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JP2018109761A - Silicon-containing resin composition, silicon-containing resin film, silica film, light-emitting display element panel, and light-emitting display device - Google Patents

Silicon-containing resin composition, silicon-containing resin film, silica film, light-emitting display element panel, and light-emitting display device Download PDF

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JP2018109761A JP2017247015A JP2017247015A JP2018109761A JP 2018109761 A JP2018109761 A JP 2018109761A JP 2017247015 A JP2017247015 A JP 2017247015A JP 2017247015 A JP2017247015 A JP 2017247015A JP 2018109761 A JP2018109761 A JP 2018109761A
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Abstract

【課題】クラックの発生を抑止しつつ、良好に分散された状態で量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムを形成できるケイ素含有樹脂組成物と、量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム及びシリカフィルム、並びにその製造方法と、発光表示素子用の光学フィルム及び積層体と、当該光学フィルム又は当該積層体を含む発光表示素子パネルと、当該発光表示素子パネルを備える発光表示装置と、前述の積層体の製造方法とを提供すること。【解決手段】ケイ素含有樹脂(A)と、量子ドット(B)と、溶剤(S)とを含む、ケイ素含有樹脂組成物において、ケイ素含有樹脂(A)として、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される1種以上を用い、特定の構造のシクロアルキルアセテートを溶剤(S)に含有させる。シクロアルキルアセテートとしては、シクロヘキシルアセテートが好適に使用される。【選択図】なしA silicon-containing resin composition capable of forming a silicon-containing resin film or a silica film containing quantum dots in a well dispersed state while suppressing the occurrence of cracks, and a silicon-containing resin film and a silica film containing quantum dots And a manufacturing method thereof, an optical film and a laminate for a light-emitting display element, a light-emitting display element panel including the optical film or the laminate, a light-emitting display device including the light-emitting display element panel, and the laminate described above. And a method for manufacturing the same. A silicon-containing resin composition containing a silicon-containing resin (A), a quantum dot (B), and a solvent (S), wherein the silicon-containing resin (A) is selected from a siloxane resin and a polysilane. Using at least one of them, a cycloalkyl acetate having a specific structure is contained in the solvent (S). As the cycloalkyl acetate, cyclohexyl acetate is preferably used. [Selection diagram] None

Description

本発明は、ケイ素含有樹脂組成物、ケイ素含有樹脂フィルム、シリカフィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置に関する。   The present invention relates to a silicon-containing resin composition, a silicon-containing resin film, a silica film, a light-emitting display element panel, and a light-emitting display device.

従来より、電子を閉じ込めるために形成された極小さな粒(ドット)が、量子ドットと称され、各種分野での適用検討がなされてきた。ここで、1粒の量子ドットの大きさは、直径数ナノメートルから数10ナノメートルであり、約1万個の原子で構成されている。   Conventionally, extremely small particles (dots) formed to confine electrons are referred to as quantum dots, and application studies have been made in various fields. Here, the size of one quantum dot is several nanometers to several tens of nanometers in diameter, and is composed of about 10,000 atoms.

かかる量子ドットは、そのサイズを変える(バンドギャップを変える)ことで、発光する蛍光の色(発光波長)を変えること(波長変換)ができる。このため、近年、量子ドットについて、波長変換材料として表示素子に適用することの検討が鋭意なされてきている(特許文献1、及び2を参照)。   Such a quantum dot can change the color (emission wavelength) of emitted fluorescence (wavelength conversion) by changing its size (changing the band gap). For this reason, in recent years, studies on applying quantum dots to display elements as wavelength conversion materials have been earnestly performed (see Patent Documents 1 and 2).

また、種々の光学発光素子や、表示素子における量子ドットを含む光学フィルムの適用も検討されている。かかる光学フィルムとしては、例えば、ポリジメチルシロキサンのようなケイ素含有樹脂からなるマトリックス中に量子ドットが分散された光学フィルムが提案されている(特許文献3を参照)。
例えば、液晶表示素子や有機EL表示素子等の光源の発光を用いて画像を表示する素子において、光源が発する光線を量子ドットを含む光学フィルムを透過させると、波長変換によって色純度の高い緑色光と赤色光を取り出すことができるため、色相の再現範囲を拡大することができる。
In addition, various optical light-emitting elements and application of optical films including quantum dots in display elements have been studied. As such an optical film, for example, an optical film in which quantum dots are dispersed in a matrix made of a silicon-containing resin such as polydimethylsiloxane has been proposed (see Patent Document 3).
For example, in an element that displays an image using light emission of a light source such as a liquid crystal display element or an organic EL display element, when light rays emitted from the light source are transmitted through an optical film including quantum dots, green light with high color purity is obtained by wavelength conversion. Since the red light can be extracted, the reproduction range of the hue can be expanded.

特開2006−216560号公報JP 2006-216560 A 特開2008−112154号公報JP 2008-112154 A 韓国公開特許第10−2016−0004524号公報Korean Published Patent No. 10-2016-0004524

シロキサン樹脂やシリカ等のケイ素含有材料は、耐光性、耐候性、耐溶剤性、耐化学薬品性、透明性、及び絶縁性等の種々の優れた特性を有するため、量子ドットを含む光学フィルムにおけるマトリックスの材料として好適である。
しかしながら、シロキサン樹脂やシリカ等のケイ素含有材料からなるマトリックスと、当該マトリックス中に分散された量子ドットとを含むフィルムを形成する場合、フィルムの膜厚が厚いと、形成されるフィルムにクラックが生じやすい問題がある。
Silicon-containing materials such as siloxane resins and silica have various excellent properties such as light resistance, weather resistance, solvent resistance, chemical resistance, transparency, and insulation, so in optical films containing quantum dots Suitable as matrix material.
However, when a film including a matrix made of a silicon-containing material such as siloxane resin or silica and quantum dots dispersed in the matrix is formed, if the film is thick, a crack is generated in the formed film. There is an easy problem.

このため、ケイ素含有材料からなるマトリックス中に量子ドットを含む光学フィルムを使用する場合、光学フィルムの膜厚を薄くする必要があり、光学フィルムの設計や、光学フィルムを備える各種装置の設計が著しく制限される問題がある。
例えば、ある程度厚い光学フィルムを製造する際に、クラックのない光学フィルムを得るために、多数の薄い光学フィルムを積層する必要がある場合がある。かかる場合、積層の操作の煩雑さによって、光学フィルムの製造コストが高い。
For this reason, when using an optical film containing quantum dots in a matrix made of a silicon-containing material, it is necessary to reduce the film thickness of the optical film, and the design of the optical film and various devices equipped with the optical film are remarkably different. There are limited issues.
For example, when manufacturing an optical film that is somewhat thick, it may be necessary to laminate a number of thin optical films in order to obtain an optical film without cracks. In such a case, the manufacturing cost of the optical film is high due to the complexity of the laminating operation.

また、量子ドットを含む光学フィルムでは、フィルムに入射する輝度線の散乱を抑制するために、量子ドットを良好に分散させて、量子ドットの粒子間にある程度の距離を確保することが望まれる。
しかし、ケイ素含有材料からなるマトリックス中に量子ドットを含む光学フィルムを形成する場合、光学フィルムの形成に用いる組成物の組成によっては、量子ドットをフィルム中に良好分散させることが困難である場合がある。
In addition, in an optical film including quantum dots, in order to suppress scattering of luminance lines incident on the film, it is desired to disperse the quantum dots well to ensure a certain distance between the quantum dot particles.
However, when forming an optical film containing quantum dots in a matrix made of a silicon-containing material, depending on the composition of the composition used to form the optical film, it may be difficult to disperse the quantum dots in the film. is there.

本発明は、上記の課題に鑑みなされた。本発明は、クラックの発生を抑止しつつ、良好に分散された状態で量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムを形成できるケイ素含有樹脂組成物と、当該ケイ素含有樹脂組成物を用いるケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムの製造方法と、量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムと、当該ケイ素含有樹脂フィルム及び/又は当該シリカフィルムを含む発光表示素子用の光学フィルム、又は積層体と、当該光学フィルム、又は当該積層体を含む発光表示素子パネルと、当該発光表示素子パネルを備える発光表示装置と、前述の積層体の製造方法と、を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems. The present invention relates to a silicon-containing resin composition capable of forming a silicon-containing resin film or silica film containing quantum dots in a well dispersed state while suppressing the occurrence of cracks, and a silicon-containing resin using the silicon-containing resin composition. Manufacturing method of resin film or silica film, silicon-containing resin film or silica film containing quantum dots, optical film for light-emitting display element containing silicon-containing resin film and / or silica film, or laminate, It is an object to provide an optical film or a light-emitting display element panel including the laminate, a light-emitting display device including the light-emitting display element panel, and a method for manufacturing the laminate.

本発明者らは、ケイ素含有樹脂(A)と、量子ドット(B)と、溶剤(S)とを含む、ケイ素含有樹脂組成物において、ケイ素含有樹脂(A)としてシロキサン樹脂、及びポリシランからなる群より選択される1種以上を用い、特定の構造のシクロアルキルアセテートを溶剤(S)に含有させることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。   In the silicon-containing resin composition containing the silicon-containing resin (A), the quantum dots (B), and the solvent (S), the present inventors are composed of a siloxane resin and polysilane as the silicon-containing resin (A). The inventors have found that the above problems can be solved by using one or more selected from the group and incorporating a cycloalkyl acetate having a specific structure in the solvent (S), and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

本発明の第1の態様は、ケイ素含有樹脂(A)と、量子ドット(B)と、溶剤(S)と、を含有し、
ケイ素含有樹脂(A)が、シロキサン樹脂、及びポリシランからなる群より選択される1種以上であり、
溶剤(S)が下式(S1):

Figure 2018109761
(式(S1)中、Rs1は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは1〜6の整数であり、qは0〜(p+1)の整数である。)
で表されるシクロアルキルアセテートを含有するケイ素含有樹脂組成物である。 The first aspect of the present invention contains a silicon-containing resin (A), a quantum dot (B), and a solvent (S),
The silicon-containing resin (A) is one or more selected from the group consisting of a siloxane resin and polysilane,
The solvent (S) is represented by the following formula (S1):
Figure 2018109761
(In formula (S1), R s1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, p is an integer of 1 to 6, and q is an integer of 0 to (p + 1).)
It is a silicon-containing resin composition containing the cycloalkyl acetate represented by these.

本発明の第2の態様は、
第1の態様にかかるケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜を形成することと、
塗布膜から溶剤(S)を除去することと、
を含むケイ素含有樹脂フィルムの製造方法である。
The second aspect of the present invention is:
Forming a coating film comprising the silicon-containing resin composition according to the first aspect;
Removing the solvent (S) from the coating film;
Is a method for producing a silicon-containing resin film.

本発明の第3の態様は、ケイ素含有樹脂(A)からなるマトリックス中に、量子ドット(B)が分散されており、膜厚が2〜300μmであるケイ素含有樹脂フィルムである。   A third aspect of the present invention is a silicon-containing resin film in which quantum dots (B) are dispersed in a matrix composed of a silicon-containing resin (A) and a film thickness is 2 to 300 μm.

本発明の第4の態様は、
第1の態様にかかるケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜を形成することと、
塗布膜を焼成することと、
を含む、シリカフィルムの製造方法である。
The fourth aspect of the present invention is:
Forming a coating film comprising the silicon-containing resin composition according to the first aspect;
Firing the coating film;
Is a method for producing a silica film.

本発明の第5の態様は、シリカからなるマトリックス中に、量子ドット(B)が分散されているシリカフィルムである。   The fifth aspect of the present invention is a silica film in which quantum dots (B) are dispersed in a matrix made of silica.

本発明の第6の態様は、第3の態様にかかるケイ素含有樹脂フィルム、又は第5の態様にかかるシリカフィルムからなる、発光表示素子用の光学フィルムである。   A sixth aspect of the present invention is an optical film for a light-emitting display element comprising the silicon-containing resin film according to the third aspect or the silica film according to the fifth aspect.

本発明の第7の態様は、第3の態様にかかるケイ素含有樹脂フィルム、及び第5の態様にかかるシリカフィルムとからなる群より選択される1以上のフィルムを含む積層体である。   A seventh aspect of the present invention is a laminate including one or more films selected from the group consisting of the silicon-containing resin film according to the third aspect and the silica film according to the fifth aspect.

本発明の第8の態様は、第6の態様にかかる発光表示素子用の光学フィルム、又は第7の態様にかかる積層体を含む、発光表示素子パネルである。   An eighth aspect of the present invention is a light-emitting display element panel including the optical film for a light-emitting display element according to the sixth aspect or the laminate according to the seventh aspect.

本発明の第9の態様は、第8の態様にかかる発光表示素子パネルを備える、発光表示装置である。   A ninth aspect of the present invention is a light emitting display device including the light emitting display element panel according to the eighth aspect.

本発明の第10の態様は、ケイ素含有樹脂フィルム、及びシリカフィルムから選択される1以上のフィルムを含む積層体の製造方法であって、
ケイ素含有樹脂フィルムを、第2の態様にかかる製造方法で製造すること、及び
シリカフィルムを、第4の態様にかかる製造方法で製造すること、
の少なくとも一方を含む積層体の製造方法である。
A tenth aspect of the present invention is a method for producing a laminate comprising one or more films selected from a silicon-containing resin film and a silica film,
Producing a silicon-containing resin film by the production method according to the second aspect; and producing a silica film by the production method according to the fourth aspect;
It is a manufacturing method of the laminated body containing at least one of these.

本発明によれば、クラックの発生を抑止しつつ、良好に分散された状態で量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムを形成できるケイ素含有樹脂組成物と、当該ケイ素含有樹脂組成物を用いるケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムの製造方法と、量子ドットを含むケイ素含有樹脂フィルム又はシリカフィルムと、当該ケイ素含有樹脂フィルム及び/又は当該シリカフィルムを含む発光表示素子用の光学フィルム、又は積層体と、当該光学フィルム、又は当該積層体を含む発光表示素子パネルと、当該発光表示素子パネルを備える発光表示装置と、前述の積層体の製造方法と、を提供することができる。   According to the present invention, a silicon-containing resin composition capable of forming a silicon-containing resin film or a silica film containing quantum dots in a well dispersed state while suppressing the occurrence of cracks, and the silicon-containing resin composition are used. Manufacturing method of silicon-containing resin film or silica film, silicon-containing resin film or silica film containing quantum dots, optical film for light-emitting display element containing the silicon-containing resin film and / or silica film, or laminate A light-emitting display element panel including the optical film or the laminate, a light-emitting display device including the light-emitting display element panel, and a method for manufacturing the laminate described above can be provided.

<ケイ素含有樹脂組成物>
本発明にかかるケイ素含有樹脂組成物は、ケイ素含有樹脂(A)と、量子ドット(B)と、溶剤(S)と、を含有する。
ケイ素含有樹脂(A)としては、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される1種以上が使用される。
溶剤(S)は、下式(S1)で表される、シクロアルキルアセテートを含有する。

Figure 2018109761
(式(S1)中、Rs1は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは1〜6の整数であり、qは0〜(p+1)の整数である。) <Silicon-containing resin composition>
The silicon-containing resin composition according to the present invention contains a silicon-containing resin (A), a quantum dot (B), and a solvent (S).
As the silicon-containing resin (A), one or more selected from siloxane resins and polysilanes are used.
The solvent (S) contains a cycloalkyl acetate represented by the following formula (S1).
Figure 2018109761
(In formula (S1), R s1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, p is an integer of 1 to 6, and q is an integer of 0 to (p + 1).)

ケイ素含有樹脂組成物が、所定の構造のシクロアルキルアセテートを含有する溶剤(S)を含むことにより、ケイ素含有樹脂組成物を用いて形成されるケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムにおけるクラックの発生を抑制しつつ、ケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムにおいて、量子ドット(B)を良好に分散させることができる。   The silicon-containing resin composition contains a solvent (S) containing a cycloalkyl acetate having a predetermined structure, thereby suppressing the occurrence of cracks in the silicon-containing resin film and silica film formed using the silicon-containing resin composition. However, the quantum dots (B) can be favorably dispersed in the silicon-containing resin film or the silica film.

ケイ素含有樹脂組成物を用いて、膜厚2〜300μm程度の厚めのケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムを形成する場合、特にクラックが発生しやすい。
しかし、本発明にかかるケイ素含有樹脂組成物を用いると、膜厚2〜300μm程度の厚めのケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムを形成する場合でも、クラックの発生を抑制しやすい。
When forming a thick silicon-containing resin film or silica film having a film thickness of about 2 to 300 μm using the silicon-containing resin composition, cracks are particularly likely to occur.
However, when the silicon-containing resin composition according to the present invention is used, even when a thick silicon-containing resin film or silica film having a film thickness of about 2 to 300 μm is formed, it is easy to suppress the occurrence of cracks.

以下、ケイ素含有樹脂組成物に含まれる、必須又は任意の成分について説明する。   Hereinafter, essential or optional components contained in the silicon-containing resin composition will be described.

[ケイ素含有樹脂(A)]
ケイ素含有樹脂(A)としては、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される1種以上が使用される。これらのケイ素含有樹脂(A)を含むケイ素含有樹脂組成物を塗布することでケイ素含有樹脂フィルムが得られ、当該ケイ素含有樹脂フィルムが焼成されることでシリカ系の膜が得られる。以下、シロキサン樹脂、及びポリシランとについて説明する。
[Silicon-containing resin (A)]
As the silicon-containing resin (A), one or more selected from siloxane resins and polysilanes are used. A silicon-containing resin film is obtained by applying a silicon-containing resin composition containing these silicon-containing resins (A), and a silica-based film is obtained by firing the silicon-containing resin film. Hereinafter, siloxane resin and polysilane will be described.

(シロキサン樹脂)
シロキサン樹脂について、後述する構造のシクロアルキルアセテートを含有する溶剤(S)に可溶である樹脂であれば、特に制限はない。
シロキサン樹脂としては、例えば下式(A1)で表されるシラン化合物から選択される少なくとも1種を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂が好適に使用される。
4−nSi(OR’)・・・(A1)
(Siloxane resin)
The siloxane resin is not particularly limited as long as it is a resin that is soluble in a solvent (S) containing a cycloalkyl acetate having a structure described later.
As the siloxane resin, for example, a siloxane resin obtained by hydrolytic condensation of at least one selected from silane compounds represented by the following formula (A1) is preferably used.
R 4-n Si (OR ′) n (A1)

式(A1)において、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、R’はアルキル基又はフェニル基を表し、nは2〜4の整数を表す。Siに複数のRが結合している場合、該複数のRは同じであっても異なっていてもよい。またSiに結合している複数の(OR’)基は同じであっても異なっていてもよい。   In the formula (A1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, R ′ represents an alkyl group or a phenyl group, and n represents an integer of 2 to 4. When a plurality of R are bonded to Si, the plurality of R may be the same or different. The plurality of (OR ′) groups bonded to Si may be the same or different.

また、Rとしてのアルキル基は、好ましくは炭素原子数1〜20の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。   The alkyl group as R is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. is there.

Rがアリール基、又はアラルキル基である場合、これらの基に含まれるアリール基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アリール基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。   When R is an aryl group or an aralkyl group, the aryl group contained in these groups is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the aryl group include the following groups.

Figure 2018109761
Figure 2018109761

上記式の基の中では、下式の基が好ましい。

Figure 2018109761
Of the groups of the above formula, the groups of the following formula are preferred.
Figure 2018109761

上記式中、Ra1は、水素原子;水酸基;メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基等の炭化水素基である。上記式中Ra2は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基である。 In the above formula, R a1 is a hydrogen atom; a hydroxyl group; an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, or a propoxy group; a hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, or a propyl group. In the above formula, R a2 is an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, or a butylene group.

Rがアリール基又はアラルキル基である場合の好適な具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。   Preferable specific examples when R is an aryl group or an aralkyl group include benzyl group, phenethyl group, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, biphenylyl group, fluorenyl group, pyrenyl group and the like.

アリール基又はアラルキル基に含まれるベンゼン環の数は1〜3個であることが好ましい。ベンゼン環の数が1〜3個であると、シロキサン樹脂の製造性が良好であり、シロキサン樹脂の重合度の上昇により焼成時の揮発が抑制され、シリカフィルムの形成が容易である。アリール基又はアラルキル基は、置換基として水酸基を有していてもよい。   The number of benzene rings contained in the aryl group or aralkyl group is preferably 1 to 3. When the number of benzene rings is 1 to 3, the productivity of the siloxane resin is good, volatilization during firing is suppressed due to an increase in the degree of polymerization of the siloxane resin, and the formation of a silica film is easy. The aryl group or aralkyl group may have a hydroxyl group as a substituent.

また、R’としてのアルキル基は好ましくは炭素原子数1〜5の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。R’としてのアルキル基の炭素原子数は、特に加水分解速度の点から1又は2が好ましい。
式(A1)におけるnが4の場合のシラン化合物(i)は下式(A2)で表される。
Si(OR(OR(OR(OR・・・(A2)
The alkyl group as R ′ is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The number of carbon atoms of the alkyl group as R ′ is particularly preferably 1 or 2 from the viewpoint of hydrolysis rate.
The silane compound (i) when n in the formula (A1) is 4 is represented by the following formula (A2).
Si (OR 1 ) a (OR 2 ) b (OR 3 ) c (OR 4 ) d (A2)

式(A2)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に上記R’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。 In formula (A2), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent the same alkyl group or phenyl group as R ′ described above.

a、b、c及びdは、0≦a≦4、0≦b≦4、0≦c≦4、0≦d≦4であって、且つa+b+c+d=4の条件を満たす整数である。   a, b, c, and d are integers that satisfy 0 ≦ a ≦ 4, 0 ≦ b ≦ 4, 0 ≦ c ≦ 4, and 0 ≦ d ≦ 4, and satisfy the condition of a + b + c + d = 4.

式(A1)におけるnが3の場合のシラン化合物(ii)は下記式(A3)で表される。
Si(OR(OR(OR・・・(A3)
The silane compound (ii) when n in the formula (A1) is 3 is represented by the following formula (A3).
R 5 Si (OR 6 ) e (OR 7 ) f (OR 8 ) g (A3)

式(A3)中、Rは水素原子、上記Rと同じアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R、R、及びRは、それぞれ独立に上記R’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。 In formula (A3), R 5 represents a hydrogen atom, the same alkyl group as that for R, an aryl group, or an aralkyl group. R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent the same alkyl group or phenyl group as the above R ′.

e、f、及びgは、0≦e≦3、0≦f≦3、0≦g≦3であって、且つe+f+g=3の条件を満たす整数である。   e, f, and g are integers that satisfy 0 ≦ e ≦ 3, 0 ≦ f ≦ 3, 0 ≦ g ≦ 3, and satisfy the condition of e + f + g = 3.

式(A1)におけるnが2の場合のシラン化合物(iii)は下記式(A4)で表される。
10Si(OR11(OR12・・・(A4)
The silane compound (iii) when n in the formula (A1) is 2 is represented by the following formula (A4).
R 9 R 10 Si (OR 11 ) h (OR 12 ) i (A4)

式(A4)中、R及びR10は水素原子、上記Rと同じアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R11、及びR12は、それぞれ独立に上記R’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。 In formula (A4), R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, the same alkyl group as the above R, an aryl group, or an aralkyl group. R 11 and R 12 each independently represent the same alkyl group or phenyl group as R ′ described above.

h及びiは、0≦h≦2、0≦i≦2であって、且つh+i=2の条件を満たす整数である。   h and i are integers that satisfy 0 ≦ h ≦ 2, 0 ≦ i ≦ 2, and satisfy the condition of h + i = 2.

シラン化合物(i)の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラペンチルオキシシラン、テトラフェニルオキシシラン、トリメトキシモノエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリエトキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシトリブトキシシラン、モノメトキシトリペンチルオキシシラン、モノメトキシトリフェニルオキシシラン、ジメトキシジプロポキシシラン、トリプロポキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノブトキシシラン、ジメトキシジブトキシシラン、トリエトキシモノプロポキシシラン、ジエトキシジプロポキシシラン、トリブトキシモノプロポキシシラン、ジメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジブトキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジブトキシモノエトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシモノエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン等のテトラアルコキシシランが挙げられ、中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。   Specific examples of the silane compound (i) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetrapentyloxysilane, tetraphenyloxysilane, trimethoxymonoethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, and triethoxy. Monomethoxysilane, trimethoxymonopropoxysilane, monomethoxytributoxysilane, monomethoxytripentyloxysilane, monomethoxytriphenyloxysilane, dimethoxydipropoxysilane, tripropoxymonomethoxysilane, trimethoxymonobutoxysilane, dimethoxydibutoxy Silane, triethoxymonopropoxysilane, diethoxydipropoxysilane, tributoxymonopropoxysilane, dimethoxymonoethoxymonobutyl Xysilane, diethoxymonomethoxymonobutoxysilane, diethoxymonopropoxymonobutoxysilane, dipropoxymonomethoxymonoethoxysilane, dipropoxymonomethoxymonobutoxysilane, dipropoxymonoethoxymonobutoxysilane, dibutoxymonomethoxymonoethoxysilane, Examples thereof include tetraalkoxysilanes such as dibutoxymonoethoxymonopropoxysilane and monomethoxymonoethoxymonopropoxymonobutoxysilane, among which tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable.

シラン化合物(ii)の具体例としては、
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルオキシシラン、ジメトキシモノエトキシシラン、ジエトキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシルモノメトキシシラン、ジペンチルオキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノプロポキシシラン、ジフェニルオキシルモノメトキシシラン、ジフェニルオキシモノエトキシシラン、ジフェニルオキシモノプロポキシシラン、メトキシエトキシプロポキシシラン、モノプロポキシジメトキシシラン、モノプロポキシジエトキシシラン、モノブトキシジメトキシシラン、モノペンチルオキシジエトキシシラン、及びモノフェニルオキシジエトキシシラン等のヒドロシラン化合物;
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリペンチルオキシシラン、メチルトリフェニルオキシシラン、メチルモノメトキシジエトキシシラン、メチルモノメトキシジプロポキシシラン、メチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、メチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びメチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のメチルシラン化合物;
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリペンチルオキシシラン、エチルトリフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシジエトキシシラン、エチルモノメトキシジプロポキシシラン、エチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、エチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、エチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びエチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のエチルシラン化合物;
プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリペンチルオキシシラン、及びプロピルトリフェニルオキシシラン、プロピルモノメトキシジエトキシシラン、プロピルモノメトキシジプロポキシシラン、プロピルモノメトキシジペンチルオキシシラン、プロピルモノメトキシジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びプロピルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、等のプロピルシラン化合物;
ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリペンチルオキシシラン、ブチルトリフェニルオキシシラン、ブチルモノメトキシジエトキシシラン、ブチルモノメトキシジブロポキシシラン、ブチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ブチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びブチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のブチルシラン化合物;
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリペンチルオキシシラン、フェニルトリフェニルオキシシラン、フェニルモノメトキシジエトキシシラン、フェニルモノメトキシジプロポキシシラン、フェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、フェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のフェニルシラン化合物;
ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシフェニルシラン化合物;
ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、ナフチルトリプロポキシシラン、ナフチルトリペンチルオキシシラン、ナフチルトリフェニルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジエトキシシラン、ナフチルモノメトキシジプロポキシシラン、ナフチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びナフチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のナフチルシラン化合物;
ベンジルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリプロポキシシラン、ベンジルトリペンチルオキシシラン、ベンジルトリフェニルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のベンジルシラン化合物;
ヒドロキシベンジルトリメトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリエトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシベンジルシラン化合物;
が挙げられる。
Specific examples of the silane compound (ii) include
Trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tripentyloxysilane, triphenyloxysilane, dimethoxymonoethoxysilane, diethoxymonomethoxysilane, dipropoxymonomethoxysilane, dipropoxymonoethoxysilane, dipentyloxylmonomethoxysilane , Dipentyloxymonoethoxysilane, dipentyloxymonopropoxysilane, diphenyloxylmonomethoxysilane, diphenyloxymonoethoxysilane, diphenyloxymonopropoxysilane, methoxyethoxypropoxysilane, monopropoxydimethoxysilane, monopropoxydiethoxysilane, monobutoxydimethoxy Silane, monopentyloxydiethoxysilane, monophenyloxydiethoxysilane, etc. Hydrosilane compound;
Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltripentyloxysilane, methyltriphenyloxysilane, methylmonomethoxydiethoxysilane, methylmonomethoxydipropoxysilane, methylmonomethoxydipentyloxysilane, methylmono Methylsilane compounds such as methoxydiphenyloxysilane, methylmethoxyethoxypropoxysilane, and methylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltripentyloxysilane, ethyltriphenyloxysilane, ethylmonomethoxydiethoxysilane, ethylmonomethoxydipropoxysilane, ethylmonomethoxydipentyloxysilane, ethylmono Ethylsilane compounds such as methoxydiphenyloxysilane, ethylmethoxyethoxypropoxysilane, and ethylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltripropoxysilane, propyltripentyloxysilane, and propyltriphenyloxysilane, propylmonomethoxydiethoxysilane, propylmonomethoxydipropoxysilane, propylmonomethoxydipentyloxysilane, propyl Propylsilane compounds such as monomethoxydiphenyloxysilane, propylmethoxyethoxypropoxysilane, and propylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Butyltrimethoxysilane, Butyltriethoxysilane, Butyltripropoxysilane, Butyltripentyloxysilane, Butyltriphenyloxysilane, Butylmonomethoxydiethoxysilane, Butylmonomethoxydibromooxysilane, Butylmonomethoxydipentyloxysilane, Butyl Butylsilane compounds such as monomethoxydiphenyloxysilane, butylmethoxyethoxypropoxysilane, and butylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, phenyltripentyloxysilane, phenyltriphenyloxysilane, phenylmonomethoxydiethoxysilane, phenylmonomethoxydipropoxysilane, phenylmonomethoxydipentyloxysilane, phenylmono Phenylsilane compounds such as methoxydiphenyloxysilane, phenylmethoxyethoxypropoxysilane, and phenylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Hydroxyphenyltrimethoxysilane, hydroxyphenyltriethoxysilane, hydroxyphenyltripropoxysilane, hydroxyphenyltripentyloxysilane, hydroxyphenyltriphenyloxysilane, hydroxyphenylmonomethoxydiethoxysilane, hydroxyphenylmonomethoxydipropoxysilane, hydroxyphenyl Hydroxyphenylsilane compounds such as monomethoxydipentyloxysilane, hydroxyphenylmonomethoxydiphenyloxysilane, hydroxyphenylmethoxyethoxypropoxysilane, and hydroxyphenylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Naphthyltrimethoxysilane, naphthyltriethoxysilane, naphthyltripropoxysilane, naphthyltripentyloxysilane, naphthyltriphenyloxysilane, naphthylmonomethoxydiethoxysilane, naphthylmonomethoxydipropoxysilane, naphthylmonomethoxydipentyloxysilane, naphthylmono Naphthylsilane compounds such as methoxydiphenyloxysilane, naphthylmethoxyethoxypropoxysilane, and naphthylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Benzyltrimethoxysilane, benzyltriethoxysilane, benzyltripropoxysilane, benzyltripentyloxysilane, benzyltriphenyloxysilane, benzylmonomethoxydiethoxysilane, benzylmonomethoxydipropoxysilane, benzylmonomethoxydipentyloxysilane, benzylmono Benzylsilane compounds such as methoxydiphenyloxysilane, benzylmethoxyethoxypropoxysilane, and benzylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Hydroxybenzyltrimethoxysilane, hydroxybenzyltriethoxysilane, hydroxybenzyltripropoxysilane, hydroxybenzyltripentyloxysilane, hydroxybenzyltriphenyloxysilane, hydroxybenzylmonomethoxydiethoxysilane, hydroxybenzylmonomethoxydipropoxysilane, hydroxybenzyl Hydroxybenzylsilane compounds such as monomethoxydipentyloxysilane, hydroxybenzylmonomethoxydiphenyloxysilane, hydroxybenzylmethoxyethoxypropoxysilane, and hydroxybenzylmonomethoxymonoethoxymonobutoxysilane;
Is mentioned.

シラン化合物(iii)の具体例としては、
ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジペンチルオキシシラン、ジフェニルオキシシラン、メトキシエトキシシラン、メトキシプロポキシシラン、メトキシペンチルオキシシラン、メトキシフェニルオキシシラン、エトキシプロポキシシラン、エトキシペンチルオキシシラン、及びエトキシフェニルオキシシラン等のヒドロシラン化合物;
メチルジメトキシシラン、メチルメトキシエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルメトキシプロポキシシラン、メチルメトキシペンチルオキシシラン、メチルエトキシプロポキシシラン、メチルジプロポキシシラン、メチルジペンチルオキシシラン、メチルジフェニルオキシシラン、メチルメトキシフェニルオキシシラン等のメチルヒドロシラン化合物;
エチルジメトキシシラン、エチルメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、エチルメトキシプロポキシシラン、エチルメトキシペンチルオキシシラン、エチルエトキシプロポキシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルジペンチルオキシシラン、エチルジフェニルオキシシラン、エチルメトキシフェニルオキシシラン等のエチルヒドロシラン化合物;
プロピルジメトキシシラン、プロピルメトキシエトキシシラン、プロピルジエトキシシラン、プロピルメトキシプロポキシシラン、プロピルメトキシペンチルオキシシラン、プロピルエトキシプロポキシシラン、プロピルジプロポキシシラン、プロピルジペンチルオキシシラン、プロピルジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシフェニルオキシシラン等のプロピルヒドロシラン化合物;
ブチルジメトキシシラン、ブチルメトキシエトキシシラン、ブチルジエトキシシラン、ブチルメトキシプロポキシシラン、ブチルメトキシペンチルオキシシラン、ブチルエトキシプロポキシシラン、ブチルジプロポキシシラン、ブチルジペンチルオキシシラン、ブチルジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシフェニルオキシシラン等のブチルヒドロシラン化合物;
フェニルジメトキシシラン、フェニルメトキシエトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、フェニルメトキシプロポキシシラン、フェニルメトキシペンチルオキシシラン、フェニルエトキシプロポキシシラン、フェニルジプロポキシシラン、フェニルジペンチルオキシシラン、フェニルジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシフェニルオキシシラン等のフェニルヒドロシラン化合物;
ヒドロキシフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシフェニルヒドロシラン化合物;
ナフチルジメトキシシラン、ナフチルメトキシエトキシシラン、ナフチルジエトキシシラン、ナフチルメトキシプロポキシシラン、ナフチルメトキシペンチルオキシシラン、ナフチルエトキシプロポキシシラン、ナフチルジプロポキシシラン、ナフチルジペンチルオキシシラン、ナフチルジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシフェニルオキシシラン等のナフチルヒドロシラン化合物;
ベンジルジメトキシシラン、ベンジルメトキシエトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、ベンジルメトキシプロポキシシラン、ベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ベンジルエトキシプロポキシシラン、ベンジルジプロポキシシラン、ベンジルジペンチルオキシシラン、ベンジルジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のベンジルヒドロシラン化合物;
ヒドロキシベンジルジメトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシベンジルジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシベンジルヒドロシラン化合物;
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシエトキシシラン、ジメチルメトキシプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジペンチルオキシシラン、ジメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルエトキシプロポキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン等のジメチルシラン化合物;
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシエトキシシラン、ジエチルメトキシプロポキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジペンチルオキシシラン、ジエチルジフェニルオキシシラン、ジエチルエトキシプロポキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン等のジエチルシラン化合物;
ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルメトキシエトキシシラン、ジプロピルメトキシプロポキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジペンチルオキシシラン、ジプロピルジフェニルオキシシラン、ジプロピルエトキシプロポキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン等のジプロポキシシラン化合物;
ジブチルジメトキシシラン、ジブチルメトキシエトキシシラン、ジブチルメトキシプロポキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジペンチルオキシシラン、ジブチルジフェニルオキシシラン、ジブチルエトキシプロポキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン等のジブチルシラン化合物;
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルメトキシエトキシシラン、ジフェニルメトキシプロポキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジペンチルオキシシラン、ジフェニルジフェニルオキシシラン、ジフェニルエトキシプロポキシシラン、ジフェニルジプロポキシシラン等のジフェニルシラン化合物;
ジ(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のジ(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
ジナフチルジメトキシシラン、ジナフチルメトキシエトキシシラン、ジナフチルメトキシプロポキシシラン、ジナフチルジエトキシシラン、ジナフチルジペンチルオキシシラン、ジナフチルジフェニルオキシシラン、ジナフチルエトキシプロポキシシラン、ジナフチルジプロポキシシラン等のジナフチルシラン化合物;
ジベンジルジメトキシシラン、ジベンジルメトキシエトキシシラン、ジベンジルメトキシプロポキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、ジベンジルジペンチルオキシシラン、ジベンジルジフェニルオキシシラン、ジベンジルエトキシプロポキシシラン、ジベンジルジプロポキシシラン等のジベンジルシラン化合物;
ジ(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のジ(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルメトキシエトキシシラン、メチルエチルメトキシプロポキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジペンチルオキシシラン、メチルエチルジフェニルオキシシラン、メチルエチルエトキシプロポキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン等のメチルエチルシラン化合物;
メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルメトキシエトキシシラン、メチルプロピルメトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジペンチルオキシシラン、メチルプロピルジフェニルオキシシラン、メチルプロピルエトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジプロポキシシラン等のメチルプロピルシラン化合物;
メチルブチルジメトキシシラン、メチルブチルメトキシエトキシシラン、メチルブチルメトキシプロポキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルブチルジペンチルオキシシラン、メチルブチルジフェニルオキシシラン、メチルブチルエトキシプロポキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン等のメチルブチルシラン化合物;
メチル(フェニル)ジメトキシシラン、メチル(フェニル)メトキシエトキシシラン、メチル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、メチル(フェニル)ジエトキシシラン、メチル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、メチル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、メチル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、メチル(フェニル)ジプロポキシシラン等のメチル(フェニル)シラン化合物;
メチル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のメチル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
メチル(ナフチル)ジメトキシシラン、メチル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、メチル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ナフチル)ジエトキシシラン、メチル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のメチル(ナフチル)シラン化合物;
メチル(ベンジル)ジメトキシシラン、メチル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、メチル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ベンジル)ジエトキシシラン、メチル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のメチル(ベンジル)シラン化合物;
メチル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のメチル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
エチルプロピルジメトキシシラン、エチルプロピルメトキシエトキシシラン、エチルプロピルメトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジエトキシシラン、エチルプロピルジペンチルオキシシラン、エチルプロピルジフェニルオキシシラン、エチルプロピルエトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジプロポキシシラン等のエチルプロピルシラン化合物;
エチルブチルジメトキシシラン、エチルブチルメトキシエトキシシラン、エチルブチルメトキシプロポキシシラン、エチルブチルジエトキシシラン、エチルブチルジペンチルオキシシラン、エチルブチルジフェニルオキシシラン、エチルブチルエトキシプロポキシシラン、エチルブチルジプロポキシシラン等のエチルブチルシラン化合物;
エチル(フェニル)ジメトキシシラン、エチル(フェニル)メトキシエトキシシラン、エチル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、エチル(フェニル)ジエトキシシラン、エチル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、エチル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、エチル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、エチル(フェニル)ジプロポキシシラン等のエチル(フェニル)シラン化合物;
エチル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のエチル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
エチル(ナフチル)ジメトキシシラン、エチル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、エチル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ナフチル)ジエトキシシラン、エチル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のエチル(ナフチル)シラン化合物;
エチル(ベンジル)ジメトキシシラン、エチル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、エチル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ベンジル)ジエトキシシラン、エチル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のエチル(ベンジル)シラン化合物;
エチル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のエチル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
プロピルブチルジメトキシシラン、プロピルブチルメトキシエトキシシラン、プロピルブチルメトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジエトキシシラン、プロピルブチルジペンチルオキシシラン、プロピルブチルジフェニルオキシシラン、プロピルブチルエトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジプロポキシシラン等のプロピルブチルシラン化合物;
プロピル(フェニル)ジメトキシシラン、プロピル(フェニル)メトキシエトキシシラン、プロピル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(フェニル)ジエトキシシラン、プロピル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(フェニル)ジプロポキシシラン等のプロピル(フェニル)シラン化合物;
プロピル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
プロピル(ナフチル)ジメトキシシラン、プロピル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ナフチル)ジエトキシシラン、プロピル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ナフチル)シラン化合物;
プロピル(ベンジル)ジメトキシシラン、プロピル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ベンジル)ジエトキシシラン、プロピル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ベンジル)シラン化合物;
プロピル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
が挙げられる。
Specific examples of the silane compound (iii) include
Dimethoxysilane, diethoxysilane, dipropoxysilane, dipentyloxysilane, diphenyloxysilane, methoxyethoxysilane, methoxypropoxysilane, methoxypentyloxysilane, methoxyphenyloxysilane, ethoxypropoxysilane, ethoxypentyloxysilane, and ethoxyphenyloxy Hydrosilane compounds such as silane;
Methyldimethoxysilane, methylmethoxyethoxysilane, methyldiethoxysilane, methylmethoxypropoxysilane, methylmethoxypentyloxysilane, methylethoxypropoxysilane, methyldipropoxysilane, methyldipentyloxysilane, methyldiphenyloxysilane, methylmethoxyphenyloxysilane Methyl hydrosilane compounds such as
Ethyldimethoxysilane, ethylmethoxyethoxysilane, ethyldiethoxysilane, ethylmethoxypropoxysilane, ethylmethoxypentyloxysilane, ethylethoxypropoxysilane, ethyldipropoxysilane, ethyldipentyloxysilane, ethyldiphenyloxysilane, ethylmethoxyphenyloxysilane Ethyl hydrosilane compounds such as
Propyldimethoxysilane, propylmethoxyethoxysilane, propyldiethoxysilane, propylmethoxypropoxysilane, propylmethoxypentyloxysilane, propylethoxypropoxysilane, propyldipropoxysilane, propyldipentyloxysilane, propyldiphenyloxysilane, propylmethoxyphenyloxysilane Propylhydrosilane compounds such as
Butyldimethoxysilane, butylmethoxyethoxysilane, butyldiethoxysilane, butylmethoxypropoxysilane, butylmethoxypentyloxysilane, butylethoxypropoxysilane, butyldipropoxysilane, butyldipentyloxysilane, butyldiphenyloxysilane, butylmethoxyphenyloxysilane Butyl hydrosilane compounds such as
Phenyldimethoxysilane, phenylmethoxyethoxysilane, phenyldiethoxysilane, phenylmethoxypropoxysilane, phenylmethoxypentyloxysilane, phenylethoxypropoxysilane, phenyldipropoxysilane, phenyldipentyloxysilane, phenyldiphenyloxysilane, phenylmethoxyphenyloxysilane Phenylhydrosilane compounds such as
Hydroxyphenyldimethoxysilane, hydroxyphenylmethoxyethoxysilane, hydroxyphenyldiethoxysilane, hydroxyphenylmethoxypropoxysilane, hydroxyphenylmethoxypentyloxysilane, hydroxyphenylethoxypropoxysilane, hydroxyphenyldipropoxysilane, hydroxyphenyldipentyloxysilane, hydroxyphenyl Hydroxyphenylhydrosilane compounds such as diphenyloxysilane and hydroxyphenylmethoxyphenyloxysilane;
Naphthyldimethoxysilane, naphthylmethoxyethoxysilane, naphthyldiethoxysilane, naphthylmethoxypropoxysilane, naphthylmethoxypentyloxysilane, naphthylethoxypropoxysilane, naphthyldipropoxysilane, naphthyldipentyloxysilane, naphthyldiphenyloxysilane, naphthylmethoxyphenyloxysilane Naphthylhydrosilane compounds such as
Benzyldimethoxysilane, benzylmethoxyethoxysilane, benzyldiethoxysilane, benzylmethoxypropoxysilane, benzylmethoxypentyloxysilane, benzylethoxypropoxysilane, benzyldipropoxysilane, benzyldipentyloxysilane, benzyldiphenyloxysilane, benzylmethoxyphenyloxysilane Benzylhydrosilane compounds such as;
Hydroxybenzyldimethoxysilane, hydroxybenzylmethoxyethoxysilane, hydroxybenzyldiethoxysilane, hydroxybenzylmethoxypropoxysilane, hydroxybenzylmethoxypentyloxysilane, hydroxybenzylethoxypropoxysilane, hydroxybenzyldipropoxysilane, hydroxybenzyldipentyloxysilane, hydroxybenzyl Hydroxybenzylhydrosilane compounds such as diphenyloxysilane and hydroxybenzylmethoxyphenyloxysilane;
Dimethylsilane compounds such as dimethyldimethoxysilane, dimethylmethoxyethoxysilane, dimethylmethoxypropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipentyloxysilane, dimethyldiphenyloxysilane, dimethylethoxypropoxysilane, dimethyldipropoxysilane;
Diethylsilane compounds such as diethyldimethoxysilane, diethylmethoxyethoxysilane, diethylmethoxypropoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipentyloxysilane, diethyldiphenyloxysilane, diethylethoxypropoxysilane, diethyldipropoxysilane;
Dipropoxy such as dipropyldimethoxysilane, dipropylmethoxyethoxysilane, dipropylmethoxypropoxysilane, dipropyldiethoxysilane, dipropyldipentyloxysilane, dipropyldiphenyloxysilane, dipropylethoxypropoxysilane, dipropyldipropoxysilane Silane compounds;
Dibutylsilane compounds such as dibutyldimethoxysilane, dibutylmethoxyethoxysilane, dibutylmethoxypropoxysilane, dibutyldiethoxysilane, dibutyldipentyloxysilane, dibutyldiphenyloxysilane, dibutylethoxypropoxysilane, dibutyldipropoxysilane;
Diphenylsilane compounds such as diphenyldimethoxysilane, diphenylmethoxyethoxysilane, diphenylmethoxypropoxysilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldipentyloxysilane, diphenyldiphenyloxysilane, diphenylethoxypropoxysilane, diphenyldipropoxysilane;
Di (hydroxyphenyl) dimethoxysilane, di (hydroxyphenyl) methoxyethoxysilane, di (hydroxyphenyl) methoxypropoxysilane, di (hydroxyphenyl) diethoxysilane, di (hydroxyphenyl) dipentyloxysilane, di (hydroxyphenyl) diphenyl Di (hydroxyphenyl) silane compounds such as oxysilane, di (hydroxyphenyl) ethoxypropoxysilane, di (hydroxyphenyl) dipropoxysilane;
Dinaphthyl such as dinaphthyldimethoxysilane, dinaphthylmethoxyethoxysilane, dinaphthylmethoxypropoxysilane, dinaphthyldiethoxysilane, dinaphthyldipentyloxysilane, dinaphthyldiphenyloxysilane, dinaphthylethoxypropoxysilane, dinaphthyldipropoxysilane Silane compounds;
Dibenzyl such as dibenzyldimethoxysilane, dibenzylmethoxyethoxysilane, dibenzylmethoxypropoxysilane, dibenzyldiethoxysilane, dibenzyldipentyloxysilane, dibenzyldiphenyloxysilane, dibenzylethoxypropoxysilane, dibenzyldipropoxysilane Silane compounds;
Di (hydroxybenzyl) dimethoxysilane, di (hydroxybenzyl) methoxyethoxysilane, di (hydroxybenzyl) methoxypropoxysilane, di (hydroxybenzyl) diethoxysilane, di (hydroxybenzyl) dipentyloxysilane, di (hydroxybenzyl) diphenyl Di (hydroxybenzyl) silane compounds such as oxysilane, di (hydroxybenzyl) ethoxypropoxysilane, di (hydroxybenzyl) dipropoxysilane;
Methylethyl such as methylethyldimethoxysilane, methylethylmethoxyethoxysilane, methylethylmethoxypropoxysilane, methylethyldiethoxysilane, methylethyldipentyloxysilane, methylethyldiphenyloxysilane, methylethylethoxypropoxysilane, methylethyldipropoxysilane Silane compounds;
Methylpropyl such as methylpropyldimethoxysilane, methylpropylmethoxyethoxysilane, methylpropylmethoxypropoxysilane, methylpropyldiethoxysilane, methylpropyldipentyloxysilane, methylpropyldiphenyloxysilane, methylpropylethoxypropoxysilane, methylpropyldipropoxysilane Silane compounds;
Methylbutyl such as methylbutyldimethoxysilane, methylbutylmethoxyethoxysilane, methylbutylmethoxypropoxysilane, methylbutyldiethoxysilane, methylbutyldipentyloxysilane, methylbutyldiphenyloxysilane, methylbutylethoxypropoxysilane, methylbutyldipropoxysilane Silane compounds;
Methyl (phenyl) dimethoxysilane, methyl (phenyl) methoxyethoxysilane, methyl (phenyl) methoxypropoxysilane, methyl (phenyl) diethoxysilane, methyl (phenyl) dipentyloxysilane, methyl (phenyl) diphenyloxysilane, methyl (phenyl) ) Methyl (phenyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, methyl (phenyl) dipropoxy silane;
Methyl (hydroxyphenyl) dimethoxysilane, methyl (hydroxyphenyl) methoxyethoxysilane, methyl (hydroxyphenyl) methoxypropoxysilane, methyl (hydroxyphenyl) diethoxysilane, methyl (hydroxyphenyl) dipentyloxysilane, methyl (hydroxyphenyl) diphenyl Methyl (hydroxyphenyl) silane compounds such as oxysilane, methyl (hydroxyphenyl) ethoxypropoxysilane, methyl (hydroxyphenyl) dipropoxysilane;
Methyl (naphthyl) dimethoxysilane, methyl (naphthyl) methoxyethoxysilane, methyl (naphthyl) methoxypropoxysilane, methyl (naphthyl) diethoxysilane, methyl (naphthyl) dipentyloxysilane, methyl (naphthyl) diphenyloxysilane, methyl (naphthyl) ) Methyl (naphthyl) silane compounds such as ethoxypropoxysilane, methyl (naphthyl) dipropoxysilane;
Methyl (benzyl) dimethoxysilane, methyl (benzyl) methoxyethoxysilane, methyl (benzyl) methoxypropoxysilane, methyl (benzyl) diethoxysilane, methyl (benzyl) dipentyloxysilane, methyl (benzyl) diphenyloxysilane, methyl (benzyl ) Methyl (benzyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, methyl (benzyl) dipropoxy silane;
Methyl (hydroxybenzyl) dimethoxysilane, methyl (hydroxybenzyl) methoxyethoxysilane, methyl (hydroxybenzyl) methoxypropoxysilane, methyl (hydroxybenzyl) diethoxysilane, methyl (hydroxybenzyl) dipentyloxysilane, methyl (hydroxybenzyl) diphenyl Methyl (hydroxybenzyl) silane compounds such as oxysilane, methyl (hydroxybenzyl) ethoxypropoxysilane, methyl (hydroxybenzyl) dipropoxysilane;
Ethylpropyl such as ethylpropyldimethoxysilane, ethylpropylmethoxyethoxysilane, ethylpropylmethoxypropoxysilane, ethylpropyldiethoxysilane, ethylpropyldipentyloxysilane, ethylpropyldiphenyloxysilane, ethylpropylethoxypropoxysilane, ethylpropyldipropoxysilane Silane compounds;
Ethylbutyl such as ethylbutyldimethoxysilane, ethylbutylmethoxyethoxysilane, ethylbutylmethoxypropoxysilane, ethylbutyldiethoxysilane, ethylbutyldipentyloxysilane, ethylbutyldiphenyloxysilane, ethylbutylethoxypropoxysilane, ethylbutyldipropoxysilane Silane compounds;
Ethyl (phenyl) dimethoxysilane, ethyl (phenyl) methoxyethoxysilane, ethyl (phenyl) methoxypropoxysilane, ethyl (phenyl) diethoxysilane, ethyl (phenyl) dipentyloxysilane, ethyl (phenyl) diphenyloxysilane, ethyl (phenyl) ) Ethyl (phenyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, ethyl (phenyl) dipropoxy silane;
Ethyl (hydroxyphenyl) dimethoxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) methoxyethoxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) methoxypropoxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) diethoxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) dipentyloxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) diphenyl Ethyl (hydroxyphenyl) silane compounds such as oxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) ethoxypropoxysilane, ethyl (hydroxyphenyl) dipropoxysilane;
Ethyl (naphthyl) dimethoxysilane, ethyl (naphthyl) methoxyethoxysilane, ethyl (naphthyl) methoxypropoxysilane, ethyl (naphthyl) diethoxysilane, ethyl (naphthyl) dipentyloxysilane, ethyl (naphthyl) diphenyloxysilane, ethyl (naphthyl) ) Ethyl (naphthyl) silane compounds such as ethoxypropoxysilane, ethyl (naphthyl) dipropoxysilane;
Ethyl (benzyl) dimethoxysilane, ethyl (benzyl) methoxyethoxysilane, ethyl (benzyl) methoxypropoxysilane, ethyl (benzyl) diethoxysilane, ethyl (benzyl) dipentyloxysilane, ethyl (benzyl) diphenyloxysilane, ethyl (benzyl ) Ethyl (benzyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, ethyl (benzyl) dipropoxy silane;
Ethyl (hydroxybenzyl) dimethoxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) methoxyethoxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) methoxypropoxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) diethoxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) dipentyloxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) diphenyl Ethyl (hydroxybenzyl) silane compounds such as oxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) ethoxypropoxysilane, ethyl (hydroxybenzyl) dipropoxysilane;
Propylbutyl such as propylbutyldimethoxysilane, propylbutylmethoxyethoxysilane, propylbutylmethoxypropoxysilane, propylbutyldiethoxysilane, propylbutyldipentyloxysilane, propylbutyldiphenyloxysilane, propylbutylethoxypropoxysilane, propylbutyldipropoxysilane Silane compounds;
Propyl (phenyl) dimethoxysilane, propyl (phenyl) methoxyethoxysilane, propyl (phenyl) methoxypropoxysilane, propyl (phenyl) diethoxysilane, propyl (phenyl) dipentyloxysilane, propyl (phenyl) diphenyloxysilane, propyl (phenyl) ) Propyl (phenyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, propyl (phenyl) dipropoxy silane;
Propyl (hydroxyphenyl) dimethoxysilane, propyl (hydroxyphenyl) methoxyethoxysilane, propyl (hydroxyphenyl) methoxypropoxysilane, propyl (hydroxyphenyl) diethoxysilane, propyl (hydroxyphenyl) dipentyloxysilane, propyl (hydroxyphenyl) diphenyl Propyl (hydroxyphenyl) silane compounds such as oxysilane, propyl (hydroxyphenyl) ethoxypropoxysilane, propyl (hydroxyphenyl) dipropoxysilane;
Propyl (naphthyl) dimethoxysilane, propyl (naphthyl) methoxyethoxysilane, propyl (naphthyl) methoxypropoxysilane, propyl (naphthyl) diethoxysilane, propyl (naphthyl) dipentyloxysilane, propyl (naphthyl) diphenyloxysilane, propyl (naphthyl) ) Propyl (naphthyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, propyl (naphthyl) dipropoxy silane;
Propyl (benzyl) dimethoxysilane, propyl (benzyl) methoxyethoxysilane, propyl (benzyl) methoxypropoxysilane, propyl (benzyl) diethoxysilane, propyl (benzyl) dipentyloxysilane, propyl (benzyl) diphenyloxysilane, propyl (benzyl) ) Propyl (benzyl) silane compounds such as ethoxypropoxy silane, propyl (benzyl) dipropoxy silane;
Propyl (hydroxybenzyl) dimethoxysilane, propyl (hydroxybenzyl) methoxyethoxysilane, propyl (hydroxybenzyl) methoxypropoxysilane, propyl (hydroxybenzyl) diethoxysilane, propyl (hydroxybenzyl) dipentyloxysilane, propyl (hydroxybenzyl) diphenyl Propyl (hydroxybenzyl) silane compounds such as oxysilane, propyl (hydroxybenzyl) ethoxypropoxysilane, propyl (hydroxybenzyl) dipropoxysilane;
Is mentioned.

以上説明したシラン化合物を、常法に従って加水分解縮合することによりシロキサン樹脂が得られる。
シロキサン樹脂の質量平均分子量は、300〜30000が好ましく、500〜10000がより好ましい。異なる質量平均分子量のシロキサン樹脂を2種以上混合してもよい。シロキサン樹脂の質量平均分子量がかかる範囲内である場合、製膜性に優れ、平坦なケイ素含有樹脂フィルム、又はシリカフィルムを形成できるケイ素含有樹脂組成物を得やすい。
A siloxane resin can be obtained by hydrolytic condensation of the silane compound described above according to a conventional method.
The mass average molecular weight of the siloxane resin is preferably 300 to 30000, and more preferably 500 to 10000. Two or more siloxane resins having different mass average molecular weights may be mixed. When the mass average molecular weight of the siloxane resin is within this range, it is easy to obtain a silicon-containing resin composition that is excellent in film forming properties and can form a flat silicon-containing resin film or silica film.

以上説明したシラン化合物を加水分解縮合させて得られるシロキサン樹脂の好適な例としては、下記式(a−1)で示される構造単位を有するシロキサン樹脂が挙げられる。当該シロキサン樹脂において、ケイ素原子1個に対する炭素原子の数は2個以上である。

Figure 2018109761
(式(a−1)中、Rはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であり、Rは水素又はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であり、mは0又は1である。) Preferable examples of the siloxane resin obtained by hydrolytic condensation of the silane compound described above include a siloxane resin having a structural unit represented by the following formula (a-1). In the siloxane resin, the number of carbon atoms per one silicon atom is two or more.
Figure 2018109761
(In Formula (a-1), R 1 is an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, R 2 is hydrogen, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and m is 0 or 1).

及びRにおけるアルキル基、アリール基、又はアラルキル基は、前述の式(I)におけるアルキル基、アリール基、又はアラルキル基と同様である。
上記のように、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を有するシロキサン樹脂を用いることにより、耐久性に優れるシリカフィルムを形成でき、微小な空間への充填が容易なケイ素含有樹脂組成物を得やすい。
The alkyl group, aryl group or aralkyl group in R 1 and R 2 is the same as the alkyl group, aryl group or aralkyl group in the aforementioned formula (I).
As described above, by using a siloxane resin having an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, a silica film having excellent durability can be formed, and a silicon-containing resin composition that can be easily filled into a minute space can be easily obtained. .

アルキル基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。このように炭素原子数1〜5のアルキル基を有することにより、耐熱性が良好なシリカフィルムを形成しやすい。
アリール基及びアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ビフェニル基、フルオレニル基、及びピレニル基等が挙げられる。
As an alkyl group, a C1-C5 alkyl group is preferable and a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group etc. are mentioned. Thus, by having a C1-C5 alkyl group, it is easy to form a silica film with favorable heat resistance.
Examples of the aryl group and aralkyl group include benzyl group, phenethyl group, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, biphenyl group, fluorenyl group, and pyrenyl group.

アリール基及びアラルキル基としては、具体的には下記の構造を有するものが好ましく挙げられる。

Figure 2018109761
Specific examples of the aryl group and aralkyl group preferably include those having the following structure.
Figure 2018109761

上記式中、Rは、水素原子;水酸基;メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基等の炭化水素基であり、Rは、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基である。なお、上記芳香族炭化水素基は、該芳香族炭化水素基における少なくとも1つの芳香環に、上記Rを有していればよく、複数有していてもよい。複数のRを有する場合には、これらのRは同一でもよく、異なっていてもよい。 In the above formulas, R 3 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an alkoxy group such as a propoxy group; a hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, butyl group, propyl group, R 4 Is an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, or a butylene group. Incidentally, the aromatic hydrocarbon group, at least one aromatic ring in the aromatic hydrocarbon group may have at the R 3, may be more have. In the case of having a plurality of R 3 s , these R 3 s may be the same or different.

特に好ましいRとしては、下記の構造(R−a)、又は構造(R−b)を有する基が好ましく、特に(R−b)が好ましい。

Figure 2018109761
As particularly preferable R 1 , a group having the following structure (R 1 -a) or structure (R 1 -b) is preferable, and (R 1 -b) is particularly preferable.
Figure 2018109761

式(a−1)において、mは0であることが好ましく、その場合にはシロキサン樹脂は、シルセスキオキサン骨格を有する。さらに、シロキサン樹脂は、ラダー型のシルセスキオキサンであることがより好ましい。   In formula (a-1), m is preferably 0. In that case, the siloxane resin has a silsesquioxane skeleton. Furthermore, the siloxane resin is more preferably a ladder-type silsesquioxane.

さらに、式(a−1)で示される構造単位(単位骨格)において、ケイ素原子1個に対して、炭素原子が2個以上15個以下となる原子数比を有していることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the structural unit (unit skeleton) represented by the formula (a-1) has an atomic ratio of 2 to 15 carbon atoms with respect to one silicon atom.

シロキサン樹脂は、構造単位(a−1)を2種類以上有していてもよい。また、シロキサン樹脂は、異なる構造単位(a−1)からなるシロキサン樹脂を混合したものであってもよい。
構造単位(a−1)を2種類以上有するシロキサン樹脂としては、具体的には下記の構造式(A−1−1)〜(A−1−3)で表されるシロキサン樹脂が挙げられる。

Figure 2018109761
Figure 2018109761
Figure 2018109761
The siloxane resin may have two or more types of structural units (a-1). The siloxane resin may be a mixture of siloxane resins composed of different structural units (a-1).
Specific examples of the siloxane resin having two or more types of structural units (a-1) include siloxane resins represented by the following structural formulas (A-1-1) to (A-1-3).
Figure 2018109761
Figure 2018109761
Figure 2018109761

シロキサン樹脂としては、例えば、下式(A−1−4)で示される構成単位を含有するものであってもよい。

Figure 2018109761
式(A−1−4)中、R13は、その構造中に(メタ)アクリル基、ビニル基及びエポキシ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有する有機基である。(メタ)アクリル基、ビニル基及びエポキシ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基は、Si原子に直接結合していてもよく、連結基を介していてもよい。連結基は、例えば、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基若しくはアリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基である。連結基は、エーテル結合、アミノ結合、又はアミド結合を有していてもよい。 As a siloxane resin, you may contain the structural unit shown by the following Formula (A-1-4), for example.
Figure 2018109761
In the formula (A-1-4), R 13 is an organic group having at least one group selected from the group consisting of a (meth) acryl group, a vinyl group, and an epoxy group in the structure. At least one group selected from the group consisting of a (meth) acryl group, a vinyl group, and an epoxy group may be directly bonded to the Si atom or via a linking group. The linking group is, for example, an alkylene group or an arylene group which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent group obtained by combining these. The linking group may have an ether bond, an amino bond, or an amide bond.

(A−1−4)で表される構成単位は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されない。

Figure 2018109761
Examples of the structural unit represented by (A-1-4) include, but are not limited to, the following.
Figure 2018109761

また、R13がエポキシ基を有する場合、R13として2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、及び2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基が好適な例として挙げられる。 Further, when R 13 has an epoxy group, preferred examples of R 13 include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group.

シロキサン樹脂としては、例えば、下式(A−1−5)で示される構成単位を含有するものであってもよい。

Figure 2018109761
As a siloxane resin, you may contain the structural unit shown by the following Formula (A-1-5), for example.
Figure 2018109761

式(A−1−5)中、R14は、その構造中にカルボキシ基を少なくとも1つ有する有機基である。カルボキシ基は連結基を介してSi原子に結合していることが好ましく、連結基は、例えば、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基、シクロアルキレン基、若しくはアリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基である。
連結基は、エーテル結合、アミノ結合、アミド結合、又はビニル結合を有していてもよく、アミド結合を有していることが好ましい。R14は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下式中*は、式(A−1−5)中のSiと結合する、R14の結合手の末端を意味する。

Figure 2018109761
In formula (A-1-5), R 14 represents an organic group having at least one carboxy group in the structure thereof. The carboxy group is preferably bonded to the Si atom via a linking group. The linking group is, for example, an alkylene group, a cycloalkylene group, which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms, or An arylene group or a divalent group obtained by combining these groups.
The linking group may have an ether bond, an amino bond, an amide bond, or a vinyl bond, and preferably has an amide bond. Examples of R 14 include, but are not limited to, the following. Note that in the formula *, bonded to Si in the formula (A-1-5), it refers to the end of the bond of R 14.
Figure 2018109761

ケイ素含有樹脂組成物は後述する硬化剤(C)を含み得る。硬化剤(C)を含むケイ素含有樹脂組成物において、(i)硬化剤(C)が光又は熱により塩基成分を発生する硬化剤を含む場合、(ii)ケイ素含有樹脂組成物が後述のその他の成分である光重合開始剤、酸発生剤、若しくは塩基発生剤からなる群の少なくとも1つを含む場合、又は(iii)後述するフィルムの製造方法において露光工程を有する場合、シロキサン樹脂は(A−1−4)で示される構成単位を含有することが好ましい。同様にまた、(iv)後述のその他の成分である光重合開始剤、酸発生剤、若しくは塩基発生剤からなる群の少なくとも1つ(硬化剤(C)に該当するものを除く)を含む場合、シロキサン樹脂は(A−1−4)で示される構成単位を含有することが好ましい。シロキサン樹脂中の(A−1−4)で示される構成単位の含有割合は、例えば、10〜80モル%である。他の構成単位として、さらに式(a−1)で示される構造単位及び/又は(A−1−5)で示される構成単位を含んでいてもよい。また、各式に該当する構成単位を2種以上含んでいてもよい。   The silicon-containing resin composition may contain a curing agent (C) described later. In the silicon-containing resin composition containing the curing agent (C), when (i) the curing agent (C) includes a curing agent that generates a base component by light or heat, (ii) the silicon-containing resin composition is the other described later. In the case of including at least one of the group consisting of a photopolymerization initiator, an acid generator, or a base generator that is a component of (iii), or (iii) having an exposure step in the film production method described later, the siloxane resin is (A It is preferable to contain the structural unit shown by -1-4). Similarly, in the case of including (iv) at least one of the group consisting of a photopolymerization initiator, an acid generator, or a base generator (excluding those corresponding to the curing agent (C)) as other components described later. The siloxane resin preferably contains a structural unit represented by (A-1-4). The content rate of the structural unit shown by (A-1-4) in a siloxane resin is 10-80 mol%, for example. As another structural unit, the structural unit shown by Formula (a-1) and / or the structural unit shown by (A-1-5) may be included. Moreover, 2 or more types of structural units corresponding to each formula may be included.

後述するフィルムの製造方法において、現像工程を有する場合、シロキサン樹脂は(A−1−5)で示される構成単位、構造(R−a)を有する構成単位、及び構造(R−b)を有する構成単位からなる群より選択される1種以上の構成単位を含有することが好ましい。シロキサン樹脂中の(A−1−5)で示される構成単位、構造(R−a)を有する構成単位、及び構造(R−b)を有する構成単位からなる群より選択される構成単位の含有割合は、例えば、20〜90モル%である。この場合、他の構成単位として、さらに式(a−1)で示される構造単位及び/又は(A−1−4)で示される構成単位を含んでいてもよく、(A−1−4)で示される構成単位及び(A−1−5)で示される構成単位を含むシロキサン樹脂であることが好ましい。また、各式に該当する構成単位を2種以上含んでいてもよい。 In the method for producing a film to be described later, when a development step is included, the siloxane resin is a structural unit represented by (A-1-5), a structural unit having the structure (R 1 -a), and a structure (R 1 -b). It is preferable to contain one or more structural units selected from the group consisting of structural units having A structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by (A-1-5), a structural unit having the structure (R 1 -a), and a structural unit having the structure (R 1 -b) in the siloxane resin. The content ratio of is, for example, 20 to 90 mol%. In this case, the structural unit represented by the formula (a-1) and / or the structural unit represented by (A-1-4) may be further included as another structural unit, and (A-1-4) It is preferable that it is a siloxane resin containing the structural unit shown by and the structural unit shown by (A-1-5). Moreover, 2 or more types of structural units corresponding to each formula may be included.

(ポリシラン)
ポリシランの構造は特に限定されない。ポリシランは直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、網目状であっても、環状であってもよいが、直鎖状又は分岐鎖状の鎖状構造が好ましい。
ポリシランは、シラノール基及び/又はアルコキシ基を含有していてもよい。
好適なポリシランとしては、例えば、下式(A5)及び(A6)で表される単位の少なくとも1つを必須に含み、下式(A7)、(A8)及び(A9)で表される単位から選択される少なくとも1つの単位を任意に含有するポリシランが挙げられる。かかるポリシランは、シラノール基、又はケイ素原子に結合するアルコキシ基を含有していてもよい。
(Polysilane)
The structure of polysilane is not particularly limited. The polysilane may be linear, branched, network, or cyclic, but a linear or branched chain structure is preferred.
The polysilane may contain a silanol group and / or an alkoxy group.
Suitable polysilanes include, for example, at least one unit represented by the following formulas (A5) and (A6), and from units represented by the following formulas (A7), (A8), and (A9): Polysilanes optionally containing at least one selected unit are mentioned. Such polysilane may contain a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom.

Figure 2018109761
(式(A5)、(A7)、及び(A8)中、Ra3及びRa4は、水素原子、有機基又はシリル基を表す。Ra5は、水素原子又はアルキル基を表す。Ra5がアルキル基である場合、炭素原子数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基がより好ましい。)
Figure 2018109761
(In Formulas (A5), (A7), and (A8), R a3 and R a4 represent a hydrogen atom, an organic group, or a silyl group. R a5 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R a5 represents an alkyl. When it is a group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.

a3及びRa4について、有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基や、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等が挙げられる。
これらの基の中では、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の好適な例は、前述の式(A1)中のRがアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である場合の例と同様である。
For R a3 and R a4 , the organic groups include hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups, cycloalkyl groups, cycloalkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups, alkoxy groups, alkenyloxy groups, cycloalkoxy groups, cyclo An alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, etc. are mentioned.
Among these groups, an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group are preferable. Suitable examples of the alkyl group, aryl group, and aralkyl group are the same as those in the case where R in the above formula (A1) is an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.

a3及びRa4がシリル基である場合、シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基等のSi1−10シラニル基(Si1−6シラニル基等)が挙げられる。
ポリシランは、下記(A10)から(A13)のユニットを含むのが好ましい。

Figure 2018109761
(A10)から(A13)中、Ra3及びRa4は、式(A5)、(A7)、及び(A8)中におけるRa3及びRa4と同様である。a、b、及びcは、それぞれ、2〜1000の整数である。
a、b、及びcは、それぞれ、10〜500が好ましく、10〜100がより好ましい。各ユニット中の構成単位は、ユニット中に、ランダムに含まれていても、ブロック化された状態で含まれていてもよい。 When R a3 and R a4 are silyl groups, examples of the silyl group include Si 1-10 silanyl groups (Si 1-6 silanyl group and the like) such as silyl group, disilanyl group, and trisilanyl group.
The polysilane preferably contains the following units (A10) to (A13).
Figure 2018109761
During the (A10) (A13), R a3 and R a4 are the formula (A5), which is the same as R a3 and R a4 in the (A7), and (A8). a, b, and c are each an integer of 2 to 1000.
Each of a, b and c is preferably 10 to 500, more preferably 10 to 100. The structural unit in each unit may be included randomly in the unit or may be included in a block state.

以上説明したポリシランの中では、それぞれケイ素原子に結合している、アルキル基と、アリール基又はアラルキル基とを組み合わせて含むポリシラン又はアルキル基のみケイ素原子に結合しているポリシランが好ましい。より具体的には、それぞれケイ素原子に結合している、メチル基と、ベンジル基とを組み合わせて含むポリシランや、それぞれケイ素原子に結合している、メチル基と、フェニル基とを組み合わせて含むポリシラン、又はメチル基のみケイ素原子に結合しているポリシランが好ましく使用される。   Among the polysilanes described above, polysilanes that contain a combination of an alkyl group and an aryl group or an aralkyl group, each bonded to a silicon atom, or a polysilane in which only an alkyl group is bonded to a silicon atom are preferable. More specifically, a polysilane containing a combination of a methyl group and a benzyl group, each bonded to a silicon atom, or a polysilane containing a combination of a methyl group and a phenyl group, each bonded to a silicon atom. Alternatively, polysilanes in which only methyl groups are bonded to silicon atoms are preferably used.

ポリシランの質量平均分子量は、300〜100000が好ましく、500〜70000がより好ましく、800〜30000がさらに好ましい。異なる質量平均分子量のポリシランを2種以上混合してもよい。   300-100000 are preferable, as for the mass average molecular weight of polysilane, 500-70000 are more preferable, and 800-30000 are further more preferable. Two or more polysilanes having different mass average molecular weights may be mixed.

ケイ素含有樹脂組成物中の、ケイ素含有樹脂(A)の含有量は特に限定されず、所望の膜厚に応じて設定すればよい。製膜性の点からは、ケイ素含有樹脂組成物中のケイ素含有樹脂(A)の含有量は、1〜50質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、10〜35質量%が特に好ましい。   The content of the silicon-containing resin (A) in the silicon-containing resin composition is not particularly limited, and may be set according to a desired film thickness. From the viewpoint of film forming property, the content of the silicon-containing resin (A) in the silicon-containing resin composition is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and particularly preferably 10 to 35% by mass. preferable.

[量子ドット(B)]
ケイ素含有樹脂組成物は、量子ドット(B)を含む。
量子ドット(B)が量子ドットとしての機能を奏する微粒子である限りにおいて、その構造やその構成成分は特に限定されない。量子ドット(B)は、量子力学に従う独特の光学特性(後述の量子閉じ込め効果)を有するナノスケールの材料であり、一般的に半導体ナノ粒子のことである。本明細書において、量子ドット(B)は、半導体ナノ粒子表面にさらに発光量子収率を向上させるために被覆されているもの(後述のシェル構造を有するもの)や、量子ドットを安定化させるために表面修飾されているものも含む。
[Quantum dots (B)]
The silicon-containing resin composition contains quantum dots (B).
As long as the quantum dot (B) is a fine particle that functions as a quantum dot, its structure and its constituent components are not particularly limited. The quantum dot (B) is a nanoscale material having unique optical properties (quantum confinement effect described later) according to quantum mechanics, and is generally a semiconductor nanoparticle. In the present specification, the quantum dot (B) is one that is coated on the surface of the semiconductor nanoparticles to further improve the light emission quantum yield (having a shell structure described later), or to stabilize the quantum dots. Including those that are surface modified.

量子ドット(B)は、バンドギャップ(価電子帯及び伝導帯のエネルギー差)よりも大きなエネルギーの光子を吸収し、その粒子径に応じた波長の光を放出する半導体ナノ粒子とされているが、量子ドット(B)の材料に含まれる元素としては、例えば、II族元素(2A族、2B族)、III族元素(特に3A族)、IV族元素(特に4A族)、V族元素(特に5A族)、及びVI族元素(特に6A族)からなる群から選択される1種以上が挙げられる。量子ドット(B)の材料として好ましい化合物又は元素としては、例えば、II−VI族化合物、III−V族化合物、IV−VI族化合物、IV族元素、IV族化合物及びこれらの組み合わせが挙げられる。   The quantum dot (B) is a semiconductor nanoparticle that absorbs photons having an energy larger than the band gap (energy difference between the valence band and the conduction band) and emits light having a wavelength corresponding to the particle diameter. Examples of the elements contained in the material of the quantum dots (B) include group II elements (groups 2A and 2B), group III elements (particularly group 3A), group IV elements (particularly group 4A), group V elements ( In particular, one or more selected from the group consisting of Group 5A) and Group VI elements (particularly Group 6A). Examples of the compound or element preferable as the material of the quantum dot (B) include II-VI group compounds, III-V group compounds, IV-VI group compounds, IV group elements, IV group compounds, and combinations thereof.

II−VI族化合物としては、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS及びこれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS及びこれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物;及びHgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe及びこれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物;が挙げられる。   The II-VI group compound includes at least one compound selected from the group consisting of CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, MgSe, MgS, and mixtures thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe, and MgZnSe, MgZnSe And HgZnTeS, CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe HgZnSTe and at least one compound selected from the group consisting of mixtures thereof; and the like.

III−V族化合物としては、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;及びGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;が挙げられる。   The group III-V compound includes at least one compound selected from GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof; GANP, GANAS, GaNSb, At least one compound selected from GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; and GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, InAs , GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb and mixtures thereof At least one compound selected from; and the like.

IV−VI族化合物としては、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;及びSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;が挙げられる。   The IV-VI group compound includes at least one compound selected from SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbS, SnPbS, SnPbS, SnPbS, SnPbS And at least one compound selected from these mixtures; and at least one compound selected from SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof.

IV族元素としては、Si、Ge及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;が挙げられる。IV族化合物としては、SiC、SiGe及びこれらの混合物から選ばれる少なくとも1種の化合物;が挙げられる。   Examples of the group IV element include at least one compound selected from Si, Ge, and a mixture thereof. Examples of the group IV compound include at least one compound selected from SiC, SiGe, and a mixture thereof.

量子ドット(B)の構造は、1種の化合物からなる均質構造であってもよく、2種以上の化合物からなる複合構造であってもよいが、上記化合物の発光量子収率を向上させるために、量子ドット(B)の構造は、コアが、1層以上のシェル層で被覆されたコア−シェル構造であることが好ましく、コアの材質となる化合物の粒子表面を半導体材料でエピタキシャルに被覆した構造であることがより好ましい。例えば、コアの材質としてII−VI族のCdSeを用いた場合、その被覆層(シェル)としてZnSが用いられる。シェルはコアの材質と同じ格子定数であることが好ましく、コア―シェルの格子定数の差の小さい材料の組み合わせが適宜選択される。   The structure of the quantum dot (B) may be a homogeneous structure composed of one kind of compound or a composite structure composed of two or more kinds of compounds, but in order to improve the emission quantum yield of the above compound. In addition, the structure of the quantum dot (B) is preferably a core-shell structure in which the core is coated with one or more shell layers, and the particle surface of the compound that becomes the core material is epitaxially coated with a semiconductor material. More preferably, the structure is the same. For example, when II-VI group CdSe is used as the material of the core, ZnS is used as the coating layer (shell). The shell preferably has the same lattice constant as that of the core material, and a combination of materials having a small difference between the lattice constants of the core and shell is appropriately selected.

安全性の点からは、量子ドット(B)が、CdやPbを構成成分として含まず、InやSi等を構成成分として含むのが好ましく、Inを含むのがより好ましい。   From the viewpoint of safety, the quantum dot (B) preferably does not contain Cd or Pb as a constituent component, but preferably contains In, Si or the like as a constituent component, and more preferably contains In.

シェル層を持たない均質構造型の量子ドット(B)の好適な具体例としては、AgInS、及びZnがドープされたAgInSが挙げられる。
コア−シェル型の量子ドット(B)としては、InP/ZnS、CuInS/ZnS、及び(ZnS/AgInS)固溶体/ZnSが挙げられる。
なお、上記において、コア−シェル型の量子ドット(B)の材質は、(コアの材質)/(シェル層の材質)として記載されている。
Preferable specific examples of the quantum dots of homogeneous structure type having no shell layer (B), AgInS 2, and Zn can be cited AgInS 2 doped.
Examples of the core-shell type quantum dots (B) include InP / ZnS, CuInS 2 / ZnS, and (ZnS / AgInS 2 ) solid solution / ZnS.
In the above, the material of the core-shell type quantum dots (B) is described as (core material) / (shell layer material).

また、安全性と発光量子収率を向上の点で、コア―シェル構造のシェルを多層構造にすることが好ましく、2層にすることがより好ましい。
コア―多層シェル構造の場合、コアの材質として、InP、ZnS、ZnSeからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましく、InPを含むことがより好ましい。含有割合としては、コアの総質量のうちInPが50〜100質量%であり、60〜99質量%が好ましく、82〜95質量%がより好ましい。また、コアの総質量のうち、ZnS及び/又はZnSeが0〜50質量%であり、1〜40質量%であることが好ましく、5〜18質量%がより好ましい。
Also, from the viewpoint of improving safety and emission quantum yield, the core-shell structure shell is preferably a multilayer structure, more preferably two layers.
In the case of the core-multilayer shell structure, the core material is preferably at least one compound selected from the group consisting of InP, ZnS, and ZnSe, and more preferably contains InP. As a content rate, InP is 50-100 mass% among the total mass of a core, 60-99 mass% is preferable, and 82-95 mass% is more preferable. Moreover, ZnS and / or ZnSe are 0-50 mass% among the total mass of a core, It is preferable that it is 1-40 mass%, 5-18 mass% is more preferable.

多層シェル構造における第1のシェルの材質は、ZnS及び/又はZnSeであることが好ましい。ZnS及び/又はZnSeの含有割合としては、第1のシェルの全質量を基準にして、例えば50〜100質量%であり、75〜98質量%が好ましく、80〜97質量%がより好ましい。第1のシェルの材質がZnS及びZnSeの混合物である場合、混合比(質量比)は特に限定されず、1/99〜99/1であり、好ましくは10/90〜90/10である。   The material of the first shell in the multilayer shell structure is preferably ZnS and / or ZnSe. The content ratio of ZnS and / or ZnSe is, for example, 50 to 100% by mass, preferably 75 to 98% by mass, and more preferably 80 to 97% by mass based on the total mass of the first shell. When the material of the first shell is a mixture of ZnS and ZnSe, the mixing ratio (mass ratio) is not particularly limited, and is 1/99 to 99/1, preferably 10/90 to 90/10.

多層シェル構造において、第2のシェルを、第1のシェルの表面上に成長させる。第2のシェルの材質は、第1のシェルの材質と同等であることが好ましい(ただし、各材質において、コアに対する格子定数の差が異なる。つまり、各材質において99%以上同質のものを除く)。ZnS及び/又はZnSeの含有割合としては、第2のシェルの全質量を基準にして、例えば50〜100質量%であり、75〜98質量%が好ましく、80〜97質量%がより好ましい。第2のシェルの材質がZnS及びZnSeの混合物である場合、混合比(質量比)は特に限定されず、1/99〜99/1であり、10/90〜90/10である。   In a multi-layer shell structure, a second shell is grown on the surface of the first shell. The material of the second shell is preferably the same as the material of the first shell (however, the difference in the lattice constant with respect to the core is different for each material. ). The content ratio of ZnS and / or ZnSe is, for example, 50 to 100% by mass, preferably 75 to 98% by mass, and more preferably 80 to 97% by mass based on the total mass of the second shell. When the material of the second shell is a mixture of ZnS and ZnSe, the mixing ratio (mass ratio) is not particularly limited, and is 1/99 to 99/1 and 10/90 to 90/10.

多層シェル構造における第1のシェルと第2のシェルとは、格子定数に差を有する。
例えば、コアと第1のシェルとの間の格子定数差は2〜8%であり、2〜6%が好ましく、3〜5%がより好ましい。
また、コアと第2のシェルとの間の格子定数差は5〜13%であり、5〜12%が好ましく、7〜10%がより好ましく、8〜10%がさらに好ましい。
The first shell and the second shell in the multilayer shell structure have a difference in lattice constant.
For example, the lattice constant difference between the core and the first shell is 2 to 8%, preferably 2 to 6%, and more preferably 3 to 5%.
Further, the lattice constant difference between the core and the second shell is 5 to 13%, preferably 5 to 12%, more preferably 7 to 10%, and still more preferably 8 to 10%.

また。第1のシェルと第2のシェルの格子定数の差は、例えば、3〜9%であり、3〜7%が好ましく、4〜6%がより好ましい。   Also. The difference in lattice constant between the first shell and the second shell is, for example, 3 to 9%, preferably 3 to 7%, and more preferably 4 to 6%.

これらのコア―多層シェル構造による量子ドット(B)は、400〜800nmの範囲(さらには470〜650nmの範囲、特に540nm〜580nmの範囲)の発光波長(emission wavelength)を有することができる。   The quantum dots (B) having these core-multilayer shell structures can have an emission wavelength in the range of 400 to 800 nm (more preferably in the range of 470 to 650 nm, particularly in the range of 540 nm to 580 nm).

これらのコア―多層シェル構造による量子ドット(B)としては、例えば、InP/ZnS/ZnSe、及びInP/ZnSe/ZnSが挙げられる。   Examples of the quantum dots (B) having these core-multilayer shell structures include InP / ZnS / ZnSe and InP / ZnSe / ZnS.

また量子ドット(B)は表面修飾されていてもよい。例えば、ホスフィン、ホスフィン酸化物、トリアルキルホスフィン類等のリン化合物;ピリジン、アミノアルカン類、第3級アミン類等の有機窒素化合物;メルカプトアルコール、チオール、ジアルキルスルフィド類、ジアルキルスルホキシド類等の有機硫黄化合物;高級脂肪酸、アルコール類等の表面修飾剤(有機リガンド)が挙げられる。   The quantum dot (B) may be surface-modified. For example, phosphorus compounds such as phosphine, phosphine oxide and trialkyl phosphines; organic nitrogen compounds such as pyridine, aminoalkanes and tertiary amines; organic sulfur such as mercapto alcohol, thiol, dialkyl sulfides and dialkyl sulfoxides Compound; Surface modifiers (organic ligands) such as higher fatty acids and alcohols.

上記の量子ドット(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよく、コア−(多層)シェル型の量子ドット(B)と、均質構造型の量子ドット(B)とを組み合わせて用いてもよい。   Two or more kinds of the above quantum dots (B) may be used in combination, and a core- (multilayer) shell type quantum dot (B) and a homogeneous structure type quantum dot (B) are used in combination. Also good.

量子ドット(B)の平均粒子径は、量子ドットとして機能し得る範囲内であれば特に限定されず、0.5〜20nmが好ましく、1.0〜15nmがより好ましく、2〜7nmがさらに好ましい。
コア−(多層)シェル型の量子ドット(B)の場合、コアのサイズは、例えば0.5〜10nmであり、2〜5nmが好ましい。シェルの平均厚さは、0.4〜2nmが好ましく、0.4〜1.4nmがより好ましい。シェルが、第1のシェルと第2のシェルとからなる場合、第1のシェルの平均厚さは、例えば0.2〜1nmであり、0.2〜0.7が好ましい。第2のシェルの平均厚さは、第1のシェルの平均厚さによらず、例えば0.2〜1nmであり、0.2〜0.7が好ましい。
The average particle diameter of the quantum dots (B) is not particularly limited as long as it is within a range capable of functioning as quantum dots, preferably 0.5 to 20 nm, more preferably 1.0 to 15 nm, and even more preferably 2 to 7 nm. .
In the case of the core (multilayer) shell type quantum dots (B), the size of the core is, for example, 0.5 to 10 nm, and preferably 2 to 5 nm. The average thickness of the shell is preferably 0.4 to 2 nm, and more preferably 0.4 to 1.4 nm. When the shell is composed of the first shell and the second shell, the average thickness of the first shell is, for example, 0.2 to 1 nm, and preferably 0.2 to 0.7. The average thickness of the second shell is, for example, 0.2 to 1 nm, preferably 0.2 to 0.7, regardless of the average thickness of the first shell.

かかる範囲内の平均粒子径を有する量子ドット(B)は、量子閉じ込め効果を発揮し量子ドットとして良好に機能するとともに、調製が容易であり、安定な蛍光特性を有する。
なお、量子ドット(B)の平均粒子径は、例えば、量子ドット(B)の分散液を、基板上に塗布・乾燥させ、揮発成分を除いた後に、その表面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することによって定義することができる。典型的には、TEM画像の画像解析により得られる各粒子の円相当径の数平均径として、この平均粒子径を定義することができる。
The quantum dot (B) having an average particle diameter within such a range exhibits a quantum confinement effect and functions well as a quantum dot, is easy to prepare, and has stable fluorescence characteristics.
The average particle size of the quantum dots (B) can be determined by, for example, applying and drying a dispersion of quantum dots (B) on a substrate to remove volatile components, and then removing the volatile components from the surface using a transmission electron microscope (TEM). Can be defined by observing. Typically, this average particle diameter can be defined as the number average diameter of the equivalent circle diameter of each particle obtained by image analysis of a TEM image.

量子ドット(B)の形状は特に限定されない。量子ドット(B)の形状の例としては、球状、楕円球状、円柱状、多角柱状、円盤状、及び多面体状等が挙げられる。
これらの中でも、取扱いの容易さ、入手容易性の観点から球状であることが好ましい。
The shape of the quantum dot (B) is not particularly limited. Examples of the shape of the quantum dot (B) include a spherical shape, an elliptical spherical shape, a cylindrical shape, a polygonal column shape, a disc shape, and a polyhedral shape.
Among these, the spherical shape is preferable from the viewpoint of easy handling and availability.

光学フィルムとしての特性や波長変換特性が良好である点から、量子ドット(B)は、500〜600nmの波長域に蛍光極大を有する化合物(B1)、及び600〜700nmの波長域に蛍光極大を有する化合物(B2)からなる群より選択される1種以上を含むのが好ましく、化合物(B1)及び化合物(B2)からなる群より選択される1種以上からなるのがより好ましい。   From the point that the characteristics as an optical film and wavelength conversion characteristics are good, the quantum dot (B) has a fluorescence maximum in the wavelength range of 600 to 700 nm, and the compound (B1) having a fluorescence maximum in the wavelength range of 500 to 600 nm. It is preferable to include one or more selected from the group consisting of the compound (B2), and more preferable to include one or more selected from the group consisting of the compound (B1) and the compound (B2).

量子ドット(B)の製造方法は特に限定されない。周知の種々の方法で製造された量子ドットを、量子ドット(B)として用いることができる。量子ドット(B)の製造方法としては、例えば、配位性の有機溶媒中で有機金属化合物を熱分解する方法を採用ができる。
また、コア−シェル構造型の量子ドット(B)は、反応により均質なコアを形成した後に、分散されたコアの存在下にシェル層の前駆体を反応させてシェル層を形成する方法により製造できる。また例えば、上記コア―多層シェル構造を有する量子ドット(B)は、WO2013/127662号公報に記載の方法により製造することができる。
なお、市販されている種々の量子ドット(B)を用いることもできる。
The manufacturing method of a quantum dot (B) is not specifically limited. Quantum dots manufactured by various known methods can be used as the quantum dots (B). As a manufacturing method of a quantum dot (B), the method of thermally decomposing an organometallic compound in a coordinating organic solvent is employable, for example.
In addition, the core-shell structure type quantum dots (B) are produced by a method in which a homogeneous core is formed by reaction and then a shell layer precursor is reacted in the presence of the dispersed core to form a shell layer. it can. For example, the quantum dot (B) which has the said core-multilayer shell structure can be manufactured by the method as described in WO2013 / 127762.
Various commercially available quantum dots (B) can also be used.

量子ドット(B)の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物全体の質量に対して例えば、0.05〜15質量%である。量子ドット(B)が、シェル層を有する場合、又は表面修飾されている場合、1〜12質量%が好ましく、3〜10質量%であることがより好ましい。量子ドット(B)が、半導体ナノ粒子のみの場合(シェル層及び/又は表面修飾剤を有さない場合)は、0.07〜3質量%が好ましく、0.1〜1質量%であることがより好ましい。量子ドット(B)の含有量を上記の範囲とすることにより、光学フィルムとしての特性や、波長変換特性が良好であるフィルムを形成できるケイ素含有樹脂組成物を得やすい。   Content of a quantum dot (B) is 0.05-15 mass% with respect to the mass of the whole silicon containing resin composition, for example. When a quantum dot (B) has a shell layer or when it is surface-modified, 1-12 mass% is preferable and it is more preferable that it is 3-10 mass%. When the quantum dots (B) are only semiconductor nanoparticles (when they do not have a shell layer and / or a surface modifier), 0.07 to 3% by mass is preferable, and 0.1 to 1% by mass. Is more preferable. By making content of a quantum dot (B) into said range, it is easy to obtain the silicon-containing resin composition which can form the characteristic as an optical film and the film which has a favorable wavelength conversion characteristic.

[硬化剤(C)]
ケイ素含有樹脂組成物は、硬化剤(C)を含んでいてもよい。ケイ素含有樹脂組成物が硬化剤(C)を含む場合、N−メチル−2−ピロリドン等の有機溶剤により、溶解、膨潤、変形したりしにくい、有機溶剤耐性に優れるシリカフィルムを形成しやすい。
[Curing agent (C)]
The silicon-containing resin composition may contain a curing agent (C). When the silicon-containing resin composition contains a curing agent (C), it is easy to form a silica film excellent in organic solvent resistance, which is difficult to dissolve, swell, or deform with an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone.

硬化剤(C)の好適な例としては、塩酸、硫酸、硝酸、ベンゼンスルホン酸、及びp−トルエンスルホ酸等のブレンステッド酸;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ベンジルメチルアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)、DCMU(3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチル尿素)等の有機アミン類;三塩化リン、三臭化リン、亜リン酸、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリプロピル等のPX(式中、Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるリン化合物;オキシ三塩化リン、オキシ三臭化リン、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリプロピル等のPOX(式中、Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるリン化合物;五酸化二リン;ポリリン酸やポリリン酸エステル等の、H(HPOOH(式中、aは1以上の整数である。)で表されるリン化合物;メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、メトキシジクロロホスフィン等のRC0PX(式中、RC0は水素原子又は炭素原子数1〜30の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるリン化合物;亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、メチルホスホン酸、メチルホスホン酸ジメチル、メチルホスホン酸ジクロリド、フェニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジクロリド、ベンジルホスホン酸ジエチル等のRC0POX(式中、RC0は水素原子又は炭素原子数1〜30の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるリン化合物;トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(p−トリル)ホスフィン、トリス(m−トリル)ホスフィン、トリス(o−トリル)ホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリス(ジメトキシフェニル)ホスフィン、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、1,4−ビスジフェニルホスフィノブタン等の有機リン化合物;三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、ホウ酸、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリプロピル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリアミル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリシクロペンチル、ホウ酸トリシクロヘキシル、ホウ酸トリアリル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸エチルジメチル等のBX(式中、Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるホウ素化合物;酸化ホウ素(B);フェニルボロン酸、ジイソプロポキシ(メチル)ボラン、メチルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸等のRC0BX(式中、RC0は水素原子又は炭素原子数1〜30の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Xはハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)で表されるホウ素化合物;トリフェニルホスフィントリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウムテトラ−p−トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、n−ブチルトリフェニルホスホニウムジシアナミド等の有機リン化合物の複合体;三フッ化ホウ素等のルイス酸の有機アミン錯体(有機アミンとしては例えばピペリジン);アザビシクロウンデセン、ジアザビシクロウンデセントルエンスルホン酸塩、又はジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩等のアミジン類;が挙げられる。 Preferred examples of the curing agent (C) include Bronsted acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzylmethylamine, DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), DCMU (3- (3,4-dichlorophenyl) ) -1,1-dimethylurea) and other organic amines; phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorous acid, trimethyl phosphite, triethyl phosphite, tripropyl phosphite and the like PX 3 (wherein , X is a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.) Phosphorus oxytrichloride, phosphorous oxytribromide, phosphoric acid Trimethyl phosphate, triethyl phosphate, (wherein, X is a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.) POX 3, such as phosphoric acid tripropyl phosphate compound represented by; pentoxide Diphosphorus; phosphorus compounds represented by H (HPO 3 ) a OH (wherein a is an integer of 1 or more) such as polyphosphoric acid and polyphosphoric acid ester; methyldichlorophosphine, ethyldichlorophosphine, methoxydichloro R C0 PX 2 such as phosphine (wherein R C0 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, and the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a halogen atom. X is a halogen atom) A phosphorus compound represented by an atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; dimethyl phosphite, diethyl phosphite, methylphosphonic acid, methyl Suhon dimethyl, methylphosphonic acid dichloride, phenylphosphonic acid, phenylphosphonic acid dichloride, in R C0 POX 2 (Formula diethyl benzyl phosphonic acid, R C0 is an organic group having a hydrogen atom or 1 to 30 carbon atoms, said A hydrogen atom in an organic group may be substituted with a halogen atom, X is a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms); a tributylphosphine, a triphenyl Phosphine, tris (p-tolyl) phosphine, tris (m-tolyl) phosphine, tris (o-tolyl) phosphine, diphenylcyclohexylphosphine, tricyclohexylphosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, ethyltriphenylphosphonium bromide, benzyltriphenyl Organophosphorus compounds such as phosphonium chloride, 1,4-bisdiphenylphosphinobutane; boron trifluoride, boron trichloride, boric acid, trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate, tributyl borate, triamyl borate BX 3 such as trihexyl borate, tricyclopentyl borate, tricyclohexyl borate, triallyl borate, triphenyl borate, ethyl dimethyl borate, etc. (wherein X is a halogen atom, a hydroxyl group, or 1 to 6 carbon atoms) Of the alkoxy group. Boron oxide (B 2 O 3 ); R C0 BX 2 such as phenylboronic acid, diisopropoxy (methyl) borane, methylboronic acid, cyclohexylboronic acid (wherein R C0 is a hydrogen atom) Or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, wherein a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a halogen atom, and X is a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Boron compound represented by: triphenylphosphine triphenylborane, tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium thiocyanate, tetraphenylphosphonium dicyanamide, n-butyltriphenylphosphonium Organic phosphorus compounds such as dicyanamide Complex of: Lewis acid organic amine complex such as boron trifluoride (eg, piperidine as an organic amine); azabicycloundecene, diazabicycloundecene toluenesulfonate, diazabicycloundecene octylate, etc. Of amidines.

また、(A)成分として上記ポリシランを用いる場合、上記硬化剤に加えて又は単独で、光又は熱により塩基成分を発生する硬化剤を用いることが好ましい。   Moreover, when using the said polysilane as (A) component, it is preferable to use the hardening | curing agent which generate | occur | produces a base component with light or a heat in addition to the said hardening | curing agent independently.

(熱により塩基成分を発生する硬化剤)
熱により塩基成分を発生する硬化剤としては、従来から熱塩基発生剤として使用されている化合物を特に限定なく用いることができる。
例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンを、熱により塩基成分を発生する効果剤として用いることができる。なお、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンは光の作用によっても塩基を発生させる。
(Curing agent that generates base component by heat)
As a curing agent that generates a base component by heat, a compound conventionally used as a thermal base generator can be used without any particular limitation.
For example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one can be used as an effector that generates a base component by heat. 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one also generates a base by the action of light.

また、加熱により下式(C1)で表されるイミダゾール化合物を発生させる化合物(以下、熱イミダゾール発生剤とも記す)も、硬化剤として好ましく使用される。

Figure 2018109761
(式(C1)中、Rc1、Rc2、及びRc3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、ホスフィノ基、スルホナト基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。) A compound that generates an imidazole compound represented by the following formula (C1) by heating (hereinafter also referred to as a thermal imidazole generator) is also preferably used as a curing agent.
Figure 2018109761
(In the formula (C1), R c1 , R c2 and R c3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, a phosphino group, Represents a sulfonate group, a phosphinyl group, a phosphonate group, or an organic group.)

c1、Rc2、及びRc3における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。この有機基は、通常は1価であるが、環状構造を形成する場合等には、2価以上の有機基となり得る。 Examples of the organic group for R c1 , R c2 , and R c3 include an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, an aryl group, and an aralkyl group. This organic group may contain a bond or substituent other than a hydrocarbon group such as a hetero atom in the organic group. The organic group may be linear, branched or cyclic. This organic group is usually monovalent, but can be a divalent or higher organic group when a cyclic structure is formed.

c1及びRc2は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合をさらに含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。 R c1 and R c2 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further include a hetero atom bond. Examples of the cyclic structure include a heterocycloalkyl group and a heteroaryl group, and may be a condensed ring.

c1、Rc2、及びRc3の有機基に含まれる結合は、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、有機基は、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含む結合の具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:Rは水素原子又は有機基を示す)、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。 The bond contained in the organic group of R c1 , R c2 , and R c3 is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and the organic group includes a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. Bonds may be included. Specific examples of the bond containing a hetero atom include an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and an imino bond (—N═C (—R) —, —C (= NR)-: R represents a hydrogen atom or an organic group), carbonate bond, sulfonyl bond, sulfinyl bond, azo bond and the like.

c1、Rc2、及びRc3の有機基が有してもよいヘテロ原子を含む結合としては、イミダゾール化合物の耐熱性の観点から、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:Rは水素原子又は1価の有機基を示す)、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。 As the bond containing a hetero atom that the organic group of R c1 , R c2 , and R c3 may have, from the viewpoint of heat resistance of the imidazole compound, an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond, an ester bond Amide bond, urethane bond, imino bond (-N = C (-R)-, -C (= NR)-: R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group), carbonate bond, sulfonyl bond, sulfinyl bond Is preferred.

c1、Rc2、及びRc3の有機基が炭化水素基以外の置換基である場合、Rc1、Rc2、及びRc3は本発明の効果が損なわれない限り特に限定されない。Rc1、Rc2、及びRc3の具体例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。 When R c1, R c2, and an organic group of R c3 is a substituent other than a hydrocarbon group, R c1, R c2, and where R c3 not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired. Specific examples of R c1 , R c2 and R c3 include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a cyano group, an isocyano group, a cyanato group, an isocyanato group, a thiocyanato group, an isothiocyanato group, a silyl group, a silanol group, Alkoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, thiocarbamoyl, nitro, nitroso, carboxylate, acyl, acyloxy, sulfino, sulfonate, phosphino, phosphinyl, phosphonate, alkyl ether, alkenyl Examples include an ether group, an alkyl thioether group, an alkenyl thioether group, an aryl ether group, and an aryl thioether group. The hydrogen atom contained in the substituent may be substituted with a hydrocarbon group. Further, the hydrocarbon group contained in the substituent may be linear, branched, or cyclic.

c1、Rc2、及びRc3としては、水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアリール基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、及びハロゲン原子が好ましく、水素原子がより好ましい。 R c1 , R c2 , and R c3 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and a halogen atom. A hydrogen atom is more preferable.

熱イミダゾール発生剤は、加熱により上記式(C1)で表されるイミダゾール化合物を発生させることができる化合物であれば特に限定されない。従来から種々の組成物に配合されている、熱の作用によりアミンを発生する化合物(熱塩基発生剤)について、加熱時に発生するアミンに由来する骨格を、上記式(C1)で表されるイミダゾール化合物に由来する骨格に置換することにより、熱イミダゾール発生剤として使用される化合物が得られる。   A thermal imidazole generator will not be specifically limited if it is a compound which can generate | occur | produce the imidazole compound represented by the said Formula (C1) by heating. Regarding the compound (thermal base generator) that has been conventionally compounded in various compositions and generates an amine by the action of heat, the skeleton derived from the amine generated upon heating is represented by the above formula (C1). A compound used as a thermal imidazole generator is obtained by substituting the skeleton derived from the compound.

好適な熱イミダゾール発生剤としては、下記式(C2):

Figure 2018109761
(式(C2)中、Rc1、Rc2、及びRc3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Rc4及びRc5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。)
で表される化合物が挙げられる。 As a suitable thermal imidazole generator, the following formula (C2):
Figure 2018109761
(In the formula (C2), R c1 , R c2 and R c3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, a sulfonate group, R c4 and R c5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, or a nitroso group. , A sulfino group, a sulfo group, a sulfonato group, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphono group, a phosphonato group, or an organic group, wherein R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 are each independently a hydrogen atom. , Halogen atom, hydroxyl group, mercapto group, sulfide group, silyl group, silanol group, nitro group, nitro A So group, a sulfino group, a sulfo group, a sulfonato group, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphono group, a phosphonato group, an amino group, an ammonio group, or an organic group, R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R In c10 , two or more of them may be bonded to form a cyclic structure, and may include a heteroatom bond.)
The compound represented by these is mentioned.

式(C2)において、Rc1、Rc2、及びRc3は、式(C1)について説明したものと同様である。 In the formula (C2), R c1 , R c2 , and R c3 are the same as those described for the formula (C1).

式(C2)において、Rc4及びRc5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。 In the formula (C2), R c4 and R c5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, a sulfino group, a sulfo group, or a sulfonate group. , A phosphino group, a phosphinyl group, a phosphono group, a phosphonato group, or an organic group.

c4及びRc5における有機基としては、Rc1、Rc2、及びRc3について例示したものが挙げられる。この有機基は、Rc1、Rc2、及びRc3の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。 Examples of the organic group in R c4 and R c5 include those exemplified for R c1 , R c2 , and R c3 . This organic group may contain a hetero atom in the organic group as in the case of R c1 , R c2 and R c3 . The organic group may be linear, branched or cyclic.

以上の中でも、Rc4及びRc5としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数4〜13のシクロアルキル基、炭素原子数4〜13のシクロアルケニル基、炭素原子数7〜16のアリールオキシアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数2〜11のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜11のアミド基、炭素原子数1〜10のアルキルチオ基、炭素原子数1〜10のアシル基、炭素原子数2〜11のエステル基(−COOR、−OCOR:Rは炭化水素基を示す)、炭素原子数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換した炭素原子数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基であることが好ましい。より好ましくは、Rc4及びRc5の両方が水素原子であるか、又はRc4がメチル基であり、Rc5が水素原子である。 Among these, as R c4 and R c5 , each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 13 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 4 to 13 carbon atoms, An aryloxyalkyl group having 7 to 16 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 11 carbon atoms having a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a hydroxyl group, carbon An alkoxy group having 1 to 10 atoms, an amide group having 2 to 11 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, an ester group having 2 to 11 carbon atoms (- COOR, -OCOR: R represents a hydrocarbon group), an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted by an electron donating group and / or an electron withdrawing group Electron-donating group and / or an electron-withdrawing group is substituted benzyl group, a cyano group, preferably a methylthio group. More preferably, both R c4 and R c5 are hydrogen atoms, or R c4 is a methyl group and R c5 is a hydrogen atom.

式(C2)において、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。 In the formula (C2), R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, Group, sulfino group, sulfo group, sulfonate group, phosphino group, phosphinyl group, phosphono group, phosphonate group, amino group, ammonio group, or organic group.

c6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10における有機基としては、Rc1、Rc2、及びRc3において例示したものが挙げられる。この有機基は、Rc1及びRc2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。 Examples of the organic group in R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 include those exemplified for R c1 , R c2 , and R c3 . As in the case of R c1 and R c2 , this organic group may contain a bond or substituent other than a hydrocarbon group such as a hetero atom in the organic group. The organic group may be linear, branched or cyclic.

c6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。例えば、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10は、それらの2つ以上が結合して、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成してもよい。 Two or more of R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 may be bonded to form a cyclic structure, and may include a hetero atom bond. Examples of the cyclic structure include a heterocycloalkyl group and a heteroaryl group, and may be a condensed ring. For example, R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 are benzene in which two or more of them are bonded and R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 are bonded. A ring atom may be shared to form a condensed ring such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, and indene.

以上の中でも、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数4〜13のシクロアルキル基、炭素原子数4〜13のシクロアルケニル基、炭素原子数7〜16のアリールオキシアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数2〜11のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜11のアミド基、炭素原子数1〜10のアルキルチオ基、炭素原子数1〜10のアシル基、炭素原子数2〜11のエステル基、炭素原子数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換した炭素原子数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基、ニトロ基であることが好ましい。 Among these, as R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 , each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 13 carbon atoms, carbon C4-C13 cycloalkenyl group, C7-C16 aryloxyalkyl group, C7-C20 aralkyl group, C2-C11 alkyl group having a cyano group, Carbon having a hydroxyl group An alkyl group having 1 to 10 atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an amide group having 2 to 11 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon An ester group having 2 to 11 atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an electron donating group and / or an electron withdrawing group substituted with an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an electron donating group, and / Or an electron-withdrawing group is substituted benzyl group, a cyano group, a methylthio group, or a nitro group.

また、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10としては、それらの2つ以上が結合して、Rc6、Rc7、Rc8、Rc9、及びRc10が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も好ましい。 In addition, as R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 , two or more of them are bonded, and R c6 , R c7 , R c8 , R c9 , and R c10 are bonded. It is also preferred if a benzene ring atom is shared to form a condensed ring such as naphthalene, anthracene, phenanthrene or indene.

上記式(C2)で表される化合物の中では、下記式(C3):

Figure 2018109761
(式(C3)中、Rc1、Rc2、及びRc3は、式(C1)及び(C2)と同義である。Rc4〜Rc9は式(C2)と同義である。Rc11は、水素原子又は有機基を示す。Rc6及びRc7が水酸基となることはない。Rc6、Rc7、Rc8、及びRc9は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。)
で表される化合物が好ましい。 Among the compounds represented by the above formula (C2), the following formula (C3):
Figure 2018109761
(In the formula (C3), R c1, R c2, and where R c3, .R c11 is as defined for formula (C1) and (C2) .R c4 to R c9 is as defined for formula (C2) is Represents a hydrogen atom or an organic group, R c6 and R c7 do not become a hydroxyl group, and R c6 , R c7 , R c8 , and R c9 are bonded together to form a cyclic structure. And may contain a heteroatom bond.)
The compound represented by these is preferable.

式(C3)で表される化合物は、置換基−O−Rc11を有するため、有機溶媒に対する溶解性に優れる。 Since the compound represented by the formula (C3) has the substituent —O—R c11 , the compound has excellent solubility in an organic solvent.

式(C3)において、Rc11は、水素原子又は有機基である。Rc11が有機基である場合、有機基としては、Rc1、Rc2、及びRc3において例示したものが挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。Rc11としては、水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基若しくはアルコキシアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基がより好ましい。 In Formula (C3), R c11 is a hydrogen atom or an organic group. When R c11 is an organic group, examples of the organic group include those exemplified for R c1 , R c2 , and R c3 . This organic group may contain a hetero atom in the organic group. The organic group may be linear, branched or cyclic. R c11 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxyalkyl group, and includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, A t-butyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a propoxymethyl group, and a butoxymethyl group are more preferable.

熱イミダゾール発生剤として特に好適な化合物の具体例を以下に示す。

Figure 2018109761
Specific examples of compounds particularly suitable as the thermal imidazole generator are shown below.
Figure 2018109761

(オキシムエステル化合物)
オキシムエステル化合物は、光の作用により分解して塩基を発生する。好適なオキシムエステル化合物としては、下記式(C4)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2018109761
(Oxime ester compound)
The oxime ester compound is decomposed by the action of light to generate a base. Suitable oxime ester compounds include compounds represented by the following formula (C4).
Figure 2018109761

上記式(C4)中、Rc12は、炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基を示す。m1は、0又は1である。Rc13は、置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基を示す。Rc14は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。 In the above formula (C4), R c12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. m1 is 0 or 1. R c13 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. R c14 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent.

c12が炭素原子数1〜10のアルキル基である場合、アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよい。この場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましい。 When R c12 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl group may be linear or branched. In this case, 1-8 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable.

c12が、置換基を有してもよいフェニル基である場合、置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基が有していてもよい置換基の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc12が、置換基を有してもよいフェニル基であり、フェニル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 When R c12 is a phenyl group which may have a substituent, the type of the substituent is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Suitable examples of the substituent that the phenyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent Group, an amino group, 1 or 2 of the organic amino group substituted with groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group, a halogen, and nitro group, and a cyano group. When R c12 is a phenyl group which may have a substituent, and the phenyl group has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

フェニル基が有する置換基がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6がさらに好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。また、アルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。フェニル基が有する置換基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。この場合、フェニル基が有する置換基としては、例えば、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がアルコキシアルキル基である場合、−Rc15−O−Rc16で表される基が好ましい。Rc15は、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基である。Rc16は、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキル基である。Rc15の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rc16の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When the substituent which a phenyl group has is an alkyl group, 1-20 are preferable, 1-10 are more preferable, 1-10 are more preferable, 1-6 are more preferable, 1-3 are especially preferable, and 1 is the most preferable. . In addition, the alkyl group may be linear or branched. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group , Isononyl group, n-decyl group, and isodecyl group. The alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. In this case, examples of the substituent that the phenyl group has include an alkoxyalkyl group and an alkoxyalkoxyalkyl group. When the substituent that the phenyl group has is an alkoxyalkyl group, a group represented by -R c15 -O-R c16 is preferable. R c15 is an alkylene group which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms. R c16 is an alkyl group which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms. The number of carbon atoms in R c15 is preferably 1-8, more preferably 1 to 5, 1 to 3 is particularly preferable. 1-8 are preferable, as for the number of carbon atoms of Rc16 , 1-5 are more preferable, 1-3 are especially preferable, and 1 is the most preferable. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

フェニル基が有する置換基がアルコキシ基である場合、その炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、アルコキシ基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。フェニル基が有する置換基がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、2−メトキシ−1−メチルエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is an alkoxy group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Further, the alkoxy group may be linear or branched. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert- Butyloxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec Examples include -octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. The alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of alkoxy groups having ether linkages in the carbon chain include methoxyethoxy groups, ethoxyethoxy groups, 2-methoxy-1-methylethoxy groups, methoxyethoxyethoxy groups, ethoxyethoxyethoxy groups, propyloxyethoxyethoxy groups, and A methoxypropyloxy group etc. are mentioned.

フェニル基が有する置換基がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、その炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。フェニル基が有する置換基がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3-10 are preferable and 3-6 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group. It is done.

フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、その炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2-20 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group. Noyl group, n-hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, Examples include an n-pentadecanoyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy Group, 2,2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyl Examples include an oxy group, an n-dodecanoyloxy group, an n-tridecanoyloxy group, an n-tetradecanoyloxy group, an n-pentadecanoyloxy group, and an n-hexadecanoyloxy group.

フェニル基が有する置換基がアルコキシカルボニル基である場合、その炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。フェニル基が有する置換基がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is an alkoxycarbonyl group, 2-20 are preferable and, as for the carbon atom number, 2-7 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group , Sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n -Heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxy group Aryloxycarbonyl group, isononyl oxycarbonyl group, n- decyl oxycarbonyl group, and the like isodecyl oxycarbonyl group.

フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基である場合、その炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。またフェニル基が有する置換基がナフチルアルキル基である場合、その炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、置換基は、フェニル基又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。   When the substituent which a phenyl group has is a phenylalkyl group, 7-20 are preferable and 7-10 are more preferable. Moreover, when the substituent which a phenyl group has is a naphthyl alkyl group, 11-20 are preferable and 11-14 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl. Groups. When the substituent that the phenyl group has is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, the substituent may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

フェニル基が有する置換基がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。フェニル基が有する置換基がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。   When the substituent of the phenyl group is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, such monocycles, or such monocycles and benzene. A heterocyclyl group condensed with a ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When the substituent that the phenyl group has is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

フェニル基が有する置換基が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例としては、フェニル基が有する置換基について上記したものと同様のものが挙げられる。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、β−ナフトイルアミノ基、及びN−アセチル−N−アセチルオキシアミノ基等が挙げられる。   When the substituent of the phenyl group is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms. Group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, An optionally substituted phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, and an optionally substituted carbon Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 to 20 atoms and a heterocyclyl group. Specific examples of these suitable organic groups include the same ones as described above for the substituent of the phenyl group. Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, β-naphthoylamino group, and N-acetyl-N-a And a cetyloxyamino group.

フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。   In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group further include a substituent contained in the substituent of the phenyl group, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy having 1 to 6 carbon atoms. Group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples thereof include a monoalkylamino group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent that the phenyl group has further have a substituent, the number of the substituents is not limited as long as the object of the present invention is not hindered. Is preferred. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent that the phenyl group has have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上、Rc12が置換基を有してもよいフェニル基である場合の置換基について説明したが、これらの置換基の中では、アルキル基又はアルコキシアルキル基が好ましい。 As mentioned above, although the substituent in case Rc12 is the phenyl group which may have a substituent was demonstrated , in these substituents, an alkyl group or an alkoxyalkyl group is preferable.

c12が置換基を有してもよいフェニル基である場合、置換基の数と、置換基の結合位置とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Rc12が、置換基を有してもよいフェニル基である場合、塩基の発生効率に優れる点で、置換基を有してもよいフェニル基は、置換基を有していてもよいo−トリル基であるのが好ましい。 When R c12 is a phenyl group which may have a substituent, the number of substituents and the bonding position of the substituent are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. When R c12 is a phenyl group which may have a substituent, the phenyl group which may have a substituent may have a substituent in terms of excellent base generation efficiency. A tolyl group is preferred.

c12が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カルバゾリル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいフェニルカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフチルカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 When R c12 is a carbazolyl group which may have a substituent, the type of the substituent is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms. Group, a cycloalkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a phenylcarbonyl group which may have a substituent, and a substituent An optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy group, an optionally substituted phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a substituted group A naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthylcarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent A good naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, a substituted group An optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group Etc.

c12が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R c12 is an optionally substituted carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, carbon atoms A cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, and a substituent. A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a substituent An optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted heterocyclyl group And substituents Heterocyclylcarbonyl group etc. which may have these are mentioned. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

カルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc12が置換基を有してもよいフェニル基である場合の、フェニル基が有する置換基の例と同様である。 Specific examples of the substituent that the carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. R c12 is substituted for an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and an amino group substituted with one or two organic groups. In the case of a phenyl group which may have a group, it is the same as the example of the substituent which the phenyl group has.

c12において、カルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。カルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In R c12 , examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in the substituent of the carbazolyl group further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; A benzoyl group; a naphthoyl group; a benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a carbon atom A monoalkylamino group having an alkyl group of 1 to 6; a dialkylamino group having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms; Group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the substituent of the carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1-4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

c13は、置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。 R c13 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, or an optionally substituted carbazolyl group.

c13が置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基である場合、アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよい。この場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましい。 When R c13 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkyl group may be linear or branched. In this case, 1-8 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable.

c13において、アルキル基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
アルキル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
フェニル基、及びカルバゾリル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基として上記で例示した基に加えて、炭素原子数1〜20のアルキル基が挙げられる。
In R c13 , the substituent that the alkyl group, phenyl group, or carbazolyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired .
Examples of suitable substituents that the alkyl group may have on the carbon atom include an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a cyclohexane having 3 to 10 carbon atoms. An alkoxy group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted phenyl group A phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. Benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent, substituted Even if it has a group Naphthoyl group, optionally substituted naphthoxycarbonyl group, optionally substituted naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, substituted A heterocyclyl group which may have a group, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and piperazine-1- Yl group, halogen, nitro group, cyano group and the like.
Examples of suitable substituents that the phenyl group and carbazolyl group may have on the carbon atom include, in addition to the groups exemplified above as suitable substituents that the alkyl group may have on the carbon atom. And an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

アルキル基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc12が置換基を有してもよいフェニル基である場合の、フェニル基が有する置換基の例と同様である。 Specific examples of the substituent that the alkyl group, phenyl group, or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, and a saturated aliphatic acyloxy group. Group, phenylalkyl group optionally having substituent, naphthylalkyl group optionally having substituent, heterocyclyl group optionally having substituent, and amino group substituted by one or two organic groups Is the same as the example of the substituent that the phenyl group has when R c12 is a phenyl group that may have a substituent.

c13において、アルキル基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。アルキル基又はフェニル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In R c13 , examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in the substituent of the alkyl group, phenyl group, or carbazolyl group further have a substituent include 1 to 6 carbon atoms. An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, and a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms. Substituted with a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; Benzoyl group; monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; dialkyl having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Amino group; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the substituent of the alkyl group or phenyl group further have a substituent, the number of substituents is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. ~ 4 is preferred. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(C4)で表される化合物の塩基発生効率の点から、Rc13としては、下記式(C5):

Figure 2018109761
で表される基、及び下記式(C6):
Figure 2018109761
で表される基が好ましい。 From the viewpoint of base generation efficiency of the compound represented by the formula (C4), R c13 is represented by the following formula (C5):
Figure 2018109761
And a group represented by the following formula (C6):
Figure 2018109761
The group represented by these is preferable.

式(C5)中、Rc17及びRc18は、それぞれ1価の有機基であり、m2は0又は1である。式(C6)中、Rc19は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、AはS又はOであり、m3は0〜4の整数である。 In Formula (C5), R c17 and R c18 are each a monovalent organic group, and m2 is 0 or 1. In the formula (C6), R c19 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, A is S or O, and m3 is 0 to 0. It is an integer of 4.

式(C5)におけるRc17は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rc17の好適な例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R c17 in formula (C5) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired . Preferred examples of R c17 include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. Alkoxycarbonyl group, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, carbon atoms which may have a substituent 7 ~ 20 phenylalkyl group, optionally substituted naphthyl group, optionally substituted naphthoyl group, optionally substituted naphthoxycarbonyl group, optionally substituted Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.

c17の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 Among R c17 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

式(C5)におけるRc18は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc18として好適な基の具体例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc18として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基、及び置換基を有してもよいナフチル基がより好ましく、2−メチルフェニル基及びナフチル基が特に好ましい。 R c18 in formula (C5) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R c18 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. The heterocyclyl group which may be sufficient is mentioned. As R c18 , among these groups, a phenyl group which may have a substituent and a naphthyl group which may have a substituent are more preferable, and a 2-methylphenyl group and a naphthyl group are particularly preferable.

c17又はRc18に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc17又はRc18に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc17又はRc18に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c17 or R c18 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. , Monocyclic compounds having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Examples include an alkylamino group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c17 or R c18 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1-4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c17 or R c18 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(C6)におけるRc19が有機基である場合、Rc19は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(C6)においてRc19が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基が挙げられる。 When R c19 in formula (C6) is an organic group, R c19 can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired . In the formula (C6), when R c19 is an organic group, preferred examples include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; and a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms. An acyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a -1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Dialkylamino group having 1 to 6 alkyl groups; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; cyano group; Nyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group.

c19の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In Rc19 , substituted with a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group. Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式(C6)において、m3、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1であるのが特に好ましい。m3が1である場合、Rc19の結合する位置は、Rc19が結合するフェニル基が硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 Moreover, in Formula (C6), the integer of m3 and 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and it is especially preferable that it is 0 or 1. If m3 is 1, the binding position of R c19, to the bond to the phenyl group R c19 is bonded is bonded to the sulfur atom is preferably in the para position.

c14は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基である。置換基を有していてもよいフェニル基である場合、フェニル基が有していてもよい置換基は、Rc12が置換基を有していてもよいフェニル基である場合と同様である。Rc14としては、メチル基、エチル基、又はフェニル基が好ましく、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 R c14 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent. When it is a phenyl group which may have a substituent, the substituent which the phenyl group may have is the same as the case where R c12 is a phenyl group which may have a substituent. R c14 is preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and more preferably a methyl group or a phenyl group.

上記式(C4)で表されるオキシムエステル化合物は、m1が0である場合、例えば、以下に説明する方法により合成できる。まず、Rc13−CO−Rc12で表されるケトン化合物を、ヒドロキシルアミンによりオキシム化して、Rc13−(C=N−OH)−Rc12で表されるオキシム化合物を得る。次いで、得られたオキシム化合物を、Rc14−CO−Hal(Halはハロゲンを示す)で表される酸ハロゲン化物や、(Rc14CO)Oで表される酸無水物によりアシルして、m1が0である上記式(C4)で表されるオキシムエステル化合物が得られる。 When m1 is 0, the oxime ester compound represented by the above formula (C4) can be synthesized, for example, by the method described below. First, a ketone compound represented by R c13 —CO—R c12 is oximed with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by R c13 — (C═N—OH) —R c12 . Next, the obtained oxime compound is acylated with an acid halide represented by R c14 —CO—Hal (Hal represents halogen) or an acid anhydride represented by (R c14 CO) 2 O, An oxime ester compound represented by the above formula (C4) in which m1 is 0 is obtained.

また、上記式(C4)で表されるオキシムエステル化合物は、m1が1である場合、例えば、以下に説明する方法により合成できる。まず、Rc13−CO−CH−Rc12で表されるケトン化合物を、塩酸の存在下に亜硝酸エステルと反応させ、Rc13−CO−(C=N−OH)−Rc12で表されるオキシム化合物を得る。次いで、得られたオキシム化合物を、Rc14−CO−Hal(Halはハロゲンを示す)で表される酸ハロゲン化物や、(Rc14CO)Oで表される酸無水物によりアシルして、m1が1である上記式(C4)で表されるオキシムエステル化合物が得られる。 Moreover, when m1 is 1, the oxime ester compound represented by the said Formula (C4) is compoundable by the method demonstrated below, for example. First, a ketone compound represented by R c13 —CO—CH 2 —R c12 is reacted with a nitrite in the presence of hydrochloric acid, and represented by R c13 —CO— (C═N—OH) —R c12. An oxime compound is obtained. Next, the obtained oxime compound is acylated with an acid halide represented by R c14 —CO—Hal (Hal represents halogen) or an acid anhydride represented by (R c14 CO) 2 O, An oxime ester compound represented by the above formula (C4) in which m1 is 1 is obtained.

上記式(C4)で表される化合物としては、下記式(C7)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2018109761
Examples of the compound represented by the above formula (C4) include a compound represented by the following formula (C7).
Figure 2018109761

上記式(C7)中、m1及びRc13は上記の通りである。Rc20は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、m4は0〜4の整数であり、Rc21は、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。 In the above formula (C7), m1 and R c13 are as described above. R c20 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, m4 is an integer of 0 to 4, and R c21 is a hydrogen atom or carbon It is an alkyl group having 1 to 6 atoms.

上記式(C7)中、Rc20は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、有機基である場合、種々の有機基から適宜選択される。Rc20の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。m4が2〜4の整数である場合、Rc20は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。 In the above formula (C7), R c20 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and when it is an organic group, it is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples of R c20 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, It may have a phenoxy group that may have a substituent, a benzoyl group that may have a substituent, a phenoxycarbonyl group that may have a substituent, a benzoyloxy group that may have a substituent, and a substituent. An optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoxy group, an optionally substituted naphthoyl group, and an optionally substituted naphtho Xyloxycarbonyl group, optionally substituted naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, amino group, 1 or 2 And an amino group substituted with an organic group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When m4 is an integer of 2 to 4, R c20 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent that the substituent further has.

c20がアルキル基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc20がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc20がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc20がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c20 is an alkyl group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c20 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c20 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R c20 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c20がアルコキシ基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc20がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc20がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc20がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c20 is an alkoxy group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c20 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R c20 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R c20 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

c20がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3〜10が好ましく、炭素原子数3〜6がより好ましい。Rc20がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc20がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c20 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c20 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and the like. Specific examples of when R c20 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

c20が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc20が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc20が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c20 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples when R c20 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples in the case where R c20 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

c20がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc20がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c20 is an alkoxycarbonyl group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c20 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group , Isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group and the like.

c20がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7〜20が好ましく、炭素原子数7〜10がより好ましい。またRc20がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11〜20が好ましく、炭素原子数11〜14がより好ましい。Rc20がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rc20がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc20が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc20は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c20 is a phenylalkyl group, 7 to 20 carbon atoms are preferable, and 7 to 10 carbon atoms are more preferable. Further, when R c20 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably from 11 to 20, and more preferably from 11 to 14 carbon atoms. Specific examples when R c20 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R c20 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R c20 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c20 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

c20がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Rc20がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c20 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles are fused with each other or such monocycle and a benzene ring. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When R c20 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

c20が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc20と同様である。1又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c20 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R c20 . Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, and n-butyl. Amino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthyl Amino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-deca Examples thereof include a noylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

c20に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc20に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc20に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R c20 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c20 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c20 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

c20の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、及び炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。 Among Rc20 , since it is chemically stable, has less steric hindrance, and is easy to synthesize an oxime ester compound, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A group selected from the group consisting of 6 alkoxy groups and saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms is preferred, alkyls having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and methyl groups are particularly preferred.

c20がフェニル基に結合する位置は、Rc20が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を1位とし、メチル基の位置を2位とする場合に、4位、又は5位が好ましく、5位がより好ましい。また、m4は、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1が特に好ましい。 Position R c 20 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R c 20 is attached, the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group 4th or 5th is preferable, and 5th is more preferable. M4 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.

上記式(C7)におけるRc21は、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。Rc21としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 R c21 in the above formula (C7) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R c21 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

式(C4)で表されるオキシムエステル化合物として特に好適な化合物の具体例を以下に示す。

Figure 2018109761
Specific examples of the compound particularly suitable as the oxime ester compound represented by the formula (C4) are shown below.
Figure 2018109761

下式(C8)で表される化合物も、オキシムエステル化合物として好適に使用される。

Figure 2018109761
(Rc22は水素原子、ニトロ基又は1価の有機基であり、Rc23及びRc24は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Rc23とRc24とは相互に結合して環を形成してもよく、Rc25は1価の有機基であり、Rc26は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、m6は0〜4の整数であり、m5は0又は1である。) A compound represented by the following formula (C8) is also preferably used as the oxime ester compound.
Figure 2018109761
(R c22 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and R c23 and R c24 are each a chain alkyl group which may have a substituent, or a cyclic organic which may have a substituent. R c23 and R c24 may be bonded to each other to form a ring, R c25 is a monovalent organic group, R c26 has a hydrogen atom and a substituent. An alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may be substituted, or an aryl group which may have a substituent, m6 is an integer of 0 to 4, and m5 is 0 or 1.)

式(C8)中、Rc22は、水素原子、ニトロ基又は1価の有機基である。Rc22は、式(C8)中のフルオレン環上で、−(CO)m5−で表される基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。式(C8)中、Rc22のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式(C8)で表される化合物が1以上のRc22を有する場合、式(C8)で表される化合物の合成が容易であること等から、1以上のRc22のうちの1つがフルオレン環中の2位に結合するのが好ましい。Rc22が複数である場合、複数のRc22は同一であっても異なっていてもよい。 In formula (C8), R c22 represents a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R c22 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by — (CO) m5 — on the fluorene ring in formula (C8). In formula (C8), the bonding position of R c22 to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by the formula (C8) has one or more R c22 , one of the one or more R c22 is a fluorene ring because synthesis of the compound represented by the formula (C8) is easy. Bonding at the 2-position is preferable. If R c22 is plural, R c22 may be different even in the same.

c22が有機基である場合、Rc22は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rc22が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。 When R c22 is an organic group, R c22 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R c22 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent A naphthoxycarbonyl group which may have, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, Examples include an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.

c22がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rc22がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc22がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc22がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c22 is an alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Further, when R c22 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c22 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R c22 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c22がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rc22がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc22がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc22がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c22 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1-20, and more preferably 1-6. Further, when R c22 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R c22 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R c22 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

c22がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。Rc22がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc22がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c22 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples when R c22 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where R c22 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

c22が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。Rc22が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc22が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c22 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R c22 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R c22 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

c22がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。Rc22がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c22 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R c22 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group , Isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group and the like.

c22がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、Rc22がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。Rc22がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rc22がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc22が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc22は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c22 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. When R c22 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11-20 , and more preferably 11-14. Specific examples when R c22 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R c22 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R c22 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c22 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

c22がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Rc22がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c22 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles are fused with each other or with such a monocycle and a benzene ring. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R c22 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

c22がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rc22がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R c22 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R c22 is a heterocyclyl group.

c22が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc22と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c22 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R c22 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

c22に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc22に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc22に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R c22 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c22 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired , but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c22 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上説明した基の中でも、Rc22としては、ニトロ基、又はRc27−CO−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Rc27は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc27として好適な基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc27として、これらの基の中では、2−メチルフェニル基、チオフェン−2−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、Rc22が水素原子であるのも好ましい。Rc22が水素原子である場合、Rc25が後述の式(C10)で表される基であるのが好ましい。
Among the groups described above, R c22 is preferably a nitro group or a group represented by R c27 —CO— because the sensitivity tends to be improved. R c27 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and can be selected from various organic groups. Examples of a group suitable as R c27 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. Among these groups, as R c27 , a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group are particularly preferable.
It is also preferable that R c22 is a hydrogen atom. When R c22 is a hydrogen atom, R c25 is preferably a group represented by the following formula (C10).

式(C8)中、Rc23及びRc24は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Rc23とRc24とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Rc23及びRc24として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Rc23及びRc24が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In formula (C8), R c23 and R c24 each represent a chain alkyl group that may have a substituent, a cyclic organic group that may have a substituent, or a hydrogen atom. R c23 and R c24 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, a chain alkyl group which may have a substituent is preferable as R c23 and R c24 . When R c23 and R c24 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

c23及びRc24が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。Rc23及びRc24が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc23及びRc24がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c23 and R c24 are a chain alkyl group having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. Specific examples when R c23 and R c24 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group and the like. When R c23 and R c24 are alkyl groups, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c23及びRc24が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Rc22がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Rc22がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Rc22がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。
When R c23 and R c24 are a chain alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as the preferred examples in the case where R c22 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as the preferable examples in the case where R c22 is a heterocyclyl group. When R c22 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable.

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1〜20であり、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。   When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, and more preferably 1-6.

c23及びRc24が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Rc23及びRc24が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Rc23及びRc24が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R c23 and R c24 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R c23 and R c24 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as those in the case where R c23 and R c24 are chain alkyl groups.

c23及びRc24が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R c23 and R c24 are aromatic hydrocarbon groups, is the aromatic hydrocarbon group a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond? A group formed by condensation of a plurality of benzene rings is preferred. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by combining or condensing a plurality of benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

c23及びRc24が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R c23 and R c24 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Although the carbon atom number of an aliphatic cyclic hydrocarbon group is not specifically limited, 3-20 are preferable and 3-10 are more preferable. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, Examples include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.

c23及びRc24がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 When R c23 and R c24 are a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or such monocycles and a benzene ring. And a condensed heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done.

c23とRc24とは相互に結合して環を形成してもよい。Rc23とRc24とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Rc23とRc24とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R c23 and R c24 may be bonded to each other to form a ring. The group formed by the ring formed by R c23 and R c24 is preferably a cycloalkylidene group. When R c23 and R c24 are combined to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.

c23とRc24とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R c23 and R c24 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.

以上説明したRc23及びRc24の中でも好適な基の例としては、式−Ac1−Ac2で表される基が挙げられる。式中、Ac1は直鎖アルキレン基であり、Ac2は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Examples of suitable groups among R c23 and R c24 described above include groups represented by the formula -A c1 -A c2 . In the formula, A c1 is a linear alkylene group, and A c2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

c1の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。Ac2がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。Ac2がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ac2がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ac2が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Rc23及びRc24が置換基として有する環状有機基と同様である。Ac2がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Rc23及びRc24が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms in a straight chain alkylene group of A c1 is 1 to 10 preferably 1 to 6 is more preferable. When Ac2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. When Ac2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When Ac2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear. When A c2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R c23 and R c24 have as a substituent. When A c2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group which R c23 and R c24 have as a substituent.

c23及びRc24の好適な具体例としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基等のアルキル基;2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、5−メトキシ−n−ペンチル基、6−メトキシ−n−ヘキシル基、7−メトキシ−n−ヘプチル基、8−メトキシ−n−オクチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、5−エトキシ−n−ペンチル基、6−エトキシ−n−ヘキシル基、7−エトキシ−n−ヘプチル基、及び8−エトキシ−n−オクチル基等のアルコキシアルキル基;2−シアノエチル基、3−シアノ−n−プロピル基、4−シアノ−n−ブチル基、5−シアノ−n−ペンチル基、6−シアノ−n−ヘキシル基、7−シアノ−n−ヘプチル基、及び8−シアノ−n−オクチル基等のシアノアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、6−フェニル−n−ヘキシル基、7−フェニル−n−ヘプチル基、及び8−フェニル−n−オクチル基等のフェニルアルキル基;2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基、5−シクロヘキシル−n−ペンチル基、6−シクロヘキシル−n−ヘキシル基、7−シクロヘキシル−n−ヘプチル基、8−シクロヘキシル−n−オクチル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチル−n−プロピル基、4−シクロペンチル−n−ブチル基、5−シクロペンチル−n−ペンチル基、6−シクロペンチル−n−ヘキシル基、7−シクロペンチル−n−ヘプチル基、及び8−シクロペンチル−n−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、4−メトキシカルボニル−n−ブチル基、5−メトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−メトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−メトキシカルボニル−n−ヘプチル基、8−メトキシカルボニル−n−オクチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、4−エトキシカルボニル−n−ブチル基、5−エトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−エトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−エトキシカルボニル−n−ヘプチル基、及び8−エトキシカルボニル−n−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2−クロルエチル基、3−クロル−n−プロピル基、4−クロル−n−ブチル基、5−クロル−n−ペンチル基、6−クロル−n−ヘキシル基、7−クロル−n−ヘプチル基、8−クロル−n−オクチル基、2−ブロモエチル基、3−ブロモ−n−プロピル基、4−ブロモ−n−ブチル基、5−ブロモ−n−ペンチル基、6−ブロモ−n−ヘキシル基、7−ブロモ−n−ヘプチル基、8−ブロモ−n−オクチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferred specific examples of R c23 and R c24 include alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkoxyalkoxy groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano- Cyanoalkyl groups such as -pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl Groups such as 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group Alkyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n -Heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclope Cycloalkylalkyl groups such as n-butyl-n-butyl, 5-cyclopentyl-n-pentyl, 6-cyclopentyl-n-hexyl, 7-cyclopentyl-n-heptyl, and 8-cyclopentyl-n-octyl; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxy Carbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n -Pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-eth Alkoxycarbonylalkyl groups such as sicarbonyl-n-heptyl group and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5- Chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4- Bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-tri Examples thereof include a halogenated alkyl group such as a fluoropropyl group and 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

c23及びRc24として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−フェニルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基である。 Among R c23 and R c24 , preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-hepta A fluoro-n-pentyl group;

c25の好適な有機基の例としては、Rc22と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Rc22について説明したものと同様である。また、Rc25としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rc22に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Examples of suitable organic groups for R c25 include, as with R c22 , alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups, and substituents. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent Lil group, substituent a good heterocyclylcarbonyl group optionally having 1 or 2 organic groups substituted amino group, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R c22 . R c25 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group that may have a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group that may have a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R c22 may have.

有機基の中でも、Rc25としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among organic groups, as R c25 , an alkyl group, a cycloalkyl group, an optionally substituted phenyl group, or a cycloalkylalkyl group, an optionally substituted phenylthio group on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Rc25としては、−Ac3−CO−O−Ac4で表される基も好ましい。Ac3は、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ac4は、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 In addition, as R c25 , a group represented by —A c3 —CO—O—A c4 is also preferable. Ac3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. Ac4 is a monovalent organic group and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

c3がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ac3がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。 When Ac3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. When Ac3 is an alkylene group, 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkylene group, 1-6 are more preferable, and 1-4 are especially preferable.

c4の好適な例としては、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、及び炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ac4の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of Ac 4 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of Ac4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.

−Ac3−CO−O−Ac4で表される基の好適な具体例としては、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−n−プロピルオキシカルボニルエチル基、2−n−ブチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フェノキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ブチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ペンチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ヘキシルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−ベンジルオキシカルボニル−n−プロピル基、及び3−フェノキシカルボニル−n−プロピル基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the group represented by —A c3 —CO—O—A c4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycal Alkylsulfonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.

以上、Rc25について説明したが、Rc25としては、下記式(C9)又は(C10)で表される基が好ましい。

Figure 2018109761
(式(C9)及び(C10)中、Rc28及びRc29はそれぞれ有機基であり、m7は0〜4の整数であり、Rc28及びRc29がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Rc28とRc29とが互いに結合して環を形成してもよく、m8は1〜8の整数であり、m9は1〜5の整数であり、m10は0〜(m9+3)の整数であり、Rc30は有機基である。) Having described R c25, as the R c25, preferably a group represented by the following formula (C9) or (C10).
Figure 2018109761
(In the formulas (C9) and (C10), R c28 and R c29 are each an organic group, m7 is an integer of 0 to 4, and R c28 and R c29 are present at adjacent positions on the benzene ring. , R c28 and R c29 may be bonded to each other to form a ring, m8 is an integer of 1 to 8, m9 is an integer of 1 to 5, and m10 is an integer of 0 to (m9 + 3). And R c30 is an organic group.)

式(C9)中のRc28及びRc29についての有機基の例は、Rc22と同様である。Rc28としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rc28がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、Rc28はメチル基であるのが最も好ましい。Rc28とRc29とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(C9)で表される基であって、Rc28とRc29とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(C9)中、m7は0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。 Examples of the organic groups for R c 28 and R c29 in formula (C9) is the same as R c22. R c28 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R c28 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R c28 is most preferably a methyl group. When R c28 and R c29 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (C9) in which R c28 and R c29 form a ring include a naphthalen-1-yl group, 1,2,3,4- And tetrahydronaphthalen-5-yl group. In said formula (C9), m7 is an integer of 0-4, It is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

上記式(C10)中、Rc30は有機基である。有機基としては、Rc22について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rc30としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (C10), R c30 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R c22 . Of the organic groups, an alkyl group is preferred. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. As R c30 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式(C10)中、m9は1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(C10)中、m10は0〜(m9+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(C10)中、m8は1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。   In said formula (C10), m9 is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (C10), m10 is 0- (m9 + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (C10), m8 is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.

式(C8)中、Rc26は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Rc26がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Rc26がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In formula (C8), R c26 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be present when R c26 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. In addition, preferred examples of the substituent that R c26 may have when it is an aryl group include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom.

式(C8)中、Rc26としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (C8), R c26 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group, or the like. Among these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.

式(C8)で表される化合物の製造方法は特に限定されず、公知の方法で得ることができる。   The method for producing the compound represented by the formula (C8) is not particularly limited, and can be obtained by a known method.

式(C8)で表される化合物の好適な具体例としては、以下の化合物1〜化合物41が挙げられる。

Figure 2018109761
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (C8) include the following compounds 1 to 41.
Figure 2018109761

Figure 2018109761
Figure 2018109761

ケイ素含有樹脂組成物中の硬化剤(C)は、異なる分類又は種類の硬化剤を2種以上含んでいてもよい。
ケイ素含有樹脂組成物中の、硬化剤(C)の含有量は、典型的には、組成物全体の質量に対して、0.01〜40質量%が好ましく、0.1〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。
The curing agent (C) in the silicon-containing resin composition may contain two or more different types or types of curing agents.
The content of the curing agent (C) in the silicon-containing resin composition is typically preferably 0.01 to 40% by mass and 0.1 to 20% by mass with respect to the mass of the entire composition. More preferred is 1 to 10% by mass.

[ニトロキシ化合物(D)]
ケイ素含有樹脂組成物は、ニトロキシ化合物(D)を含んでいてもよい。ケイ素含有樹脂組成物がニトロキシ化合物(D)を含む場合、シリカフィルムを形成する際の焼成温度が、例えば250℃以下(例えば200℃以上250℃以下の範囲)の低い温度であっても、シリカフィルム中の残渣(シリカフィルム由来の不純物)を低減できるので好ましい。シリカフィルム中の残渣が少ないと、シリカフィルムが高温雰囲気や減圧雰囲気におかれる場合でも、シリカフィルムからの、フィルム中の残渣そのものやフィルム中の残渣の分解物に由来するガス発生が抑制される。
[Nitroxy Compound (D)]
The silicon-containing resin composition may contain a nitroxy compound (D). In the case where the silicon-containing resin composition contains a nitroxy compound (D), even if the firing temperature at the time of forming the silica film is a low temperature of, for example, 250 ° C. or less (for example, a range of 200 ° C. or more and 250 ° C. or less) It is preferable because residues (impurities derived from the silica film) in the film can be reduced. When there are few residues in a silica film, even when the silica film is placed in a high-temperature atmosphere or a reduced-pressure atmosphere, gas generation derived from the residue in the film itself or a decomposition product of the residue in the film is suppressed. .

ニトロキシ化合物(D)としては、ニトロキシドラジカルとして安定に存在し得る化合物であれば特に限定されない。ニトロキシ化合物(D)の好適な例としては、下式(d1)で表される構造を含む化合物が挙げられる。

Figure 2018109761
The nitroxy compound (D) is not particularly limited as long as it is a compound that can stably exist as a nitroxide radical. Preferable examples of the nitroxy compound (D) include compounds having a structure represented by the following formula (d1).
Figure 2018109761

式(d1)中、Rd1、Rd2、Rd3、及びRd4は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数1〜10の有機基である。Rd1とRd2とは、互いに結合して環を形成してもよい。また、Rd3とRd4とは、互いに結合して環を形成してもよい。
ケイ素含有樹脂組成物が、ニトロキシ化合物(D)として上記式(d1)で表される構造を含む化合物を含有すると、シリカフィルムを形成する際の焼成温度が低い温度であっても、シリカフィルム中の残渣を低減しやすい。
式(c1)において、Rc1、Rc2、Rc3、及びRc4は、それぞれ独立に、アルキル基又はヘテロ原子で置換されたアルキル基であるのが好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、及びイソプロピル基が好ましい。ヘテロ原子の好適な例としては、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子等が挙げられる。
In formula (d1), R d1 , R d2 , R d3 , and R d4 are each independently a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms. R d1 and R d2 may be bonded to each other to form a ring. R d3 and R d4 may be bonded to each other to form a ring.
When the silicon-containing resin composition contains a compound containing the structure represented by the above formula (d1) as the nitroxy compound (D), even if the firing temperature when forming the silica film is a low temperature, It is easy to reduce the residue.
In the formula (c1), R c1 , R c2 , R c3 , and R c4 are preferably each independently an alkyl group or an alkyl group substituted with a hetero atom. As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group are preferable. Preferable examples of the hetero atom include a halogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.

(D)ニトロキシ化合物の好適な具体例としては、例えば、ジ−tert−ブチルニトロキシド、ジ−1,1−ジメチルプロピルニトロキシド、ジ−1,2−ジメチルプロピルニトロキシド、ジ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド、及び下記式(d2)、(d3)、又は(d4)で表される化合物が好ましい。
中でも、低い温度での焼成でもシリカフィルム中の残渣を低減しやすい点で、下記式(d2)、(d3)、又は(d4)で表される化合物がより好ましい。
(D) Preferable specific examples of the nitroxy compound include, for example, di-tert-butyl nitroxide, di-1,1-dimethylpropyl nitroxide, di-1,2-dimethylpropyl nitroxide, di-2,2-dimethylpropyl. Nitroxide and the compound represented by the following formula (d2), (d3), or (d4) are preferable.
Among these, a compound represented by the following formula (d2), (d3), or (d4) is more preferable in that the residue in the silica film can be easily reduced even by firing at a low temperature.

Figure 2018109761
Figure 2018109761

式(d2)、(d3)、及び(d4)中、Rd5は、水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、シアノ基、ヘテロ原子で置換されたアルキル基、又はエーテル結合、エステル結合、アミド結合、若しくはウレタン結合を介して結合した1価の有機基を表す。
d6は、2価又は3価の有機基を表す。
n1及びn2は、1≦n1+n2≦2を満たす整数である。
n3及びn4は、1≦n3+n4≦2を満たす整数である。
n5及びn6は、1≦n5+n6≦2を満たす整数である。
n7は、2又は3である。
In formulas (d2), (d3), and (d4), R d5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, a cyano group, or an alkyl substituted with a heteroatom. Or a monovalent organic group bonded through an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urethane bond.
R d6 represents a divalent or trivalent organic group.
n1 and n2 are integers satisfying 1 ≦ n1 + n2 ≦ 2.
n3 and n4 are integers satisfying 1 ≦ n3 + n4 ≦ 2.
n5 and n6 are integers satisfying 1 ≦ n5 + n6 ≦ 2.
n7 is 2 or 3.

式(d2)で表される化合物の好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。下記式中、Rd7は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよい芳香族基、又は置換基を有してもよい脂環式基を表す。

Figure 2018109761
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (d2) include the following compounds. In the following formulae, each R d7 may independently have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aromatic group which may have a substituent, or a substituent. Represents a good alicyclic group.
Figure 2018109761

式(d3)で表される化合物の好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

Figure 2018109761
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (d3) include the following compounds.
Figure 2018109761

式(d4)で表される化合物の好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

Figure 2018109761
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (d4) include the following compounds.
Figure 2018109761

さらに好ましいニトロキシ化合物(D)としては、低い温度での焼成でも特にシリカフィルム中の残渣を低減しやすいことから、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−カルボキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−シアノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−メタクリル酸−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−アクリル酸−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、3−カルボキシ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジン1−オキシル フリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−(2−クロロアセトアミド)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルベンゾアート フリーラジカル、4−イソチオシアナト−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、4−(2−ヨードアセトアミド)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカル、及び4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル フリーラジカルが挙げられる。
ニトロキシ化合物(D)は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
As a more preferred nitroxy compound (D), 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-hydroxy-, since it is easy to reduce the residue in the silica film even when calcined at a low temperature. 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-carboxy-2,2,6,6- Tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-cyano-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-methacrylic acid-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free Radical, 4-acrylic acid-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical Cal, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 3-carboxy-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine 1-oxyl free radical, 4-acetamido-2, 2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4- (2-chloroacetamido) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-hydroxy-2,2,6 , 6-Tetramethylpiperidine 1-oxylbenzoate free radical, 4-isothiocyanato-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4- (2-iodoacetamido) -2,2,6 6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, and 4-methoxy-2,2,6,6- Tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical.
A nitroxy compound (D) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

ケイ素含有樹脂組成物のニトロキシ化合物(D)の含有量は微量であってよい。ケイ素含有樹脂組成物中のニトロキシ化合物(D)の含有量は、低い温度での焼成でもシリカフィルム中の残渣を低減しやすいことから、ケイ素含有樹脂組成物の溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して、0.005質量%以上が好ましく、0.009質量%以上がより好ましい。
また、ケイ素含有樹脂組成物中の(C)ニトロキシ化合物の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物の溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して、2質量%以下が好ましく、1質量%以下がより好ましい。
The content of the nitroxy compound (D) in the silicon-containing resin composition may be a trace amount. Since the content of the nitroxy compound (D) in the silicon-containing resin composition is easy to reduce the residue in the silica film even when firing at a low temperature, the mass of components other than the solvent (S) of the silicon-containing resin composition 0.005 mass% or more is preferable with respect to the sum total, and 0.009 mass% or more is more preferable.
The content of the (C) nitroxy compound in the silicon-containing resin composition is preferably 2% by mass or less, preferably 1% by mass with respect to the total mass of components other than the solvent (S) of the silicon-containing resin composition. The following is more preferable.

[酸化防止剤(E)]
また、ケイ素含有樹脂組成物は、酸化防止剤(E)を含んでいてもよい。酸化防止剤を含むことで、発光特性の低下を抑制することができる。
酸化防止剤は、リン系、硫黄系及びフェノール系酸化防止剤からなる群から選択される少なくとも1つを含むことが好ましい。
[Antioxidant (E)]
Moreover, the silicon-containing resin composition may contain an antioxidant (E). By including an antioxidant, it is possible to suppress a decrease in light emission characteristics.
The antioxidant preferably includes at least one selected from the group consisting of phosphorus-based, sulfur-based and phenolic antioxidants.

リン系酸化防止剤の種類は、特別に限定されず、具体的には、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、オクタデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシルオキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスホナイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル及びホスホン酸等を挙げることができる。   The kind of phosphorus antioxidant is not specifically limited, Specifically, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10- Tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, diisodecylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2′-methylenebis (4,6 -Di-t-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexyloxy) phosphorus, 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8, 10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine, triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, pheny Diisodecyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite, octadecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, 9,10-dihydro-9-oxa -10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2, 4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentante Lylebis (2,6-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, Tris (2,4-di-t-butylphenyl) Phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite, bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl)- 6-methylphenyl] ethyl ester, phosphonic acid and the like.

リン系酸化防止剤のうち、耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、及び6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン等が好ましい。   Among the phosphorus-based antioxidants, 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexyloxy) phosphorus in terms of heat resistance and heat discoloration prevention, 3, 9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, and 6- [3- (3 -T-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine and the like are preferable. .

リン系酸化防止剤の市販品としては、Irgafos 168(BASF社製)、Sumilizer GP(住友化学社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available phosphorous antioxidants include Irgafos 168 (manufactured by BASF), Sumilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like.

硫黄系酸化防止剤の種類は、特別に限定されず、具体的には、2,2−ビス({[3−(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)−1,3−プロパンジイル−ビス[3−(ドデシルチオ)プロピオネート]、2−メルカプトベンズイミダゾール、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチル−テトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、2−メルカプトベンズイミダゾール等を挙げることができる。   The kind of sulfur-based antioxidant is not particularly limited, and specifically, 2,2-bis ({[3- (dodecylthio) propionyl] oxy} methyl) -1,3-propanediyl-bis [3 -(Dodecylthio) propionate], 2-mercaptobenzimidazole, dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, A pentaerythrityl-tetrakis (3-lauryl thiopropionate), 2-mercaptobenzimidazole, etc. can be mentioned.

硫黄系酸化防止剤のうち、耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、2,2−ビス({3−(ドデシルチオ)プロピオニル}オキシ)メチル)1,3−プロパンジイル−ビス[3−(ドデシルチオ)プロピオネート]、2−メルカプトベンズイミダゾール等が好ましい。   Among sulfur-based antioxidants, 2,2-bis ({3- (dodecylthio) propionyl} oxy) methyl) 1,3-propanediyl-bis [3- (dodecylthio) in terms of heat resistance and heat discoloration prevention Propionate], 2-mercaptobenzimidazole and the like are preferable.

硫黄系酸化防止剤の市販品としては、Irganox 1035(BASF社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available sulfur-based antioxidants include Irganox 1035 (manufactured by BASF).

フェノール系酸化防止剤の種類は、特別に限定されず、具体的には、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエトキシ]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−イソシアヌレート、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−O−クレゾール、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン及びテトラキス[メチレン−3−(3,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]メタン等を挙げることができる。   The type of the phenolic antioxidant is not particularly limited, and specifically, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethoxy] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate], 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 ′, 5′-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, triethylene glycol-bis [3- (3- t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,4'-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol), tris- (3,5-di-t-butyl-4- Hide Xylbenzyl) -isocyanurate, 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -isocyanurate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N'- Hexamethylene bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxybenzyl) benzene, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -O-cresol, 1,6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydro Ciphenyl) propionate], octadecyl- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4 ′ -Butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-tris (4 -Hydroxybenzyl) benzene and tetrakis [methylene-3- (3,5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenylpropionate)] methane.

フェノール系酸化防止剤のうち、耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエトキシ]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−イソシアヌレート、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン及び2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−O−クレゾール等が好ましい。   Among phenolic antioxidants, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1 is used in terms of heat resistance and heat discoloration prevention. , 1-dimethylethoxy] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 ′, 5′-di-t -Butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t- Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,4′-thiobis (6-tert-butyl-3-methylphenol), tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydride) Xylbenzyl) -isocyanurate, 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -isocyanurate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N'- Hexamethylene bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxybenzyl) benzene and 2,4-bis [(octylthio) methyl] -O-cresol are preferred.

フェノール系酸化防止剤の市販品としては、Irganox 1010(BASF社製)、ADK STAB AO−80(ADEKA社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available phenolic antioxidants include Irganox 1010 (manufactured by BASF), ADK STAB AO-80 (manufactured by ADEKA), and the like.

酸化防止剤の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物の固形分総重量中、例えば0.01〜30質量%であり、好ましくは、0.1〜10質量%であり、より好ましくは、0.5〜8質量%であり、さらに好ましくは1〜5質量%である。上記範囲内とすることで発光特性の低下を抑制することができ、ベーク(ハードベーク)工程における消光現象を抑制できる。また、ケイ素含有樹脂組成物を用いて印刷法等によりパターニングする場合に、形成されたパターンの剥離を抑制できる。   The content of the antioxidant is, for example, 0.01 to 30% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass in the total solid weight of the silicon-containing resin composition. It is 5-8 mass%, More preferably, it is 1-5 mass%. By setting it within the above range, it is possible to suppress a decrease in light emission characteristics and to suppress a quenching phenomenon in a baking (hard baking) step. Moreover, when patterning by a printing method etc. using a silicon containing resin composition, peeling of the formed pattern can be suppressed.

[溶剤(S)]
ケイ素含有樹脂組成物は、溶剤(S)を含有する。溶剤(S)は、下式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートを含有する。ケイ素含有樹脂組成物が、ケイ素含有樹脂(A)とともに下式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートを含有する溶剤(S)を含むことにより、ケイ素含有樹脂組成物を用いて形成されるケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムにおけるクラックの発生を抑制しやすい。

Figure 2018109761
(式(S1)中、Rs1は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは1〜6の整数であり、qは0〜(p+1)の整数である。) [Solvent (S)]
The silicon-containing resin composition contains a solvent (S). The solvent (S) contains a cycloalkyl acetate represented by the following formula (S1). Silicon formed using a silicon-containing resin composition by including a solvent (S) containing a cycloalkyl acetate represented by the following formula (S1) together with a silicon-containing resin (A). It is easy to suppress the occurrence of cracks in the contained resin film or silica film.
Figure 2018109761
(In formula (S1), R s1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, p is an integer of 1 to 6, and q is an integer of 0 to (p + 1).)

式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートの具体例としては、シクロプロピルアセテート、シクロブチルアセテート、シクロペンチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、シクロヘプチルアセテート、及びシクロオクチルアセテートが挙げられる。
これらの中では、入手が容易であり、ケイ素含有樹脂フィルムやシリカフィルムにおけるクラックの発生を抑制しやすいことから、シクロオクチルアセテートが好ましい。
溶剤(S)は、式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートを2種以上組み合わせて含んでいてもよい。
Specific examples of the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) include cyclopropyl acetate, cyclobutyl acetate, cyclopentyl acetate, cyclohexyl acetate, cycloheptyl acetate, and cyclooctyl acetate.
Among these, cyclooctyl acetate is preferable because it is easily available and it is easy to suppress the occurrence of cracks in the silicon-containing resin film or silica film.
The solvent (S) may contain a combination of two or more cycloalkyl acetates represented by the formula (S1).

溶剤(S)中の式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートの含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。溶剤(S)中の式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートの含有量は、典型的には、例えば、30質量%以上であり、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上が特に好ましく、100質量%であってもよい。   The content of the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) in the solvent (S) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The content of the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) in the solvent (S) is typically, for example, 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more. 90 mass% or more is particularly preferable, and may be 100 mass%.

溶剤(S)が式(S1)で表されるシクロアルキルアセテート以外の溶剤を含む場合、式(S1)で表されるシクロアルキルアセテート以外の溶剤の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。   When the solvent (S) includes a solvent other than the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1), the type of the solvent other than the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) is within a range that does not impair the object of the present invention. There is no particular limitation.

溶剤(S)が含み得る、式(S1)で表されるシクロアルキルアセテート以外の溶剤の例としては、
メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類;
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル−n−アミルケトン、メチルイソアミルケトン、2−ヘプタノン等のケトン類;
γ−ブチロラクトン等のラクトン環含有有機溶媒;
エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、又はジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類又は前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテル又はモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体;
ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類;
アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤;
N,N,N’,N’−テトラメチルウレア、N,N,2−トリメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン等の窒素含有有機溶媒;
が挙げられる。これらの溶剤は、2種以上組み合わせて使用してもよい。
式(S1)で表されるシクロアルキルアセテート以外の溶剤の溶剤(S)全体における割合は、例えば、70質量%以下で適宜設定すればよく、0.01〜55質量%が好ましく、1〜50質量%がより好ましい。
Examples of solvents other than the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) that can be contained in the solvent (S) include:
Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol;
Polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl-n-amyl ketone, methyl isoamyl ketone, 2-heptanone;
a lactone ring-containing organic solvent such as γ-butyrolactone;
Compounds having an ester bond such as ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol monoacetate, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol monoacetate, monomethyl ether, monoethyl ether, monopropyl of the polyhydric alcohols or the compound having an ester bond Derivatives of polyhydric alcohols such as ether, monoalkyl ether such as monobutyl ether or compounds having an ether bond such as monophenyl ether;
Cyclic ethers such as dioxane and esters such as methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate;
Aromatic organic solvents such as anisole, ethyl benzyl ether, cresyl methyl ether, diphenyl ether, dibenzyl ether, phenetole, butyl phenyl ether, ethylbenzene, diethylbenzene, amylbenzene, isopropylbenzene, toluene, xylene, cymene, mesitylene;
N, N, N ′, N′-tetramethylurea, N, N, 2-trimethylpropionamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylacetamide, N, N-diethyl Nitrogen-containing organic solvents such as formamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone;
Is mentioned. Two or more of these solvents may be used in combination.
The proportion of the solvent other than the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1) in the entire solvent (S) may be appropriately set to, for example, 70% by mass or less, preferably 0.01 to 55% by mass, The mass% is more preferable.

式(S1)で表されるシクロアルキルアセテート以外の溶剤中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア、及びブタノールが好ましい。   Among solvents other than the cycloalkyl acetate represented by the formula (S1), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monomethyl ether (PGME), N, N, N ′, N′-tetramethylurea, and butanol Is preferred.

ケイ素含有樹脂組成物がケイ素含有樹脂(A)として、ポリシランを含む場合、クラックを抑制する点又は誘電率の低いシリカフィルムを形成しやすい点で、ケイ素含有樹脂組成物の水分量は1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがより好ましく、0.3質量%以下であることがさらに好ましく、0.3質量%未満であることが特に好ましい。なお、溶媒中の水分量はカールフィッシャー測定法により、測定することができる。
ケイ素含有樹脂組成物の水分は、溶剤(S)に由来する場合が多い。このため、ケイ素含有樹脂組成物の水分量が上記の量となるように、溶剤(S)が脱水されているのが好ましい。
When the silicon-containing resin composition contains polysilane as the silicon-containing resin (A), the moisture content of the silicon-containing resin composition is 1.0 in terms of suppressing cracking or forming a silica film having a low dielectric constant. It is preferably at most mass%, more preferably at most 0.5 mass%, further preferably at most 0.3 mass%, particularly preferably less than 0.3 mass%. The water content in the solvent can be measured by the Karl Fischer measurement method.
The water content of the silicon-containing resin composition is often derived from the solvent (S). For this reason, it is preferable that the solvent (S) is dehydrated so that the water content of the silicon-containing resin composition becomes the above amount.

溶剤(S)の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。製膜性の点から、溶剤(S)は、ケイ素含有樹脂組成物の固形分濃度が、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは10〜40質量%となるように用いられる。   The usage-amount of a solvent (S) is not specifically limited in the range which does not inhibit the objective of this invention. From the viewpoint of film forming property, the solvent (S) is used so that the solid content concentration of the silicon-containing resin composition is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass.

[その他の成分]
ケイ素含有樹脂組成物は、ケイ素含有樹脂(A)、及び溶剤(S)以外に、従来から種々の用途に使用されているケイ素含有樹脂組成物に添加されている、種々の成分を含んでいてもよい。
その他の成分の例としては、光重合開始剤、酸発生剤、塩基発生剤、触媒、シランカップリング剤、密着増強剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、粘度調整剤、及び着色剤等が挙げられる。
これらの成分は、それぞれ、通常使用される量に従って、ケイ素含有樹脂組成物に配合される。
[Other ingredients]
In addition to the silicon-containing resin (A) and the solvent (S), the silicon-containing resin composition contains various components that have been added to silicon-containing resin compositions that have been conventionally used for various applications. Also good.
Examples of other components include a photopolymerization initiator, an acid generator, a base generator, a catalyst, a silane coupling agent, an adhesion enhancer, a dispersant, a surfactant, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and an antifoaming agent. , Viscosity modifiers, colorants and the like.
Each of these components is blended in the silicon-containing resin composition in accordance with the amount usually used.

<ケイ素含有樹脂組成物の製造方法>
ケイ素含有樹脂組成物の製造方法は特に限定されない。典型的には、それぞれ所定量の以上説明した成分を均一に混合し、固形分を溶剤(S)に溶解及び分散させることによりケイ素含有樹脂組成物が製造される。量子ドット(B)よりもサイズが大きな不溶物を除去するため、ケイ素含有樹脂組成物を所望の孔径のフィルターを用いてろ過してもよい。
<Method for producing silicon-containing resin composition>
The method for producing the silicon-containing resin composition is not particularly limited. Typically, a silicon-containing resin composition is produced by uniformly mixing a predetermined amount of each of the above-described components and dissolving and dispersing the solid content in the solvent (S). In order to remove insoluble matters having a size larger than that of the quantum dots (B), the silicon-containing resin composition may be filtered using a filter having a desired pore size.

<ケイ素含有樹脂フィルム、及びシリカフィルムの製造方法>
以下、前述のケイ素含有樹脂組成物を用いる、ケイ素含有樹脂フィルムの製造方法と、シリカフィルムの製造方法とについて説明する。
<Method for producing silicon-containing resin film and silica film>
Hereinafter, a method for producing a silicon-containing resin film and a method for producing a silica film using the above-described silicon-containing resin composition will be described.

[ケイ素含有樹脂フィルムの製造方法]
ケイ素含有樹脂フィルムを製造する方法としては、
前述のケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜を形成することと、
塗布膜から溶剤(S)を除去することと、
を含む方法が挙げられる。
[Method for producing silicon-containing resin film]
As a method for producing a silicon-containing resin film,
Forming a coating film comprising the aforementioned silicon-containing resin composition;
Removing the solvent (S) from the coating film;
The method containing is mentioned.

塗布膜を形成する方法は特に限定されない。例えば、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、浸漬法、滴下法等の方法によりケイ素含有樹脂組成物を塗布して、基板上に塗布膜が形成される。
塗布膜の膜厚は特に限定されない。典型的には、塗布膜の膜厚は、例えば、膜厚2μm以上、好ましくは5μm以上のケイ素含有樹脂フィルムが形成されるように調整される。また、塗布膜の膜厚は、好ましくは膜厚2〜300μm、より好ましくは30〜200μm、さらに好ましくは75〜150μmのケイ素含有樹脂フィルムが形成されるように調整される。ケイ素含有樹脂組成物の固形分濃度や任意成分である添加剤を調整することにより5μm以上さらには30μ以上の膜厚のフィルムを形成することができる。
The method for forming the coating film is not particularly limited. For example, the silicon-containing resin composition is applied by a method such as a spray method, a spin coating method, a roll coating method, a dipping method, or a dropping method to form a coating film on the substrate.
The thickness of the coating film is not particularly limited. Typically, the film thickness of the coating film is adjusted so that, for example, a silicon-containing resin film having a film thickness of 2 μm or more, preferably 5 μm or more is formed. The thickness of the coating film is preferably adjusted so that a silicon-containing resin film having a thickness of 2 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm, and even more preferably 75 to 150 μm is formed. A film having a film thickness of 5 μm or more, further 30 μm or more can be formed by adjusting the solid content concentration of the silicon-containing resin composition or an additive which is an optional component.

例えば、膜厚2〜300μm程度の厚いケイ素含有樹脂フィルムを製造する場合、塗布膜から溶剤(S)を除去する際に、フィルムにクラックが生じやすい。しかし、ケイ素含有樹脂組成物が、前述の所定の溶剤(S)を含むことにより、溶剤(S)を除去する際のクラックの発生が抑制される。   For example, when a thick silicon-containing resin film having a thickness of about 2 to 300 μm is produced, cracks are likely to occur in the film when the solvent (S) is removed from the coating film. However, when the silicon-containing resin composition contains the aforementioned predetermined solvent (S), generation of cracks when removing the solvent (S) is suppressed.

塗布膜から溶剤(S)を除去する方法は特に限定されない。典型的には、塗布膜を、溶剤(S)の沸点に応じた適切な温度で加熱したり、塗布膜を真空条件下に置く方法が挙げられる。   The method for removing the solvent (S) from the coating film is not particularly limited. Typically, a method of heating the coating film at an appropriate temperature according to the boiling point of the solvent (S) or placing the coating film under a vacuum condition can be mentioned.

ケイ素含有樹脂フィルムは、積層体や、発光表示素子パネル等において種々の機能層上に直接形成されてもよく、金属基板やガラス基板等の任意の材質の基板上に形成した後、基板から剥離させて使用されてもよい。   The silicon-containing resin film may be directly formed on various functional layers in a laminate, a light emitting display element panel, or the like, and is formed on a substrate of any material such as a metal substrate or a glass substrate, and then peeled off from the substrate. May be used.

[シリカフィルムの製造方法]
シリカフィルムを製造する方法としては、
前述のケイ素含有樹脂組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成する工程と、
形成された塗布膜を焼成する工程と、
を含む方法が挙げられる。
ケイ素含有樹脂組成物が光の作用により分解して塩基を発生する硬化剤を含む場合、露光する工程を含むことが好ましい。露光する工程は、焼成する工程の代わり又は焼成する工程ともに行ってもよい。また、露光する工程では、例えば、形成された塗布膜を選択的に露光してもよく、選択的露光工程を含む場合は、現像する工程を含んでいてもよい。また、例えば、形成された塗布膜に対し、インプリントリソグラフィーを行ってもよい。インプリントリソグラフィーを行う場合は、例えば;
ケイ素含有樹脂組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成する工程と、
所定のパターンの凹凸構造が形成されたモールドを塗布膜に対し押圧する工程と、
露光する工程と、を含む方法が挙げられる。
露光する工程は、モールドが塗布膜に押圧された状態で、ケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜に対して行われる。露光による硬化後、前記モールドを剥離することで、モールドの形状に応じてパターニングされたシリカフィルムを得ることができる。
また、パターニングされたシリカフィルムは、印刷法によって形成してもよい。印刷法としては、インクジェット法、スクリーン印刷法等が挙げられる。印刷法によってケイ素含有樹脂組成物をパターン状に配置した後、露光及び/又は加熱若しくは焼成することで、パターニングされたシリカフィルムを得ることができる。
[Method for producing silica film]
As a method for producing a silica film,
Applying the silicon-containing resin composition described above onto a substrate to form a coating film;
Baking the formed coating film;
The method containing is mentioned.
When the silicon-containing resin composition includes a curing agent that decomposes by the action of light to generate a base, it is preferable to include an exposure step. You may perform the process to expose with the process of baking instead of the process of baking. Further, in the exposure step, for example, the formed coating film may be selectively exposed, and in the case of including a selective exposure step, a developing step may be included. Further, for example, imprint lithography may be performed on the formed coating film. When performing imprint lithography, for example;
Applying a silicon-containing resin composition on a substrate to form a coating film;
A step of pressing a mold having a concavo-convex structure of a predetermined pattern against a coating film;
And a step of exposing.
The process of exposing is performed with respect to the coating film which consists of a silicon-containing resin composition in the state in which the mold was pressed by the coating film. After curing by exposure, the silica film patterned according to the shape of the mold can be obtained by peeling the mold.
The patterned silica film may be formed by a printing method. Examples of the printing method include an inkjet method and a screen printing method. After the silicon-containing resin composition is arranged in a pattern by a printing method, a patterned silica film can be obtained by exposure and / or heating or baking.

塗布膜は、ケイ素含有樹脂フィルムの製造方法と同様にして形成される。
塗布膜の膜厚は特に限定されない。典型的には、塗布膜の膜厚は、例えば、膜厚2μm以上、好ましくは5μm以上のケイ素含有樹脂フィルムが形成されるように調整される。また、塗布膜の膜厚は、好ましくは膜厚2〜300μm、より好ましくは30〜200μm、さらに好ましくは75〜150μmのケイ素含有樹脂フィルムが形成されるように調整される。
The coating film is formed in the same manner as in the method for producing a silicon-containing resin film.
The thickness of the coating film is not particularly limited. Typically, the film thickness of the coating film is adjusted so that, for example, a silicon-containing resin film having a film thickness of 2 μm or more, preferably 5 μm or more is formed. The thickness of the coating film is preferably adjusted so that a silicon-containing resin film having a thickness of 2 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm, and even more preferably 75 to 150 μm is formed.

基板の材質は、焼成に耐えられる材質であれば特に限定されない。基板の材質の好適な例としては、金属、シリコン、ガラス等の無機材料や、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の耐熱性の材料が挙げられる。基板の厚さは特に限定されず、基板は、フィルムやシートであってもよい。   The material of the substrate is not particularly limited as long as it can withstand firing. Preferable examples of the material of the substrate include inorganic materials such as metal, silicon, and glass, and heat-resistant materials such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polyimide resin, and polyamideimide resin. The thickness of the substrate is not particularly limited, and the substrate may be a film or a sheet.

塗布膜を備える基板は、次いで焼成される。焼成方法は特に限定されないが、典型的には電気炉等を用いて焼成が行われる。焼成温度は、典型的には300℃以上が好ましく、350℃以上がより好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、1000℃以下である。ケイ素含有樹脂組成物が硬化剤(C)及び/又はニトロキシ化合物(D)を含む場合、焼成温度の下限値を200℃に下げてもシリカフィルム中の残渣(シリカフィルム由来の不純物)を低減できる。焼成雰囲気は特に限定されず、窒素雰囲気又はアルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲下、真空下、又は減圧下であってもよい。大気下であってもよいし、酸素濃度を適宜コントロールしてもよい。   The substrate provided with the coating film is then baked. The firing method is not particularly limited, but typically firing is performed using an electric furnace or the like. The firing temperature is typically preferably 300 ° C. or higher, and more preferably 350 ° C. or higher. Although an upper limit is not specifically limited, For example, it is 1000 degrees C or less. When the silicon-containing resin composition contains a curing agent (C) and / or a nitroxy compound (D), residues (silica film-derived impurities) in the silica film can be reduced even if the lower limit of the firing temperature is lowered to 200 ° C. . The firing atmosphere is not particularly limited, and may be an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere, a vacuum, or a reduced pressure. It may be under air or the oxygen concentration may be controlled appropriately.

このようにして形成されるシリカフィルムは、クラックを有さず、良好に分散された量子ドット(B)を含む。   The silica film formed in this way does not have a crack and contains the well-dispersed quantum dots (B).

以上説明したケイ素含有樹脂フィルム、及びシリカフィルムは、良好に分散された量子ドット(B)を含むため、発光表示素子用の光学フィルムとして好適使用でき、また、発光表示素子において好適に用いられる積層体の製造に好適に使用できる。   Since the silicon-containing resin film and the silica film described above contain the well-dispersed quantum dots (B), the silicon-containing resin film and the silica film can be suitably used as an optical film for a light-emitting display element, and are preferably used in a light-emitting display element. It can be suitably used for production of a body.

<積層体>
積層体は、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムとからなる群より選択される1以上のフィルムを含む積層体である。かかる積層体は、量子ドットを含有するフィルムのみからなる積層体であってもよく、量子ドットを含有するフィルムと、他の機能層とからなる積層体であってもよい。
<Laminate>
The laminate is a laminate including one or more films selected from the group consisting of the aforementioned silicon-containing resin film and the aforementioned silica film. Such a laminate may be a laminate composed only of a film containing quantum dots, or may be a laminate composed of a film containing quantum dots and another functional layer.

[量子ドットを含有するフィルムの積層体]
積層体としては、例えば、種々のマトリックス材中に分散された量子ドット(B)を含むフィルムが2層以上積層されており、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムとからなる群より選択される1以上のフィルムを含む積層体が挙げられる。
かかる積層体は、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び/又は前述のシリカフィルムだけが積層された積層体であってもよく、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び/又は前述のシリカフィルムと、ケイ素含有樹脂及びシリカ以外のマトリックス材に量子ドット(B)が分散されたフィルムとが積層された積層体であってもよい。
[Laminate of films containing quantum dots]
As the laminate, for example, two or more films containing quantum dots (B) dispersed in various matrix materials are laminated. From the group consisting of the aforementioned silicon-containing resin film and the aforementioned silica film, The laminated body containing the 1 or more film selected is mentioned.
Such a laminate may be a laminate in which only the above-mentioned silicon-containing resin film and / or the above-mentioned silica film is laminated, and the above-mentioned silicon-containing resin film and / or the above-mentioned silica film and a silicon-containing material. A laminate in which a film in which quantum dots (B) are dispersed in a matrix material other than resin and silica may be laminated.

ケイ素含有樹脂、及びシリカ以外のマトリックス材としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂(例えば、ポリメチル(メタ)アクリレート、及びポリブチル(メタ)アクリレート等)、ノルボルネン樹脂、ポリオレフィン(例えばポリエチレン)、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート)、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of matrix materials other than silicon-containing resins and silica include epoxy resins, acrylic resins (for example, polymethyl (meth) acrylate and polybutyl (meth) acrylate)), norbornene resins, polyolefins (for example, polyethylene), polyvinyl butyral, and polyvinyl acetate. , Polyurea, polyurethane, polyester resin (for example, polyethylene terephthalate), polycarbonate resin and the like.

量子ドットを含有する複数のフィルムを積層して積層体を製造する場合、隣接するフィルムの屈折率が相違するのが好ましい。また、屈折率の高い高屈折率フィルムと、屈折率の低い低屈折率フィルムとが交互に積層されるのが好ましい。
この場合、隣接するフィルムの屈折率の差は0.4〜2.0であるのが好ましい。
屈折率が異なる複数の層が繰り返し積層される場合、光源から入射する光線が積層体を通過する際に、光線の屈折による発散により、入射光の利用効率を高めやすい。
When a laminated body is produced by laminating a plurality of films containing quantum dots, it is preferable that the refractive indexes of adjacent films are different. Moreover, it is preferable that a high refractive index film having a high refractive index and a low refractive index film having a low refractive index are alternately laminated.
In this case, the difference in refractive index between adjacent films is preferably 0.4 to 2.0.
When a plurality of layers having different refractive indexes are repeatedly laminated, it is easy to improve the utilization efficiency of incident light due to divergence caused by the refraction of the light rays when the light rays incident from the light source pass through the laminate.

量子ドットを含有するフィルムは、光源からの入射光を波長変換して赤色光を生ずる量子ドットと、光源からの入射光を波長変換して緑色光を生ずる量子ドットを含むのが好ましい。
また、赤色光を生ずる量子ドットを含むフィルムと、緑色光を生ずる量子ドットを含むフィルムとを交互に積層するのも好ましい。
このような構成の積層体を発光表示素子パネルに適用することにより、波長変換によって色純度の高い緑色光と赤色光を取り出すことができるため、発光表示素子パネルを備える発光表示装置の色相の再現範囲を拡大することができる。
なお、光源としては、典型的には、青色光や白色光を利用することができる。かかる光源と、上記の積層体とを組み合わせて用いることにより、色純度の高い、赤色光、緑色光、及び青色光を取り出すことができ、良好な色相の鮮明な画像を表示することができる。
The film containing quantum dots preferably includes quantum dots that generate red light by converting the wavelength of incident light from the light source, and quantum dots that generate green light by converting the wavelength of incident light from the light source.
Moreover, it is also preferable to laminate | stack alternately the film containing the quantum dot which produces red light, and the film containing the quantum dot which produces green light.
By applying the laminated body having such a structure to a light-emitting display element panel, green light and red light with high color purity can be extracted by wavelength conversion. Therefore, reproduction of a hue of a light-emitting display device including the light-emitting display element panel is reproduced. The range can be expanded.
As a light source, typically, blue light or white light can be used. By using a combination of such a light source and the above laminate, it is possible to extract red light, green light, and blue light with high color purity and display a clear image with a good hue.

発光表示装置としては、光源の発光を用いて画像を表示する装置であれば特に限定されず、液晶表示装置や、有機EL表示装置等が挙げられる。   The light-emitting display device is not particularly limited as long as it is a device that displays an image using light emitted from a light source, and examples thereof include a liquid crystal display device and an organic EL display device.

以上説明した積層体では、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムとからなる群より選択される2以上のフィルムが、それぞれが接するように積層されているのが好ましい。
また、積層体が、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムとからなる群より選択される2以上のフィルムのみから構成されるのも好ましい。
ケイ素含樹脂やシリカが、耐光性、耐候性、耐溶剤性、耐化学薬品性、透明性、及び絶縁性等の種々の優れた特性を有するためである。
In the laminated body demonstrated above, it is preferable that the 2 or more films selected from the group which consists of the above-mentioned silicon-containing resin film and the above-mentioned silica film are laminated | stacked so that each may contact | connect.
Moreover, it is also preferable that a laminated body is comprised only from 2 or more films selected from the group which consists of the above-mentioned silicon-containing resin film and the above-mentioned silica film.
This is because silicon-containing resins and silica have various excellent properties such as light resistance, weather resistance, solvent resistance, chemical resistance, transparency, and insulation.

[量子ドットを含有するフィルムと、他の機能層とを含む積層体]
量子ドットを含有するフィルムである前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムは、他の機能層と積層されるのも好ましい。
以下、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムについて、単に「量子ドット含有フィルム」と記載する場合がある。
量子ドット含有フィルムは、光源からの入射光を波長変換して赤色光を生ずる量子ドットと、光源からの入射光を波長変換して緑色光を生ずる量子ドットを含むのが好ましい。
また、光源としては、典型的には、青色光や白色光を利用することができる。
[Laminated body including film containing quantum dots and other functional layer]
The aforementioned silicon-containing resin film, which is a film containing quantum dots, and the aforementioned silica film are preferably laminated with other functional layers.
Hereinafter, the aforementioned silicon-containing resin film and the aforementioned silica film may be simply referred to as “quantum dot-containing film”.
The quantum dot-containing film preferably includes a quantum dot that converts the wavelength of incident light from the light source to generate red light, and a quantum dot that converts the wavelength of incident light from the light source to generate green light.
As the light source, typically, blue light or white light can be used.

他の機能層としては、光線を拡散させる拡散層、ケイ素含有樹脂フィルム、又はシリカフィルムよりも低い屈折率を有する低屈折率層、光源から入射する光の一部を反射させる反射層、光源の発する光を積層体に入射させる導光板等が挙げられる。
また、必要に応じて、積層体内に空隙が設けられてもよい。空隙は、例えば、空気の層や、窒素等の不活性ガスの層であってよい。
Other functional layers include a diffusion layer for diffusing light, a silicon-containing resin film, a low refractive index layer having a lower refractive index than that of a silica film, a reflective layer for reflecting a part of light incident from a light source, Examples thereof include a light guide plate that allows emitted light to enter the laminate.
Moreover, a space | gap may be provided in a laminated body as needed. The air gap may be, for example, an air layer or an inert gas layer such as nitrogen.

拡散層としては、従来、種々の表示装置や光学装置に用いられている種々の拡散層を、特に制限なく用いることができる。典型的な例としては、表面にプリズム等の微細構造が設けられたフィルム、表面にビーズが散布又は埋没されたフィルム、及び微粒子や、光線を散乱させるように構造化された界面又は空隙等を内部に含むフィルムが挙げられる。   As the diffusion layer, various diffusion layers conventionally used in various display devices and optical devices can be used without particular limitation. Typical examples include a film with a prism or other fine structure on the surface, a film with beads scattered or embedded on the surface, fine particles, or an interface or void structured to scatter light. The film contained inside is mentioned.

低屈折率層は、前述のケイ素含有樹脂フィルム、及び前述のシリカフィルムよりも低い屈折率を有するフィルムであれば特に限定されず、種々の材質からなるフィルムを用いることができる。   The low refractive index layer is not particularly limited as long as it is a film having a refractive index lower than that of the aforementioned silicon-containing resin film and the aforementioned silica film, and films made of various materials can be used.

反射層としては、反射性の偏光フィルム、入射光のうちの一部を反射できるように、表面にプリズム等の微細構造が設けられたフィルム、金属箔、多層光学フィルム等が挙げられる。反射層は、入射光の30%以上を反射させるのが好ましく、40%以上を反射させるのがより好ましく、50%以上を反射させるのが特に好ましい。
反射層は、量子ドット含有フィルムを通過した光を反射して、反射光を再度、量子ドット含有フィルムに入射させるように設けられるのが好ましい。反射層から量子ドット含有フィルムに入射した光を、拡散層等により、反射層の方向へ再度反射させることにより、反射層を用いない場合よりも、量子ドット含有フィルムから発せられる緑色光、及び赤色光の色純度を高めることができる。
Examples of the reflective layer include a reflective polarizing film, a film provided with a fine structure such as a prism on the surface so that a part of incident light can be reflected, a metal foil, and a multilayer optical film. The reflective layer preferably reflects 30% or more of incident light, more preferably reflects 40% or more, and particularly preferably reflects 50% or more.
The reflective layer is preferably provided so as to reflect light that has passed through the quantum dot-containing film and to cause the reflected light to enter the quantum dot-containing film again. By reflecting light incident on the quantum dot-containing film from the reflective layer again in the direction of the reflective layer with a diffusion layer or the like, the green light emitted from the quantum dot-containing film and the red color are emitted more than when the reflective layer is not used. The color purity of light can be increased.

導光板としては、従来、種々の表示装置や光学装置に用いられている種々の導光板を、特に制限なく用いることができる。   As the light guide plate, various light guide plates conventionally used in various display devices and optical devices can be used without particular limitation.

量子ドット含有フィルムと、他の機能層とを含む積層体の好ましい層構成の典型例としては、以下の1)〜8)の層構成が挙げられる。なお1)〜8)の構成の積層体では、最も左に記載された層に光源が発する光線を入射させ、最も右に記載された層から量子ドット含有フィルムにより波長変換された光線を取り出す。
通常、積層体から取り出された光線を入射させるようにディスプレイパネルが設けられ、色準との高い赤色光、緑色光、及び青色光を利用して画像の表示が行われる。
1)拡散層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
2)導光板/拡散層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
3)低屈折率層/量子ドット含有フィルム/空隙/反射層
4)導光板/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/空隙/反射層
5)低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
6)導光板/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
7)反射層/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
8)導光板/反射層/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層
Typical examples of the preferable layer structure of the laminate including the quantum dot-containing film and other functional layers include the following layer structures 1) to 8). In addition, in the laminated body of the structure of 1) -8), the light ray which a light source emits injects into the layer described in the leftmost, and the light ray wavelength-converted with the quantum dot containing film is taken out from the layer described in the rightmost.
Usually, a display panel is provided so that the light extracted from the laminated body is incident, and an image is displayed using red light, green light, and blue light having high color levels.
1) Diffusion layer / quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflection layer 2) Light guide plate / diffusion layer / quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflection layer 3) Low refractive index layer / quantum dot-containing film / void / Reflective layer 4) light guide plate / low refractive index layer / quantum dot-containing film / void / reflective layer 5) low refractive index layer / quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflective layer 6) light guide plate / low refractive index layer / Quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflective layer 7) reflective layer / low refractive index layer / quantum dot containing film / low refractive index layer / reflective layer 8) light guide plate / reflective layer / low refractive index layer / quantum dot Containing film / low refractive index layer / reflection layer

なお、以上説明した積層体において、ケイ素含有樹脂フィルム、及びシリカフィルムは、前述の方法に従って製造されるのが好ましい。   In addition, in the laminated body demonstrated above, it is preferable that a silicon-containing resin film and a silica film are manufactured according to the above-mentioned method.

<発光表示素子パネル、及び発光表示装置>
前述のケイ素含有樹脂フィルム、又は前述のシリカフィルムからなる光学フィルムや、前述の積層体は、種々の発光表示素子パネルに組み込まれ、光源が発する光線から色純度の高い赤色光、緑色光、及び青色光を取り出す目的で好ましく使用される。
ここでは、前述のケイ素含有樹脂フィルム、又は前述のシリカフィルムからなる光学フィルムや、前述の積層体の総称について「量子ドットシート」と記載する。
<Light-emitting display element panel and light-emitting display device>
The above-mentioned silicon-containing resin film, or the above-mentioned optical film made of the silica film, and the above-mentioned laminate are incorporated into various light-emitting display element panels, and from the light emitted from the light source, red light having high color purity, green light, and It is preferably used for the purpose of extracting blue light.
Here, the above-mentioned silicon-containing resin film, the optical film composed of the above-mentioned silica film, and the generic term of the above-mentioned laminate are referred to as “quantum dot sheet”.

発光表示素子パネルは、典型的には、光源であるバックライトと、量子ドットシートと、ディスプレイパネルとを組み合わせて含む。
量子ドットシートが導光板を備える場合、典型的には、導光板の側面に光線を入射させるように光源が設けられる。導光板の側面から入射した光線は、量子ドットシート内を通過し、ディスプレイパネルに入射する。
量子ドットシートが導光板を備えない場合、面光源から量子ドットシートの主面に光線を入射させ、量子ドットシート内を通過した光線をディスプレイパネルに入射させる。
ディスプレイパネルの種類は、量子ドットシートを通過した光線を用いて画像形成可能であれば特に限定されないが、典型的には液晶ディスプレイパネルである。
The light-emitting display element panel typically includes a combination of a backlight as a light source, a quantum dot sheet, and a display panel.
When the quantum dot sheet includes a light guide plate, typically, a light source is provided so that light rays are incident on the side surface of the light guide plate. Light incident from the side surface of the light guide plate passes through the quantum dot sheet and enters the display panel.
When the quantum dot sheet does not include a light guide plate, a light beam is incident on the main surface of the quantum dot sheet from the surface light source, and a light beam that has passed through the quantum dot sheet is incident on the display panel.
The type of the display panel is not particularly limited as long as an image can be formed using the light beam that has passed through the quantum dot sheet, but is typically a liquid crystal display panel.

光源が発する光線から特に色純度の高い赤色光、緑色光、及び青色光を取り出しやすいことから、量子ドットシートは、前述の積層体であるのが好ましい。
量子ドットシートが積層体である場合の、発光表示素子パネルが備える構成の好ましい組み合わせとしては、以下a)〜h)の組み合わせが挙げられる。
下記a)〜h)に記載の組み合わせについて、最も左に記載の構成から、記載されている順に積み上げられ、発光表示素子パネルが形成される。
a)面光源/拡散層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
b)光源付導光板/拡散層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
c)面光源/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/空隙/反射層/ディスプレイパネル
d)光源付導光板/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/空隙/反射層/ディスプレイパネル
e)面光源/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
f)光源付導光板/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
g)面光源/反射層/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
h)光源付導光板/反射層/低屈折率層/量子ドット含有フィルム/低屈折率層/反射層/ディスプレイパネル
Since the red light, the green light, and the blue light having particularly high color purity are easily extracted from the light emitted from the light source, the quantum dot sheet is preferably the above-described laminate.
As a preferable combination of the configurations of the light emitting display element panel when the quantum dot sheet is a laminate, the following combinations a) to h) may be mentioned.
The combinations described in the following a) to h) are stacked in the order described from the leftmost configuration, and a light emitting display element panel is formed.
a) Surface light source / diffusion layer / quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflection layer / display panel b) Light guide plate with light source / diffusion layer / quantum dot-containing film / low refractive index layer / reflection layer / display panel c) Surface light source / low refractive index layer / quantum dot-containing film / gap / reflection layer / display panel d) light guide plate with light source / low refractive index layer / quantum dot-containing film / gap / reflection layer / display panel e) surface light source / low Refractive index layer / Quantum dot-containing film / Low refractive index layer / Reflective layer / Display panel f) Light guide plate with light source / Low refractive index layer / Quantum dot-containing film / Low refractive index layer / Reflective layer / Display panel g) Surface light source / Reflective layer / low refractive index layer / quantum dot containing film / low refractive index layer / reflective layer / display panel h) light guide plate with light source / reflective layer / low refractive index layer / quantum dot containing film / Low refractive index layer / reflective layer / display panel

以上説明した発光表示素子パネルを用いることで、色相の再現範囲が広く、良好な色相であり鮮明な画像を表示可能な発光表示装置を製造することができる。   By using the light-emitting display element panel described above, a light-emitting display device that can display a clear image with a wide hue reproduction range and a favorable hue can be manufactured.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

実施例、及び比較例において、以下のケイ素含有樹脂A−1〜A−6を用いた。
A−1:ポリフェニルシロキサン樹脂(質量平均分子量:1000)
A−2:ポリジメチルシロキサン樹脂(質量平均分子量:1000)
A−3:−Si(CH)(Ph)−で表される単位からなるポリシラン(質量平均分子量:1000、Phはフェニル基を表す)
A−4:−Si(CH)(Ph)−で表される単位からなるポリシラン(質量平均分子量:13000、Phはフェニル基を表す)
A−5:A1を50質量%と、A3を50質量%と含む混合樹脂
A−6:A3を50質量%と、A4を50質量%と含む混合樹脂
In the examples and comparative examples, the following silicon-containing resins A-1 to A-6 were used.
A-1: Polyphenylsiloxane resin (mass average molecular weight: 1000)
A-2: Polydimethylsiloxane resin (mass average molecular weight: 1000)
A-3: polysilane composed of units represented by —Si (CH 3 ) (Ph) — (mass average molecular weight: 1000, Ph represents a phenyl group)
A-4: polysilane composed of units represented by —Si (CH 3 ) (Ph) — (mass average molecular weight: 13000, Ph represents a phenyl group)
A-5: Mixed resin containing 50% by mass of A1 and 50% by mass of A3 A-6: Mixed resin containing 50% by mass of A3 and 50% by mass of A4

実施例、及び比較例において、以下の量子ドットB−1〜B−5を用いた。
B−1及びB−2については、表1に記載の種類の溶剤中に濃度1質量%で量子ドットが分散した分散液として用いた。
B−3及びB−4については、表1に記載の種類の溶剤中に濃度3質量%で量子ドットが分散した分散液として用いた。
B−5については、トルエン中に濃度1質量%で量子ドットが分散した分散液として用いた。
B−1:CdSeからなるコアが、ZnSからなるシェル層で被覆された量子ドット(発光極大:520nm)
B−2:CdSeからなるコアが、ZnSからなるシェル層で被覆された量子ドット(発光極大:630nm)
B−3:InPからなるコアが、ZnSからなるシェル層で被覆された粒子に、オレイルアミンが配位した量子ドット(発光極大530nm)
B−4:InPからなるコアが、ZnSからなるシェル層で被覆された粒子に、オレイルアミンが配位した量子ドット(発光極大620nm)
B−5:CdSeからなるコアが、ZnSからなるシェル層で被覆された量子ドット(発光極大:520nm)
In Examples and Comparative Examples, the following quantum dots B-1 to B-5 were used.
About B-1 and B-2, it was used as a dispersion liquid in which quantum dots were dispersed at a concentration of 1% by mass in the types of solvents described in Table 1.
About B-3 and B-4, it used as a dispersion liquid which the quantum dot disperse | distributed with the density | concentration of 3 mass% in the solvent of the kind of Table 1.
B-5 was used as a dispersion in which quantum dots were dispersed in toluene at a concentration of 1% by mass.
B-1: A quantum dot in which a core made of CdSe is covered with a shell layer made of ZnS (emission maximum: 520 nm)
B-2: a quantum dot in which a core made of CdSe is covered with a shell layer made of ZnS (emission maximum: 630 nm)
B-3: Quantum dot in which oleylamine is coordinated to a particle in which a core made of InP is coated with a shell layer made of ZnS (luminescence maximum 530 nm)
B-4: Quantum dot in which oleylamine is coordinated to a particle in which a core made of InP is coated with a shell layer made of ZnS (luminescence maximum 620 nm)
B-5: A quantum dot in which a core made of CdSe is covered with a shell layer made of ZnS (emission maximum: 520 nm)

実施例、及び比較例において、以下の溶剤S−1〜S−6を用いた。
S−1:シクロヘキシルアセテート
S−2:プロピレングリコールモノメチエーテルアセテート
S−3:3−メトキシブチルアセテート
S−4:イソプロパノール
S−5:エチルジグリコールアセテート
In Examples and Comparative Examples, the following solvents S-1 to S-6 were used.
S-1: cyclohexyl acetate S-2: propylene glycol monomethyl ether acetate S-3: 3-methoxybutyl acetate S-4: isopropanol S-5: ethyl diglycol acetate

[実施例1〜12、及び比較例1〜4]
それぞれ表1に記載の種類及び量(質量部)のケイ素含有樹脂と、量子ドットと、溶剤とを均一に混合し、各実施例、及び比較例のケイ素含有樹脂組成物を得た。
得られたケイ素含有樹脂組成物を用いて、以下の方法に従って、クラック耐性と、分散安定との試験を行った。これらの試験結果を表1に記す。
[Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 4]
Each of the types and amounts (parts by mass) of the silicon-containing resin shown in Table 1, the quantum dots, and the solvent were uniformly mixed to obtain silicon-containing resin compositions of Examples and Comparative Examples.
Using the obtained silicon-containing resin composition, tests for crack resistance and dispersion stability were performed according to the following methods. These test results are shown in Table 1.

(クラック耐性評価)
サンプル基板上に、表1の各ケイ素含有樹脂組成物をスピンコーターを用いて塗布して、膜厚5.0μmのシリカフィルム系被膜を形成可能な膜厚の塗布膜を形成した。塗布膜を100℃で2分間プリベークした後、縦型ベーク炉(TS8000MB、東京応化工業株式会社製)を用いて、塗布膜を350℃で30分間焼成して、膜厚5.0μmのシリカフィルムを得た。形成されたシリカフィルムの表面を光学顕微鏡を用いて観察し、クラックの有無を確認した。クラックが確認されなかった場合を良好(○)と判定し、クラックが確認された場合を不良(×)と判定した。評価結果を、表1に記す。
(Crack resistance evaluation)
On the sample substrate, each silicon-containing resin composition shown in Table 1 was applied using a spin coater to form a coating film having a thickness capable of forming a 5.0 μm-thick silica film. After pre-baking the coating film at 100 ° C. for 2 minutes, the coating film is baked at 350 ° C. for 30 minutes using a vertical baking furnace (TS8000MB, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) to form a silica film having a thickness of 5.0 μm. Got. The surface of the formed silica film was observed using an optical microscope to confirm the presence or absence of cracks. The case where a crack was not confirmed was determined as good (◯), and the case where a crack was confirmed was determined as defective (×). The evaluation results are shown in Table 1.

(分散安定性評価)
得られたケイ素含有樹脂組成物中の量子ドットの平均粒子径を、HORIBA社製動的光散乱式粒度分布測定装置LB−500を用いて測定した。測定された平均粒子径を分散粒子径とした。分散粒子径が小さいほど、量子ドットが凝集せず分散性が良好であることを意味する。分散性について、分散粒子径が8nm以下である場合を良好(○)と判定し、15nm超である場合を不良(×)と判定した。評価結果を、表1に記す。
(Dispersion stability evaluation)
The average particle diameter of the quantum dots in the obtained silicon-containing resin composition was measured using a dynamic light scattering particle size distribution analyzer LB-500 manufactured by HORIBA. The measured average particle size was defined as the dispersed particle size. A smaller dispersed particle size means that the quantum dots do not aggregate and the dispersibility is better. Regarding dispersibility, a case where the dispersed particle size was 8 nm or less was determined as good (◯), and a case where the dispersed particle size was greater than 15 nm was determined as poor (×). The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2018109761
Figure 2018109761

表1によれば、ケイ素含有樹脂組成物が、量子ドットともに前述の式(S1)で表される構造の溶剤を含む場合、クラックの発生が抑制され、量子ドットが良好に分散したフィルムを製造できることが分かる。
他方、ケイ素含有樹脂組成物が、量子ドットを含むが式(S1)で表される構造の溶剤を含まない場合、製造されるフィルムにおいてクラックが発生しやすく、また良好に分散せれた量子ドットを含むフィルムを形成しにくいことが分かる。
According to Table 1, when the silicon-containing resin composition contains a solvent having a structure represented by the above formula (S1) together with the quantum dots, production of a film in which the generation of cracks is suppressed and the quantum dots are well dispersed is produced. I understand that I can do it.
On the other hand, when the silicon-containing resin composition contains quantum dots but does not contain a solvent having a structure represented by the formula (S1), cracks are likely to occur in the produced film, and well dispersed quantum dots are obtained. It turns out that it is hard to form the film containing.

Claims (15)

ケイ素含有樹脂(A)と、量子ドット(B)と、溶剤(S)と、を含有し、
前記ケイ素含有樹脂(A)が、シロキサン樹脂、及びポリシランからなる群より選択される1種以上であり、
前記溶剤(S)が下式(S1):
Figure 2018109761
(式(S1)中、Rs1は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは1〜6の整数であり、qは0〜(p+1)の整数である。)
で表されるシクロアルキルアセテートを含有するケイ素含有樹脂組成物。
Containing a silicon-containing resin (A), a quantum dot (B), and a solvent (S);
The silicon-containing resin (A) is at least one selected from the group consisting of siloxane resins and polysilanes,
The solvent (S) is represented by the following formula (S1):
Figure 2018109761
(In formula (S1), R s1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, p is an integer of 1 to 6, and q is an integer of 0 to (p + 1).)
The silicon-containing resin composition containing the cycloalkyl acetate represented by these.
さらに、硬化剤(C)を含有する、請求項1に記載のケイ素含有樹脂組成物。   Furthermore, the silicon-containing resin composition of Claim 1 containing a hardening | curing agent (C). 請求項1又は2に記載のケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜を形成することと、
前記塗布膜から溶剤(S)を除去することと、
を含むケイ素含有樹脂フィルムの製造方法。
Forming a coating film comprising the silicon-containing resin composition according to claim 1 or 2,
Removing the solvent (S) from the coating film;
A method for producing a silicon-containing resin film comprising:
前記ケイ素含有樹脂フィルムの膜厚が2〜300μmである、請求項3に記載のケイ素含有樹脂フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the silicon containing resin film of Claim 3 whose film thickness of the said silicon containing resin film is 2-300 micrometers. ケイ素含有樹脂(A)からなるマトリックス中に、量子ドット(B)が分散されており、膜厚が2〜300μmであるケイ素含有樹脂フィルム。   A silicon-containing resin film in which quantum dots (B) are dispersed in a matrix made of a silicon-containing resin (A), and the film thickness is 2 to 300 μm. 請求項1又は2に記載のケイ素含有樹脂組成物からなる塗布膜を形成することと、
前記塗布膜を焼成することと、
を含む、シリカフィルムの製造方法。
Forming a coating film comprising the silicon-containing resin composition according to claim 1 or 2,
Firing the coating film;
A method for producing a silica film, comprising:
前記シリカフィルムの膜厚が2〜300μmである、請求項6に記載のシリカフィルムの製造方法。   The manufacturing method of the silica film of Claim 6 whose film thickness of the said silica film is 2-300 micrometers. シリカからなるマトリックス中に、量子ドット(B)が分散されているシリカフィルム。   A silica film in which quantum dots (B) are dispersed in a matrix made of silica. 膜厚が2〜300μmである、請求項8に記載のシリカフィルム。   The silica film of Claim 8 whose film thickness is 2-300 micrometers. 請求項5に記載のケイ素含有樹脂フィルム、又は請求項8又は9に記載のシリカフィルムからなる、発光表示素子用の光学フィルム。   An optical film for a light-emitting display element, comprising the silicon-containing resin film according to claim 5 or the silica film according to claim 8 or 9. 請求項5に記載のケイ素含有樹脂フィルム、及び請求項8又は9に記載のシリカフィルムとからなる群より選択される1以上のフィルムを含む積層体。   A laminate comprising one or more films selected from the group consisting of the silicon-containing resin film according to claim 5 and the silica film according to claim 8 or 9. 請求項5に記載のケイ素含有樹脂フィルム、及び請求項8又は9に記載のシリカフィルムとからなる群より選択される2以上のフィルムが、それぞれが接するように積層されている、請求項10に記載の積層体。   The two or more films selected from the group consisting of the silicon-containing resin film according to claim 5 and the silica film according to claim 8 or 9 are laminated so as to be in contact with each other. The laminated body of description. 請求項10に記載の発光表示素子用の光学フィルム、又は請求項11又は12に記載の積層体を含む、発光表示素子パネル。   The light emitting display element panel containing the optical film for light emitting display elements of Claim 10, or the laminated body of Claim 11 or 12. 請求項13に記載の発光表示パネルを備える、発光表示装置。   A light-emitting display device comprising the light-emitting display panel according to claim 13. ケイ素含有樹脂フィルム、及びシリカフィルムから選択される1以上のフィルムを含む積層体の製造方法であって、
前記ケイ素含有樹脂フィルムを、請求項3又は4に記載の製造方法で製造すること、及び
前記シリカフィルムを、請求項6又は7に記載の製造方法で製造すること、
の少なくとも一方を含む積層体の製造方法。
A method for producing a laminate comprising one or more films selected from a silicon-containing resin film and a silica film,
Producing the silicon-containing resin film by the production method according to claim 3 or 4, and producing the silica film by the production method according to claim 6 or 7,
The manufacturing method of the laminated body containing at least one of these.
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