JP2018098134A - 光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルおよび有機エレクトロルミネッセンス光源装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光透過性に優れた光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルおよび当該パネルを積層してなる有機エレクトロルミネッセンス光源装置を提供する。
【解決手段】光透過性の基板、陽極、発光層、陰極および封止材を備える光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、発光スペクトルが、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に少なくとも１つのピークを有し、前記ピークの半値幅の波長範囲における、非発光時の平均光透過率が６０％以上であり、前記ピークが複数あるとき、その中から選択されるいずれか２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差が２５％以内であることを特徴とする光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルと、当該光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルを２枚以上積層してなる有機エレクトロルミネッセンス光源装置である。
【選択図】図４

Description

本発明は、光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルと、当該パネルを積層してなる有機エレクトロルミネッセンス光源装置に関する。

有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、「有機ＥＬパネル」と記載する。）は、薄膜であって、自発光であり、フレキシブル化することができることから、照明パネルやディスプレイ表示用バックライト等の多様な用途に展開され、種々の製品開発が進められている。有機ＥＬパネルは、通常、基板上に陽極、発光層、陰極および封止材を順次積層した積層体から構成されている。

近年、基板、陽極、発光層、陰極および封止材を光透過性とすることによって、光透過型とした有機ＥＬパネルの開発が進められている。光透過型有機ＥＬパネルを複数枚積層した有機ＥＬ光源装置は、発光量が増大するばかりでなく、奥行きのある立体的な発光表現が実現でき、従来にないユニークな発光デザインが可能となることが分かってきた。そのため、光透過型有機ＥＬパネルにおいて、パネル自体が光透過性に優れていることは最も重要な特性であり、可視光の透過率を極力高くすることが求められている。

しかし、透明電極等が光透過性にやや劣るため、光透過型有機ＥＬパネルの光透過性としてはまだ不十分であった。特に、上記のように光透過型有機ＥＬパネルを積層して使用するときには、光透過性の低下が顕著になるため、積層する枚数には限界が生じていた。

特許文献１には、有機ＥＬ素子が光透過性の基板上に形成された有機ＥＬ光源を複数積層してなる有機ＥＬ光源装置が開示されている。

特開２００６−１５５９４０号公報

特許文献１に開示された有機ＥＬ光源装置では、例えば、青色、緑色、赤色の有機ＥＬ光源を積層している。そのため、各光源層による種々の波長の光の吸収が生じることとなり、放出される光量の低下が大きいものと推定された。

本発明は、かかる状況に鑑みてなされたものである。本発明の課題は、光透過性に優れた光透過型有機ＥＬパネルおよび当該パネルを積層してなる有機ＥＬ光源装置を提供することである。

本発明者らは、上記課題解決のため、波長４００〜８００ｎｍの全可視光領域における透過率を向上させるのではなく、有機ＥＬパネルが発光する光のスペクトルに応じて、当該スペクトルの特定の波長の光のみを効率よく透過できるようにすることを検討した。その結果、有機ＥＬパネルの構成を調整することによって、実質的に有機ＥＬパネルの光透過性を向上させることに成功した。本発明は、このような検討の結果創出されたものである。本発明は以下のような構成を有するものである。

（１）光透過性の基板、陽極、発光層、陰極および封止材を備える光透過型有機ＥＬパネルであって、発光スペクトルが、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に少なくとも１つのピークを有し、前記ピークの半値幅の波長範囲における、非発光時の平均光透過率が６０％以上であり、前記ピークが複数あるとき、その中から選択されるいずれか２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差が２５％以内であることを特徴とする光透過型有機ＥＬパネル。

（２）光路長調整のための光学調整層を有することを特徴とする前記（１）に記載の光透過型有機ＥＬパネル。

（３）前記光学調整層がフッ素を含む低屈折率材料から形成されていることを特徴とする前記（２）に記載の光透過型有機ＥＬパネル。

（４）発光面の表面に反射防止層を有することを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光透過型有機ＥＬパネル。

（５）前記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光透過型有機ＥＬパネルを２枚以上積層してなる有機ＥＬ光源装置。

（６）発光面の反対側の面に鏡面反射型有機ＥＬパネルが積層されていることを特徴とする前記（５）に記載の有機ＥＬ光源装置。

本発明の光透過型有機ＥＬパネルは、光透過性に優れている。そして、当該パネルを積層してなる有機ＥＬ光源装置は、光量の大きな光源装置として利用することができる。

（ａ）本実施形態の有機ＥＬパネルの模式的断面図である。（ｂ）本実施形態の有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。 （ａ）本実施形態の有機ＥＬパネルの模式的断面図である。（ｂ）本実施形態の有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。（ｃ）本実施形態の有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。（ｄ）本実施形態の有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。 （ａ）本実施形態の有機ＥＬパネルを２枚積層した有機ＥＬ光源装置の模式的断面図である。（ｂ）本実施形態の有機ＥＬパネルを３枚積層した有機ＥＬ光源装置の模式的断面図である。（ｃ）本実施形態の有機ＥＬパネルを４枚積層した有機ＥＬ光源装置の模式的断面図である。 発光スペクトルが離れた２つのピークを有する有機ＥＬパネルの発光スペクトルと透過スペクトルのチャートである。 発光スペクトルが近接する２つのピークを有する有機ＥＬパネルの発光スペクトルのチャートである。 （ａ）発光スペクトルが離れた２つのピークを有する構成違いの有機ＥＬパネルの発光の色座標である。（ｂ−１）〜（ｂ−７）発光スペクトルが離れた２つのピークを有する構成違いの有機ＥＬパネルの発光スペクトルである。 （ａ）発光スペクトルが近接する２つのピークを有する構成違いの有機ＥＬパネルの発光の色座標である。（ｂ−１）〜（ｂ−７）発光スペクトルが近接する２つのピークを有する構成違いの有機ＥＬパネルの発光スペクトルである。

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明は、以下に説明する実施形態に何ら制限されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で実施形態を任意に変更して実施することができる。

＜光透過型有機ＥＬパネル＞
光透過型有機ＥＬパネルは、基板、陽極、発光層、陰極、封止材等の各構成要素を光透過性とすることによって、光透過性を有した有機ＥＬパネルとして使用できるものである。また、発光層で生じた光は、表面側と裏面側のいずれの面からも取り出すことが可能である。

同一の発光スペクトルを有する有機ＥＬパネルを複数枚積層した有機ＥＬ光源装置は、発光光量を増大できるため、光透過型有機ＥＬパネルの用途として有用である。さらに、同一の発光スペクトルを有する有機ＥＬパネルを複数枚積層した有機ＥＬ光源装置では、各パネルから放出される光のスペクトルが他のパネルを通過することによって、微妙に変化し、そのことによって奥行きのある立体的な発光表現が実現できることが見出された。こうした現象を利用することによって、従来にないユニークな発光デザインが可能となり、有機ＥＬパネルの新たな利用法につながるものと期待されている。ここで、発光スペクトルとは、有機ＥＬパネルから放出される光のスペクトルである。

しかしながら、有機ＥＬパネルから放出される発光スペクトルは、有機ＥＬパネルが吸収するスペクトルとは一般に異なるため、有機ＥＬパネルを複数枚積層したときに、１つの有機ＥＬパネルから放出された光が他のパネルによって吸収されてしまう。そのため、有機ＥＬパネルを複数枚積層した有機ＥＬ光源装置の発光量が予期したほどには大きくならない。単に光透過率について検討しても、例えば、１枚の有機ＥＬパネルの平均光透過率が８０％であっても、有機ＥＬパネルを３枚積層すると、平均光透過率は約５１％にまで低下してしまう。

有機ＥＬパネルの光透過性を高めるには、有機ＥＬパネルを波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に吸収ピークを有しないものとすることが最も好ましい。しかし、種々の材料から構成される有機ＥＬパネル全体を全可視光領域にわたって透明にすることには多くの困難が存在する。そこで、本発明者らは、同一の特定の発光スペクトルを有する有機ＥＬパネルを複数枚積層して有機ＥＬ光源装置を構成するという前提のもとに、当該発光スペクトルに対する透明性を高めることを検討した。ここで、透明性とは、有機ＥＬパネルの非発光時の透明性である。

基本的な方法として、有機ＥＬパネルを構成する各構成要素の材料や製造方法を選択して、各構成要素の可視光に対する透明性を高めることが必要である。さらに、発光スペクトルに対する透明性を高めるため、当該発光スペクトルの中のピークの波長における透明性を高めることを検討した。

発光スペクトル中の特定波長のピークに対する光透過率を高めるために、有機ＥＬパネルを構成する各層の材料、厚さを最適化することが必要である。ところで、有機ＥＬパネルを発光させたとき、有機ＥＬパネルと外界との界面で光が反射されて、内部に戻され、その後放出されるように、パネル内部を光が往復した後に外部に放出されるという現象が存在する。この現象に対処するために、有機ＥＬパネルの厚さ方向での光路長に着目した。パネル内を一回だけ通過して放出される光とパネル内を複数回通過した後に放出される光との間で、光の位相が反転していると、干渉によって放出される光の量が大きく減衰してしまう。このような干渉による減衰を防止するため、有機ＥＬパネルの厚さをピークの特定波長に対応して、適宜調整することとした。

有機ＥＬパネルの厚さをピークの特定波長に対応して調整するには、各層の厚さをそれぞれ適宜調整すればよい。例えば、封止層の厚さを変えることによって調整することができる。しかし、さらに、有機ＥＬパネル内の厚さを調整するために、有機ＥＬパネルを構成する層の１つとして光学調整層を設けることが好ましい。光学調整層は、有機ＥＬパネルの厚さを、光の干渉が極力小さくなるような長さとするために使用される。発光スペクトルが複数のピークを有するときは、光の干渉が最小となるように、有機ＥＬパネルの厚さが調整される。光学調整層についての説明は後記する。

有機ＥＬパネルの発光スペクトルは、通常、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に少なくとも１つのピークを有している。ピークの数が１つのときは、当該ピークの波長における透過率を高めることが必要となる。このとき、パネルを積層したときに、発光スペクトルの色相が変わらないようにするためには、当該ピークの半値幅の波長範囲において、非発光時の有機ＥＬパネルの平均光透過率（以下、「平均光透過率」とのみ記載することもある。）が６０％以上であることが必要である。ピークの半値幅の波長範囲において、平均光透過率が６０％以上であれば、色相を決めるピーク付近の波長の光を十分に透過できるため、色相の変化を小さいものとすることができる。ピークの半値幅の波長範囲における、非発光時の平均光透過率は７０％以上であることがより好ましい。

ここで、平均光透過率は、ＪＩＳ Ｋ−７３６１−１：１９９７に準拠して、特定の波長範囲における平均の光透過率として測定することができる。

一方、発光スペクトルが、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に２つのピークを持っているときは、個々のピークに対して、上記と同様に、ピークの半値幅の波長範囲において、非発光時の有機ＥＬパネルの平均光透過率が６０％以上であることが必要であり、７０％以上であることがより好ましい。

さらに、２つのピークの位置における透過率の数値が、大きく異なっていると、透過後の光のスペクトルが変化し、２つのピークの相対的な大きさが変動して、色相が変化してしまうことになる。そこで、発光スペクトルが、２つのピークを持っているときは、２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差が２５％以内であることが必要である。２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差は１０％以内であることがより好ましい。

発光スペクトルが、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に３つ以上のピークを持っているときも、同様に考えることができる。すなわち、個々のピークについて、ピークの半値幅の波長範囲において、非発光時の有機ＥＬパネルの平均光透過率が６０％以上であることが必要であり、７０％以上がより好ましい。また、複数のピークの中から選択されるいずれか２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差が２５％以内であることが必要であり、１０％以内であることがより好ましい。

このような光透過性能を有した有機ＥＬパネルであれば、有機ＥＬパネルを２枚以上積層してなる有機ＥＬ光源装置を構成しても、発光の色相が大きく変動することはなく、有機ＥＬ光源装置として、光量を増大させて、有効に使用することができる。

上記のような特定の波長範囲における平均光透過率を制御する方法としては、前記したように、有機ＥＬパネルの厚さを適正に調整する方法がある。光学調整層は、有機ＥＬパネルの厚さを所定の厚さに調整するために利用される。有機ＥＬパネルの厚さを適正に調整する方法とは、各層における屈折率（ｎ値）と消衰係数（ｋ値）を基に、光路長を波動光学の理論に基づいて、最適化計算を行って層の厚さを求める方法である。有機ＥＬパネルの厚さの計算は、発光強度、発光色、各層について成膜可能な膜厚範囲を設定し、任意の平均透過率が最大となるよう、波動光学に基づき、遺伝的アルゴリズムを用いて、最適化計算を行うことによって行われる。具体的な計算方法については、例えば、特開２０１４−８６３４５号公報、国際公開第ＷＯ２０１３／１８７１１８号に記載されている。有機ＥＬパネルを構成する各層の材料については、後記する。

なお、本実施形態では、発光スペクトル中の特定波長のピークに対応して、有機ＥＬパネルの厚さや材料を調整する作業が必要となるため、発光スペクトル中のピークの数は少ない方が好ましく、１つもしくは２つであることが好ましい。

図４は、発光スペクトルが２つのピークを有する有機ＥＬパネルの発光スペクトルと透過スペクトルのチャートである。発光スペクトルの２つのピーク（ピーク１、ピーク２）のそれぞれについて半値幅を求めて、２つの波長範囲として図に示した。ピーク１の半値幅の波長範囲において、有機ＥＬパネルの平均光透過率が６０％以上であることが必要である。また、ピーク２の半値幅の波長範囲において、有機ＥＬパネルの平均光透過率が６０％以上であることが必要である。そのため、有機ＥＬパネルは、ピーク１およびピーク２の半値幅の波長範囲において光透過率が特に高くなるような透過スペクトルを有していることが好ましい。また、２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差が２５％以内であることが必要である。

図５は、図４と同様に、発光スペクトルが２つのピークを有する有機ＥＬパネルの発光スペクトルのチャートである。図５の発光スペクトルでは、２つのピークが比較的近接しているため、２つのピークの半値幅の波長範囲を求めたところ、両者は互いに重複し、２つのピークの半値幅は合体して、１つの波長範囲だけとなる。この場合も、２つのピークの半値幅の波長範囲において、有機ＥＬパネルの平均光透過率が６０％以上であることが必要である。また、この場合も、２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差が２５％以内であることが必要である。

＜有機ＥＬパネルの構成＞
本実施形態の有機ＥＬパネルは、基板と当該基板上に形成された陽極、発光層、陰極および封止材を備えている。陽極、発光層、陰極の基本的な３つの構成単位によって、有機ＥＬ素子が構成され、発光することができる。図１は、有機ＥＬパネルを構成する基本的な構成単位である基板、陽極、発光層、陰極および封止材について、相互の位置関係について説明するための断面図である。

図１（ａ）は、有機ＥＬパネル１０の模式的断面図である。有機ＥＬパネル１０は、基板であるガラス板１２上に、順番に、光学調整層１６、第１電極（陽極）１３、発光層１４、第２電極（陰極）１５、光学調整層１６、窒素層（空隙）１８、ガラス板１２が形成されている。

図１（ｂ）は、有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。有機ＥＬパネル１１は、基板であるバリア性基板１９上に、順番に、光学調整層１６、第１電極（陽極）１３、発光層１４、第２電極（陰極）１５、光学調整層１６、バリア層１７、接着層２０、バリア性基板１９が形成されている。

基板上に形成された有機ＥＬ素子は、外部環境の影響を受け易いため、外界から遮断するために、封止される。具体的には、基板にはバリア性に優れた材料を使用し、基板上に形成された有機ＥＬ素子の上面と周辺部は、封止材によって密閉される。また、基板上には、有機ＥＬ素子の陽極と陰極に電気信号を送るために、封止材から外部へ引き出された取り出し電極が設けられている。

図２は、有機ＥＬ素子の周辺部の封止材等を含めた有機ＥＬパネルの構成を説明するための断面図である。図２（ａ）は、有機ＥＬパネル３０の模式的断面図である。有機ＥＬパネル３０は、バリア層３５を有するフレキシブル基板３４上に、順番に、第１電極（陽極）３６、発光層３７、第２電極（陰極）３８、封止層３９、透明吸湿剤層４０、封止層４１、バリア層３５を有する封止基板４２が形成されている。封止層３９は、第１電極３６、発光層３７、第２電極３８からなる有機ＥＬ素子の周辺部を封止している。封止層４１は、封止層３９の周辺部をさらに封止している。

図２（ｂ）は、有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。有機ＥＬパネル３１は、バリア層３５を有するフレキシブル基板３４上に、順番に、第１電極（陽極）３６、発光層３７、第２電極（陰極）３８、光学調整層４３、封止層３９、透明吸湿剤層４０、封止層４１、バリア層３５を有する封止基板４２が形成されている。封止層３９は、有機ＥＬ素子の周辺部を封止し、封止層４１は、封止層３９の周辺部をさらに封止している。

図２（ｃ）は、有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。有機ＥＬパネル３２は、バリア層３５を有する基板４５上に、図２（ｂ）の有機ＥＬパネル３１の構成をそのまま設置し、さらに、封止層４４、バリア層３５を有する基板４５が形成されている。封止層３９は、有機ＥＬ素子の周辺部を封止し、封止層４１は、封止層３９の周辺部をさらに封止し、封止層４４は、封止層４１の周辺部をまたさらに封止している。

図２（ｄ）は、有機ＥＬパネルの変形例の模式的断面図である。有機ＥＬパネル３３は、図２（ｃ）の有機ＥＬパネル３２の構成のうち、透明吸湿剤層４０の位置が異なるが、他の構成は有機ＥＬパネル３２の構成と同等である。

図３は、本実施形態の有機ＥＬ光源装置の構成を説明するための断面図である。有機ＥＬ光源装置は、前記の有機ＥＬパネルを２枚以上積層してなる。図３においては、図１で示した有機ＥＬパネルの詳細な構成を簡略化して示してある。すなわち、光学調整層、バリア層、接着層、窒素（空隙）等の各層は図示せずに、第１電極５４、発光層５５、第２電極５６の３つが積層された構成のみで、有機ＥＬパネルの種々の変形例を含めた構成として示した。

図３（ａ）は、有機ＥＬパネルを２枚積層した有機ＥＬ光源装置５１の模式的断面図である。基板５７の上に、１枚目の有機ＥＬパネル、有機ＥＬパネル間を接合する接着層５８、２枚目の有機ＥＬパネル、基板５７が積層されている。

図３（ｂ）は、有機ＥＬパネルを３枚積層した有機ＥＬ光源装置５２の模式的断面図である。基板５７の上に、１枚目の有機ＥＬパネル、接着層５８、２枚目の有機ＥＬパネル、接着層５８、３枚目の有機ＥＬパネル、基板５７が積層されている。

図３（ｃ）は、有機ＥＬパネルを４枚積層した有機ＥＬ光源装置５３の模式的断面図である。基板５７の上に、１枚目の有機ＥＬパネル、接着層５８、２枚目の有機ＥＬパネル、接着層５８、３枚目の有機ＥＬパネル、接着層５８、４枚目の有機ＥＬパネル、基板５７が積層されている。

以下、上記の有機ＥＬパネルおよび有機ＥＬ光源装置を構成する各構成単位について説明する。

（基板）
基板は、図１においては１２、１９、図２においては３４、４５、図３においては５７の記号で示されている。基板としては、透明な材料からなるものであれば特に限定はなく、無機系のガラス板や有機系の樹脂製フィルム等が使用できる。ガラス板としては、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。好ましい基板は、有機ＥＬパネルに可撓性を与えることが可能な樹脂製フィルムである。樹脂製フィルムの樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等が挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が好ましい。

基板は、その少なくとも一方の表面に、バリア層が形成されたものが好ましい。バリア層は、図１においては１７、図２においては３５の記号で示されている。バリア層のバリア性能については、具体的には、ＪＩＳ Ｋ ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、０．０１ｇ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であるバリア層が好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０^−３ｍｌ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０^−５ｇ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であるバリア層が好ましい。

バリア層を形成する材料は、有機ＥＬ素子を劣化させる水分や酸素等の侵入を抑制する機能を有する材料であればよく、無機物、有機物またはこれらがハイブリッドしたものがある。バリア層を形成する材料としては、例えば、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、などの無機材料が使用される。さらに、バリア層の脆弱性を改良するために、バリア層には、積層構造を持たせることが好ましい。積層構造は、例えば、無機層と有機層を交互に複数回積層することにより形成することができる。バリア層を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等が挙げられる。

バリア層を有するフレキシブル基板としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にＳｉＯ_２等のバリア層を形成したハイバリア基材等がある。

基板の表面には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、易接着性を付与する等の表面処理がなされていてもよい。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を塗布して易接着剤層を形成してもよい。

基板の厚さは、特に限定されないが、１０〜２００μｍが好ましい。基板の厚さがこの範囲であると、機械的強度に優れ、可撓性のある基板とすることができる。基板の厚さのより好ましい上限は１５０μｍであり、より好ましい下限は２０μｍである。

（封止材）
封止材は、バリア性を有し、基板上の有機ＥＬ素子を外界から隔離し、封止するためのものである。封止材には、平板状の封止部材として使用されるものや、接着性と硬化性を有する軟質の封止剤として使用されるものがある。平板状の封止部材は、基板と同様の材料から構成されるため、封止部材と基板とが区別されずに、いずれの目的にも使用することができる。また、接着性と硬化性を有する軟質の封止剤は、接着剤と同様の材料から構成されるため、封止剤と接着剤とが区別されずに、いずれの目的にも使用することができる。

図１においては、最上部のガラス板１２やバリア性基板１９は、基板としても封止材としても使用されている。図２においては、最上部の封止基板４２と基板４５は、基板としても封止部材としても使用され、封止層３９、封止層４１、封止層４４は、接着性と硬化性を有する軟質の封止剤として使用されている。図３においては、最上部の基板５７は、基板としても封止材としても使用されている。

封止材を構成する封止部材は、透明な材料からなるものであれば特に限定はなく、無機系のガラス板や有機系の樹脂製フィルム等が使用できる。ガラス板や樹脂製フィルムについての説明は基板のときと同様であるので、その説明を省略する。

バリア性を有する樹脂製フィルムは、樹脂製フィルム上にバリア層が形成されている。バリア層を構成する材料は、金属であってもよいし、無機物、有機物又はこれらのハイブリッドであってもよい。バリア層は、単独の材料から構成されていてもよいし、複数の材料からなる混合物や積層体であってもよい。バリア層のバリア性能は、基板に形成されるバリア層と同等の性能が要求される。バリア性能の具体的な内容は、基板に形成されるバリア層のときと同様であるので、その説明を省略する。

バリア層が金属のときは、蒸着法、スパッタリング法等の方法によって樹脂製フィルム上に比較的簡便に金属層を形成することができる。しかし、金属層を厚く形成すると、透明性が大きく低下する。そのため、バリア性と透明性を両方を満足する適切な厚さに制御することが必要となる。金属層の形成に使用される金属として、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル等の金属やステンレス、アルミニウム合金等の合金がある。

一方、バリア層が無機物、有機物又はこれらのハイブリッドであるときは、有機ＥＬ素子を劣化させる水分や酸素等の浸入を抑制する機能を有する材料であればよい。バリア層の無機物の具体例やバリア層を形成する方法については、基板に形成されるバリア層のときと同様であるので、その説明を省略する。

接着性と硬化性を有する軟質の封止材は、封止材としても接着剤としても使用することができる。軟質の封止材に用いられる材料としては、例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーのような反応性ビニル基を有するアクリル系樹脂等の光硬化型または熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型接着剤、エポキシ系樹脂等の熱硬化型または化学硬化型（二液混合）接着剤、ホットメルト型のポリアミド系、ポリエステル系、ポリオレフィン系等の接着剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤等が挙げられる。封止材または接着剤に用いる材料は、透明性に大きな支障がなければ、フィラーが添加されたものであってもよい。フィラーとしては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、シリカや、二酸化チタン、酸化アンチモン、チタニア、アルミナ、ジルコニアや、酸化タングステン等の金属酸化物が挙げられる。封止材または接着剤に用いる材料は、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷法、スプレーコート等のコーティング法や、印刷法によって塗布することができる。

（接着層）
各種層間を接着する層として、接着層がある。接着層は、図１においては２０の記号で示されている。接着層を構成する材料としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用することができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコーン樹脂系、ユリア樹脂系、メラミン樹脂系、フェノール樹脂系、レゾルシノール樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリウレタン樹脂系等の熱硬化性樹脂が挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、アクリル樹脂アクリレート等の各種アクリレート、又はウレタンポリエステル等の樹脂を用いたラジカル系光硬化性樹脂、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン系光硬化性樹脂、等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、アイオノマー等の使用が可能である。

（発光層）
発光層は、陽極から直接、又は陽極から正孔輸送層等を介して注入される正孔と、陰極から直接、又は陰極から電子輸送層等を介して注入される電子とが、再結合することによって発光する層である。発光層は、図１においては１４、図２においては３７、図３において５５の記号で示されている。なお、発光する部分は、発光層の内部であってもよいし、発光層とそれに隣接する層との間の界面であってもよい。

発光層は、ホスト化合物（ホスト材料）と、発光材料（発光ドーパント化合物）とを含む有機発光性材料で形成することが好ましい。発光層をこのように構成すると、含有させる発光材料の種類等を適宜調整することによって任意の発光色を得ることができる。発光層に含まれる発光材料としては、例えば、燐光発光材料（燐光性化合物、燐光発光性化合物）、蛍光発光材料等を用いることができる。なお、発光層には、一種類の発光材料を含有させてもよいし、発光極大波長が互いに異なる複数種の発光材料を含有させてもよい。具体的な発光材料については、公知の材料から適宜選択して使用することができる。発光層を形成する方法については、蒸着法が一般的に使用される。

発光層に加えて、必要に応じて、電子輸送層、正孔輸送層、正孔阻止層、電子阻止層、電子注入層（陰極バッファー層）、正孔注入層（陽極バッファー層）等の層を適宜形成することができる。このような各層の具体的な内容については、公知の知見から適宜選択して適用することができる。これらの各層を形成する方法としては、蒸着法が一般的に使用される。

（陽極）
陽極は、発光層に正孔を供給（注入）する電極である。陽極は、図１においては１３、図２においては３６、図３において５４の記号で示されている。陽極を構成する材料は特に制限されないが、通常は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）材料が好ましい。陽極に使用される材料としては、例えば、金属、それらの合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物等の電極材料で形成することが可能である。光透過性に優れた陽極材料としては、銀、アルミニウム等の金属やその合金、酸化インジウム・錫（ＩＴＯ）、インジウム・亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、ＺｎＯ_２、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＴｉＯｘ、ＶＯｘ、ＣｕＩ、ＩｎＮ、ＧａＮ、ＣｕＡｌＯ_２、ＣｕＧａＯ_２、ＳｒＣｕ_２Ｏ_２、ＬａＢ_６、ＲｕＯ_２等の金属化合物が挙げられる。これらの中では、導電性と透明性の点で金属の銀が好ましい。但し、銀の厚さが大きくなると透明性が低下するため、例えば１〜２０ｎｍの範囲で適宜調整することが必要である。

陽極を形成する方法としては、ドライ成膜法とウエット成膜法とがある。ドライ（真空）成膜法には、蒸着法、スパッタリング法などがある。ドライ成膜法でパターンを形成する方法としては、メタルマスクによるパターン成膜やフォトレジスト、印刷などによるウエットエッチングやリフトオフなどの方法を用いることができる。一方、ウエット成膜法としては、塗布法、インクジェット法などがある。これらの方法では、直接パターンを形成することが可能である。

（陰極）
陰極は、発光層に電子を供給（注入）する電極である。陰極は、図１においては１５、図２においては３８、図３において５６の記号で示されている。陰極を構成する材料は特に制限されないが、通常は、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）材料が好ましい。陰極に使用される材料としては、例えば、金属（電子注入性金属）、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物等の電極材料で形成することが可能である。陰極を形成する方法については、蒸着法が一般的に使用される。光透過性に優れた陰極材料としては、光透過性に優れた陽極材料として挙げられたものと同じのものが挙げられる。特に、光透過性に優れた陰極材料としては、銀、アルミニウム等の金属、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物、銀マグネシウム、銀銅、銀パラジウム、銀インジウム、酸化インジウム亜鉛等の合金がある。これらの中では、導電性と透明性の点で金属の銀または銀の合金が好ましい。但し、銀の厚さが大きくなると透明性が低下するため、例えば１〜２０ｎｍの範囲で適宜調整することが必要である。また、導電性と透明性をさらに向上させるために、銀にマグネシウム等の金属をドープしてもよい。

（光学調整層）
光学調整層は、光路長調整のために用いられる層であり、図１においては１６、図２においては４３の記号で示されている。光学調整層は、発光スペクトルのピークの特定波長に応じて、光の干渉を極力低減できる厚さに調整される。光学調整層は、有機ＥＬパネル内に１層設けてもよいし、場所を変えて複数層設けてもよい。光学調整層は、複数層設けた方が光路長の調整がやり易くなるため好ましい。光学調整層は、発光に直接影響しない位置に設置することが好ましい。光学調整層を構成する材料は、透明性に優れ、光の位相や色相を変動させない材料が好ましく、例えば、フッ化マグネシウム、Ｎｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等が挙げられる。

（反射防止層）
反射防止層は、有機ＥＬパネルの発光面の表面に設けられる。反射防止層は、反射を抑制し、透過率を高めるために設置される。また、有機ＥＬパネルから外部へ放射される光が界面で内側へ反射されないような作用をするときもある。反射防止層は、後記する有機ＥＬ光源装置に使用するときは、最外層の発光面の表面に設置される。反射防止層を構成する材料は特に限定されないが、例えば、ナノサイズの凹凸による屈折率の連続的な変化を利用したモスアイシートや、干渉を利用したＡＲシート等を挙げることができる。

（透明吸湿剤層）
透明吸湿剤層は、封止材によって密閉された有機ＥＬパネル内にあって、有機ＥＬパネルを構成する各層から排出される水分を吸収して、有機ＥＬパネル内の水分を除去するために設置される層である。透明吸湿層は、図２において４０の記号で示されている。

透明吸湿剤層は、吸湿性を有し、透明性に優れていることが求められる。透明吸湿剤層に使用できる吸湿剤としては、例えば、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、ヨウ化バリウム、ヨウ化マグネシウム等）、過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられる。これらの中では、硫酸塩、金属ハロゲン化物、過塩素酸類の無水塩が好ましい。

＜有機ＥＬ光源装置＞
有機ＥＬ光源装置は、有機ＥＬパネルを２枚以上積層して構成される。積層する枚数は特に限定されないが、２〜１０枚が好ましい。同一の発光スペクトルを有した、すなわち同一の色相の有機ＥＬパネルを積層して用いると、光量が増幅されて大光量の光源装置として利用することができる。また、複数枚の有機ＥＬパネルのうち、いずれかのパネルが故障して発光されないことがあっても、他のパネルによって発光が維持されるため、故障しにくい予備光源という使い方をすることができる。また、複数のパネルからの発光スペクトルが微妙にずれることによって、奥行きのある立体的な発光表現を実現することができる。さらに、各有機ＥＬパネルからの発光スペクトルを相互に種々変更することによって、多様な無数の照明デザインの表現が可能になる。

図３では、有機ＥＬパネルを積層する際に、有機ＥＬパネル同士を接合する層として、接着層５８を用いているが、有機ＥＬパネル同士を積層する方法については、接着層５８を使用する方法に限定されるわけではない。有機ＥＬパネルの相互の位置関係が維持できるように固定することができれば、他の固定方法も適宜使用することができる。他の固定方法としては、例えば、接着層の代わりに接着性を有する封止材を用いる方法、有機ＥＬパネル同士を単に重ねた上で有機ＥＬパネルの周辺部を相互に固定する方法等がある。

（鏡面反射型有機ＥＬパネル）
有機ＥＬ光源装置は、透明であるため、基本的に表面、裏面のいずれの面からも発光させることができる。しかし、表面からのみ発光させるときは、裏面から放出されていた光を表面側から放出されるように、発光面の反対側の面に鏡面反射型有機ＥＬパネルを設置することができる。鏡面反射型有機ＥＬパネルとは、一方の面からのみ発光するように、他方の面から光が漏れないように、内側に全反射するような鏡面を表面に設けたパネルである。鏡面反射型有機ＥＬパネルを有機ＥＬ光源装置の発光面の反対側の面に設置することにより、より大きな光量の有機ＥＬ光源装置とすることができる。

（有機ＥＬパネル、有機ＥＬ光源装置の製造方法）
有機ＥＬパネルおよび有機ＥＬ光源装置の製造方法、製造条件については、特に説明しない限り、一般的な有機ＥＬパネルに適用される公知の製造方法、製造条件を用いればよい。

以下に本発明の効果を確認した実施例について説明する。本発明はこの実施例に限定されるものではない。

［実験例１］
＜有機ＥＬパネルの作製＞
以下に示す方法で、有機ＥＬパネルＮｏ．１〜２４を作製した。

（層構成）
有機ＥＬパネルの層構成として、図１（ａ）と図１（ｂ）で示した層構成で作製した。
有機ＥＬパネルＮｏ．１〜１２は、図１（ａ）の層構成であり、有機ＥＬパネルＮｏ．１３〜２４は、図１（ｂ）の層構成である。

（基板の準備）
基板として、厚さ７００μｍのソーダ石灰ガラス板（イーグル社製、品番ＸＧ）と、以下に記載するバリア層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムとを使用した。

〈バリア層付きＰＥＴフィルムの作製〉
厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、極高透明品ＰＥＴ Ｔｙｐｅ Ｋ）を準備した。当該ＰＥＴフィルム上に、下記ポリシラザン含有液を、ワイヤレスバーにて、乾燥後の平均の厚さが３００ｎｍとなるように塗布し、温度８５℃、湿度５５％ＲＨの雰囲気下で１分間加熱処理して乾燥させた。次いで、温度２５℃、湿度１０％ＲＨ（露点温度−８℃）の雰囲気下に１０分間保持し、除湿処理を行って、ＰＥＴフィルム上にポリシラザン含有層を形成した。

次に、ポリシラザン含有層を形成したＰＥＴフィルムを、エキシマ照射装置ＭＥＣＬ−Ｍ−１−２００（株式会社エム・ディ・コム製）の稼動ステージ上に固定し、下記の改質処理条件で改質処理を行い、３００ｎｍからなるポリシラザン改質層を形成し、バリア層付きＰＥＴフィルムを得た。

〈ポリシラザン含有液〉
ポリシラザン含有液としては、パーヒドロポリシラザン（アクアミカ ＮＮ１２０−１０、無触媒タイプ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製）の１０質量％ジブチルエーテル溶液を調製した。

〈改質処理条件〉
照射波長：１７２ｎｍ
ランプ封入ガス：Ｘｅ
エキシマランプ光強度：１３０ｍＷ／ｃｍ^２（１７２ｎｍ）
試料と光源の距離：１ｍｍ
ステージ加熱温度：７０℃
照射装置内の酸素濃度：０．５％
エキシマランプ照射時間：５秒

（光学調整層の形成）
後記する３種類の入射光の発光スペクトルのピークに対応して、ピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率を増大させるため、前記基板上にフッ化マグネシウムからなる光学調整層を形成した。フッ化マグネシウムからなる光学調整層は、真空蒸着法によって形成した。光学調整層の厚さの調整は、一般的な蒸着で用いられている水晶振動子の変動を実膜厚に換算するためのツーリングファクタによって行った。

（陽極の形成）
光学調整層を形成した基板の上に、スパッタ法により膜厚１５０ｎｍのＩＺＯ膜からなる陽極を形成した。

（発光層の形成）
真空蒸着装置の真空層内において、発光層を含む有機機能層（正孔輸送・注入層、発光層、正孔阻止層、電子輸送・注入層）を、以下のようにして陽極の上に順次形成した。

〈正孔輸送・注入層〉
正孔輸送注入材料として下記構造式に示すα−ＮＰＤが入った加熱ボートに通電して加熱し、α−ＮＰＤよりなる正孔注入層と正孔輸送層とを兼ねた正孔輸送・注入層を、陽極上に形成した。この際、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒、膜厚２０ｎｍとした。

〈発光層〉
次に、下記構造式に示すホスト材料Ｈ４の入った加熱ボートと、下記構造式に示す燐光発光性化合物Ｉｒ−４の入った加熱ボートとを、それぞれ独立に通電し、ホスト材料Ｈ４と燐光発光性化合物Ｉｒ−４とよりなる発光層を、正孔輸送・注入層上に形成した。この際、蒸着速度がホスト材料Ｈ４：燐光発光性化合物Ｉｒ−４＝１００：６となるように、加熱ボートの通電を調節した。また厚さ３０ｎｍとした。

〈正孔阻止層〉
次いで、正孔阻止材料として下記構造式に示すＢＡｌｑが入った加熱ボートに通電して加熱し、ＢＡｌｑよりなる正孔阻止層を、発光層上に形成した。この際、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒、厚さ１０ｎｍとした。

〈電子輸送・注入層〉
その後、電子輸送材料として、下記化合物１０の入った加熱ボートと、フッ化カリウムの入った加熱ボートとを、それぞれ独立に通電し、化合物１０とフッ化カリウムとよりなる電子注入層と電子輸送層とを兼ねた電子輸送・注入層を、正孔阻止層上に形成した。この際、蒸着速度が化合物１０：フッ化カリウム＝７５：２５になるように、加熱ボートの通電を調節した。また厚さ３０ｎｍとした。

（陰極の形成）
次いで、別の真空層内に有機機能層が形成された基板を移送し、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀（Ａｇ）と微量のマグネシウム（Ｍｇ）を入れ、真空蒸着装置の真空槽内に取り付けた。

次に、真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で厚さ１０ｎｍのＭｇをドープしたＡｇからなる陰極を形成した。形成された陰極中のＡｇに対するＭｇの混合比率は７atm％であった。

（光学調整層の形成）
前記した光学調整層と同様にして、陰極上に再度、光学調整層を形成した。

（バリア層の形成＞
バリア層として、ＳｉＮ層を以下の条件でデポアップ方式のプラズマＣＶＤ成膜装置によって形成した。ＳｉＮ層の膜厚は３００ｎｍとした。
ＳｉＮ層は、バッファー層に対面するように設けられた電極と、この電極にプラズマ励起電力を供給する高周波電源と、基板を保持する保持部材に対してバイアス電力を供給するバイアス電源と、電極に向けてキャリアガスや原料ガスを供給するガス供給手段と、を備えたプラズマＣＶＤ成膜装置で形成した。
成膜ガスは、シランガス（ＳｉＨ_４）、アンモニアガス（ＮＨ_３）、窒素ガス（Ｎ_２）及び水素ガス（Ｈ_２）を用いた。これらのガスの供給量は、シランガスが１００ｓｃｃｍ、アンモニアガスが２００ｓｃｃｍ、窒素ガスが５００ｓｃｃｍ、水素ガスが５００ｓｃｃｍとした。また、成膜圧力は５０Ｐａとした。
電極には、高周波電源から周波数１３．５ＭＨｚで３０００Ｗのプラズマ励起電力を供給した。さらに、保持部材には、バイアス電源から５００Ｗのバイアス電力を供給した。

（窒素層の形成）
有機ＥＬ素子の発光領域とガラス面とが直接接触しないように、中央の発光領域を含む部分に四角形の凹部が形成されたガラス板を準備した。ガラス板の凹部内の発光領域ではない部分にデシカントシート（水分除去シート、ダイニック社製）を貼り付けた。その後、ガラス板の外周の凹部ではない部分に、紫外線硬化性エポキシ樹脂（長瀬産業社製XNR5516Z）をディスペンサーを用いて塗布した。当該ガラス板と有機ＥＬ素子とを窒素置換されたグローブボックス内で貼り合わせた後、発光部にマスクをした形で紫外線を照射し、外周部の紫外線硬化性エポキシ樹脂を硬化させた。得られた積層体は、ガラス板と有機ＥＬ素子との間に窒素層が形成されており、図１（ａ）に記載の層構成を有する有機ＥＬパネルであった。

（接着層の形成と基板との接着）
接着層の形成と上部基板との接着は、接着剤としてエポキシ系熱硬化型接着剤（巴川製紙所社製エレファンＣＳ）を用いて行った。バリア層の上にエポキシ系熱硬化型接着剤を塗布した後、上側の基板（ガラス板またはバリア層付きＰＥＴフィルム）と接着させた。その後、酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下のグローブボックス内で、８０℃、０．０４ＭＰａ荷重下、減圧（１×１０^−３ＭＰａ以下）吸引を２０秒、プレスを２０秒の条件で、真空プレスした。その後、グローブボックス内で、１１０℃のホットプレート上で３０分間加熱して接着層を熱硬化させ、図１（ｂ）に記載の層構成を有する有機ＥＬパネルを得た。

（膜厚調整）
後記する３種類の入射光の発光スペクトルのピークに対応して、ピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率を増大させるため、有機ＥＬパネルの膜厚の調整を行った。
有機ＥＬパネルの膜厚の調整方法は、前記したように、各層における屈折率（ｎ値）と消衰係数（ｋ値）を基に、光路長を波動光学の理論に基づいて、最適化計算を行って層の厚さを求める方法である。有機ＥＬパネルの膜厚の計算は、発光強度、発光色、各層について成膜可能な膜厚範囲を設定し、任意の平均透過率が最大となるよう、波動光学に基づき、遺伝的アルゴリズムを用いて、最適化計算を行うことによって行った。

＜有機ＥＬ光源装置の作製＞
作製した有機ＥＬパネルを用いて有機ＥＬ光源装置を作製した。
有機ＥＬパネルを４枚準備し、上記の接着層の形成の方法と同様にして、各有機ＥＬパネル間に接着層を形成して、プレスし、熱硬化させることにより接合させた。

＜有機ＥＬパネルの評価＞
有機ＥＬパネルに対する入射光として、赤色、青色、白色の３種類の光を用いた。このうち、赤色と青色の光はいずれも発光スペクトルのピークは１つであった。また、白色の光の発光スペクトルのピークは２つであった。白色の光の２つのピークの半値幅は互いに重複し、ピークの半値幅は１つの波長範囲だけとなった。

（全波長の平均光透過率）
波長４００〜８００ｎｍの全波長領域における非発光時の平均光透過率（％）を測定した。測定装置として、日立ハイテクノロジーズ社製、分光光度計Ｕ３３１０を用いた。

（入射光のピークの平均光透過率）
入射光のピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率（％）を測定した。測定装置として、日立ハイテクノロジーズ社製、分光光度計Ｕ３３１０を用いた。
赤色のピーク：６００ｎｍ、半値幅の波長範囲：５６０〜６４０ｎｍ
青色のピーク：４６０ｎｍ、半値幅の波長範囲：４４０〜４８０ｎｍ
白色のピーク：４６０ｎｍと５５０ｎｍ、半値幅の波長範囲：４４０〜５７０ｎｍ

（４枚積層品の発光強度）
有機ＥＬパネルを４枚積層した有機ＥＬ光源装置の発光強度を測定した。ここでいう４枚積層品の発光強度とは、発光面の反対側の、発光面から最も遠い有機ＥＬパネル１枚を発光させ、残りの３枚の有機ＥＬパネルは未発光としたときの、発光面側における発光強度を測定したものである。有機ＥＬパネル１枚のみの発光強度を１００として、相対的な発光強度として数値を求めた。発光強度の測定は、分光放射輝度計ＣＳ−２０００（コニカミノルタ社製）を用いて行った。

作製された有機ＥＬパネルＮｏ．１〜２４の製造条件と評価結果を表１に示した。なお、表１において、図１（ａ）の構成を有する有機ＥＬパネルの封止方法は、「缶封止」と記載し、図１（ｂ）の構成を有する有機ＥＬパネルの封止方法は、「ラミ封止」と記載した。また、図１（ａ）の構成を有する有機ＥＬパネルの封止材は、「Ｎ_２／ガラス」（窒素ガス／ガラス板）と記載し、図１（ｂ）の構成を有する有機ＥＬパネルの封止材は、「接着層／バリアフィルム」（接着層／バリア層付きＰＥＴフィルム）と記載した。

表１から分かるように、入射光のピークの半値幅の波長範囲において、膜厚調整を行って、平均光透過率を６０％以上に調整された有機ＥＬパネルについては、いずれも４枚積層品の発光強度が１０％以上と高いものとなっており、入射光に対する光透過性に優れたものとなっていた（発明品）。また、光学調整層を設けて、入射光のピークの平均光透過率をさらに増大させた有機ＥＬパネルは、光学調整層を設けていない有機ＥＬパネルに比べて、４枚積層品の発光強度がさらに高いものとなっていた。

また、発光スペクトルのピークが１つである赤色と青色の入射光を用いた有機ＥＬパネルの方が、発光スペクトルのピークが複数の白色の入射光を用いた有機ＥＬパネルに比べて、膜厚調整がし易いため、入射光のピークの平均光透過率が高く、４枚積層品の発光強度が高いものとなっていた。なお、白色の入射光を用いた有機ＥＬパネルの２ピークの平均光透過率の差はいずれも２５％以内であった（有機ＥＬパネルＮｏ．９〜１２、２１〜２４）。

基板としてＰＥＴフィルムを使用したとき、ＰＥＴフィルム上のバリア層が黄色に着色しているため、青色の入射光の一部を吸収する。そのため、赤色の入射光のときと比べて、青色の入射光のときの方が、入射光のピークの平均光透過率および４枚積層品の発光強度がやや劣る傾向であった。

［実験例２］
実験例１に準じて、有機ＥＬパネルＮｏ．３１〜３７、４１〜４７を作製した。実験例２の有機ＥＬパネルの層構成は、図１（ａ）とした。その他の製造方法は、実験例１と同様にして行った。

有機ＥＬパネルに対する入射光として、ＢＲ、ＧＲの２種類の光を用いた。このうち、ＢＲ光は、青色と赤色の光を混合したものであり、発光スペクトルのピークは２つであった。両ピークは離れているため、ピークの半値幅は２つの波長範囲となった。
一方、ＧＲ光は、緑色と赤色の光を混合したものであり、発光スペクトルのピークは２つであった。両ピークは近接しているため、ピークの半値幅は１つの波長範囲となった。

上記の２種類の入射光の発光スペクトルのピークに対応して、ピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率を変動させるため、光学調整層の厚さおよび膜厚の調整を行った。そして、２種類の入射光に対応して、ピーク１の光透過率を１００％としたときに、ピーク２の光透過率が相対的に異なる数値となるように、それぞれ７種類の有機ＥＬパネルを作製した。

各有機ＥＬパネルについて、２ピークの半値幅の波長範囲における光透過率の差、発光スペクトルの色度ｘ、ｙを求めた。各特性の評価条件は以下のとおりである。

（入射光のピークの平均光透過率）
入射光のピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率（％）を測定した。測定装置として、日立ハイテクノロジーズ社製、分光光度計Ｕ３３１０を用いた。

（色度ｘ、ｙ）
色度は、コニカミノルタ社製、分光放射輝度計ＣＳ−２０００を用いて測定した。

作製された有機ＥＬパネルの評価結果を表２と表３に示した。表２には入射光をＢＲとしたときの各種有機ＥＬパネルの特性を示し、表３には入射光をＧＲとしたときの各種有機ＥＬパネルの特性を示した。

図６は、表２に対応するものである。図６（ａ）は、入射光としてＢＲの光を用いたときの７種類の有機ＥＬパネルの発光の色座標を図示したものである。図６（ｂ−１）〜（ｂ−７）にはそれぞれ、７種類の有機ＥＬパネルＮｏ．３１〜３７の発光スペクトルを示した。

図７は、表３に対応するものである。図７（ａ）は、入射光としてＧＲの光を用いたときの７種類の有機ＥＬパネルの発光の色座標を図示したものである。図７（ｂ−１）〜（ｂ−７）にはそれぞれ、７種類の有機ＥＬパネルＮｏ．４１〜４７の発光スペクトルを示した。

表２において、有機ＥＬパネルＮｏ．３４が２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差が０であるので、評価の基準とした。２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差が２５％以内であるとき（有機ＥＬパネルＮｏ．３２〜３６）、発光の色度座標におけるｘ値のＮｏ．３４からの差が０．０４０以下、ｙ値のＮｏ．３４からの差が０．０２０以下となり、発光スペクトルの色相の違いが少ないことが分かった。
図６（ｂ−２）〜図６（ｂ−６）の有機ＥＬパネルＮｏ．３２〜３６の発光スペクトルにおいても、２つのピークの変動が、有機ＥＬパネルＮｏ．３１、３７の発光スペクトル（図６（ｂ−１）、（ｂ−７））に比べて相対的に小さいものであった。

表３において、有機ＥＬパネルＮｏ．４１が２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差が０であるので、評価の基準とした。入射光がＧＲ光であって、発光スペクトルの２つのピークが近接しているときには、２つのピークの半値幅の波長範囲における平均光透過率の差を変動させても、発光スペクトルの色相の違いは比較的小さなものであった。

なお、各有機ＥＬパネルにおいて、入射光の２つのピークの半値幅の波長範囲における、平均光透過率は、いずれも６０％以上であった（有機ＥＬパネルＮｏ．３１〜３７、４１〜４７）。

１０、１１、３０、３１、３２、３３ 有機ＥＬパネル
５１、５２、５３ 有機ＥＬ光源装置

Claims (6)

1. 光透過性の基板、陽極、発光層、陰極および封止材を備える光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、
   発光スペクトルが、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域に少なくとも１つのピークを有し、
   前記ピークの半値幅の波長範囲における、非発光時の平均光透過率が６０％以上であり、
   前記ピークが複数あるとき、その中から選択されるいずれか２つのピークの半値幅の波長範囲における非発光時の平均光透過率の差が２５％以内であることを特徴とする光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネル。
2. 光路長調整のための光学調整層を有することを特徴とする請求項１に記載の光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネル。
3. 前記光学調整層がフッ素を含む低屈折率材料から形成されていることを特徴とする請求項２に記載の光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネル。
4. 発光面の表面に反射防止層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネル。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の光透過型有機エレクトロルミネッセンスパネルを２枚以上積層してなる有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
6. 発光面の反対側の面に鏡面反射型有機エレクトロルミネッセンスパネルが積層されていることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置。

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