35項之物/，其中該金屬或金屬合金 層係介於該支持體與該交聯聚合層間。 37. 如申請專刮第35項之物件，其中該交聯聚合層係介 於琢支持體與該金屬或金屬合金層間。 38. 如申請專利範圍第35項之物件，其中介於該 合金層與膜内相鄰層間之界面已受到黏附增強處:二 胰内疋-或多個相鄰層具有黏附增強輔助劑， 古 層間黏附性。 曰疋问 说:申請專利範圍第35項之物件，其中該金屬或金屬合金 層或相鄰層已受到電漿處理。 肌如申請專利範圍第35項之物件，其中該金屬或 入 含有銀，且該交聯聚合層含有丙埽酸酿聚合物。 札如令請專利範圍第35項之物件，其中該鑲嵌破璃材料包 87152 200404165 含玻璃，且該鑲嵌玻璃物件係於該膜與該 層。 ，間具黏附 42. 43. 44. 45. 46. 如申請專利範圍第35項之物件，其中該鑲嵌破璃材料包 含非平面玻璃，且該層壓物件是光學透明及 丹紅外反射 性的。 如申請專利範圍第35項之物件，其中該物件包含插風坡 璃。 如申請專利範圍第35項之物件，其包含建築鑲嵌玻璃。 一種具鑲嵌玻璃之汽車，該鑲嵌玻璃包含具有透可見光 及紅外反射膜之至少一擋風玻璃、後燈、側窗或天窗， 該透可見光及紅外反射膜包含在有效益的波長區域之至 少100毫微米寬頻帶中反射至少50%光線之雙折射介電多 層支持體、其厚度使得該膜是透可見光的且其反射頻帶 相對於該-支持體為寬之金屬或金屬合金層，及交聯聚合 層。 如申請專利範圍第45項之汽車，其中該交聯聚合層含有 銀，且該交聯聚合層含有丙烯酸酯聚合物。 87152