JP2012009798A - 薄型コモンモードフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 コモンモードフィルタおよび製造方法において、素子の厚さを効果的に削減することにより、公知のコモンモードフィルタにある欠点を克服するとともに、製造コストを削減する。
【解決手段】 薄型コモンモードフィルタ10は、絶縁性の可撓性シート11と、第1の磁性材料層121と、第1のコイルリード層13と、コイル本体積層構造14と、第2のコイルリード層15と、第2の磁性材料層171とを備える。第1のコイルリード層13は、可撓性シート11の第1の面111上に形成されており、また第1の磁性材料層121は可撓性シート11における第1の面111の反対にある第2の面112上に形成されている。またコイル本体積層構造14、第2のコイルリード層15および第2の磁性材料層171は第1のコイルリード層13上に順次積層されている。
【選択図】 図1
【解決手段】 薄型コモンモードフィルタ10は、絶縁性の可撓性シート11と、第1の磁性材料層121と、第1のコイルリード層13と、コイル本体積層構造14と、第2のコイルリード層15と、第2の磁性材料層171とを備える。第1のコイルリード層13は、可撓性シート11の第1の面111上に形成されており、また第1の磁性材料層121は可撓性シート11における第1の面111の反対にある第2の面112上に形成されている。またコイル本体積層構造14、第2のコイルリード層15および第2の磁性材料層171は第1のコイルリード層13上に順次積層されている。
【選択図】 図1
Description
本発明はコモンモードフィルタおよびその製造方法に関し、特に薄型薄膜コモンモードフィルタおよびその製造方法に関する。
コモンモードフィルタは、平行した伝送路内で電磁干渉を発生させるコモンモード電流を抑制する素子である。現在、コモンモードフィルタを携帯型通信装置に応用できるようにするためには、小型化および高密度化の構造が要求されることが多いため、薄膜型および積層型のコモンモードフィルタは徐々に従来の巻線型コモンモードフィルタに取って代わってきている。巻線型コモンモードフィルタはその名が表すように、円柱状のフェライト・コア(Ferrite Core)上にコイルを巻回した形状である。一方、薄膜型および積層型ではより多くの半導体製造工程が必要となる。例えば薄膜型コモンモードフィルタでは通常フェライト板上に、フォトリソグラフィ(Photo Lithography)技術を採用して、平面状のコイルを形成することになる。また、積層型コモンモードフィルタではフェライト板上に、スクリーン(Screen)印刷技術でコイルを形成して、さらに焼成圧着のプロセスにより完成させることになる。
巻線配線のコモンインピーダンス(common impedance)を調整するために、特許文献1には、巻線配線を磁性シート上に形成するとともに、非巻線配線の一部構造をエッチング技術により刻設し、さらに磁性粉末が混入されている樹脂をその中に充填するコモンモードノイズフィルタ素子を開示している。その後、平坦化工程技術により表面を平坦化した後、さらに接着技術により他の磁性シートに接着することで、この素子の製造が完了する。この先行技術は絶縁層の厚さを変更することにより、コモンインピーダンスを調整しているので、厚さの調節こそがコモンインピーダンス値を調節する重要な要素となっている。しかしながら、絶縁層の厚さの調節は工程の方式、工程のパラメータおよび絶縁材料の性質をよりどころにしており、厚さを正確な範囲値に調節するのは明らかに容易ではなく、または製造コストがかなり嵩んでしまう。
また、特許文献2および特許文献3には、同じく磁性シート上にコイル構造を製作するとともに、カバーとして磁性材料で被覆する積層コモンモードフィルタが開示されている。この先行技術は特にコイルのレイアウトパターンを変更することで、差動信号のインピーダンスを下げている。しかしながら、コイルのレイアウトパターンは連続してしかも異なる積層に配置されていることから、変更は複雑で、しかも影響するパラメータは多くなってしまう。
公知のコモンモードノイズフィルタは通常「誘電損(dielectric loss)」が低い基板またはシートで製作する必要があるので、基板またはシートの材質はフェライト(ferrite)材料、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化アルミニウム(AlN)、ガラス(Glass)、または石英(Quartz)が選択されることが多い。上記した公知技術に記載されている基板(substrate)またはシート(sheet)はいずれも、例えばフェライト、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムでの焼結(sintering)成型されたセラミックス基板であるか、または例えばガラス、石英での高温焼成(firing)された非セラミックス基板であるか、または上記材料と樹脂との混合により成型された複合型(composite)シートのことである。
上記したこれら基板またはシートは厚さ方向でいずれも制限があり、大量生産に適するようにするには、その厚さは300μm以上が要求されることが多い。また、これら基板またはシートの製造工程はいずれもかなり複雑で時間がかかるうえ、コストもかなり嵩んでしまう。とりわけ厚さ要求が300μm以下、200μm以下の基板またはシートに至っては、量産に適さないことからかなり高価になってしまう。これら基板またはシートをコモンモードフィルタ素子の製造に応用する場合には、基板の厚さが厚いことから、この素子は厚さの部分において、一定の制限があるため、素子の「軽量、薄型」の発展に不利となってしまう。
上記「基板」の定義とは、600℃以上の高温処理を経て、しかも本体が高分子(polymer)材料を含まない板体(plate)のことである。ところが「シート」の定義となると、600℃以上の高温処理を経ず、しかも本体が高分子材料を含むプレートのことである。しかし上記基板またはシートにおいて、酸化アルミニウム基板のみが成熟した産業であって、しかもそのコストは需要・供給市場のバランスにより決定される。その他材料の基板またはシートはいずれも希少であり、その原料および技術にも限界があり、またコストと供給源も少数の供給業者に限られてしまう。
一方、300μm以下の基板、シートは、プリント基板(Printed Circuit Board;PCB)に用いられるグラスファイバ基板が常用されている。しかしながらプリント基板の厚さは約200μm前後という障害があって、しかも誘電損は大きすぎて、前記したフェライト、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、ガラス、石英の約数百倍となってしまう。
そして例えばPP、PEなどの樹脂高分子といったその他薄型シートのその他材料に至っては、これら材料の薄型シートは入手しやすいが、誘電損が高いという問題以外にも、電子素子はリフロー(reflow)工程を要するため、これら一般的な高分子樹脂はこれのリフロー温度に耐えきれず変形または分解してしまう。
上記をまとめるに、市場においては、素子の厚さを効果的に削減することにより、上記公知のコモンモードフィルタにある欠点を克服するとともに、製造コストを削減できるコモンモードフィルタおよび製造方法が必要とされている。
本発明は絶縁性の可撓性シートをベースとした、構造が簡単な薄型薄膜コモンモードフィルタを提供するものである。この可撓性シートは厚さが薄いだけでなく、リフローの温度に耐えることができるので、薄型薄膜コモンモードフィルタの厚さおよび使用上における優位性を提供することになる。
本発明は絶縁性の可撓性シートをベースとして連続的に生産することで、低誘電損の構造を達成するだけでなく、製造コストが余分に嵩むことはなくなる、低コストのコモンモードフィルタの製造方法を提供するものである。
上記をまとめるに、本発明では、絶縁性の可撓性シートと、第1の磁性材料層と、第1のコイルリード層と、コイル本体積層構造と、第2のコイルリード層と、第2の磁性材料層とを備えた薄型コモンモードフィルタを開示している。前記第1のコイルリード層は、前記可撓性シートの第1の面上に形成されており、また前記第1の磁性材料層は前記可撓性シートにおける前記第1の面の反対にある第2の面上に形成されている。また前記コイル本体積層構造、前記第2のコイルリード層および前記第2の磁性材料層は前記第1のコイルリード層上に順次積層されている。
本発明ではさらに、下記工程を含むコモンモードフィルタの製造方法を開示している。絶縁性の可撓性シートを提供する工程と、前記可撓性シートの第1の面上に第1のコイルリード層を形成する工程と、前記可撓性シートにおける前記第1の面の反対にある第2の面上に第1の磁性材料層を形成する工程と、コイル本体積層構造を前記第1のコイルリード層上に形成する工程と、第2のコイルリード層を前記コイル本体積層構造上に形成する工程と、第2の磁性材料層を前記第2のコイルリード層上に形成する工程。
本発明は低誘電損・高絶縁性のポリイミド製フレキシブルシート上に絶縁層およびコイルの構造を順次製作するとともに、スクリーン印刷技術により最上層表面およびポリイミド製フレキシブルシートの裏面に磁性/非磁性材料組合せ層を製作している。上記工程ステップにより、低コストにより薄膜型コモンモードフィルタを製造できるうえ、生産全体に必要な製造および工程手順も大幅に簡素化できる。
図1は本発明の実施例におけるコモンモードフィルタの分解概略図である。図1に示すように、コモンモードフィルタ10は、絶縁性の可撓性シート11と、第1の磁性/非磁性材料組合せ層12と、第1のコイルリード層13と、コイル本体積層構造14と、第2のコイルリード層15と、第4の絶縁層16と、第2の磁性/非磁性材料組合せ層17とを備えている。また第1の絶縁層141と、第1のコイル本体層146と、第2の絶縁層142と、第2のコイル本体層147と、第3の絶縁層143とで前記コイル本体積層構造14を構成している。
前記絶縁性の可撓性シート11は可撓性の回路基板とすることができるものであり、その英語名称はFlexible Print Circuit(FPC)であり、ポリイミド(polyimide;PI)を可撓性シート11の材料として選択するか、または誘電損が低く、リフロー高温に耐えられるその他の可撓性材料でもよい。
ポリイミド材料は電気、機械的特性に優れていることから、可撓性シート11の材料としては好ましい。例えば、耐高温・低温特性:連続使用温度が288℃、断続的には480℃、極低温(1K以下)でも使用することができる。耐摩耗性:潤滑がない状況下での耐摩耗性は一般的な工業用樹脂の10倍以上であって、衝撃摩耗および揺動摩耗に対しても高い耐性を備えている。変形しにくい:高温でも軟化せず、高負荷に耐えることができ、260℃、180kg/cm2の条件下で1000時間維持することができ、そのクリープ(creep)はわずかに0.6%しかない。電気的な絶縁性:絶縁耐力は22kv/mmであり、またプラズマおよび放射線耐性にも優れている。耐化学薬品性:グリース、オイル、溶剤への耐性を持つ。機械加工性:機械加工しやすい。また、ベンゾシクロブテン(Benzocyclobutene;BCB)も前記可撓性シート11の材料とすることができる。
ポリイミド材料でポリイミドシートまたはフィルム(PI film)を製造することは、すでに成熟した産業であって、厚さは一般的に50μm以下に調節することができる。現在、成熟し、常用される商品化された規格は17.5μm、35μmおよび50μmである。前記した従来のセラミックス、非セラミックスなどの従来の基板にて度々300μm以上の厚さが求められるものとは、顕著な違いである。とりわけ薄膜製造工程でコモンモードフィルタ回路の主要部分を製造するに際しては、多くの場合わずかに50μm前後の厚さしかないが、従来の基板を使用した場合には300μmを占めてしまい、現在の薄型コモンモードフィルタの要求を満たせないのは明らかである。
第1の磁性材料層121と第1の非磁性材料層122とを備えた前記第1の磁性/非磁性材料組合せ層12はスクリーン印刷またはその他塗布方式で前記可撓性シート11の第2の面112上に形成されており、このうち前記第1の非磁性材料層122は前記第1の磁性材料層121の両側に配設されている。本実施例における前記第1の磁性材料層121および前記第1の非磁性材料層122のパターンは本発明の特許請求の範囲に限定されることなく、その他パターン、または前記第1の磁性材料層121で前記第2の面112を被覆するだけでもよい。前記第1の磁性材料層121は磁性シートまたは磁性粉末が混入されている樹脂とすることができ、そして磁性粉末樹脂は磁性粉末とポリイミド(polyimide)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、ベンゾシクロブテン(BCB)またはその他高分子重合体(polymer)のいずれかで調製されてなるものとすることができる。前記第1の非磁性材料層122の材質はポリイミド(polyimide)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、ベンゾシクロブテン(BCB)またはその他高分子重合体(polymer)とすることができる。
第1の電極131と、第2の電極132と、前記第1の電極131および第2の電極132を接続する導線133とを備えた前記第1のコイルリード層13は前記可撓性シート11の第1の面111に形成されている。第1のコイルリード層13上は第1の絶縁層141で被覆されており、さらには前記第1の電極131および前記コイル本体積層構造14中のらせんコイル回路を接続するためのコンタクトホール144が前記第1の絶縁層141を貫通している。
第1の電極1461と、第2の電極1462とらせんコイル1463とを備えた前記第1のコイル本体層146は前記第1の絶縁層141上に設けられている。前記第1のコイル本体層146と前記第2のコイル本体層147との間には第2の絶縁層142が設けられており、また前記第2のコイル本体層147は第1の電極1471と、第2の電極1472と、らせんコイル1473とを備えている。前記第2のコイル本体層147上には第3の絶縁層143が設けられており、前記第1の電極1471および前記第2のコイルリード層15を接続するためのコンタクトホール145が前記第3の絶縁層143を貫通している。前記第2のコイルリード層15は第1の電極151と、第2の電極152と、前記第1の電極151および第2の電極152を接続する導線153とを備えている。前記第2のコイルリード層15上には、接着性の接合層を有することができる前記第4の絶縁層16が設けられている。そして前記第4の絶縁層16上には、前記第2の磁性/非磁性材料組合せ層17が配設されている。前記第2の磁性/非磁性材料組合せ層17は第2の磁性材料層171と第2の非磁性材料層172とを備えている。
本実施例における前記コイル本体積層構造14は一組のらせんコイル回路を備えているが、これに限らず、複数組のらせんコイル回路を同一のコモンモードフィルタ中に作製してもよい。
前記第1のコイルリード層13、前記第1のコイル本体層146、前記第2のコイル本体層147および前記第2のコイルリード層15の材質は銀(Ag)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、金(Au)、銅(Cu)または白金(Pt)とすることができる。
図2は本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの分解概略図である。図2に示すように、コモンモードフィルタ20は、絶縁性の可撓性シート11と、第1の磁性/非磁性材料組合せ層12と、第5の絶縁層211と、第1のコイルリード層13と、コイル本体積層構造14と、第2のコイルリード層15と、第4の絶縁層16と、第2の磁性/非磁性材料組合せ層17とを備えている。図1におけるコモンモードフィルタ10と比較するに、図2におけるコモンモードフィルタ20は前記可撓性シート11と前記第1の磁性/非磁性材料組合せ層12との間に、接着性の接合層を有する第5の絶縁層211を備えているため、前記可撓性シート11と第1の磁性/非磁性材料組合せ層12とを接着させることができる。
図3Aないし図3Jは本発明の実施例におけるコモンモードフィルタの製造方法における各工程概略図である。図3Aに示すように、スクリーン印刷またはその他塗布方式の工程にて、第1の磁性材料層121および前記第1の非磁性材料層122を前記可撓性シート11の第2の面112上に形成する。
図3Bに示すように、薄膜金属成長工程、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術または電気めっき工程などにより、第1のコイルリード層13を製作する。続いて、図3Cに示すように、第1の絶縁層141をスピンコーティングにて塗布するとともに、イエロールームでのフォトリソグラフィまたはエッチング技術などにより、上、下電極を接続するためのコンタクトホール144を製作する。図3Dに示すように、薄膜金属成長工程、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術または電気めっき工程などにより、第1のコイル本体層146を製作する。図3Eに示すように、第2の絶縁層142をスピンコーティングにて塗布する。図3Fに示すように、薄膜金属成長工程、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術または電気めっき工程などにより、第2のコイル本体層147を製作する。図3Gに示すように、第3の絶縁層143をスピンコーティングにて塗布するとともに、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術またはエッチング技術などにより、電極を接続するコンタクトホール145を製作する。図3Hに示すように、薄膜金属成長工程、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術または電気めっき工程などにより、第2のコイルリード層15を製作する。図3Iに示すように、第4の絶縁層16をスピンコーティングにて前記第2のコイルリード層15の表面に塗布する。図3Jに示すように、接着接合工程技術、スクリーン印刷工程またはスピンコーティング技術などにより、前記第4の絶縁層16上に前記第2の磁性/非磁性材料組合せ層17を形成する。
図4は本発明の他の実施例におけるコモンモードフィルタの断面概略図である。図3Jにおけるコモンモードフィルタ10と比較するに、図4におけるコモンモードフィルタ40の両側辺は(外部電極のない側辺)は磁性材料層(第3の磁性材料層および第4の磁性材料層)382でそれぞれ被覆されている。
本発明ではポリイミドシートをフレキシブルシートとすることができ、ここでのこのポリイミドのフレキシブルシート上には、スピンコーティング技術、イエロールームでのフォトリソグラフィ工程、プラズマ補助気相成長、電気めっき工程および薄膜エッチング技術により、薄膜コイル構造および絶縁層を順次堆積させ製作する。外面にはさらにスクリーン印刷工程により、必要な位置、通常は内部コイルの真上に、上部磁性材料厚膜(thick film)層を製作する。最後に、前記フレキシブルシートの裏面には、スクリーン印刷工程により、「フレキシブルシートの裏面」全体ではなく、必要な位置、通常は内部コイルの真下に下部磁性材料厚膜層を製作して、これにより前記コモンモードフィルタ素子の製作を完了する。
上記エッチング工程は、ドライエッチングまたはウェットエッチング工程を採用することができ、ドライエッチングはRIE工程、ウェットエッチングは化学溶液エッチング工程を採用することができる。
以上の工程から理解できるように、本発明は低誘電損・高絶縁性のポリイミド製フレキシブルシート上に絶縁層およびコイルの構造を順次製作するとともに、スクリーン印刷技術により最上層表面およびポリイミド製フレキシブルシートの裏面に磁性/非磁性材料組合せ層を製作している。上記工程手順により、低コストで薄膜型コモンモードフィルタを製造できるうえ、生産全体に必要な製造および工程手順も大幅に簡素化できる。
本発明の薄膜型コモンモードフィルタの構造は、図1に示すようにシングル素子構造であるが、本発明はアレイ(array)素子構造上にも応用することができる。
本発明の技術内容および技術的特長はすでに上記したとおりであるが、当業者であれば本発明の教示および開示に基づいて、本発明の技術的思想に反しない種々の置換および付加を行うことはできる。したがって、本発明の保護範囲は実施例に開示するものに限定されることなく、本発明に反しない各種置換および付加を含むうえ、それは別紙の特許請求の範囲に含まれるはずである。
10,20,40 コモンモードフィルタ
11 可撓性シート
12 第1の磁性/非磁性材料組合せ層
13 第1のコイルリード層
14 コイル本体積層構造
15 第2のコイルリード層
16 第4の絶縁層
17 第2の磁性/非磁性材料組合せ層
111 第1の面
112 第2の面
121 第1の磁性材料層
122 第1の非磁性材料層
131,151,1461,1471 第1の電極
132,152,1462,1472 第2の電極
133,153 導線
141 第1の絶縁層
142 第2の絶縁層
143 第3の絶縁層
144,145 コンタクトホール
146 第1のコイル本体層
147 第2のコイル本体層
171 第2の磁性材料層
172 第2の非磁性材料層
211 第5の絶縁層
382 磁性材料層
1463,1473 らせんコイル
11 可撓性シート
12 第1の磁性/非磁性材料組合せ層
13 第1のコイルリード層
14 コイル本体積層構造
15 第2のコイルリード層
16 第4の絶縁層
17 第2の磁性/非磁性材料組合せ層
111 第1の面
112 第2の面
121 第1の磁性材料層
122 第1の非磁性材料層
131,151,1461,1471 第1の電極
132,152,1462,1472 第2の電極
133,153 導線
141 第1の絶縁層
142 第2の絶縁層
143 第3の絶縁層
144,145 コンタクトホール
146 第1のコイル本体層
147 第2のコイル本体層
171 第2の磁性材料層
172 第2の非磁性材料層
211 第5の絶縁層
382 磁性材料層
1463,1473 らせんコイル
Claims (26)
- 絶縁性の可撓性シートと、
前記可撓性シートの第1の面に形成されている第1のコイルリード層と、
前記可撓性シートにおける前記第1の面の反対にある第2の面に形成されている第1の磁性材料層と、
前記第1のコイルリード層上に設けられているコイル本体積層構造と、
前記コイル本体積層構造上に設けられている第2のコイルリード層と、
前記第2のコイルリード層上に設けられている第2の磁性材料層と、を備えたことを特徴とする薄型コモンモードフィルタ。 - 前記可撓性シートの材質がポリイミドまたはベンゾシクロブテンであることを特徴とする請求項1に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記可撓性シートの厚さが50μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記コイル本体積層構造は、順次積層して設けられている、第1の絶縁層と、第1のコイル本体層と、第2の絶縁層と、第2のコイル本体層と、第3の絶縁層とを備えており、また前記第1のコイル本体層および前記第2のコイル本体層は、少なくとも一つのらせんコイル回路をそれぞれ備えていることを特徴とする請求項1に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第2の磁性材料層と前記第2のコイルリード層との間に設けられている第4の絶縁層をさらに備えたことを特徴とする請求項4に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記可撓性シートと前記第1の磁性材料層との中間に設けられている第5の絶縁層をさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第1の磁性材料層とともに前記第2の面に設けられている第1の非磁性材料層をさらに備えたことを特徴とする請求項4に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第1の非磁性材料層が前記第1の磁性材料層の両側に設けられるとともに、前記第1の磁性材料層が、前記第1のコイル本体層および前記第2のコイル本体層の位置が垂直方向上で重なる面積であることを特徴とする請求項7に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第2の磁性材料層とともに前記第4の絶縁層の表面上に設けられている第2の非磁性材料層をさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第1の絶縁層、前記第2の絶縁層、前記第3の絶縁層、前記第4の絶縁層および前記第5の絶縁層の材質が、ポリイミド、エポキシ樹脂またはベンゾシクロブテン樹脂であることを特徴とする請求項6に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第1のコイルリード層、前記第1のコイル本体層、前記第2のコイル本体層および前記第2のコイルリード層の材質が、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、金(Au)、銅(Cu)または白金(Pt)であることを特徴とする請求項4に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記第1の磁性材料層および前記第2の磁性材料層の材質が、磁性粉末が混入されている樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記磁性粉末が混入されている樹脂が、磁性材料の粉末とポリイミド(polyimide)、エポキシ樹脂(epoxy resin)、またはベンゾシクロブテン(BCB)とを混合した樹脂であることを特徴とする請求項12に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 前記薄膜型コモンモードフィルタにおける外部電極のない側辺にそれぞれ設けられている第3の磁性材料層と第4の磁性材料層とをさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の薄型コモンモードフィルタ。
- 絶縁性の可撓性シートと提供する工程と、
前記可撓性シートの第1の面上に第1のコイルリード層を形成する工程と、
前記可撓性シートにおける前記第1の面の反対にある第2の面上に第1の磁性材料層を形成する工程と、
コイル本体積層構造を前記第1のコイルリード層上に形成する工程と、
第2のコイルリード層を前記コイル本体積層構造上に形成する工程と、
第2の磁性材料層を前記第2のコイルリード層上に形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄型コモンモードフィルタの製造方法。 - 前記コイル本体積層構造を形成する工程が、
第1の絶縁層を前記第1のコイルリード層上に塗布するとともに、前記第1の絶縁層に少なくとも一つの第1のコンタクトホールを形成する工程と、
第1のコイル本体層を前記第1の絶縁層上に形成する工程と、
第2の絶縁層を前記第1のコイル本体層上に塗布する工程と、
第2のコイル本体層を前記第2の絶縁層上に形成する工程と、
第3の絶縁層を前記第2のコイル本体層上に塗布するとともに、前記第4の絶縁層に少なくとも一つの第2のコンタクトホールを形成する工程であることを特徴とする請求項15に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。 - 前記第1のコイルリード層、前記第1のコイル本体層、前記第2のコイル本体層および前記第2のコイルリード層が薄膜金属成長工程、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術または電気めっき工程により形成されることを特徴とする請求項16に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記第2のコイルリード層上に第4の絶縁層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 第1の非磁性材料層を前記第1の磁性材料層とともに前記第2の面に形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 第2の非磁性材料層を前記第2の磁性材料層とともに前記第4の絶縁層の表面に形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記可撓性シートと前記第1の磁性材料層との中間に第5の絶縁層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記第1の絶縁層、前記第2の絶縁層、前記第3の絶縁層、前記第4の絶縁層および前記第5の絶縁層の材質が、ポリイミド、エポキシ樹脂またはベンゾシクロブテン樹脂であることを特徴とする請求項21に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記可撓性シートの材質が、ポリイミドまたはベンゾシクロブテン樹脂であることを特徴とする請求項15に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記第1のコイルリード層、前記第1のコイル本体層、前記第2のコイル本体層および前記第2のコイルリード層の材質が、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、金(Au)、銅(Cu)または白金(Pt)であることを特徴とする請求項16に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記第1のコンタクトホールおよび前記第2のコンタクトホールが、イエロールームでのフォトリソグラフィ技術またはエッチング工程により製作されることを特徴とする請求項16に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
- 前記エッチング工程がドライエッチング工程またはウェットエッチング工程であり、しかも前記ドライエッチングがRIE工程であり、前記ウェットエッチングが化学溶液エッチング工程であることを特徴とする請求項17に記載の薄型コモンモードフィルタの製造方法。
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