TW200303438A - Graded optical compensation film, process for producing the same and liquid crystal display including the same - Google Patents

Description

200303438 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種於視野角特性改善上所使用之傾斜 光學補償膜及其製造方法、以及使用其之各種影像顯示裝 置。 【先前技術】 以往，在液晶顯示裝置方面，基於光學補償之目的係 使用了各種相位差膜，例如，使用具有負之複折射性之聚 合物所形成之複折射層。此種具有負之複折射性之聚合物 係例如聚醯亞胺等之揭示於各種文獻（例如，美國專利第 5,344,916 號、美國第 5,395,918 號、美國第 5,480,964 號、 美國第5,580,950號、美國第5,694，187號、美國第 5,750,641號、美國第6,074,709號等沖。但是，此種負的 複折射層雖於例如顯示方式爲垂直配向（VA)模式之液晶顯 示裝置中可做爲傾斜光學補償膜來使用，但在扭轉向列 (TN)模式之液晶顯示裝置中當作傾斜光學補償膜之效果不 充分，此爲問題所在。 另一方面，在TN模式液晶顯示裝置中屬有用之傾斜光 學補償膜方面，係提出了例如於高分子基體中含有經傾斜 配向之低分子液晶之薄膜（例如可參見日本專利第2565644 號說明書等）；於支持體上形成配向膜，於其上使得碟狀液 晶做傾斜配向後令該液晶聚合所得之薄膜（例如可參見曰本 專利第2692035號說明書、日本專利第2802719號說明書等 200303438 【發明內容】 ，針對此種使得液晶材料做傾斜配向之tn模式用 讎光擊_獅有許多的㈣，但是需要獅做液晶材 料的、、盟傲 口口 Ν ^曰^、，（利用空氣界面之表面能的差異之容易傾斜配向之 攸曰日^料的選擇）或液晶材料之傾斜角的控制，又需要配向 :法複雜，控制因子也分歧，而有傾斜角或相位 差之奚化困難之問題（例如參見特開平12-105315號公報等) 〇 曰是以，本發明之目的在於提供一種有別於使用以往液 曰曰材料之傾斜光學補償膜之新的傾斜光學補償膜，具體而 曰，係提供一種在ΤΝ模式之液晶顯示裝置等爲有用之傾斜 配向型傾斜光學補償膜。 爲了達成上述目的，本發明乃提供一種含有非液晶聚 合物之光學補償膜，可舉出以下所示第1與第2之傾斜光 學補償膜。 本發明之第1傾斜光學補償膜係一種含有非液晶聚合 物之光學補償膜；其特徵在於：該非液晶聚合物係呈傾斜 配向’當以光學補償膜面之法線爲〇。、以該法線與測定軸 所成角度做爲測定角度（0° )時，自該測定軸方向所測定之 相位差値，以該〇°之相位差値爲中心，在測定角度爲+側 與-側的變化係呈非對稱，而且 以下述式所表示之複折射（△ η)位於0.001〜〇.5之範圍。 Δη = [{(nx+ny)/2}-nz] · d/d 於前述式中，Δη係表示傾斜光學補償膜之複折射，nx 200303438 、ny與nz係分別表示該傾斜光學補償膜在χ軸、γ軸以及 Ζ軸方向之折射率，X軸係於傾斜光學補償膜之面內顯示最 大折射率之軸方向，Υ軸係於前述面內相對於χ軸呈垂直 之軸方向，Ζ軸係與X軸、γ軸呈垂直之厚度方向，d係表 示傾斜光學補償膜之厚度。 又，本發明之第2傾斜光學補償膜係一種含有非液晶 聚合物之光學補償膜；其特徵在於：該非液晶聚合物係呈 傾斜配向，當以光學補償膜面之法線爲（T 、以該法線與測 定軸所成角度做爲測定角度（包含〇° )時，自該測定軸方向 所測定之相位差値，以該0°之相位差値爲中心，在測定角 度爲+側與-側的變化係呈非對稱，而且 該非液晶聚合物係擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚 醚酮、聚醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少一種 聚合物。 本發明者經努力硏究的結果，首先發現若形成材料不 是液晶材料而是選擇非液晶聚合物，且該非液晶聚合物中 又使用聚醯亞胺等之非液晶聚合物，則可形成與以往完全 不同之傾斜光學補償膜，也從而完成了本發明。只要使用 非液晶聚合物呈傾斜且可滿足前述條件之傾斜光學補償膜 ’則與以往液晶材料製之傾斜光學補償膜(傾斜相位差膜）同 丰永對^諸如TN模式液晶顯示裝置等爲有用的。再者，本 發明之傾斜光學補償膜由於係由非液晶聚合物所形成，所 t有別於以往會固體化之液晶材料，即使以傾斜光學補償 月吴的形式形成之後，藉由進而施以後述拉伸或收縮等，可 200303438 進一步改變相位差等之光學特性。是以，諸如可賦予更優 異之光學特性等來依據用途調整光學特性，相較於以往之 傾斜光學補償膜所能供應之範圍更廣，且亦能達成低成本 化之效果。又，若非液晶聚合物使用前述聚醯亞胺等，由 於可滿足前述範圍之複折射（Δη)，在廣視野角亦能得到良 好之對比度，亦即在視覺補償效果方面也優異。是以，本 發明之光學補償膜可做爲於以液晶顯示裝置爲首之各種影 像顯示裝置上爲有用之相位差膜來使用。 又，於本發明中，包含法線之測定軸的軌跡係成爲同 一平面，自法線傾斜之測定軸之傾斜方向並無特別限定。 其次，本發明之傾斜光學補償膜之製造方法，係包含 :將擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞 胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少一種非液晶聚合物塗佈 於基材上形成塗佈膜之製程，以及使得該塗佈膜之非液晶 聚合物做傾斜配向而形成傾斜光學補償膜之製程； 使得該非液晶聚合物做傾斜配向之方法，係對於該塗 佈膜施加外力。 依據前述非液晶聚合物，因其本身之性質，乃有別於 以往之液晶性材料，無關乎基材之配向性，而可利用本身 之性質使得分子配向來形成展現光學上負的單軸性（ηχ>ηζ) 、（ny>nz)的塗佈膜。是以，在基材方面無須限定爲配向基 板或形成有配向膜之基板。又，僅需對此形成之塗佈膜施 加外力即可使得構成該塗佈膜之非液晶聚合物做傾斜配向 。是以，利用此種方法，可得到前述般在光學特性優異之 200303438 新穎的傾斜光學補償膜。 【實施方式】 本發明之傾斜光學補償膜，如前所述係一種含有非液 晶聚合物之光學補償膜；其特徵在於，該非液晶聚合物係 呈傾斜配向，當以光學補償膜面之法線爲0° 、以該法線與 測定軸所成角度做爲測定角度（0° )時，自該測定軸方向所 測定之相位差値，以該0°之相位差値爲中心，在測定角度 爲+側與-側的變化係呈非對稱。而且，本發明之第1傾斜 光學補償膜，以下述式所表示之複折射（Δη)位於0.001〜0.5 之範圍。 Δ η = [{(nx+ny)/2}-nz] · d/d 於前述式中，Δη係表示傾斜光學補償膜之複折射，nx 、ny與nz係分別表示該傾斜光學補償膜在X軸、Y軸以及 Z軸方向之折射率，X軸係於傾斜光學補償膜之面內顯示最 大折射率之軸方向，Y軸係於前述面內相對於X軸呈垂直 之軸方向，Z軸係與X軸、Y軸呈垂直之厚度方向。又， 本發明之第2傾斜光學補償膜，其特徵在於，非液晶聚合 物係擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞 胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少一種的聚合物。 於本發明中，所謂「自測定軸方向所測定之相位差値 ，以0°之相位差値爲中心，在測定角度爲+側與-側的變化 呈非對稱」，意指例如以各測定角度之相位差値爲橫軸、 以測定角度爲縱軸來繪圖之際所得之曲線如圖1所示般以 測定角度0° (法線）之縱軸（圖中之虛線）爲中心呈非對稱之 10 200303438 狀態。 前述測定角度並無特別限定，以例如-50〜+50°爲佳。 此乃由於實際上使得傾斜光學補償膜之樣品傾斜來測定相 位差時，只要落於前述範圍內，即可精度更爲良好地測定 相位差之故。又，此測定角度僅爲測定本發明之相位差時 的條件，本發明並不因此而受限。 於本發明中，前述相位差値之最大値或最小値，以測 定角度在+側或-側之相位差値爲佳。亦即，法線（0° )方向 之相位差値不是最大或最小値爲佳。 於本發明之傾斜光學補償膜中，前述曲線之形狀，可 舉出例如圖1所示之凹狀曲線、凸狀曲線、右上彎曲線、 右下彎曲線等。前述曲線形狀爲凹狀曲線的情況，其頂點 爲最大相位差値，爲凸狀曲線的情況，其頂點爲最小相位 差値。又，爲右上彎曲線的情況，最大測定角度（例如+50° )之測定値爲最大相位差値，最小測定角度（例如-50° )之測 定値爲最小相位差値；爲右下彎曲線的情況，最大測定角 度之測定値爲最小相位差値，最小測定角度之測定値爲最 大相位差値。 於本發明中，測定軸係包含法線以及自法線傾斜之軸 ’其傾斜方向並無特別限定，例如，自法線傾斜之軸可往 傾斜光學補償膜之延遲軸方向傾斜、亦可往傾斜光學補償 膜之超前（leading)軸方向傾斜。 於本發明中，以前述式所表示之複折射（Δη)，由於薄 型化之可能性相當高，所以以在0.001〜0.5之範圍爲佳。又 200303438 ，例如爲了進一步獲得生產性優異之薄型傾斜光學補償膜 ，複折射以0.001〜〇·2之範圍爲佳，又以0.002〜0.15之範圍 爲特佳。 又，其他光學特性方面亦無特別限制’以下述式所表 示之面內相位差（And)爲例如5〜200nm之範圍、較佳爲 10~150nm之範圍。又’以下述式所表示之厚度方向相位差 (Rth)爲例如20〜l〇〇〇nm之範圍、較佳爲30〜800nm之範圍、 更佳爲40〜500nm之範圍。於下述式中’ nz、ny、nz以及d 係如前所述。

And = (nx-ny) · d

Rth = [{(nx+ny)/2}-nz] · d 本發明之傾斜光學補償膜如前述般適用於顯示方式爲 TN(Twisted Nematic)模式或 OCB(〇ptically Aligned Birefringence)模式之液晶顯裝置爲佳。又，若液晶配向 爲單區（monodomain)配向之液晶顯示裝置，則其顯示方式無 特別限制，亦可適用於例如VA模式等之液晶顯示裝置。 本發明之傾斜光學補償膜若配置於液晶顯示裝置中， 則例如顯示方式爲TN模式之液晶顯示裝置中顯示對比度 10以上之區域以朝顯示面之左右方向進一步擴大10°以上 爲佳。 前述對比度可藉由例如以下所示方式來測定。首先， 將樣品連同偏光板一同配置於液晶顯示裝置，使得該液晶 顯示裝置進行白色影像與黑色影像之顯示，藉由例如商品 名Ez contrastl60D(ELDIM公司製造）等針對顯示畫面之正面 12 200303438 、上下左右就視野角0〜70°之XYZ顯示系之Y値、x値、 y値分別測定。接著，從白色影像之Υ値（Yw)與黑色影像 之Y値（YB)來算出各視野角之對比度。 本發明中非液晶聚合物係有別於液晶性材料，無關乎 基材之配向性，可形成利用本身之性質展現光學上負的單 軸性（nx>nz)、（ny>nz)的膜。因此，無須如以往之液晶材料 般使用配向基板或表面積層有配向膜之基板等之複折射性 基材，而可利用本身之性質使得非液晶聚合物成爲配向狀 態。因此，儘管不是液晶材料，藉由後述之處理，即可使 得非液晶聚合物成爲傾斜配向狀態。 前述非液晶聚合物，基於例如耐熱性、耐藥劑性、透 明性優異且富有剛性之觀點考量，以聚醯胺、聚醯亞胺、 聚酯、聚芳醚酮、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺 等的聚合物爲佳。該等聚合物可單獨使用其中任一種或使 用例如聚芳醚酮與聚醯胺之混合物般擁有不同官能基之2 種以上的混合物。此等聚合物當中，基於獲得高複折射性 之觀點，以聚醯亞胺等爲佳。若能展現高複折射性，由於 可得到大的複折射値，所以相較於其他聚合物能以薄層來 達成相同程度之補償效果。該等聚合物並無特別限定，可 使用例如美國專利第5,344,916號、美國第5,395,918號、 美國第5,480,964號、美國第5,580,950號、美國第 5,694,187號、美國第5,750,641號、美國第6,074,709號等 所揭示之物。 前述聚合物之分子量並無特別限定，·以例如重量平均 13 200303438 分子量（Mw)爲1000〜1000000範圍爲佳，更佳爲 2000〜500000之範圍。 前述聚醯亞胺以例如面內配向性高、可溶解於有機溶 劑者爲佳。具體而言，可使用例如特表2000-511296號公報 所揭示之含有9,9 一雙（胺基芳基）芴與芳香族四羧酸二酐之 縮合聚合產物之含有1個以上以下述式（1)所表示之反覆單 位之聚合物。

於前述式（1)中，R3〜R6係獨立擇自氫、鹵素、苯基、以 1〜4個鹵原子或烷基所取代之苯基、以及烷基所 構成群中至少一種取代基。較佳爲，R3〜R6係獨立擇自鹵素 、苯基、以1〜4個鹵原子或CV1()烷基所取代之苯基、以及 Cwo烷基所構成群中至少一種取代基。 於前述式（1)中，Z係例如C6⑺之4價芳香族基，較佳 爲均苯四甲酸基、多環式芳香族基、多環式芳香族基之衍 生物或是以下述式（2)所表示之基。 .. . ... .... ， . . . 於前述式（2)中，Z，係例如共價鍵、C(R7)2基、CO基、 14 200303438 〇原子、S原子、S〇2基、Si(C2H5)2基或是NR8基，複數的 情況下，彼此可爲相同或不同。又，w係表示1〜10之整數 。R7係分別獨立表示氫或C(R9)3。R8係表示氫、碳原子數 1〜約20之烷基、或是C6~2()芳基，複數的情況下，彼此可 爲相同或不同。R9係分別獨立表示氫、氟或氯。

前述多環式芳香族基可舉出例如自萘、芴、苯芴或憩 所衍生之4價基。又，前述多環式芳香族基之取代衍生物 ，可舉出例如以擇自Cwo之烷基及其氟化衍生物、F與C1 等之鹵素所構成群中至少一種基所取代之前述多環式芳香 族基。 除此以外，尙可舉出例如特表平8-511812號公報所記 載之反覆單位係以下述通式（3)或（4)所表示之均聚物或反覆 單位係以下述通式（5)所表示之聚醯亞胺等。又，下述式（5) 之聚醯亞胺係下述式（3)之均聚物之較佳形態。

15 200303438 於前述通式（3)〜(5)中，G以及G’係表示自例如共價鍵 、CH2 基、C(CH3)2 基、C(CF3)2 基、C(CX3)2 基(X 爲鹵素）、 C〇基、〇原子、S原子、S〇2基、Si(CH2CH3)2基以及 N(CH3)基所構成群分別獨立選出之基，彼此可爲相同或不 同。 於前述式（3)與式（5)中，L係取代基，d以及e係表示 其取代數。L係例如鹵素、CV3烷基、CV3鹵化烷基、苯基 或取代苯基，複數的情況下，彼此可爲相同或不同。前述 取代苯基，可舉出例如具有擇自鹵素、CV3烷基、CV3鹵化 烷基所構成群中至少一種取代基的苯基。又，此處之鹵素 可舉出例如氟、氯、溴或碘。d係0〜2之整數，e係〇〜3之 整數。 於前述式（3)〜(5)中，Q係取代基，f係其取代數。在Q 方面，可舉出例如擇自氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基 、氰基、硫烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯基、以 及取代烷酯基所構成群之原子或基，當Q爲複數的情況下 ’彼此可爲相同或不同。在前述鹵素方面可舉出例如氟、 氯、溴與碘。又前述取代芳基，可舉出例如鹵化芳基。f係 〇〜4之整數，g以及h係分別爲0〜3、1〜3之整數。又，g以 及h以較1爲大爲佳。 前述式（4)中，R1Q與R11係自氫、鹵素、苯基、取代苯 基、烷基、以及取代烷基所構成群分別獨立選出之基。當 中，R1G與R11又以彼此獨立之鹵化烷基爲佳。 於前述式（5)中，M1與M2係相同或不同，例如爲鹵素 16 200303438 、烷基、cv3 _化烷基、苯基或取代苯基。在前述鹵素 方面可舉出例如氟、氯、溴與碘。前述取代苯基’可舉出 例如具有擇自鹵素、cv3烷基、（γ3鹵化烷基所構成群中至 少一種取代基的苯基。 前述式（3)所表示之聚醯亞胺的具體例可舉出例如下述 式（6)所表示者。

再者，前述聚醯亞胺可舉出例如使得前述骨架（反覆單 位）以外之酸二酐或二胺經適宜的共聚所成之共聚物。 在前述酸二酐方面可舉出例如芳香族四羧酸二酐。該 芳香族四羧酸二酐可舉出例如均苯四甲酸二酐、二苯甲酮 四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、雜環式芳香族四羧酸二酐、 2,2’一取代聯苯四羧酸二酐等。 在均苯四甲酸二酐方面，可舉出例如均苯四甲酸二酐 、3,6—二苯基均苯四甲酸二酐、3,6—雙（三氟甲基）均苯四 甲酸二酐、3,6—二溴均苯四甲酸二酐、3,6—二氯均苯四甲 酸二酐等。在二苯甲酮四羧酸二酐方面，可舉出例如 3,3’4,4’一二苯甲酮四羧酸二酐、2,3,3’4’一二苯甲酮四羧 酸二酐、2,2，，3,3’一二苯甲酮四羧酸二酐等。在前述萘四羧 酸二酐方面，可舉出例如2,3,6,7 —萘四羧酸二酐、1，2,5,6 一萘四羧酸二酐、2,6—二氯一萘一 1，4,5,8 —四羧酸二酐等 。在前述雜環式芳香族四羧酸二酐方面，可舉出例如噻吩 17 200303438 一 2,3,4,5—四羧酸二酐、吡嗉一 2,3,5,6—四羧酸二酐、吡啶 一 2,3,5,6—四羧酸二酐等。在前述2,2’一取代聯苯四羧酸二 酐方面，可舉出例如2,2’一二溴一4,4’，5,5’一聯苯四羧酸二 酐、2,2’一二氯一 4,4’，5,5’一聯苯四羧酸二酐、2,2’一雙（三 氟甲基）一 4,4’,5,5’一聯苯四羧酸二酐等。 又，在前述芳香族四羧酸二酐之其他例子方面，可舉 出例如3,3’，4,4’一聯苯四羧酸二酐、雙（2,3—二羧基苯基）甲 酸二酐、雙（2,5,6 —三氟一 3,4 一二羧基苯基）甲酸二酐、2,2 —雙（3,4 一二羧基苯基）一1，1，1，3,3,3—六氟丙酸二酐、4,4’ 一（3,4 一二羧基苯基）一 2,2—二苯基丙酸二酐、雙（3,4 一二 羧基苯基）醚二酐、4,4’一氧二鄰苯二甲酸二酐、雙（3,4 一二 羧基苯基）磺酸二酐（3,3’，4,4’一二苯楓四羧酸二酐）、4,4’一 [4,4’一異丙叉一二（對苯基氧）]雙（鄰苯二甲酸酐）、N，N— (3,4 一二羧基苯基）一N—甲胺二酐、雙（3,4 一二羧基苯基）二 乙基矽烷二酐等。 該等當中，做爲前述芳香族四羧酸二酐，以2,2’一取 代聯苯四羧酸二酐爲佳，更佳爲2,2’一雙（三鹵甲基）一 4,4’，5,5’一聯苯四羧酸二酐，更佳爲2,2’一雙（三氟甲基）一 4,4’，5,5’一聯苯四羧酸二酐。 再前述二胺方面，可舉出例如芳香族二胺，具體方面 可舉出苯二胺、二胺基二苯甲酮、萘二胺、雜環式芳香族 二胺、以及其他芳香族二胺。 在前述苯二胺方面，可舉出擇自例如鄰、間以及對苯 基二胺、2,4 一二胺基甲苯、1，4 一二胺基一 2—甲氧基苯、 18 200303438 1，4 一二胺基一 2—苯基苯以及1，3 —二胺基4 一氯苯等苯二 胺所構成群之苯二胺。在前述二胺基二苯甲酮之例方面， 可舉出2,2’一二胺基二苯甲酮以及3,3’一二胺基二苯甲酮等 。在前述萘二胺方面，可舉出例如U—二胺萘、1，5—二胺 萘等。在前述雜環式芳香族二胺方面，可舉出例如2,6—二 胺吡啶、2,4 一二胺毗啶、以及2,4 一二胺基一 S—三嗪等。 又，在前述芳香族二胺方面，尙有4,4’一二胺基聯苯 、4,4’一二胺基二苯甲烷、4,4’一（9一亞芴基）一二胺、2,2’ 一雙（二氣甲基）一4,4’ 一一胺基聯苯、3,3’ 一二氯一4,4’一二 胺基二苯基甲烷、2,2’一二氯一4,4’一二胺基聯苯、2,2’，5,5’ 一四氯聯苯胺、2,2—雙（4 一胺基苯氧基苯基）丙烷、2,2—雙 (4—·胺基苯氧基苯基）丙院、2,2—雙（4 一胺基苯基）丙院、 2,2—雙（4 一胺基苯基）一 1，1，1，3,3,3—六氟丙烷、4,4’一二胺 基二苯醚、3,4’一二胺基二苯醚、1,3—雙（3—胺基苯氧基） 苯、1，3—雙（4 一胺基苯氧基）苯、1,4 一（4 一胺基苯氧基）苯 、4,4’一雙（4 一胺基苯氧基）聯苯、4,4,一雙（3—胺基苯氧基） 聯苯、2,2—雙[4一（4一胺基苯氧基）苯基]丙烷、2,2—雙[4一 (4一胺基苯氧基）苯基卜ι，ι，ι，3,3,3—六氟丙烷、4,4，一二胺 基二苯基硫醚、4,4’一二胺基二苯楓等。 在前述聚醚酮方面可舉出例如特開2001-49110號公報 所記載之以下述通式（7)所表示之聚芳基醚酮。

於前述式（7)中，X係表示取代基，q係表示其取代數 19 200303438 。x係例如鹵原子、低級烷基、鹵化烷基、低級烷氧基、 或是鹵化烷氧基，當X爲複數的情況下，彼此可爲相同或 不同。

在前述鹵原子方面可舉出例如氟原子、溴原子、氯原 子以及碘原子，該等當中又以氟原子爲佳。在前述低級烷 基方面，以例如具有（^~6之直鏈或支鏈之低級烷基爲佳， 更佳爲Cp4之直鏈或支鏈烷基。具體而言，以甲基、乙基 、丙基、異丙基、丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基爲 佳，更佳爲甲基與乙基。在前述鹵化烷基方面，可舉出例 如三氟甲基等之前述低基烷基的鹵化物。在前述低級烷氧 基方面，以例如c^6之直鏈或支鏈之烷氧基爲佳，更佳爲 匕~4之直鏈或支鏈烷氧基。具體而言爲甲氧基、乙氧基、 丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三 級氧丁基，更佳爲甲氧基與乙氧基。在前述鹵化烷氧基方 面，可舉出例如三氟甲氧基等之前述低級烷氧基的鹵化物

〇 於前述式（7)中，Q係0〜4之整數。於前述式（7)中，Q=〇 ，且苯環之兩端所鍵結之羰基與醚之氧原子彼此係以對位 的方式存在較佳。 又，於前述式⑺中，R1係以下述式⑻所表示之基’ m 係0或1之整數。

20 200303438 於前述式（8)中，X’係表示取代基，例如與前述式（7)之 X相同。於前述式（8)中，當X’爲複數的情況下，彼此可爲 相同或不同。q’係表示X’之取代數，爲0〜4之整數，q’=0 爲佳。又，P爲〇或1之整數。

於前述式（8)中，R2係表示2價之芳香族基。此2價芳 香族基可舉出例如鄰、間或對苯撐基、或是自萘、聯苯、 憩、鄰、間或對三聯苯、菲、二苯呋喃、聯苯醚、或是聯 苯楓所衍生之2價基等。該等2價之芳香族基中，與芳香 族直接鍵結之氫亦可由鹵原子、低級烷基或是低級烷氧基 所取代。該等當中，在R2方面，以擇自下述式（9)〜(15)所構 成群之芳香族基爲佳。

於前述式（7)中，R1較佳爲以下述式（16)所表示之基， 於下述式（16)中，R2與P係與前述式（8)同義。

⑽ 再者，於前述式⑺中’ η係表示聚合度，例如2〜5000 之範圍，較佳爲5〜500之範圍。又，其聚合可爲相同構造 21 200303438 之反覆單位所形成者，亦可爲不同構造之反覆單位所形成 者。若爲後者的情況，反覆單位之聚合形態可爲嵌段聚合 亦可爲無規聚合。 再者，以前述式（7)所表示之聚芳醚酮之末端，對四氟 苯醯撐基側爲氟，氧烷撐基側爲氫原子較佳，此種聚芳醚 酮可以例如下述通式（17)所表示。又，於下述式中，η係表 示與前述式（7)同樣之聚合度。

以前述式（7)所表示之聚芳醚酮之具體例可舉出例如下 述式（18)〜(21)所表示者，於下述各式中，η係表示與前述式 (7)同樣之聚合度。

22 200303438 又，除了前面所舉出者以外，在聚醯胺或聚酯方面， 可舉出例如特表平10-508048號公報所記載之聚醯胺或聚酯 ，該等之反覆單位能以例如下述通式（22)所表示。

於前述式（22)中，Y係0或NH。又，E係例如擇自共 價鍵、C2烷撐基、鹵化C2烷撐基、CH2基、C(CX3)2基（此 處X係表示鹵素或氫）、CO基、〇原子、S原子、S〇2基、 Si(R)2基以及N(R)基所構成群中至少一種的基，彼此可相 同亦可不同。於前述E中，R係Cy烷基以及鹵化烷 基之至少一種，相對於羰基官能基或Y基係處於間位或對 位。 又，於前述式（22)中，A以及A’係取代基，t以及z表 示分別之取代數。又，P係0〜3之整數、q係1〜3之整數、r 係0〜3之整數。 前述A係例如擇自氫、鹵素、（^3烷基、CV3鹵化烷基 、以OR(此處R係前述定義者）所表示之烷氧基、芳基、經 由鹵化等所得之取代芳基、CV9烷氧基羰基、CV9烷基羰基 氧基、CV12芳基氧羰基、CV12芳基羰基氧基其及取代衍生 物、CV12芳基胺基甲醯基、以及CV12芳基羰基胺基其及取 代衍生物所構成之群，爲複數的情況，彼此可爲相同或不 同。前述A’係例如擇自鹵素、Cp3烷基、CV3鹵化烷基、苯 基以及取代苯基所構成之群，爲複數的情況，彼此可爲相 同或不同。前述取代苯基之苯環上的取代基，可舉出例如 23 200303438 鹵素、cv3烷基、cv3鹵化烷基以及該等之組合。前述t係 0〜4之整數，前述Z係〇〜3之整數。 以前述式（22)所表示之聚醯胺或聚酯之反覆單位中又以 下述通式(23)所表示者爲佳。

於前述式（23)中，A、A’以及Y係前述式（22)所定義者 ，v係0〜3之整數，較佳爲〇〜2之整數。X以及y分別〇或 1，但不可同時爲〇。 本發明之傾斜光學補償膜可例如僅爲由前述經傾斜配 向之非液晶聚合物所形成之複折射層，亦可爲除了前述複 折射層以外進一步含有基材等之其他構件所成之積層體。 於本發明中，前述由非液晶聚合物所形成之複折射層 厚度並無特別限制，當使用做爲相位差膜之時基於液晶顯 示裝置可薄型化、視覺補償機能優異、且可成爲均質薄膜 的考量，以0.1〜50// m之範圍爲佳，更佳爲〇·5〜30// m，特 佳爲1〜20/zm。又，當本發明之傾斜光學補償膜僅包含前 述複折射層的情況、或是進一步包含基材等其他構件的情 況’其厚度爲例如0.5〜50//m之軺圍’較佳爲1〜40//m。 其次針對本發明之傾斜光學補償膜之製造方法做說明 。本發明之傾斜光學補償膜，只要可滿足前述條件，其製 造方法並無特別限定，可舉出例如以下所示第i以及第2 製造方法。 * 200303438 第1製造方法，係包含將非液晶聚合物塗佈於基材上 形成塗佈膜之製程，以及使得該塗佈膜之非液晶聚合物做 傾斜配向而形成傾斜光學補償膜之製程；使得該非液晶聚 合物做傾斜配向之方法，係對於該塗佈膜施加外力以使非 液晶聚合物做傾斜配向。以下具體說明。 首先，將非液晶聚合物塗佈於基材上形成塗佈膜。如 前述般，由於該非液晶聚合物具有呈現光學上單軸性之性 質，所以無須利用基板之配向性。因此，前述基材乃可使 用配向性基板與非配向性基板兩者。又，例如可爲會因複 折射而產生相位差者、或不會因爲複折射而產生相位差者 。在會因爲複折射而產生相位差之基材方面，可舉出例如 拉伸膜等，亦可使用厚度方向之折射率受到抑制之物等。 前述折射率的控制可藉由例如將聚合物膜與熱收縮性膜做 接著，進一步進行加熱拉伸之方法等來進行。 在前述基材之材料方面並無特別限定，以例如透明性 優異之聚合物爲佳，又，基於可適於後述之拉伸處理以及 收縮處理，以熱塑性樹脂爲佳。具體上可舉出例如三乙醯 纖維素（TAC)等之乙酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚硼樹脂、聚 碾樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚 烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚降冰片烯樹脂、纖維素樹脂、 聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚氯乙 烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂、聚丙烯酸樹脂、以及該等之混 合物等。又，亦可使用液晶聚合物等。再者，亦可使用例 如特開平2001-343529號公報（WO 01/37007號）所記載般之 25 200303438 於側鏈具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂 與側鏈具有取代苯基或非取代苯基以及硝基之熱塑性樹脂 而成之混合物等。在具體例方面，有例如具有異丁烯與 N—亞甲基馬來醯亞胺所構成之交互共聚物以及丙烯腈一苯 乙烯共聚物之樹脂組成物等。該等形成材料當中，以前述 側鏈具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂與 側鏈具有取代苯基或非取代苯基以及硝基之熱塑性樹脂而 成之混合物爲佳。 前述基材之厚度並無特別限定，爲例如5〜500 // m之範 圍，較佳爲10〜200 /zm之範圍，特佳爲15〜150//m之範圍 〇 於基材上塗佈非液晶聚合物之方法並無特別限定，例 如，基於作業性優異之觀點考量，以塗佈溶劑中溶解有非 液晶聚合物而成之聚合物溶液之方法等爲佳， 該聚合物溶液中之聚合物濃度並無特別限定，例如， 基於可成爲塗佈容易之黏度的考量，相對於溶劑100重量 份，非液晶聚合物以5〜50重量份爲佳，以10〜40重量份爲 更佳。 前述聚合物溶液所使用之溶劑，只要可溶解該非液晶 聚合物即可並無特別限定，可依據非液晶聚合物之種類來 適宜決定。其具體例可舉出例如氯仿、四氯甲烷、四氯化 碳、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、 鄰二氯苯等之鹵化烴類；苯酚、對氯苯酚等之苯酚類；苯 、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1，2—二甲氧基苯等之芳香族 26 200303438 烴類；丙酮、曱基乙酮、甲基異丁酮、環己酮、環戊酮、2 一吡咯烷酮、N—甲基一 2—吡咯烷酮等之酮系溶劑；醋酸 乙酯、醋酸丁酯等之酯系溶劑；三級丁醇、甘油、乙二醇 、三乙二醇、乙二醇單甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、 二丙二醇、2 —甲基一 2,4 一戊二醇等之醇系溶劑；二甲基甲 醢胺、二甲基乙醯胺等之醯胺系溶劑；乙腈、丁腈等之腈 系溶劑；二乙醚、二丁醚、四氫呋喃等之醚系溶劑；或是 二硫化碳、乙基纖維素、丁基纖維素等。該等溶劑可爲一 種類亦可將兩種類以上倂用。 前述聚合物溶液可依必要性而添加例如安定劑、可塑 劑、金屬類等之各種添加劑。具體而言，爲了提昇與基材 或其他構件之密合性，可添加矽烷偶合劑、丙烯酸系共聚 物等之添加物。 又，前述聚合物溶液可在非液晶聚合物之配向性等不 致降低之範圍內含有不同種類之其他樹脂。在該其他樹脂 方面，可舉出各種通用樹脂、工程塑膠、熱塑性樹脂、熱 固性樹脂等。 在通用樹脂方面，可舉出例如聚乙烯（PE)、聚丙烯（PP) 、聚苯乙烯（PS)、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA)、ABS樹脂、 以及AS樹脂等。前述工程塑膠方面，可舉出例如聚乙酸酯 (P〇M)、聚碳酸酯（PC)、聚醯胺（PA :尼龍）、聚對苯二甲酸 乙二醇酯（PET)、以及聚對苯二甲酸丁二醇酯（PBT)等。在熱 塑性樹脂方面，可舉出例如聚苯硫（PPS)、聚醚楓（PES)、聚 酮（PK)、聚醯亞胺（PI)、聚環己烷二甲醇對苯二甲酸（PCT) 27 200303438 、聚烯丙酯（PAR)、以及液晶聚合物（LCP)等。在熱固性樹 脂方面，可舉出例如環氧樹脂、酚醛淸漆樹脂等。 當如上述般將其他樹脂等配合於聚合物溶液的情況下 ，其配合量相對於前述聚合物材料爲例如0〜50質量％、較 佳爲0〜30質量％。 前述聚合物溶液之塗佈方法，可舉出例如旋塗法、輥 塗法、流塗法、印刷法、漬塗法、延流長膜法、棒塗法、 照相凹版印刷法等。又，於塗佈之際，亦可依據必要性採 用聚合物層之重疊方式。 其次，藉由對基材上之塗佈膜施加外力，使得非液晶 聚合物做傾斜配向。利用此傾斜配向，可於基材上形成傾 斜光學補償膜。前述施加外力之方法，只要可使得非液晶 聚合物做傾斜配向者即可並無特別限定，可舉出例如對於 塗佈膜吹風之方法。 對塗佈膜吹風之條件並無特別限定，可依據聚合物溶 液之物性、例如黏度等來適宜決定，例如，當塗佈膜固定 的情況下，自塗佈膜面的法線方向以10〜80°之角度吹風爲 佳，更佳爲20〜70°之角度。 又，吹風時間並無特別限定，例如可依據非液晶聚合 物所需傾斜角度來適宜決定，對每一部份以例如5秒〜10分 鐘爲佳，更佳爲10秒〜9分鐘，特佳爲30秒〜8分鐘。 藉由對塗佈膜施加外力，可使得形成塗佈膜之非液晶 聚合物以例如自塗佈膜之法線方向做5〜50°傾斜配向。此 傾斜配向之角度例如可依據用途來適宜決定。 28 200303438 又，非液晶聚合物之傾斜角度可使用例如相位差計（商 品名KOBRA-21ADH;王子測量機器公司製造）等以離開法 線方向之平均傾斜角來算出。 又，對塗佈膜施加外力之後，可進一步包含使得經過 傾斜配向之非液晶聚合物在基材上固化之製程。使非液晶 聚合物固化之方法並無特別限定，可舉出例如將經過傾斜 配向之非液晶聚合物自然乾燥、或是施以加熱處理，來使 得非液晶聚合物於基材上固化。 前述加熱處理之條件以例如加熱溫度爲25〜300°C之範 圍爲佳，更佳爲50〜25CTC之範圍，特佳爲60〜20(TC之範圍 〇 由於光學特性會正比於基材上之傾斜光學補償膜中所 殘存之聚合物溶液的溶劑量做經時性變化，所以藉由加熱 等使該殘存量成爲5%以下爲佳，更佳爲2%以下，特佳爲 0.2%以下。 又，於前述傾斜配向處理製程中，亦可例如藉由吹熱 風使得傾斜配向處理製程與固化製程同時進行。亦即，亦 可藉由兩製程之同時進行來進行非液晶聚合物之傾斜配向 與固化。 以此方式所形成之傾斜光學補償膜，爲了提昇與其他 構件之密合性，亦可施行例如電暈處理、臭氧處理等之乾 式處理，鹼處理等之濕式處理。 另一方面，第2製造方法，係包含將非液晶聚合物塗 佈於基材上形成塗佈膜之製程，以及使得該塗佈膜之非液 29 200303438 晶聚合物做傾斜配向之製程；使得該非液晶聚合物做傾斜 配向之方法，係使用具有收縮性之基材（第1基材）來做爲前 述基材，於第1基材上形成塗佈膜之後，進一步於塗佈膜 上形成一收縮率與第1基材相異之第2基材，將塗佈膜以 第1基材與第2基材做挾持，使得第1基材與第2基材同 時收縮，藉此，對塗佈膜施加外力。以下做具體的說明。 又，若未特別指明，可使用與第1製造方法同樣的材料， 同樣地進行製造。 於形成塗佈膜之前，先準備具有收縮性之第1基材與 第2基材。此兩基材只要具有收縮性且兩者之收縮率不同 即可，可使用與前述同樣之材質。又，第2基材只要收縮 率與第1基材不同即可，例如亦可爲不具收縮性之物。 前述具有收縮性之基材，以面內在一方向具有收縮性 爲佳。此種收縮性可藉由例如對未處理之基材施以拉伸處 理來賦予。藉由事先將基材拉伸，與該拉伸方向呈相反方 向會發生收縮力。又，若爲本來具有收縮性之基材，可在 未處理的狀態下來使用，藉由加熱來使其收縮。 拉伸前之基材的厚度並無特別之限制，爲例如10〜200 //m之範圍，較佳爲20〜150/zm之範圍，特佳爲30〜100// m之範圍。 又，前述基材之拉伸方法並無特別限定，例如基於之 後使得基材收縮之際可實現往1方向之收縮的考量’將基 材之一端加以固定之狀態下進行拉伸（固定端拉伸法）爲佳。 如前所述，一旦將基材拉伸，由於拉伸方向之相反方向會 30 200303438 成爲收縮方向，只要將基材之一端固定進行1方向拉伸， 即可達成1方向收縮。藉此，如後述般基材上之非液晶聚 合物可往1方向做傾斜配向。 其次，對前述第1基材，與前述同樣塗佈非液晶聚合 物形成塗佈膜，於該塗佈膜上進一步積層第2基材，將該 塗佈膜以第1基材、第2基材來挾持。此時，第1基材之 拉伸方向與第2基材之拉伸方向、亦即第1基材之收縮方 向與第2基材之拉伸方向對齊乃爲所希望者。 將第2基材積層於塗佈膜上之方法並無特別限定，例 如可直接積層。此時，使得非液晶聚合物傾斜配向後去除 第2基材也可，當密合性高的情況，可直接當成一體化物 來使用。又，並不限定於此，亦可例如將第2基材透過接 著劑或黏著劑來接著於塗佈膜上。 接著，利用第1基材與第2基材之收縮率的差異，來 對塗佈膜施以外力。又，兩基材中一者之基材亦可爲非收 縮性基材。 如前所述，一旦使得兩基材（或其中一者的基材）收縮， 由於兩者在收縮率上之差異，兩者間會出現收縮程度的不 同，而可使得形成塗佈膜之非液晶聚合物做傾斜配向。具 體來說，當第1基材之收縮率較第2基材之收縮率爲大時 ，對應於此收縮率之差異，在塗佈膜當中，第1基材側之 部分會較第2基材側之部分做更多的收縮，於是形成塗佈 膜之非液晶聚合物會做傾斜配向。因此，當兩基材之收縮 率差異愈大，則聚合物之傾斜角度也愈大。具體而言，以 31 200303438 傾斜光學補償膜之法線爲0°之時，非液晶聚合物相對於法 線之傾斜角度會變大，於基材之面方向該聚合物會成爲傾 斜狀態。 當兩基材收縮時，如前所述將非液晶聚合物往一定方 向做傾斜配向乃爲所希望者，所以例如將第1基材與第2 基材之收縮方向的一端均事先固定爲佳。 使得基材收縮之方法可舉出例如加熱處理。加熱處理 之條件並無特別限定，例如可依據非液晶聚合物之種類或 基材之材料的種類來適宜決定，例如，加熱溫度爲25〜300 °C之範圍，較佳爲50〜200°C之範圍，特佳爲60〜180°C之範 圍。 藉此，可於第1基材上形成經過傾斜配向之非液晶聚 合物製傾斜光學補償膜。又，第1基材與第2基材可例如 將其中一者剝離，亦可在兩者都積層著的狀態下當作傾斜 光學補償膜來使用。 又，與第1製造方法同樣，亦可進一步包含一在非液 晶聚合物做傾斜配向之後，使得該經過傾斜配向之非液晶 聚合物在第1基材上固化之製程，藉由加熱處理，使得傾 斜配向與固化同時進行亦可。 可藉由以上方法來製造本發明之傾斜光學補償膜一事 係本發明者所首先發現者。但是，本發明之傾斜光學補償 膜之製造方法並不限定於此。 於基材上所形成之傾斜光學補償膜可自該基材剝離亦 可以兩者之積層體的形式來使用。 32 200303438 以此方式所製造之本發明之傾斜光學補償膜，如前述 般複折射層（Δη)爲0.001〜0.5。又，在其他之光學特性方面 ’例如厚度方向相位差（Rth)以20〜lOOOnm之範圍、更佳爲 30〜800nm之範圍。面內相位差（And)以〇〜i〇〇nm之範圍爲 佳、更佳爲10〜70nm之範圍。 又，本發明之傾斜光學補償膜之製造方法，亦可進一 步包含拉伸或收縮製程。如以往般使用液晶材料形成傾斜 光學補償膜之情況下，由於液晶材料經傾斜配向後會固體 化，所以所形成之傾斜光學補償膜無法做進一步的拉伸等 處理。例如，若施以拉伸等處理，則經傾斜配向之分子構 造會紊亂，即使做爲傾斜光學補償膜也無法展現光學特性 。是以，於液晶材料經傾斜配向後，要使得光學特性做進 一步的變化爲不可能之事。但是，如本發明之製造方法般 使用非液晶聚合物做爲形成材料的情況，即使該非液晶聚 合物經固化後仍可進一步拉伸。因此，可進一步使得面內 方向或厚度方向之相位差做變化，例如，可依據使用目的 來設定光學特性。如此般，只要光學特性可進一步做變化 ，即使是相同的傾斜光學補償膜，也可謀求用途之擴大以 及低成本化。 具體而言，進一步變化光學特性之方法，可舉出例如 將基材以及於該基材上所形成之傾斜光學補償膜一同做拉 伸之方法。藉由將該傾斜光學補償膜做拉伸，可使得傾斜 光學補償膜之面內相位差、厚度相位差做變化。又，拉伸 處理並不限定於該等方法，例如由於傾斜光學補償膜會伴 33 200303438 隨基材的拉伸而被拉伸，所以僅拉伸基材亦可，或是將基 材剝離後僅拉伸傾斜光學補償膜亦可。 又，除了前述拉伸方法以外，尙可舉出使用具有收縮 性之基材做爲基材，於該基材上形成傾斜光學補償膜之後 ，再使得基材收縮之方法。藉由在傾斜光學補償膜之形成 後使得基材做收縮，傾斜光學補償膜也會收縮，可進一步 改變面內相位差。 如上所述，將非液晶聚合物做傾斜配向後，進一步進 行拉伸或收縮處理，則傾斜光學補償膜之光學特性，例如 厚度方向相位差（Rth)可在例如20〜lOOOnm之範圍做變化、 面內相位差（△ nd)可在5〜200nm之範圍做變化。又，拉伸或 收縮程度只要依據例如所需之光學特性來變化即可，可藉 由眾知之方法來進行。 如以上所述，本發明之傾斜光學補償膜可對光學上折 射率之異向性做各種的控制。是以，本發明之傾斜光學補 償膜之折射率橢圓體可舉出例如圖2所示之形態。又，亦 可爲該等呈混成配向之形態。圖2係本發明之傾斜光學補 償膜之折射率橢圓體之示意圖， (a) 爲nx与ny>nz之折射率橢圓體呈傾斜者； (b) 爲nx>ny>nz之折射率橢圓體呈傾斜者； (c) 爲nx>nz>ny或nz〉nx〉ny之折射率橢圓體呈傾斜者 j (d) 爲nz>nx # ny之折射率橢圓體呈傾斜者。 又，於圖（a)〜(d)中，通過橢圓之中心的軸之「傾斜光 34 200303438 學補償膜之法線」，「折射率橢圓體之法線」係朝箭頭方 向做傾斜。 其次’本發明之傾斜光學補償膜當作例如光學補償用 相位差膜或相位差板爲有用者。 本發明之傾斜光學補償膜如前所述只要含有非液晶聚 合物呈傾斜配向之複折射層即可，其他構成並無特別限定 ’例如可舉出以下之形態。本發明之傾斜光學補償膜若形 成於前述基材（第1基材）的情況，可僅爲自第1基材剝離之 傾斜複折射層，亦可爲在第1基材上直接形成複折射層之 積層體。又，亦可自第1基材將複折射層剝離，進一步積 層其他之第2基材而成爲積層體，或是亦可將第1基材與 複折射層而成之積層體於第2基材以複折射層對向之方式 接著之後，僅剝離第1基材而製作之積層體。 在該等形態中，例如第1基材與複折射層而成之積層 體由於在基材上直接形成複折射層之後即可使用，所以製 程可簡略化，例如使用於液晶顯示裝置等之各種影像顯示 裝置時可廉價提供傾斜光學補償膜，故爲所希望者。 其次，本發明之偏光板，係包含光學補償膜與偏光元 件；其特徵在於，該光學補償膜係本發明之傾斜光學補償 膜。 此種積層偏光板，只要具有本發明之傾斜光學補償膜 以及偏光元件即可’其構成並無特別限制，可舉出例如以 下之構成。 例如，第1積層偏光板係具有本發明之傾斜光學補償 35 200303438 膜、偏光元件以及兩層之透明保護層，於其中一層之透明 保護層之表面進一步積層著傾斜光學補償膜之形態。又， 當傾斜光學補償膜爲前述複折射層與樹脂性基材而成之積 層體的情況，其中一者之表面亦可面向透明保護層。 又，透明保護層可積層於偏光元件之兩側亦可僅積層 於其中一側。又，於兩面積層的情況，可使用同種類的透 明保護膜或不同種類的透明保護膜。 另一方面，第2積層偏光板，係具有本發明之傾斜光 學補償膜、偏光元件2以及透明保護層，於偏光元件之一 側表面積層著傾斜光學補償膜、另一側表面積層著透明保 護層之形態。 前述傾斜光學補償膜若爲複折射層與樹脂性基材而成 之積層體的情況，其中一者之表面可面向偏光元件，例如 ，基於以下之理由，傾斜光學補償膜之基材側面向偏光元 件來配置爲佳。依據此構成，可將傾斜光學補償膜之基材 兼用爲積層偏光板之透明保護層。亦即，若不在偏光元件 之兩面積層透明保護層，而是在偏光元件之一面積層透明 保護層，於另一面以面向基材的方式積層傾斜光學補償膜 ，則基材可發揮透明保護層之功用。是以，可得到更爲薄 型化之偏光板。 當傾斜光學補償膜爲複折射層與樹脂性基材而成之積 層體的情況，該樹脂性基材亦可使用偏光元件。若樹脂製 基材兼做爲偏光元件，可得到更爲薄型化之偏光板。 在前述偏光板（偏光膜）方面並無特別限制，可使用例如 36 200303438 藉由習知方法使得碘或雙色性染料等雙色性物質吸附在各 種薄膜上做染色，然後進行交聯、拉伸、乾燥所調製成者 。當中，以若入射自然光則直線偏光可穿透之薄膜爲佳， 在光穿透率與偏光度方面優異者爲佳。前述吸附雙色性物 質之各種薄膜，可舉出例如聚乙烯醇（PVA)系薄膜、部分甲 縮醛化PVA系薄膜、乙烯一醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄 膜、纖維素系薄膜等之親水性高分子膜等，其他尙可使用 例如PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚 烯配向膜等。該等當中較佳者爲PVA系薄膜。又，偏光膜 之厚度通常在1〜80// m之範圍，惟並非限定於此。 在保護層方面並無特別限定，可使用以往習知之透明 保護膜，以例如透明性、機械強度、熱安定性、水分阻絕 性、等向性等優異者爲佳。此種透明保護層之材質之具體 例可舉出例如三乙醯纖維素（TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系 、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚楓系、聚硼 系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、聚丙烯酸系 、聚乙酸酯系等之透明樹脂等。又，尙可舉出前述丙烯酸 系、氨酯系、丙烯酸氨酯系、環氧系、矽酮系等之熱固型 樹脂或紫外線硬化型樹脂等。當中，基於偏光特性與耐久 性之觀點，以表面經過鹼等做皂化處理之TAC薄膜爲佳。 其他尙可舉出特開2001-343529號公報（W001/37007)所 記載之聚合物薄膜。做爲此聚合物材料，可使用之樹脂組 成物爲例如含有側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑 性樹脂與側鏈具有取代或非取代之苯基與硝基之熱塑性樹 37 200303438 脂而成者，例如可舉出樹脂組成物中含有由異丁烯與N— 甲撐馬來醯亞胺所構成之交互共聚物以及丙烯醯腈一苯乙 烯共聚物。又，前述聚合物薄膜亦可爲例如前述樹脂組成 物之擠壓成型物。 又，保護層以無著色者爲佳。具體而言，以下述式所 表不之薄膜厚度方向之相位差値（Rth)以_90nm〜+75nm之範 圍爲佳，更佳爲-80nm〜+60nm，特佳爲-70nm〜+45nm之範圍 。只要相位差値位於-90nm〜+75nm之範圍，即可充分消除 因保護膜所引起之偏光板之著色（光學性著色）。又，於下述 式中，nx、ny與nz係與前述相同，d係表示膜厚。

Rth = [{(nx+ny)/2}-nz] · d 又，前述透明保護層亦可進一步具有光學補償機能。 此種具有光學補償機能之透明保護層，可使用例如以基於 液晶元件之相位差之視讀角變化爲原因之著色等之防止、 良好視讀之視野角的擴大等之目的之眾知之物。具體而言 ，可舉出例如將前述透明樹脂做一軸拉伸或二軸拉伸之各 種拉伸薄膜、液晶聚合物等之配向薄膜、於透明基材上配 置液晶聚合物等之配向層之積層體等。當中，基於可達成 良好視讀之寬廣視野角的觀點，以前述液晶聚合物之配向 薄膜爲佳，尤其是將碟狀系或向列系之液晶聚合物之傾斜 配向層所構成之光學補償層以前述三乙醯纖維素薄膜等所 支持之光學補償相位差板爲佳。此種光學補償相位差板， 可舉出例如富士相片股份有限公司製造「WV薄膜」等之市 售品。又，前述光學補償相位差板亦可將前述相位差薄膜 38 200303438 或三乙醯纖維素薄膜等之薄膜支持體做2層以上積層來控 制相位差等之光學特性。 前述透明保護層之厚度並無特別限制’可依據相位差 或保護強度等來適宜決定，通常爲500 #m以下’較佳爲 5〜300//m，更佳爲5〜150//m之範圍。 前述透明保護層亦可藉由例如在前述偏光膜塗佈各種 透明樹脂之方法、於前述偏光膜積層透明樹脂製薄膜或光 學補償相位差板等之方法等以往眾知之方法來適宜形成’ 亦可使用市售品。 又，前述透明保護層可進一步施以例如硬膜處理、反 射防止處理、基於黏附防止或擴散、抗眩等之目的之處理 。前面所說之硬膜處理，係基於防止偏光板表面之刮傷的 目的，而例如在透明保護層之表面形成由硬化型樹脂所構 成之具優異硬度、平滑性之硬化被膜之處理。在硬化型樹 脂方面，可使用例如矽酮系、氨酯系、丙烯酸系、環氧系 等之紫外線硬化型樹脂等，前述處理可藉由以往眾知之方 法來進行。黏附防止，係基於防止與鄰接之層出現密合之 目的。前面所說之反射防止處理係基於防止來自外部之光 線在偏光板表面反射之目的，可藉由以往眾知之反射防止 層等的形成來進行。 前面所說之抗眩處理’係基於防止外部光線於偏光板 表面反射造成偏光板穿透光之視讀受阻等之目的，而以例 如以往眾知之方法’在透明保護層之表面形成微細凹凸構 造來進行。此種凹凸構造之形成方法，可舉出例如噴砂法 39 200303438 或壓花加工等之粗面化方式、於前述般透明樹脂中配合透 明微粒子來形成透明保護層之方式等。 在透明微粒子方面，可舉出例如二氧化矽、氧化鋁、 氧化鈦、氧化锆、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等， 除此以外尙可使用具有導電性之無機系微粒子、由交聯過 或未交聯之聚合物粒狀物等所構成之有機系微粒子等。透 明微粒子之平均粒徑並無特別限制，可舉出例如0.5〜20//m 之範圍。又，透明微粒子之配合比例並無特別限定，一般 相對於透明樹脂100質量份以2〜70質量份之範圍爲佳，更 佳爲5〜50質量份之範圍。 ， 配合有前述透明微粒子之抗眩層，可做爲透明保護層 本身來使用，亦可於透明保護層表面做爲塗佈層來形成。 再者，前述抗眩層亦可兼做用以擴散偏光板穿透光來放大 視角之擴散層（視覺補償功能等）。 又，前述反射防止層、黏附防止層、擴散層、抗眩層 等可與前述透明保護層個別積層於偏光板，例如，能以設 置該等層之片材等所構成之光學層的形式積層於偏光板。 各構成物彼此（傾斜光學補償膜、偏光元件、透明保護 膜等）之積層方法並無特別限制，可利用以往眾知之方法來 進行。一般，可使用與前述同樣之黏著劑或接著劑等，其 種類可依據前述各構成物之材質等來適宜決定。在接著劑 方面，可使用例如丙烯酸系、乙烯醇系、矽酮系、聚酯系 、聚氨酯系、聚醚系等之聚合物製接著劑、橡膠系接著劑 等。前述黏著劑、接著劑爲即使受到濕度或熱影響也不易 200303438 剝離、在光穿透率與偏光度方面優異者。具體而言，當偏 光元件爲PVA系薄膜之情況，從接著處理之安定性等之觀 點來看，以PVA系接著劑爲佳。該等接著劑與黏著劑可直 接塗佈於偏光元件與透明保護層之表面，亦可將接著劑或 黏著劑所構成之膠帶或片材等之層配置於前述表面。又， 以水溶液的方式來調製的情況，可依需要配合其他之添加 劑、酸等之觸媒。接著層之厚度並無特別限定，例如爲 lnm〜500nm、較佳爲10nm〜300nm、更佳爲20nm〜lOOnm。並 無特別限制，可採用以往眾知之使用丙烯酸系聚合物或乙 烯醇系聚合物等之接著劑之方法。該等接著劑可例如將其 水溶液塗佈於前述各構成物表面，經過乾燥後來使用。於 水溶液中可依必要配合其他添加劑與酸等之觸媒。該等當 中，基於與PVA薄膜具優異接著性之觀點，以使用PVA系 接著劑爲佳。 又，本發明之偏光板可藉由以下之方法來製造。例如 ，依據本發明之傾斜光學補償膜之製造方法，調製出基材 上形成有複折射層之積層體的情況，有隔著接著劑層等而 於偏光元件或偏光板之透明保護層以積層體之複折射層成 爲對向之方式進行貼合之方法，將積層體之複折射層貼合 於偏光元件或透明保護層進行轉印之後，僅將第1基材加 以剝離之方法。又，依據本發明之傾斜光學補償膜之製造 方法，亦有於前述基材（第1基材）之一側面上形成複折射層 ，將第1基材當作偏光板之透明保護層，於第1基材之另 一側面隔著接著劑等來貼合偏光元件之方法。若利用本發 200303438 明之傾斜光學補償膜之製造方法來製造本發明之偏光板， 則能以較少的製程數、廉價地提供偏光板，又，由於複折 射層可薄型化，所以偏光板本身亦可因此而薄型化。 再者，本發明之傾斜光學補償膜，除了前述偏光元件 以外，也可和例如各種相位差板、擴散控制膜、亮度提昇 膜等以往眾知之光學構件做組合來使用。在相位差板方面 ，可舉出例如將聚合物膜做一軸拉伸或二軸拉伸者、經過 z軸配向處理者、液晶性高分子之塗佈膜等。在擴散控制 膜方面，可舉出例如利用擴散、散射、折射之膜，該等在 例如視野角之控制、解析度相關之閃爍度或散射光之控制 等亦可使用。在亮度提昇膜方面，可舉出例如使用膽固醇 液晶之選擇反射與1M波長板（λ M)之亮度提昇膜、利用偏 光方向之異向性散射之散射膜等。又，傾斜光學補償膜亦 可與例如線柵（wire grid)型偏光元件做組合。 本發明之積層偏光板於實用之際除了前述本發明之傾 斜光學補償膜以外尙可含有其他光學層。在光學層方面， 可舉出例如以下所示之偏光板、反射板、半穿透反射板、 亮度提昇膜等之於液晶顯示裝置等之形成所使用之以往眾 知之各種光學層。該等光學層可爲一種類亦可倂用兩種類 以上，又，可爲一層亦可積層兩層以上。進一步包含此種 光學層之積層偏光板，以做爲例如具有光學補償機能之一 體型偏光板來使用爲佳，例如配置於液晶元件之表面，而 可適用於各種影像顯示裝置上。 以下，針對此種一體型偏光板做說明。 42 200303438 首先，針對反射型偏光板或半穿透反射型偏光板之一 例做說明。前述反射型偏光板係於本發明之積層偏光板進 一步積層反射板所得者，前述半穿透反射型偏光板係於本 發明之積層偏光板進一步積層半穿透反射板所得者。 反射型偏光板通常係配置於液晶元件之裏側，可使用 於將來自視讀側（顯示側）之入射光反射而進行顯示之類型的 液晶顯示裝置（反射型液晶顯示裝置）等。此種反射型偏光板 由於可省略背光等之內藏光源，所以可謀求液晶顯示裝置 之薄型化，此爲其優點所在。 反射型偏光板可藉由例如在前述包含複折射層之偏光 板的單面形成由金屬等所構成之反射板等以往眾知之方法 來製作。具體而言，例如可舉出對前述偏光板之透明保護 層的單面（露出面）依所需施行消光（matte)處理，然後於該面 形成鋁等之反射性金屬所構成之金屬箔或蒸鍍膜做爲反射 板而成之反射型偏光板等。 又，亦可舉出使得前述各種透明樹脂含有微粒子將表 面做成微細凹凸構造之透明保護層，然後於該透明保護層 上形成可反映該微細凹凸構造之反射板所成之反射型偏光 板等。表面爲微細凹凸構造之反射板，可使得入射光不規 則反射而擴散，可防止定向性或炫目之外觀，可抑制明暗 不均，此爲優點所在。此種反射板可例如在前述透明保護 層之凹凸表面以真空蒸鍍方式、離子植入方式、濺鍍方式 等之蒸鍍方式或鍍敷方式等習知方式直接以金屬箔或金屬 蒸鍍膜的形式來形成。 43 200303438 又，亦可取代前述於偏光板之透明保護層直接形成反 射板之方式，改爲使用在前述透明保護薄膜般適當的薄膜 設置反射層而成之反射片等來做爲反射板。反射板之反射 層通常係由金屬所構成，所以基於例如防止氧化所造成之 反射率的下降、或是爲了長期維持初期反射率、或是避免 另外形成透明保護層等觀點，其使用形態，以反射層之反 射面以前述薄膜或偏光板等來被覆之狀態爲佳。 另一方面，前述半穿透型偏光板，係反射型偏光板中 之反射板改爲半穿透型反射板者。在半穿透型反射板方面 ，可舉出例如以反射層來反射光、且具有讓光穿透之半透 鏡等。 半穿透型偏光板，通常係設於液晶元件之裏側，可使 用在下述類型之液晶顯示裝置等中。亦即，當液晶顯示裝 置等在較爲明亮之環境下使用時，係將來自視讀側（顯示側) 之入射光加以反射並顯示影像，在相對陰暗之環境下則是 使用半穿透型偏光板之背光側所內藏之背光光源等內藏光 源來顯示影像。因此，其對於半穿透型偏光板在明亮環境 下可節省背光光源之使用能量、而在相對陰暗之環境下則 可使用該內藏光源之類型的液晶顯示裝置等之形成上係有 用的。 其次，針對在本發明之積層偏光板進一步積層亮度提 昇膜之偏光板的一例做說明。 在亮度提昇膜方面並無特別限定，可使用例如電介體 之多層薄膜或是折射率異向性不同之薄膜的多層積層體此 200303438 等可讓既定偏光軸之直線偏光穿透但將其他的光予以反射 者。此種亮度提昇膜可舉出例如3M公司製造之商品名「D-BEF」等。又，亦可使用膽固醇液晶層（特別是膽固醇液晶 聚合物之配向薄膜）、或是配向液晶層支持於薄膜基材上之 物。該等係將左右側的圓偏光加以反射、而使得其他光穿 透之物，可舉出例如日東電工公司製造之商品名「PCF350 」、Merck公司製造之商品名「Transmax」等。 本發明之各種偏光板亦可爲例如含有前述般複折射層 之積層偏光板、或是進一步與光學層做積層之包含2層以 上光學層之光學構件。 此種2層以上之光學層積層所得之光學構件，可例如 在液晶顯示裝置等之製造過程中，藉由依序個別積層之方 式來形成，若做爲預先積層之光學構件來使用時，則具有 諸如品質安定性與組裝作業性等優異、可提升液晶顯示裝 置等之製造效率的優點。又，在積層時可與前述相同般使 用黏著層等之各種接著物。 前述各種偏光板，基於可易於與液晶元件等其他構件 做積層，以進一步具有黏著劑層或接著劑層爲佳，該等層 體可配置於偏光板之單面或雙面。在黏著層之材料方面， 並無特別限定，可使用丙烯酸系聚合物等以往眾知之材料 ，特別是基於可形成可防止吸濕所造成之發泡、剝離，熱 膨脹差所造成之光學特性之降低，液晶元件之彎曲等而可 成爲高品質、耐久性優異之液晶顯示裝置的觀點，以例如 吸濕率低且耐熱性優異之黏著層爲佳。又，亦可爲含有微 45 200303438 粒子而展現光擴散性之黏著層等。做爲於偏光板表面形成 黏著劑層之方式，可藉由例如將各種黏著材料之溶液或熔 融液以延流或塗佈等展開方式直接添加於偏光板之既定面 來形成層之方式、或是同樣地在後述之分隔件（separator)上 形成黏著劑層，將其移往偏光板之既定面之方式來進行。 又，這些層可形成於偏光板之任一表面，例如可形成於偏 光板之相位差板之露出面。 當設於偏光板之黏著劑層之表面露出之情況下，在將 黏著層供實用之前，基於防止污染之目的，藉由襯裏（分隔 件）來遮覆該表面乃爲所希望者。此襯裏可藉由在透明保護 薄膜等之適當的薄膜上依必要性設置矽酮系、長鏈烷系、 氟系、硫化鉬等之剝離劑所成之剝離塗層之方法來形成。 前述黏著劑層等可爲單層體亦可爲積層體。在積層體 方面亦可使用將不同組成或不同種類之單層做組合之積層 體。又，當配置於偏光板之兩面時，兩面可爲相同之黏著 劑層亦可爲不同組成或不同種類之黏著劑層。 黏著劑層之厚度可依據例如偏光板之構成等來適宜決 定，一般爲1〜500//m。 形成黏著劑層時所使用之黏著劑，以展現優異之光學 透明性、適度之濕潤性、凝集性與接著性之黏著特性爲佳 。具體例子可舉出以丙烯酸系聚合物或矽酮系聚合物、聚 酯、聚氨酯、聚醚、合成橡膠等之聚合物做爲基礎聚合物 所調製之黏著劑等。 黏著劑層之黏著特性的控制，可藉由例如選擇形成黏 46 200303438 著劑層之基礎聚合物之組成與分子量、交聯方式、交聯性 官能基之含有比例、交聯劑之配合比例等來調整交聯度與 分子量此種以往眾知之方法來適宜進行。 又，形成以上本發明之傾斜光學補償膜、偏光板、各 種光學構件（進一步積層光學層之各種偏光板）之偏光薄膜、 透明保護層、光學層、黏著層等之各層亦可爲利用例如水 楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物 、丙烯酸氰酯系化合物、鎳配鹽系化合物等之紫外線吸收 劑做適當處理來賦予紫外線吸收能力之物。 本發明之傾斜光學補償膜，如前述般可適宜使用於液 晶顯示裝置等之各種顯示裝置的形成上，例如可將偏光板 配置於液晶元件之單側或兩側做成液晶面板，而可使用於 反射型或半穿透型、穿透-反射兩用型等之液晶顯示裝置上 〇 形成液晶顯示裝置之液晶元件的種類，可任意地選擇 ，例如可使用以薄膜電晶體（TFT)型爲代表之主動陣列驅動 型者、以TN(扭轉向歹!J)型或STN(超級扭轉向歹!])型爲代表 之單純陣列驅動型者等，可使用各種類型之液晶元件。當 中又以適用於顯示方式爲TN型、STN型、〇CB (Optically Aligned Birefringence)型之液晶元件爲佳。又，即使是VA( 垂直配向；Vertical Alighned)型等，當液晶配向爲單區 (monodomain)配向的情況，此種液晶元件亦可使用。 又，前述液晶元件通常係於對向液晶元件基板之間隙 注入液晶之構造，在液晶元件基板方面並無特別限定，可 47 200303438 使用例如玻璃基板或塑膠基板。又，塑膠基板之材質並無 特別限定可舉出以往眾知之材料。 又，於液晶元件之兩面設置本發明之傾斜光學補償膜 或偏光板或其他光學構件的情況，該等可爲相同種類亦可 爲不同。又，於液晶顯示裝置之形成時，可在適宜的位置 進一步配置1層或2層以上之菱鏡列片、透鏡列片、光擴 散板或背光元件等之適宜的構件。 再者，本發明之液晶顯示裝置係包含液晶面板，在液 晶面板方面除了使用本發明之液晶面板以外，並無特別限 制。又，亦可進一步具有光源，而光源種類亦無特別限制 ，例如，基於可有效使用光能之觀點，以例如可射出偏光 之平面光源爲佳。 本發明之液晶面板的一例，可舉出例如以下形態。液 晶面板係具有例如液晶元件、本發明之傾斜光學補償膜、 偏光元件以及透明保護層，於該液晶元件之一側面積層有 該傾斜光學補償膜，於該傾斜光學補償膜之另一側面依序 積層有該偏光元件與透明保護層。該液晶元件係於兩片之 液晶元件基板之間保持著液晶所構成者。又，傾斜光學補 償膜當如前述般爲複折射層與基材而成之積層體時，其配 置並無特別限制，可舉出例如複折射層側面向於液晶元件 ，基材側面向於偏光元件之形態。 於本發明之液晶顯示裝置中，可在視讀側之傾斜光學 補償膜上進一步配置擴散板、抗眩層、反射防止膜、保護 層或是保護板，或是於液晶面板之液晶元件與偏光板之間 48 200303438 適宜配置補償用相位差板等。 再者，本發明之傾斜光學補償膜或偏光板並不限於前 述液晶顯示裝置，亦可使用於例如有機電致發光（EL)顯示 器、PDP、電漿顯示器（PD)以及FED(電場放射顯示器： Field Emission Display)等之自發光型影像顯示裝置。使用於 自發光型平面顯示器的情況，例如將本發明之偏光板控制 成△!!(!= λ/4，可得到圓偏光，所以可做爲反射防止濾片來 使用。 以下，針對具備本發明之傾斜光學補償膜或偏光板的 電致發光（EL)顯示裝置做說明。本發明之EL顯示裝置係具 有本發明之傾斜光學補償膜或偏光板的顯示裝置，此EL裝 置可爲有機EL以及無機EL之任一者。 最近·，在EL顯示裝置方面，係提出了將偏光元件或偏 光板等之光學薄膜與λ/4板倂用以防止黑狀態中來自電極 的反射。本發明之傾斜光學補償膜或偏光板特別在自EL層 發射直線偏光、圓偏光或是橢圓偏光之任一偏光的情形、 或是朝正面方向發射自然光、朝斜方向之出射光呈部分偏 光之情形等係非常有用。 首先，就一般有機·Εί顯示裝置做說明。一般，有機 EL顯示裝置係在透明基板上依序積層透明電極、有機發光 層、金屬電極來形成發光體（有機EL發光體）。有機發光層 係各種的有機薄膜之積層體，已知有例如三苯胺衍生物等 所構成之電洞植入層與憩等之螢光性有機固體所構成之發 光層而成之積層體、前述發光層與二萘嵌苯衍生物等所構 49 200303438 成之電子植入層而成之積層體、或是電洞植入層、發光層 與電子植入層之積層體等各種的組合。 又，有機EL顯示裝置係基於以下原理來發光。亦即， 對前述陽極與陰極施加電壓，以對有機發光層植入電洞與 電子，該等電洞與電子之再結合所產生之能量會激發螢光 物質，所激發之螢光物質在回到基態時會發光。電洞與電 子再結合此種機制，係與一般之二極體同樣，電流與發光 強度對於施加電壓顯示伴隨整流性之強非線形性。 於有機EL顯示裝置中，爲了自有機發光層導出發光， 至少一側之電極需爲透明電極，通常係將由氧化銦錫（ΙΊΌ) 等之透明導電體所形成之透明電極當做陽極來使用。另一 方面，爲了使得電子植入變得容易來提昇發光效率，陰極 使用工作函數小之物質一事是重要的，通常可使用Mg-Ag 、Al-Li等之金屬電極。 於前述構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層以厚度 薄達10nm程度之薄膜來形成爲佳。此乃由於，有機發光層 亦與透明電極同樣可使得光近乎完全穿透之故。於是，非 發光時自透明基板之表面入射之穿透透明電極與有機發光 層而在金屬電極被反射之光，會再度往透明基板之表面側 射出。所以自外部觀看時，有機EL顯示裝置之顯示面會呈 現鏡面。 本發明之有機EL顯示裝置，例如在包含有機EL發光 體（有機發光層之表面側具備透明電極，有機發光層之裏面 側具備金屬電極）之有機EL顯示裝置中，以在透明電極之 50 200303438 表面側設置本發明之傾斜光學補償膜或偏光板爲佳，以進 一步在偏光板與EL元件之間設置λ/4板爲佳。藉由配置本 發明之傾斜光學補償膜或偏光板，可成爲一種展現抑制外 界反射、視讀性獲得提升之效果的有機EL顯示裝置。又， 於透明電極與光學薄膜之間進一步配置相位差板爲佳。 前述相位差板與光學薄膜（偏光板等）由於具有將自外部 所入射、在金屬電極被反射之光加以偏光之作用，所以利 用其偏光作用可自外部來確認金屬電極之鏡面，此爲其效 果所在。特別是，只要以1/4波長板來構成相位差板、且將 偏光板與相位差板之偏光方向所成角度調整爲7Γ /4，即可 將金屬電極之鏡面完全遮蔽。亦即，對有機EL裝置所入射 之外部光，利用偏光板僅直線偏光成分可穿透。此直線偏 光藉由相位差板一般可成爲橢圓偏光，但當相位差板爲1/4 波長板、且偏光板與相位差板之偏光方向所成角度爲7Γ /4 時，則會成爲圓偏光。 此圓偏光通常會穿透透明基板、透明電極、有機薄膜 ，於金屬電極被反射，再次穿透有機薄膜、透明電極、透 明基板，以相位差板再次成爲直線偏光。此直線偏光由於 與偏光板之偏光方向成直交，所以無法穿透偏光板。於是 ，可將金屬電極之鏡面完全遮蔽。 (實施例） 以下，藉由實施例與比較例對本發明做進一步的說明 ，惟本發明並不限定於該等實施例。 (實施例1) 200303438 將由2,2’一雙（三氟甲基）一 4,4’，5,5’一聯苯四羧酸二酐 與2,2’一雙（三氟甲基）一 4,4’一二氰基聯苯所合成之重量平 均分子量（Mw)7萬之聚醯亞胺溶解於環己酮中調製出10重 量％之聚醯亞胺溶液。接著，將該聚醯亞胺溶液塗佈在厚度 75// m之PET膜（東麗公司製造：商品名S27)之表面。然後 ，對塗佈膜以熱風機吹送熱風，使得該塗佈膜之聚醯亞胺 成爲傾斜。此處理條件係風速20m/seC、風溫l〇〇°C、時間 5分鐘、塗佈膜表面與送風機前端距離爲30cm，將PET膜 與塗佈膜所成之積層體配置在皮帶上以2m/分鐘的速度來連 續送出而吹以熱風。之後，進一步以150°C加熱乾燥5分鐘 ，將PET膜上經傾斜配向之聚醯亞胺固定，而於PET膜上 形成厚度4//m之聚醯亞胺膜。對聚醯亞胺膜之複折射性進 行評價，可知爲複折射率（An)約0.041之複折射層。 自該PET膜將聚醯亞胺膜剝離，針對此聚醯亞胺膜， 使用相位差計（商品名KOBRA-21ADH:王子測量機器公司 製造）測定590nm之相位差。此相位差測定係將聚醯亞胺膜 之法線設定爲0° ，將法線（〇° )以及自法線往聚醯亞胺膜 之超前軸方向做-50°〜+50°傾斜之軸當作測定軸，從該測 定軸方向來進行。該等結果係示於圖3。圖3係顯示測定角 度（傾斜角度）與各測定角度之相位差値之間的關係圖，橫軸 表示角度、縱軸表示相位差値。 如圖3所不般，由於以法線爲0°時之測定角度（_5〇。 〜+50° )之相位差値之曲線相對於通過（Γ (法線）之縱軸（圖 中之虛線）呈非對稱之故，可確認成爲聚醯亞胺之配向呈傾 52 200303438 斜配向之傾斜光學補償膜。又’會顯示最小相位差値者係 在自法線往超前軸方向傾斜+1〇°左右之附近。 再者，將此聚醯亞胺膜積層於市售之偏光板（商品名 HEG1425 DU :日東電工公司製造）。將此積層偏光板以聚醯 亞胺膜與液晶面板呈對向的方式組裝於市售之TN模式液晶 顯示裝置之液晶面板上。接著’算出此液晶顯示裝置之對 比度。對比度係使得該液晶顯7^裝置進行白色影像以及黑 色影像之顯示，利用商品名Ez contrast 160D(ELDIM公司製 造）針對顯示畫面之正面、上下左右’就視野角0〜70°之 xyz顯示系之γ値、X値、y値進行測定。然後，從白色影 像之Y値（Yw)與黑色影像之Y値以3)算出各視野角之對比 度「Yw / ΥΒ」。另一方面，做爲比較例，係取代前述積層 偏光板，改針對僅組裝有市售偏光板之液晶顯示裝置確認 視野角之對比度。 其結果，依據實施例之組裝有積層偏光板之液晶顯示 裝置，相較於僅組裝有市售之偏光板的比較例之液晶顯示 裝置，對比度呈現10以上之視野角擴大到了左右+ 15。之 範圍。 (對照例1) 將聚乙烯醇（商品名ΝΗ-18:日本合成化學公司製造）$ 1重量％水溶液利用旋塗法塗佈到玻璃板表面，將所得之物 以120°C乾燥5分鐘。藉此，可於玻璃板上形成膜厚〇.5“ m之PVA膜。再者，將該PVA膜之表面以市售之摩擦布朝 特定方向做5次的摩擦，形成配向膜。接著，利用旋塗法 53 200303438 於該配向膜之表面塗佈下述化學式所示之三苯撐系碟狀液 晶之10重量％四氯乙烯溶液，將此塗佈膜以20(TC做5分 鐘的加熱處理，以進行該液晶材料之配向。利用此加熱處 理，於配向膜上形成厚度2//m、複折射率（Δη)約0.040之 傾斜複折射層。

針對此對照例1之傾斜複折射層與前述實施例1同樣 測定相位差。其結果示於圖4。圖4係與前述圖3同樣顯示 法線一測定軸之角度與各測定軸之相位差値之關係之圖， 橫軸爲角度、縱軸爲相位差値。如圖4所示般，以法線爲0 °時之測定角度（-50°〜+50° )之相位差値之曲線相對於通 過0° (法線）之縱軸（圖中之虛線）呈非對稱，顯示最小相位 差値者係在自法線往超前軸方向傾斜+30°左右之附近。 再者，將此複折射層與前述實施例1同樣組裝於市售 之ΤΝ模式液晶顯示裝置的結果，相較於僅組裝市售偏光板 之情況，展現對比度10以上之區域往左右方向擴大了+15° 54 200303438 由以上結果可知，若採用實施例之傾斜光學補償膜， 則相較於對照例，即使相位差與測定角度之曲線形狀有若 干相異，仍同樣地對縱軸呈非對稱。 又，將實施例與對照例所製造之傾斜光學補償膜做進 一步拉伸之結果，對照例之傾斜光學補償膜之液晶分子的 傾斜配向變得紊亂，缺乏傾斜光學補償膜之實用性；相對 於此，實施例之傾斜光學補償層，可將面內相位差做進一 步的變化。由此亦可瞭解，本發明之傾斜光學補償膜可依 據用途對光學特性做進一步的變化，所以可說其用途被擴 大了。 產業上之可利用件 如以上所述，依據本發明，可在不使用液晶材料的前 提下提供一種特別對於NT模式等之液晶顯示裝置爲有用之 嶄新的傾斜光學補償膜。又，由於爲非液晶聚合物，不受 基板配向性之影響，所以基板之種類亦無限定。再者，即 使將非液晶聚合物做傾斜配向之後，仍可進行拉伸或收縮 處理，所以光學特性之設計可進一步變化，用途得以增加 ，做爲相位差膜非常有用。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示本發明之傾斜光學補償膜中相位差之測定 角度與相位差値之間的關係圖。 圖2係顯示本發明之傾斜光學補償膜中折射率橢圓體 之形態的示意圖。 圖3係顯示本發明之一實施例中傾斜光學補償膜之相 55 200303438 位差値與測定角度之間的關係圖。 圖4係顯示對照例中傾斜光學補償膜之相位差値與測 定角度之間的關係圖。

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Claims (1)

1. 200303438 拾、申請專利範圍 1. 一種傾斜光學補償膜，係含有非液晶聚合物；其特徵 在於：該非液晶聚合物係呈傾斜配向； 當以傾斜光學補償膜面之法線爲〇。、以該法線與測定 軸所成角度做爲測定角度（包含0。）時，自該測定軸方向所 測定之相位差値，以該0°之相位差値爲中心，在測定角度 爲+側與-側的變化係呈非對稱，而且 以下述式所表示之複折射（△ η)位於0.001〜0.5之範圍： Δ η = [{(nx+ny)/2}-nz] · d/d 於前述式中，Δη係表示傾斜光學補償膜之複折射，nx 、ny與nz係分別表示該傾斜光學補償膜在X軸、γ軸以及 Z軸方向之折射率，X軸係於傾斜光學補償膜之面內顯示最 大折射率之軸方向，Y軸係於該面內相對於X軸呈垂直之 軸方向，Z軸係與X軸、Y軸呈垂直之厚度方向，d係表示 傾斜光學補償膜之厚度。 2. 如申請專利範圍第1項之傾斜光學補償膜，其中，# 液晶聚合物係擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚 醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少1種聚合物。 3. —種傾斜光學補償膜，係含有非液晶聚合物；其彳寺^ %在於：該非液晶聚合物係呈傾斜配向； 當以傾斜光學補償膜面之法線爲0° 、以該法線與測定 軸所成角度做爲測定角度（包含〇° )時，自該測定軸方向所 測定之相位差値，以該〇°之相位差値爲中心，在測定角度 爲+側與-側的變化係呈非對稱’而且 200303438 非液晶聚合物係擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚 酮、聚醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少1種聚 合物。 4. 如申請專利範圍第3項之傾斜光學補償膜，其中，以 下述式所表示之複折射（Δη)位於0.001〜0.5之範圍： Δη = [{(nx+ny)/2}-nz] · d/d 於前述式中，Δη係表示傾斜光學補償膜之複折射，ιιχ 、ny與ηζ係分別表示該傾斜光學補償膜在X軸、Υ軸以及 Ζ軸方向之折射率，X軸係於傾斜光學補償膜之面內顯示最 大折射率之軸方向，Υ軸係於該面內相對於X軸呈垂直之 軸方向，Ζ軸係與X軸、Υ軸呈垂直之厚度方向，d係表示 傾斜光學補償膜之厚度。 5. 如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其中 ，相位差値之最大値或最小値係測定角度在+側或-側之相 位差値。 6. 如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其中 ，測定角度係-50°〜+50° 。 7. 如申請專利範圍第6項之傾斜光學補償膜，其中，相 位差値之最大値或最小値係測定角度-2°〜-50°或+2°〜+50 °之相位差値。 8. 如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其中 ，測定軸係包含法線以及自法線傾斜之軸，自法線傾斜之 軸係朝傾斜光學補償膜之延遲軸方向做傾斜。 9. 如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其中 200303438 ，測定軸係包含法線以及自法線傾斜之軸，自法線傾斜之 軸係朝傾斜光學補償膜之超前軸方向做傾斜。 10.如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其 中，係使用於顯示方式爲TN(Twisted Nematic)模式或 〇CB(〇ptically Aligned Birefringence)模式之液晶顯示裝置。 11 ·如申請專利範圍第1或3項之傾斜光學補償膜，其 中，液晶配向係呈單區（monodomain)配向。

   12. 如申請專利範圍第10項之傾斜光學補償膜，其中， 顯示方式爲TN模式之液晶顯示裝置中顯示對比度10以上 之區域朝顯示面之左右方向擴大10°以上。 13. —種傾斜光學補償膜之製造方法，係包含： 將擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯 '聚醚酮、聚醯胺醯 亞胺以及聚酯醯亞胺所構成群中至少一種非液晶聚合物塗 佈於基材上形成塗佈膜之製程，以及

   使得該塗佈膜之非液晶聚合物做傾斜配向而形成傾斜 光學補償膜之製程； 使得非液晶聚合物做傾斜配向之方法，係對於該塗佈 膜施加外力以使非液晶聚合物做傾斜配向。 14·如申請專利範圍第13項之製造方法，係包含：於塗 佈膜經傾斜配向之後，使形成塗佈膜之非液晶聚合物固化 之製程。‘ 15.如申請專利範圍第13項之製造方法，係藉由對塗佈 膜吹風來對塗佈膜施加外力。 16·如申請專利範圍第13項之製造方法，其中，前述基 59 200303438 材係使用具有收縮性之基材（第1基材），於該第1基材上形 成塗佈膜之後，進一步於塗佈膜上積層一收縮率與第1基 材之收縮率相異之第2基材，然後將塗佈膜以第1基材與 第2基材做挾持，利用第1基材與第2基材之收縮率的差 異，來對塗佈膜施加外力。 17. 如申請專利範圍第16項之製造方法，係藉由對第1 基材與第2基材施以加熱處理來使得基材收縮。 18. 如申請專利範圍第13項之製造方法，係包含一將基 材與於基材上所形成之傾斜光學補償膜進一步同時拉伸， 來改變傾斜光學補償膜之相位差之製程。 19. 如申請專利範圍第13項之製造方法，其中，前述基 材係使用具有伸縮性之基材，於該基材上形成傾斜光學補 償膜之後，使得基材做收縮，來改變傾斜光學補償膜之相 位差。 20. 如申請專利範圍第13項之製造方法，係包含將基材 自傾斜光學補償膜剝離之製程。 21. —種傾斜光學補償膜，係以申請專利範圍第13項之 傾斜光學補償膜之製造方法所製造者。 22. —種偏光板，係包含偏光元件與光學補償膜；其特 徵在於，該光學補償膜係申請專利範圍第1、3以及21項 之傾斜光學補償膜中至少一者。 23. —種液晶面板，係包含液晶元件與光學構件；其特 徵在於，於該液晶元件之至少一側表面配置有該光學構件 ，該光學構件係申請專利範圍第1、3以及21項之傾斜光 200303438 學補償膜中至少一者。 24. —種液晶顯示裝置，係包含液晶面板；其特徵在於 ，該液晶面板係申請專利範圍第23項之液晶面板。 25. 如申請專利範圍第24項之液晶顯示裝置，其顯示方 式爲TN模式或OCB模式。 26. 如申請專利範圍第24項之液晶顯示裝置，其中，液 晶配向爲單區配向。

   27. —種影像顯示裝置，其特徵在於，係包含擇自申請 專利範圍第1、3以及21項之傾斜光學補償膜以及申請專 利範圍第22項之偏光板所構成群中至少1種光學構件。 28. 如申請專利範圍第27項之影像顯示裝置，係擇自液 晶顯示裝置、電致發光（EL)顯示器、PDP、電漿顯示器（PD) 以及FED(電場放射顯示器：Field Emission Display)所構成 群中至少一種。

   拾壹、圖式 如次頁 61