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JP2007031321A - Method for producing imide bonded with organosiloxane, triorganosilyl ester of amic acid bonded with organosiloxane, and method for manufacturing the same - Google Patents

Method for producing imide bonded with organosiloxane, triorganosilyl ester of amic acid bonded with organosiloxane, and method for manufacturing the same Download PDF

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JP2007031321A JP2005214510A JP2005214510A JP2007031321A JP 2007031321 A JP2007031321 A JP 2007031321A JP 2005214510 A JP2005214510 A JP 2005214510A JP 2005214510 A JP2005214510 A JP 2005214510A JP 2007031321 A JP2007031321 A JP 2007031321A
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Abstract

【課題】オルガノシロキサンが結合したイミドを高純度、高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】トリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、ジカルボン酸無水物とを反応させることにより、アミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、閉環イミド化させる、式(5)のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。

Figure 2007031321

(A1はC1〜20の二価有機基、A2はC2〜40の二価有機基。Sxはケイ素数2〜2,000のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数。)
【選択図】 なしAn object of the present invention is to provide a method for producing an imide bonded with an organosiloxane with high purity and high yield.
A triorganosilylamino group-containing organosiloxane and a dicarboxylic acid anhydride are reacted to obtain an amic acid triorganosilyl ester, which is then subjected to ring-closing imidization by detriorganosilanol reaction. 5) A process for producing an imide bonded with an organosiloxane.
Figure 2007031321

(A 1 is a C 1-20 divalent organic group, A 2 is a C 2-40 divalent organic group, Sx is an organosiloxanyl group having 2 to 2,000 silicon atoms, and α is the organosiloxanyl group. Represents the valence of the group and is an integer from 1 to 100.)
[Selection figure] None

Description

本発明は、電子材料用の熱可塑性組成物や有機−無機ハイブリッド材料、シロキサン変性樹脂などに用いることができ、工業的に有用な化合物であるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法、並びに前駆体であるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルとその製造方法に関する。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for thermoplastic compositions for electronic materials, organic-inorganic hybrid materials, siloxane-modified resins, and the like, and a method for producing imides bonded with organosiloxanes, which are industrially useful compounds, and precursors The present invention relates to a triorganosilyl ester of amic acid bonded with an organosiloxane and a method for producing the same.

イミドは熱的に、また化学的に安定な化合物であり、材料科学の分野において種々の応用が図られている。芳香族イミドは電子欠乏性であるため、電子豊富な化合物と結合させた分子においては分子内電荷移動が観察され、この性質が有機EL用色素として利用されている(非特許文献1:Chemistry of Materials、2003年15巻1913−1917ページ)。また、比較的大きな共役系を有する芳香族イミドを他の色素と連結させた分子を光励起すると、分子内や会合体内で効率的な電子移動やエネルギー移動が起こるため、光合成反応中心モデルとしての研究も行われている(例えば、非特許文献2:Journal of the American Chemical Society、2004年126巻10810−10811ページ)。   Imides are thermally and chemically stable compounds and have a variety of applications in the field of materials science. Since aromatic imides are electron deficient, intramolecular charge transfer is observed in molecules combined with electron-rich compounds, and this property is used as a dye for organic EL (Non-patent Document 1: Chemistry of). Materials, 2003, 15: 1913-1917). In addition, photoexcitation of a molecule in which an aromatic imide having a relatively large conjugated system is linked to another dye causes efficient electron transfer and energy transfer in the molecule and in the associated body. (For example, Non-Patent Document 2: Journal of the American Chemical Society, 2004, 126, 10810-10811).

また、近年、有機材料と無機材料を組み合わせて両者の長所を生かしたハイブリッド材料の開発が盛んに行われているが、無機骨格であるシロキサンに各種有機基や有機ポリマーを結合させてハイブリッド化させる例も多い。例えば、特開平5−3218号公報(特許文献1)には、両末端をマレイミドで封止した直鎖シロキサンを用いて得られる熱硬化性組成物が開示されており、半導体封止材料として用いられている。また、かご状オリゴシロキサンとイミドのナノコンポジットを作成すると高い耐熱性を示すことが報告されている(非特許文献3:Chemistry of Materials、2003年15巻793−797ページ)。このような観点から、様々な構造のオルガノシロキサンにイミドを自在に結合させる技術が求められている。   In recent years, hybrid materials that combine the advantages of both organic and inorganic materials have been actively developed. Hybridization is achieved by combining various organic groups and organic polymers with siloxane, which is an inorganic skeleton. There are many examples. For example, JP-A-5-3218 (Patent Document 1) discloses a thermosetting composition obtained by using a linear siloxane having both ends sealed with maleimide and used as a semiconductor sealing material. It has been. In addition, it has been reported that when a nanocomposite of cage oligosiloxane and imide is prepared, high heat resistance is exhibited (Non-patent Document 3: Chemistry of Materials, 2003, Volume 15, pages 793-797). From such a viewpoint, there is a demand for a technique for freely bonding an imide to organosiloxanes having various structures.

イミドの合成法として最も単純で古典的な方法は、アンモニアや一級アミンとジカルボン酸無水物を混合して反応させる方法であり、まず酸無水物が開環してアミド酸が生成した後、加熱により脱水環化が起こって収率よくイミドが得られる(下記スキーム[A])。この方法は1モルのイミドが生成する際の副生成物が1モルの水だけであり、加熱によってイミド化と同時に生じた水が除去される。前記特許文献1や非特許文献3においてもこの方法によってオルガノシロキサンが結合したイミドを得ると記載されている。   The simplest and classic method for synthesizing imides is to mix ammonia and primary amines with dicarboxylic acid anhydrides and react them. First, acid anhydrides are opened to form amic acid, and then heated. Causes dehydration cyclization and yields an imide in good yield (Scheme [A] below). In this method, only 1 mol of water is a by-product when 1 mol of imide is formed, and water generated simultaneously with imidation is removed by heating. Patent Document 1 and Non-Patent Document 3 also describe that an imide bonded with an organosiloxane is obtained by this method.

Figure 2007031321
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しかしながら、この方法において、例えば、反応基質として環状ジメチルシロキサンが結合した脂肪族アミンを用いてオルガノシロキサンが結合したイミドを合成しようとすると、下記スキーム[B]のように、イミド化反応の過程で熱的にシロキサン鎖の切断による不均化が起こり、生成したイミドにはシロキサン部分が不均化した副生成物が混在することがわかった。つまり、このイミド化方法では、高純度な化合物としてオルガノシロキサンが結合したイミドを得ることは難しい。   However, in this method, for example, when an imide bonded with an organosiloxane is synthesized using an aliphatic amine bonded with a cyclic dimethylsiloxane as a reaction substrate, as shown in the following scheme [B], in the process of imidization reaction, It was found that disproportionation due to thermal breakage of the siloxane chain occurred, and by-products in which the siloxane portion was disproportionated were mixed in the imide formed. That is, with this imidization method, it is difficult to obtain an imide bonded with organosiloxane as a high-purity compound.

Figure 2007031321
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更に、脂肪族アミノ基を有するオルガノシロキサンの中には、室温でも徐々にシロキサンが不均化反応を起こすものがあり、工業的な原料として用いるのには不適当な場合がある。従って、上記合成法はオルガノシロキサンが結合したイミドを得る方法として最適とは言い難い。   Furthermore, some organosiloxanes having an aliphatic amino group gradually cause a disproportionation reaction even at room temperature, which may be inappropriate for use as an industrial raw material. Therefore, the above synthesis method is not optimal as a method for obtaining an imide having an organosiloxane bonded thereto.

シロキサンと同様にケイ素化合物であるアルコキシシランが結合したイミドは、シランカップリング剤として利用することができ、その合成方法がいくつか報告されている。上記スキーム[A]の方法が米国特許第3755354号明細書(特許文献2)に記載されているほか、特開平1−29385号公報(特許文献3)には、(1)脂肪族不飽和結合を持つイミドをヒドロアルコキシシランによってヒドロシリル化する方法、米国特許第4271074号明細書(特許文献4)には、(2)イミドのアルカリ金属塩とハロアルキルアルコキシシランを反応させ縮合させる方法が開示されている。また、米国特許第6191286号明細書(特許文献5)には、(3)ジカルボン酸無水物とイソシアナート基を持つアルコキシシランを反応させる方法、(4)ビスアミドシランを加熱してイミドシランとアミノシランに不均化させる方法、(5)アミノ基含有シランとジカルボン酸無水物を反応させて得られたアミド酸をエステル化し、これを加熱してイミド化する方法が記述されている。しかし、これらをオルガノシロキサンが結合したイミドの合成に適用する場合、(1)では触媒として使用する白金化合物を目的化合物から除去することが難しく、(2)では強塩基性の反応基質を用いるためシロキサンの不均化反応が起こる。(3)では予めイソシアナート基を持つオルガノシロキサンを用意せねばならず、工程が増える上に全収率が低下する。また、(4)では二分子のアミノ基含有オルガノシロキサンから一分子のイミドしか得ることができず、経済性に劣る。(5)ではアミド酸をエステル化しない場合よりもイミド化のために高温が必要であり、シロキサンの不均化等の副反応が助長される。従って、いずれも好ましい方法とはならない。   An imide bonded with an alkoxysilane, which is a silicon compound like siloxane, can be used as a silane coupling agent, and several methods for synthesizing it have been reported. The method of the above scheme [A] is described in US Pat. No. 3,755,354 (Patent Document 2), and JP-A-1-29385 (Patent Document 3) includes (1) aliphatic unsaturated bond. In US Pat. No. 4,271,744 (Patent Document 4), there is disclosed (2) a method in which an alkali metal salt of imide and a haloalkylalkoxysilane are reacted and condensed. Yes. In addition, US Pat. No. 6,191,286 (Patent Document 5) includes (3) a method of reacting a dicarboxylic acid anhydride and an alkoxysilane having an isocyanate group, and (4) heating bisamidosilane to imidosilane and aminosilane. A method of disproportionation and (5) a method of esterifying an amic acid obtained by reacting an amino group-containing silane and a dicarboxylic acid anhydride and imidizing it by heating are described. However, when these are applied to the synthesis of organosiloxane-bonded imides, it is difficult to remove the platinum compound used as a catalyst from the target compound in (1), and (2) uses a strongly basic reaction substrate. Siloxane disproportionation occurs. In (3), an organosiloxane having an isocyanate group must be prepared in advance, which increases the number of steps and reduces the overall yield. In (4), only one molecule of imide can be obtained from two molecules of amino group-containing organosiloxane, which is inferior in economic efficiency. In (5), a higher temperature is required for imidization than in the case where the amic acid is not esterified, and side reactions such as disproportionation of siloxane are promoted. Therefore, neither is a preferred method.

上記の公知方法で得られたアルコキシシランが結合したイミドを加水分解及び縮合させることによる、オルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法も考えられる。しかし、この方法では各種シロキサンの混合物が得られ、構造や鎖長が規定された所望のシロキサンを得ることは難しい。   A method for producing an imide bonded with an organosiloxane by hydrolyzing and condensing an imide bonded with an alkoxysilane obtained by the above known method is also conceivable. However, in this method, a mixture of various siloxanes is obtained, and it is difficult to obtain a desired siloxane having a defined structure and chain length.

前記特許文献5には、更に(6)アミノ基含有シランとジカルボン酸無水物を反応させて得られたアミド酸をシリル化し、アミド酸シリルエステルを加熱してイミド化する方法が記載されている。ポリイミド合成においては、ポリアミド酸トリメチルシリルエステルのイミド化反応はポリアミド酸と同様の温度で行えることが示されており(非特許文献4:Macromolecules、1991年24巻3475−3480ページ)、オルガノシロキサンが結合したイミドの合成にも有効な方法である可能性があった。   Patent Document 5 further describes (6) a method in which an amic acid obtained by reacting an amino group-containing silane and a dicarboxylic acid anhydride is silylated, and an amic acid silyl ester is heated to imidize. . In polyimide synthesis, it has been shown that the imidization reaction of polyamic acid trimethylsilyl ester can be performed at the same temperature as that of polyamic acid (Non-patent Document 4: Macromolecules, 1991, Vol. 24, 3475-3480), and organosiloxane is bonded. It may be an effective method for the synthesis of imides.

そこで、下記スキーム[C]に示されるようにトリメチルシリル化した脂肪族アミノ基を有する環状ジメチルシロキサンを原料としてイミド合成反応を行った。中間体であるアミド酸トリメチルシリルエステルは定量的な収率で得られたが、続くイミド化反応では環状シロキサンの不均化に加えて開環による直鎖シロキサンの生成が観察され、トリメチルシリル化されていない原料を用いた場合よりも得られるイミド純度は低下するという失望すべき結果が得られた。   Therefore, as shown in the following scheme [C], an imide synthesis reaction was performed using a cyclic dimethylsiloxane having a trimethylsilylated aliphatic amino group as a raw material. The intermediate amidic acid trimethylsilyl ester was obtained in quantitative yield, but in the subsequent imidation reaction, in addition to disproportionation of the cyclic siloxane, the formation of linear siloxane by ring opening was observed, and the trimethylsilylated product was observed. The disappointing result was obtained that the imide purity obtained was lower than when no raw material was used.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

このように、イミド合成法は種々検討されてきたが、不均化反応を起こし易いオルガノシロキサンが結合したイミドの合成には必ずしも有効ではなく、新たなイミド化方法の開発が求められていた。   As described above, various methods for synthesizing imides have been studied. However, they are not necessarily effective for synthesizing imides bonded with organosiloxanes that easily cause disproportionation reactions, and development of new imidization methods has been demanded.

特開平5−3218号公報JP-A-5-3218 米国特許第3755354号明細書US Pat. No. 3,755,354 特開平1−29385号公報JP-A-1-29385 米国特許第4271074号明細書US Pat. No. 4,271,741 米国特許第6191286号明細書US Pat. No. 6,191,286 Chemistry of Materials、2003年15巻1913−1917ページChemistry of Materials, 2003 Volume 15 pages 1913-1917. Journal of the American Chemical Society、2004年126巻10810−10811ページJournal of the American Chemical Society, 2004, 126, 10810-1081 Chemistry of Materials、2003年15巻793−797ページChemistry of Materials, 2003 Volume 15 pages 793-797. Macromolecules、1991年24巻3475−3480ページMacromolecules, 1991, 24, 3475-3480.

本発明は、上記要望に応えるためになされたもので、工業的に有用な化合物であるオルガノシロキサンが結合したイミドを、オルガノシロキサン部分の不均化反応を抑制し高純度かつ高収率で製造する方法及びその前駆体と製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to meet the above-mentioned demand, and manufactures an imide bonded with an organosiloxane, which is an industrially useful compound, with high purity and high yield by suppressing the disproportionation reaction of the organosiloxane moiety. It is an object of the present invention to provide a method, a precursor thereof, and a production method.

本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、オルガノシロキサンが結合したイミドの新規な製造方法、並びに前駆体であるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルとその製造方法を知見するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have made a novel method for producing an imide bonded with an organosiloxane, and a triorganosilyl ester of an amic acid bonded with an organosiloxane as a precursor and the production thereof. It came to know the method.

即ち、本発明は、窒素原子に下記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が結合した、下記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることにより、下記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、該アミド酸トリオルガノシリルエステルを閉環イミド化させることを特徴とする下記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   That is, the present invention relates to a triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the following general formula (2) in which a triorganosilyl group represented by the following general formula (1) is bonded to a nitrogen atom, and the following general formula: By reacting with the dicarboxylic acid anhydride represented by (3), the amidic acid triorganosilyl ester represented by the following general formula (4) is obtained, and then the deamidotrianol reaction is used to remove the amic acid triorganosilyl ester. Provided is a method for producing an imide bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (5), characterized by ring-closing imidation of an organosilyl ester.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記式(1)〜(5)において、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。 In the above formulas (1) to (5), R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and A 1 is A substituted or unsubstituted divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms. Sx represents a monovalent or polyvalent organosiloxanyl group having a silicon number of 2 to 2,000. α represents the valence of the organosiloxanyl group and is an integer of 1 to 100.

また、本発明は上記一般式(2)、(4)、(5)において、Sxが鎖状、環状、かご状又は部分開裂したかご状の一価又は多価のオルガノシロキサニル基より選択される、前記のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   In the above general formulas (2), (4), and (5), the present invention is selected from a monovalent or polyvalent organosiloxanyl group in which Sx is a chain, cyclic, cage, or partially cleaved cage. A method for producing an imide bonded with the organosiloxane is provided.

また、本発明は上記一般式(2)、(4)、(5)において、Sxが下記一般式(6)で表される一価又は多価の環状オルガノシロキサニル基、下記一般式(7)及び(9)で表される一価又は多価の鎖状オルガノシロキサニル基、下記一般式(11)で表される一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基、及び下記一般式(12)で表される部分開裂した一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基の中より選択される、前記のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   In the general formulas (2), (4), and (5), the present invention is a monovalent or polyvalent cyclic organosiloxanyl group represented by the following general formula (6): 7) and a monovalent or polyvalent chain organosiloxanyl group represented by (9), a monovalent or polyvalent cage organosiloxanyl group represented by the following general formula (11), and Provided is a method for producing an imide bonded with the above organosiloxane, which is selected from partially cleaved monovalent or polyvalent cage-like organosiloxanyl groups represented by the general formula (12).

Figure 2007031321

(式(6)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、aはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜10の整数、bは0〜10の整数を表す。)
Figure 2007031321

(In Formula (6), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with a fluorine atom, and a represents the valence of an organosiloxanyl group. Represents an integer of 1 to 10, and b represents an integer of 0 to 10.)

Figure 2007031321

(式(7)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、Rxは炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは下記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表す。cは0〜100の整数を表す。)
Figure 2007031321

(In Formula (7), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with a fluorine atom, and R x is a substituted group having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsubstituted monovalent hydrocarbon group or an organic group substituted with a triorganosilylamino group represented by the following general formula (8), c represents an integer of 0 to 100.)

Figure 2007031321

(式(8)において、R1、R2及びA1は上記一般式(1)及び(2)で説明したものと同義の置換基を表す。)
Figure 2007031321

(In the formula (8), R 1 , R 2 and A 1 represent the same substituents as those described in the general formulas (1) and (2).)

Figure 2007031321

(式(9)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、Rxは同一でも異なってもよく、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは上記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表す。RSは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは下記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。dはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数を、eは0〜100の整数を表す。)
Figure 2007031321

(In Formula (9), R may be the same or different from each other, represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with a fluorine atom, and R x may be the same or different; The substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the organic group substituted with the triorganosilylamino group represented by the general formula (8) represents R S represents 1 to 20 carbon atoms. Represents a monovalent hydrocarbon group or a triorganosiloxy group represented by the following general formula (10), d represents the valence of the organosiloxanyl group, an integer of 1 to 100, and e is an integer of 0 to 100 Represents.)

Figure 2007031321

(式(11)において、Rは上記一般式(9)で定義したものと同義の置換基を表す。)
Figure 2007031321

(In the formula (11), R represents a substituent having the same meaning as defined in the general formula (9).)

Figure 2007031321

(式(11)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、RSは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは上記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。f及びhは0〜10の整数、gはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜20の整数、iは0〜19の整数を表す。但し、gとiの和は6以上20以下である。)
Figure 2007031321

(In Formula (11), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and R S represents one having 1 to 20 carbon atoms. Represents a valent hydrocarbon group or a triorganosiloxy group represented by the general formula (10), wherein f and h are integers of 0 to 10, g is an valence of an organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 20 I represents an integer of 0 to 19. However, the sum of g and i is 6 or more and 20 or less.)

Figure 2007031321

(式(12)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。RS及びRtはそれぞれ独立に炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは上記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。j、l及びnは0〜10の整数、kはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜3の整数、mは0〜2の整数、oは2〜16の整数を表す。但し、kとmの和は3であり、mが2のとき、Rtは互いに結合して下記式(13)
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。)
で表される基を形成してもよい。)
Figure 2007031321

(In Formula (12), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with a fluorine atom. R S and R t are each independently carbon. Represents a monovalent hydrocarbon group of formula 1 to 20 or a triorganosiloxy group represented by the general formula (10), wherein j, l and n are integers of 0 to 10, and k is a valence of an organosiloxanyl group. , M is an integer from 0 to 2, and o is an integer from 2 to 16. However, the sum of k and m is 3, and when m is 2, R t are bonded to each other. The following formula (13)
Figure 2007031321

(In the formula, R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom.)
You may form group represented by these. )

また、本発明は、上記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソブチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テキシルジメチルシリル基の中から選択される、前記のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   In the present invention, the triorganosilyl group represented by the general formula (1) is a triethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triisobutylsilyl group, a triisopropylsilyl group, or a texyldimethylsilyl group. A method for producing an imide bonded with the organosiloxane, selected from:

また、本発明は上記一般式(2)におけるA1が窒素原子とsp3炭素で結合している、前記のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for producing an imide bonded with the organosiloxane, wherein A 1 in the general formula (2) is bonded with a nitrogen atom and sp 3 carbon.

更に、本発明は、上記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルを提供する。   Furthermore, the present invention provides an amic acid triorganosilyl ester to which the organosiloxane represented by the general formula (4) is bonded.

また、本発明は、窒素原子に上記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が結合した、上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることを特徴とする上記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法を提供する。   The present invention also includes a triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the above general formula (2), wherein the triorganosilyl group represented by the above general formula (1) is bonded to a nitrogen atom, and the above general formula. There is provided a method for producing an amic acid triorganosilyl ester bonded with an organosiloxane represented by the above general formula (4), which comprises reacting with a dicarboxylic acid anhydride represented by (3).

更に、本発明は、上記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを脱トリオルガノシラノール反応により閉環イミド化させることを特徴とする上記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   Furthermore, the present invention provides an organosiloxane represented by the above general formula (5), characterized in that the triorganosilyl ester of amic acid represented by the above general formula (4) is ring-closing imidized by a detriorganosilanol reaction. A method for producing an imide bonded with is provided.

本発明により、オルガノシロキサンが結合したイミドを高純度、かつ高収率で製造することができる。本発明の製造方法においては、化学的に安定な化合物を原料とするため工業的に好ましい。また、比較的かさ高いアミド酸トリオルガノシリルエステルを中間体とすることにより、オルガノシロキサン部分の不均化反応を抑制することができる。   According to the present invention, an imide bonded with an organosiloxane can be produced with high purity and high yield. In the manufacturing method of this invention, since a chemically stable compound is used as a raw material, it is industrially preferable. Moreover, the disproportionation reaction of the organosiloxane portion can be suppressed by using a relatively bulky amic acid triorganosilyl ester as an intermediate.

本発明のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法において、出発物質となるのは、窒素原子に下記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が一つ結合している下記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンである。下記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンは安定な化合物であり、シロキサンの不均化による純度低下がなく、長期間保存することができる。   In the method for producing an imide bonded with an organosiloxane of the present invention, the starting material is the following general formula (2) in which one triorganosilyl group represented by the following general formula (1) is bonded to a nitrogen atom. ) -Containing triorganosilylamino group-containing organosiloxane. The triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the following general formula (2) is a stable compound and can be stored for a long period of time without lowering the purity due to disproportionation of the siloxane.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(1)において、R1は炭素数2〜20のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等の一価炭化水素基を表す。R1の具体例として、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の直鎖状、分岐鎖状あるいは環状の一価飽和炭化水素基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、5−ノルボルネニル基、オクテニル基、デセニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の一価不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フェナンスリル基、アントラセニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基等の一価芳香族炭化水素基等が挙げられる。また、R2の具体例としてはR1の具体例として挙げたものに加えてメチル基が挙げられる。 In the general formula (1), R 1 is a monovalent hydrocarbon group such as an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and R 2 may be the same or different. Represents a monovalent hydrocarbon group such as an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group. Specific examples of R 1 include ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, isobutyl, 2-butyl, tert-butyl, cyclobutyl, pentyl, cyclopentyl, isopentyl. Group, tert-pentyl group, methylcyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, texyl group, methylcyclohexyl group, heptyl group, cycloheptyl group, norbornyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, isooctyl group, decyl group, dodecyl group A linear, branched or cyclic monovalent saturated hydrocarbon group such as tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, icosyl group, vinyl group, allyl group, propenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, Hexenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, -Monoborn unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as norbornenyl group, octenyl group, decenyl group, ethynyl group, propynyl group, butynyl group, phenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group 4-tolyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,4, Monovalent aromatic hydrocarbon groups such as 6-trimethylphenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, naphthylethyl group, etc. Is mentioned. Specific examples of R 2 include a methyl group in addition to the specific examples of R 1 .

上記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基はトリメチルシリル基よりもかさ高く、その具体例としては、エチルジメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、エチニルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基、n−プロピルジメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、シクロプロピルジメチルシリル基、アリルジメチルシリル基、n−ブチルジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、シクロブチルジメチルシリル基、2−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリビニルシリル基、n−ペンチルジメチルシリル基、シクロペンチルジメチルシリル基、メチルジイソプロピルシリル基、イソプロピルジエチルシリル基、n−ヘキシルジメチルシリル基、シクロヘキシルジメチルシリル基、シクロヘキセニルジメチルシリル基、テキシルジメチルシリル基、1−メチルシクロペンチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、n−ブチルジエチルシリル基、n−ヘプチルジメチルシリル基、シクロヘプチルジメチルシリル基、2−ノルボルニルジメチルシリル基、5−ノルボルネン−2−イルジメチルシリル基、2−トリルジメチルシリル基、3−トリルジメチルシリル基、4−トリルジメチルシリル基、ベンジルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、n−オクチルジメチルシリル基、n−ヘキシルジエチルシリル基、デシルジメチルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、ドデシルジメチルシリル基、テトラデシルジメチルシリル基、ヘキサデシルジメチルシリル基、オクタデシルジメチルシリル基、イコシルジメチルシリル基等が挙げられる。イミド化反応で生じるトリオルガノシラノールの除去し易さの観点から、ケイ素原子上の置換基の炭素数の総和が20以下、より好ましくは12以下であることが好ましく、なかでも特にトリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソブチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テキシルジメチルシリル基が好ましい。   The triorganosilyl group represented by the general formula (1) is higher than the trimethylsilyl group, and specific examples thereof include ethyldimethylsilyl group, vinyldimethylsilyl group, ethynyldimethylsilyl group, diethylmethylsilyl group, n- Propyldimethylsilyl group, isopropyldimethylsilyl group, cyclopropyldimethylsilyl group, allyldimethylsilyl group, n-butyldimethylsilyl group, isobutyldimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, cyclobutyldimethylsilyl group, 2-butyldimethyl Silyl group, triethylsilyl group, trivinylsilyl group, n-pentyldimethylsilyl group, cyclopentyldimethylsilyl group, methyldiisopropylsilyl group, isopropyldiethylsilyl group, n-hexyldimethylsilyl group, cyclohexyl Rudimethylsilyl group, cyclohexenyldimethylsilyl group, texyldimethylsilyl group, 1-methylcyclopentyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, n-butyldiethylsilyl group, n-heptyldimethylsilyl group, cycloheptyldimethylsilyl group, 2-norbornyldimethylsilyl group, 5-norbornen-2-yldimethylsilyl group, 2-tolyldimethylsilyl group, 3-tolyldimethylsilyl group, 4-tolyldimethylsilyl group, benzyldimethylsilyl group, triisopropylsilyl group N-octyldimethylsilyl group, n-hexyldiethylsilyl group, decyldimethylsilyl group, tri-n-butylsilyl group, triisobutylsilyl group, dodecyldimethylsilyl group, tetradecyldimethylsilyl group, hexadecyldimethylsilyl group Group, octadecyl dimethyl silyl group, icosyl dimethyl silyl group. From the viewpoint of easy removal of triorganosilanol generated in the imidization reaction, the total number of carbon atoms of the substituents on the silicon atom is preferably 20 or less, more preferably 12 or less, and in particular, a triethylsilyl group, A tert-butyldimethylsilyl group, a triisobutylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a texyldimethylsilyl group are preferred.

上記一般式(2)において、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、これらが結合した基等の二価の有機基を表しており、具体的にはメチレン基、エタン−1,2−ジイル基、エテン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、プロペン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,2−フェニレン基、1,2−シクロへキシレン基、1,3−シクロへキシレン基、1,4−シクロへキシレン基、1,7−ヘプタンジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、1,8−オクタンジイル基、1,10−デカンジイル基、1,12−ドデカンジイル基、1,14−テトラデカンジイル基、1,16−ヘキサデカンジイル基、1,18−オクタデカンジイル基、1,20−イコサンジイル基等が挙げられる。 In the above general formula (2), A 1 represents a divalent organic group such as a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenylene group, an arylene group, or a group to which these are bonded. Include methylene, ethane-1,2-diyl, ethene-1,2-diyl, propane-1,3-diyl, propene-1,3-diyl, 2-methylpropane-1,3- Diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,2-phenylene group, 1,2-cyclohexylene group 1,3-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, 1,7-heptanediyl group, norbornane-2,5-diyl group, 1,8-octanediyl group, 1,10-decanediyl group, 1,12-dodecanediyl group, , 14-tetra-decane-diyl group, 1,16-hexadecane-diyl group, 1,18-octadecane-diyl group, 1,20- Ikosanjiiru group and the like.

上記一般式(2)において、Sxはケイ素数2〜2,000、好ましくは2〜200、更に好ましくは2〜20の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。Sxは鎖状、環状、かご状、もしくは部分開裂したかご状の一価又は多価のオルガノシロキサニル基であることが好ましい。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数であり、特に1〜20が好ましい。   In the general formula (2), Sx represents a monovalent or polyvalent organosiloxanyl group having a silicon number of 2 to 2,000, preferably 2 to 200, more preferably 2 to 20. Sx is preferably a chain-like, cyclic, caged, or partially cleaved caged monovalent or polyvalent organosiloxanyl group. α represents the valence of the organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 100, particularly preferably 1 to 20.

更に好ましくは、Sxは下記一般式(6)で表される一価又は多価の環状オルガノシロキサニル基、下記一般式(7)及び(9)で表される一価又は多価の鎖状オルガノシロキサニル基、下記一般式(11)で表される一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基、及び下記一般式(12)で表される部分開裂した一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基の中より選択される。   More preferably, Sx is a monovalent or polyvalent cyclic organosiloxanyl group represented by the following general formula (6), or a monovalent or polyvalent chain represented by the following general formulas (7) and (9). -Like organosiloxanyl group, monovalent or polyvalent cage-like organosiloxanyl group represented by the following general formula (11), and partially cleaved monovalent or polyvalent represented by the following general formula (12) Selected from among cage-like organosiloxanyl groups.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(6)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、aはオルガノシロキサニル基の価数を表し、この場合、式(6)の結合手はa個であるから、α=aであって、1〜10の整数である。また、bは0〜10の整数を表す。Rで表される置換基の例としては、R2の具体例として挙げた基のほかに、3,3,3−トリフルオロプロピル基、ノナフルオロヘキシル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基、4−フルオロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が例示される。 In the general formula (6), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with a fluorine atom, and a represents the valence of the organosiloxanyl group. In this case, since there are a bonds in Formula (6), α = a and an integer of 1 to 10. Moreover, b represents the integer of 0-10. Examples of the substituent represented by R include 3,3,3-trifluoropropyl group, nonafluorohexyl group, tridecafluorooctyl group, heptadecafluoro, in addition to the groups listed as specific examples of R 2. Examples include decyl group, 4-fluorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, pentafluorophenyl group and the like.

上記一般式(6)で表される一価又は多価の環状オルガノシロキサニル基の具体例としては、1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロトリシロキサン−1−イル基、1,3,5−トリメチルシクロペンタシロキサン−1,3,5−トリイル基、1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,5,5,7,7−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン−1,3−ジイル基、1,3,3,5,7,7−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン−1,5−ジイル基、1,3,5,7,7−ペンタメチルシクロテトラシロキサン−1,3,5−トリイル基、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン−1,3,5,7−テトライル基、1−メチル−3,3,5,5,7,7−ヘキサエチルテトラシロキサン−1−イル基、1−エチル−3,3,5,5,7,7−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,5,7−テトラメチル−3,5,7−トリエチルシクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,5,7−テトラメチル−3,5,7−トリビニルシクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,5,7−テトラメチル−3,5,7−トリフェニルシクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,5,7−テトラメチル−3,5,7−トリス(3,3,3−トリフルオロプロピル)シクロテトラシロキサン−1−イル基、1,3,3,5,5,7,7,9,9−ノナメチルシクロペンタシロキサン−1−イル基等が挙げられる。   Specific examples of the monovalent or polyvalent cyclic organosiloxanyl group represented by the general formula (6) include 1,3,3,5,5-pentamethylcyclotrisiloxane-1-yl group, 1 , 3,5-trimethylcyclopentasiloxane-1,3,5-triyl group, 1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl group, 1,3,5, 5,7,7-hexamethylcyclotetrasiloxane-1,3-diyl group, 1,3,3,5,7,7-hexamethylcyclotetrasiloxane-1,5-diyl group, 1,3,5,5 7,7-pentamethylcyclotetrasiloxane-1,3,5-triyl group, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane-1,3,5,7-tetrayl group, 1-methyl-3, 3,5,5,7,7-hexaethyltet Siloxane-1-yl group, 1-ethyl-3,3,5,5,7,7-hexamethylcyclotetrasiloxane-1-yl group, 1,3,5,7-tetramethyl-3,5,7 -Triethylcyclotetrasiloxane-1-yl group, 1,3,5,7-tetramethyl-3,5,7-trivinylcyclotetrasiloxane-1-yl group, 1,3,5,7-tetramethyl- 3,5,7-triphenylcyclotetrasiloxane-1-yl group, 1,3,5,7-tetramethyl-3,5,7-tris (3,3,3-trifluoropropyl) cyclotetrasiloxane Examples include 1-yl group, 1,3,3,5,5,7,7,9,9-nonamethylcyclopentasiloxane-1-yl group.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(7)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、一般式(6)で定義したものと同義である。この場合、式(7)の結合手は1個であるので、α=1である。Rxは炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは下記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表す。Rxで表される置換又は非置換の一価炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、トリフルオロプロピル基、3−グリシジルオキシプロピル基、3−メタクリロイルオキシプロピル基、3−アクリロイルオキシプロピル基、3−クロロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、ノナフルオロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、5−ノルボルネン−2−イルエチル基、トリデカフルオロオクチル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基、デシル基、ヘプタデカフルオロデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、5−ノルボルネニル基、シクロヘキセニルエチル基、オクテニル基、デセニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の置換又は非置換の脂肪族一価炭化水素基、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フェナンスリル基、アントラセニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、ナフチルエチル基等のアリール基、アラルキル基等の芳香族一価炭化水素基及び下記一般式(8)で表される置換基が挙げられる。cは0〜100の整数、より好ましくは0〜10の整数を表す。 In the general formula (7), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and is defined by the general formula (6) It is synonymous with. In this case, α = 1 since the number of bonds in equation (7) is one. R x represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an organic group substituted with a triorganosilylamino group represented by the following general formula (8). Specific examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group represented by R x include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a cyclopropyl group, a trifluoropropyl group, and 3-glycidyloxypropyl. Group, 3-methacryloyloxypropyl group, 3-acryloyloxypropyl group, 3-chloropropyl group, n-butyl group, isobutyl group, 2-butyl group, tert-butyl group, cyclobutyl group, pentyl group, cyclopentyl group, isopentyl Group, tert-pentyl group, methylcyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, texyl group, nonafluorohexyl group, methylcyclohexyl group, heptyl group, cycloheptyl group, norbornyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, isooctyl group, 5-norbornen-2-ylethylene Group, tridecafluorooctyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group, decyl group, heptadecafluorodecyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, icosyl group, vinyl group, allyl group, propenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, hexenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, 5-norbornenyl group, cyclohexenylethyl group, octenyl group, decenyl group, ethynyl group, propynyl group, butynyl group, etc. Substituted aliphatic monovalent hydrocarbon group, phenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl Group, 3,5-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethyl Aryl groups such as ruphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, naphthylethyl group, aralkyl group And aromatic monovalent hydrocarbon groups such as the above and substituents represented by the following general formula (8). c represents an integer of 0 to 100, more preferably an integer of 0 to 10.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(8)において、R1、R2及びA1は上記一般式(1)及び(2)で説明したものと同義の置換基を表す。一般式(8)で表される置換基の具体例としては、N−(エチルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(ビニルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(ジエチルメチルシリル)アミノメチル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(アリルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(トリエチルシリル)アミノメチル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(テキシルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(フェニルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(トリルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(ベンジルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(トリイソプロピルシリル)アミノメチル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)アミノメチル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]アミノメチル基、N−(デシルジメチルシリル)アミノメチル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)アミノメチル基、N−(トリイソブチルシリル)アミノメチル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)アミノメチル基、
N−(エチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(ビニルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(ジエチルメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(アリルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリエチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(テキシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(フェニルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(ベンジルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリイソプロピルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(フェネチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]−3−アミノプロピル基、N−(デシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリイソブチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(ナフチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(tert−ブチルジフェニルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(トリフェニルシリル)−3−アミノプロピル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル基、
N−(エチルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(ビニルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(ジエチルメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(アリルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(トリエチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(テキシルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(フェニルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(トリルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(ベンジルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(トリイソプロピルシリル)−4−アミノブチル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]−4−アミノブチル基、N−(デシルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(トリイソブチルシリル)−4−アミノブチル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)−4−アミノブチル基、
N−(エチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(ビニルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(ジエチルメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(アリルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(トリエチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(テキシルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(フェニルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(トリルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(ベンジルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(トリイソプロピルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(フェネチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(デシルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(トリイソブチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(ナフチルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)−3−アミノ−2−メチルプロピル基、
N−(エチルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(ビニルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(ジエチルメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(アリルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(トリエチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(テキシルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(フェニルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(トリルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(ベンジルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(トリイソプロピルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]−4−アミノフェニル基、N−(デシルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(トリイソブチルシリル)−4−アミノフェニル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)−4−アミノフェニル基、
N−(エチルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(ビニルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(ジエチルメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(n−プロピルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(イソプロピルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(アリルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(tert−ブチルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(2−ブチルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(トリエチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(シクロペンチルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(n−ヘキシルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(シクロヘキシルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(テキシルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(フェニルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(2−ノルボルニルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(トリルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(ベンジルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(トリイソプロピルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(n−オクチルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−[(5−ノルボルネン−2−イルエチル)ジメチルシリル]−3−アミノフェニル基、N−(デシルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(トリ−n−ブチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(トリイソブチルシリル)−3−アミノフェニル基、N−(オクタデシルジメチルシリル)−3−アミノフェニル基等が挙げられる。
In the above general formula (8), R 1 , R 2 and A 1 represent the same substituents as those described in the above general formulas (1) and (2). Specific examples of the substituent represented by the general formula (8) include N- (ethyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (vinyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (diethylmethylsilyl) aminomethyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (allyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (2-butyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (triethylsilyl) aminomethyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (n-hexyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (cyclohexyldimethyl) Silyl) aminomethyl group, N- (texyldimethylsilyl) aminomethyl group, N (Phenyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (tolyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (benzyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (tri Isopropylsilyl) aminomethyl group, N- (n-octyldimethylsilyl) aminomethyl group, N-[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] aminomethyl group, N- (decyldimethylsilyl) aminomethyl group, N- (tri-n-butylsilyl) aminomethyl group, N- (triisobutylsilyl) aminomethyl group, N- (octadecyldimethylsilyl) aminomethyl group,
N- (ethyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (vinyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (diethylmethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) ) -3-aminopropyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (allyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) -3-aminopropyl Group, N- (2-butyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (triethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (n- Hexyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (cyclohexyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group N- (Texyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (Phenyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- ( Tolyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (benzyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (triisopropylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (n-octyldimethylsilyl) -3 -Aminopropyl group, N- (phenethyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N-[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] -3-aminopropyl group, N- (decyldimethylsilyl) -3 -Aminopropyl group, N- (tri-n-butylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (triisobutylsilyl) -3 Aminopropyl group, N- (naphthyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (tert-butyldiphenylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (triphenylsilyl) -3-aminopropyl group, N- (Octadecyldimethylsilyl) -3-aminopropyl group,
N- (ethyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (vinyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (diethylmethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) ) -4-aminobutyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (allyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) -4-aminobutyl Group, N- (2-butyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (triethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (n- Hexyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (cyclohexyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (texyldimethyl) Ryl) -4-aminobutyl group, N- (phenyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (tolyldimethylsilyl) -4 -Aminobutyl group, N- (benzyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (triisopropylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (n-octyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N -[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] -4-aminobutyl group, N- (decyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (tri-n-butylsilyl) -4-aminobutyl group N- (triisobutylsilyl) -4-aminobutyl group, N- (octadecyldimethylsilyl) -4-aminobutyl group,
N- (ethyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (vinyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (diethylmethylsilyl) -3-amino-2- Methylpropyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (allyldimethylsilyl)- 3-amino-2-methylpropyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (2-butyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (triethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl N- (n-hexyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (cyclohexyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (texyldimethylsilyl) -3- Amino-2-methylpropyl group, N- (phenyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (Tolyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (benzyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (triisopropylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl Group, N- (n-octyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (phenethyldimethylsilyl) -3-amino-2 Methylpropyl group, N-[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] -3-amino-2-methylpropyl group, N- (decyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (Tri-n-butylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (triisobutylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group, N- (naphthyldimethylsilyl) -3-amino-2- Methylpropyl group, N- (octadecyldimethylsilyl) -3-amino-2-methylpropyl group,
N- (ethyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (vinyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (diethylmethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) ) -4-aminophenyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (allyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) -4-aminophenyl Group, N- (2-butyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (triethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (n- Hexyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (cyclohexyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group N- (Texyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (phenyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- ( Tolyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (benzyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (triisopropylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (n-octyldimethylsilyl) -4 -Aminophenyl group, N-[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] -4-aminophenyl group, N- (decyldimethylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (tri-n-butylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (triisobutylsilyl) -4-aminophenyl group, N- (octadecyldimethylsilyl)- - aminophenyl group,
N- (ethyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (vinyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (diethylmethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (n-propyldimethylsilyl) ) -3-aminophenyl group, N- (isopropyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (allyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (tert-butyldimethylsilyl) -3-aminophenyl Group, N- (2-butyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (triethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (cyclopentyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (n- Hexyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (cyclohexyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group N- (Texyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (Phenyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (2-norbornyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- ( Tolyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (benzyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (triisopropylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (n-octyldimethylsilyl) -3 -Aminophenyl group, N-[(5-norbornen-2-ylethyl) dimethylsilyl] -3-aminophenyl group, N- (decyldimethylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (tri-n-butylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (triisobutylsilyl) -3-aminophenyl group, N- (octadecyldimethylsilyl)- - aminophenyl group, and the like.

上記一般式(7)で表される直鎖状オルガノシロキサニル基の具体例としては、ペンタメチルジシロキサニル基、3−ビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−メタクリロイルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−アクリロイルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−グリシジルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−クロロプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシルエチル)−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−(5−ノルボルネニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−(5−ノルボルネニルエチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(トリエチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(tert−ブチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(テキシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(トリイソプロピルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(トリイソブチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(フェニルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(オクチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(デシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(オクタデシルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(ベンジルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(フェネチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、3−[N−(ナフチルジメチルシリル)−3−アミノプロピル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル基、1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン−1−イル基、1,1,3,3,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキサン−1−イル基、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,9−ウンデカメチルペンタシロキサン−1−イル基等が挙げられる。   Specific examples of the linear organosiloxanyl group represented by the general formula (7) include a pentamethyldisiloxanyl group, 3-vinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1 -Yl group, 3-methacryloyloxypropyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3-acryloyloxypropyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl Group, 3-glycidyloxypropyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- (3,3,3-trifluoropropyl) -1,1,3,3-tetramethyl Disiloxane-1-yl group, 3-chloropropyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- (3,4-epoxycyclohexylethyl) -tetramethyldisiloxane 1-yl group, 3- (5-norbornenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- (5-norbornenylethyl) -1,1,3,3- Tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (triethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- ( tert-Butyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (Texyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1 , 1,3,3-Tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (triisopropylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl The group 3- [N- (triisobuty Silyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (phenyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3 3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (octyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [ N- (decyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (octadecyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1 , 1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (benzyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl Group, 3- [N -(Phenethyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 3- [N- (naphthyldimethylsilyl) -3-aminopropyl] -1, 1,3,3-tetramethyldisiloxane-1-yl group, 1,1,3,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane-1-yl group, 1,1,3,3,5,5 5,7,7,7-nonamethyltetrasiloxane-1-yl group, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,9-undecamethylpentasiloxane-1-yl group Etc.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(9)において、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、一般式(6)で定義したものと同義である。Rxは同一でも異なってもよく、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは上記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表し、一般式(7)で定義したものと同義である。RSは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは下記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。RSで表される一価炭化水素基の具体例は、R2の例として挙げた置換基と同じである。dはオルガノシロキサニル基の価数を表し、この場合、式(9)の結合手はd個であるから、α=dであって、1〜100の整数、より好ましくは1〜10の整数を表す。eは0〜100の整数、より好ましくは0〜10の整数を表す。 In the above general formula (9), R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and is defined by the general formula (6) It is synonymous with. R x may be the same or different and represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an organic group substituted with a triorganosilylamino group represented by the above general formula (8). , Which is synonymous with that defined by the general formula (7). R S represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a triorganosiloxy group represented by the following general formula (10). Specific examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R S are the same as the substituents exemplified as R 2 . d represents the valency of the organosiloxanyl group. In this case, since the number of bonds in the formula (9) is d, α = d and an integer of 1 to 100, more preferably 1 to 10. Represents an integer. e represents an integer of 0 to 100, more preferably an integer of 0 to 10.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(9)で表される直鎖状あるいは分岐鎖状オルガノシロキサニル基の具体例としては、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン−3−イル基、1,1,1,5,5,5−ヘキサメチル−3−トリメチルシロキシトリシロキサン−3−イル基、1,5−ジヘキシル−1,1,5,5−テトラメチル−3−ヘキシルジメチルシロキシトリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ジビニルトリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ジフェニルトリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ビス(3−クロロプロピル)トリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ビス(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ビス(5−ノルボルニルエチル)トリシロキサン−3−イル基、1,1,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ビス(5−ノルボルネニル)トリシロキサン−3−イル基、1,1,1,3,5,5,7,7,7−オクタメチルテトラシロキサン−3−ジイル基、1,1,1,3,5,7,7,7−オクタメチルテトラシロキサン−3,5−ジイル基、α,ω−ビス(トリメチルシロキシ)ポリジメチルシロキサニル基等が挙げられる。   Specific examples of the linear or branched organosiloxanyl group represented by the general formula (9) include 1,1,1,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane-3-yl. Group, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3-trimethylsiloxytrisiloxane-3-yl group, 1,5-dihexyl-1,1,5,5-tetramethyl-3-hexyldimethylsiloxy Trisiloxane-3-yl group, 1,1,3,5,5-pentamethyl-1,5-divinyltrisiloxane-3-yl group, 1,1,3,5,5-pentamethyl-1,5-diphenyl Trisiloxane-3-yl group, 1,1,3,5,5-pentamethyl-1,5-bis (3-chloropropyl) trisiloxane-3-yl group, 1,1,3,5,5-pentamethyl -1,5-bis (3,3,3-to Fluoropropyl) trisiloxane-3-yl group, 1,1,3,5,5-pentamethyl-1,5-bis (5-norbornylethyl) trisiloxane-3-yl group, 1,1,3, 5,5-pentamethyl-1,5-bis (5-norbornenyl) trisiloxane-3-yl group, 1,1,1,3,5,5,7,7,7-octamethyltetrasiloxane-3-diyl Group, 1,1,1,3,5,7,7,7-octamethyltetrasiloxane-3,5-diyl group, α, ω-bis (trimethylsiloxy) polydimethylsiloxanyl group and the like.

上記一般式(10)において、Rは一般式(9)で定義したものと同義の置換基を表す。一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基の具体例としては、トリメチルシロキシ基、エチルジメチルシロキシ基、ビニルジメチルシロキシ基、エチニルジメチルシロキシ基、ジエチルメチルシロキシ基、n−プロピルジメチルシロキシ基、3,3,3−トリフルオロプロピルジメチルシロキシ基、イソプロピルジメチルシロキシ基、シクロプロピルジメチルシロキシ基、アリルジメチルシロキシ基、n−ブチルジメチルシロキシ基、イソブチルジメチルシロキシ基、tert−ブチルジメチルシロキシ基、シクロブチルジメチルシロキシ基、2−ブチルジメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリビニルシロキシ基、n−ペンチルジメチルシロキシ基、シクロペンチルジメチルシロキシ基、メチルジイソプロピルシロキシ基、イソプロピルジエチルシロキシ基、n−ヘキシルジメチルシロキシ基、ノナフルオロヘキシルジメチルシロキシ基、シクロヘキシルジメチルシロキシ基、シクロヘキセニルジメチルシロキシ基、テキシルジメチルシロキシ基、1−メチルシクロペンチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチルシロキシ基、(ペンタフルオロフェニル)ジメチルシロキシ基、n−ブチルジエチルシロキシ基、n−ヘプチルジメチルシロキシ基、シクロヘプチルジメチルシロキシ基、2−ノルボルニルジメチルシロキシ基、5−ノルボルネン−2−イルジメチルシロキシ基、2−トリルジメチルシロキシ基、3−トリルジメチルシロキシ基、4−トリルジメチルシロキシ基、トリイソプロピルシロキシ基、n−オクチルジメチルシロキシ基、トリデカフルオロオクチルジメチルシロキシ基、5−ノルボルネン−2−イルエチルジメチルシロキシ基、n−ヘキシルジエチルシロキシ基、デシルジメチルシロキシ基、ヘプタデカフルオロデシルジメチルシロキシ基、トリ−n−ブチルシロキシ基、トリイソブチルシロキシ基、ドデシルジメチルシロキシ基、テトラデシルジメチルシロキシ基、ヘキサデシルジメチルシロキシ基、オクタデシルジメチルシロキシ基、イコシルジメチルシロキシ基等が挙げられる。   In the general formula (10), R represents a substituent having the same meaning as that defined in the general formula (9). Specific examples of the triorganosiloxy group represented by the general formula (10) include trimethylsiloxy group, ethyldimethylsiloxy group, vinyldimethylsiloxy group, ethynyldimethylsiloxy group, diethylmethylsiloxy group, n-propyldimethylsiloxy group, 3,3,3-trifluoropropyldimethylsiloxy group, isopropyldimethylsiloxy group, cyclopropyldimethylsiloxy group, allyldimethylsiloxy group, n-butyldimethylsiloxy group, isobutyldimethylsiloxy group, tert-butyldimethylsiloxy group, cyclobutyl Dimethylsiloxy group, 2-butyldimethylsiloxy group, triethylsiloxy group, trivinylsiloxy group, n-pentyldimethylsiloxy group, cyclopentyldimethylsiloxy group, methyldiisopropylsiloxy group Isopropyldiethylsiloxy group, n-hexyldimethylsiloxy group, nonafluorohexyldimethylsiloxy group, cyclohexyldimethylsiloxy group, cyclohexenyldimethylsiloxy group, hexyldimethylsiloxy group, 1-methylcyclopentyldimethylsiloxy group, phenyldimethylsiloxy group, ( Pentafluorophenyl) dimethylsiloxy group, n-butyldiethylsiloxy group, n-heptyldimethylsiloxy group, cycloheptyldimethylsiloxy group, 2-norbornyldimethylsiloxy group, 5-norbornen-2-yldimethylsiloxy group, 2- Tolyldimethylsiloxy group, 3-tolyldimethylsiloxy group, 4-tolyldimethylsiloxy group, triisopropylsiloxy group, n-octyldimethylsiloxy group, tridecafluoro Octyldimethylsiloxy group, 5-norbornen-2-ylethyldimethylsiloxy group, n-hexyldiethylsiloxy group, decyldimethylsiloxy group, heptadecafluorodecyldimethylsiloxy group, tri-n-butylsiloxy group, triisobutylsiloxy group, Examples include dodecyldimethylsiloxy group, tetradecyldimethylsiloxy group, hexadecyldimethylsiloxy group, octadecyldimethylsiloxy group, icosyldimethylsiloxy group and the like.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(11)において、Rは上記一般式(6)で定義したものと同義である。RSは上記一般式(9)で定義したものと同義である。f及びhは0〜10の整数であり、好ましくは0〜3の整数である。gはオルガノシロキサニル基の価数を表し、この場合、式(11)の結合手はg個であるから、α=gであって、1〜20の整数であり、iは0〜19の整数を表す。但し、gとiの和は6〜20であり、好ましくは6〜14、より好ましくは6,8,10,12,14のいずれかである。一般式(11)で表されるかご状オルガノシロキサニル基のシロキサン骨格としては、例えば、下記構造[D]のものが挙げられる(ケイ素原子と酸素原子のみを示す)。 In the said General formula (11), R is synonymous with what was defined by the said General formula (6). R S has the same meaning as defined in the general formula (9). f and h are integers of 0 to 10, preferably integers of 0 to 3. g represents the valence of the organosiloxanyl group. In this case, since there are g bonds in the formula (11), α = g, an integer of 1 to 20, and i is 0 to 19 Represents an integer. However, the sum of g and i is 6 to 20, preferably 6 to 14, more preferably 6, 8, 10, 12, or 14. Examples of the siloxane skeleton of the cage-shaped organosiloxanyl group represented by the general formula (11) include those having the following structure [D] (only silicon atoms and oxygen atoms are shown).

Figure 2007031321
Figure 2007031321

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(12)において、Rは上記一般式(6)で定義したものと同義である。RSは上記一般式(9)で定義したものと同義であり、Rtは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは上記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。Rtで表される置換基の具体例としては、RSとして例示した基が挙げられる。j、l及びnは0〜10の整数であり、好ましくは0〜3の整数である、kはシロキサニル基の価数を示し、この場合、式(12)の結合手はk個であるので、α=kであって、1〜3の整数である。また、mは0〜2の整数を表し、kとmの和は3である。この場合、mが2のとき、Rtは互いに結合して下記式(13)

Figure 2007031321

(但し、Rは上記の通り)
で表される基を形成してもよい。oは2〜10の整数を表し、好ましくは2,4,6,8,10のいずれかである。一般式(12)で表される部分開裂したかご状オルガノシロキサンのシロキサン骨格として、例えば、下記構造[E]のものが挙げられる(ケイ素原子と酸素原子のみを示す)。 In the said General formula (12), R is synonymous with what was defined by the said General formula (6). R S has the same meaning as defined in the general formula (9), and R t represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a triorganosiloxy group represented by the general formula (10). Specific examples of the substituent represented by R t include the groups exemplified as R S. j, l and n are integers of 0 to 10, preferably an integer of 0 to 3. k represents the valence of the siloxanyl group, and in this case, the number of bonds in formula (12) is k. , Α = k, and an integer of 1 to 3. M represents an integer of 0 to 2, and the sum of k and m is 3. In this case, when m is 2, R t are bonded to each other and the following formula (13)
Figure 2007031321

(However, R is as above)
You may form group represented by these. o represents an integer of 2 to 10, and is preferably any of 2, 4, 6, 8, and 10. Examples of the siloxane skeleton of the partially cleaved cage organosiloxane represented by the general formula (12) include those having the following structure [E] (only silicon atoms and oxygen atoms are shown).

Figure 2007031321
Figure 2007031321

本発明においては、上記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの前駆体である下記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したシリルアミド酸トリオルガノシリルエステルを提供する。更に、上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることによる、下記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法を提供する。   In the present invention, there is provided a silylamidic acid triorganosilyl ester bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (4), which is a precursor of an imide bonded with an organosiloxane represented by the above general formula (5). . Furthermore, the triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the above general formula (2) is reacted with the dicarboxylic acid anhydride represented by the following general formula (3), which is represented by the following general formula (4). A method for producing a triorganosilyl ester of amic acid to which an organosiloxane is bonded is provided.

Figure 2007031321
Figure 2007031321

上記一般式(3)及び(4)において、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、これらが結合した基等の二価の有機基、Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、上述した通りの意味を表す。R1、R2及びSxは上記一般式(1)及び(2)で説明したものと同義の置換基を表す。 In the above general formulas (3) and (4), A 1 is a divalent organic group such as a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenylene group, an arylene group, a group to which these are bonded, and Sx is It represents a monovalent or polyvalent organosiloxanyl group having a silicon number of 2 to 2,000. α represents the valence of the organosiloxanyl group and has the same meaning as described above. R 1 , R 2 and Sx represent substituents having the same meanings as described in the general formulas (1) and (2).

上記一般式(3)及び(4)において、A2は炭素数2〜40、好ましくは2〜20、更に好ましくは2〜10の置換又は非置換の二価のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、これらが結合した基等の有機基を表す。A2の具体例としては1,2−エタンジイル基、1,2−エテンジイル基、1,3−プロパンジイル基、2,3−ブタンジイル基、2−ブテン−2,3−ジイル基、7−オクテン−1,2−ジイル基、シクロへキシレン基、1,2−フェニレン基、3,4,5,6−テトラヒドロベンゼン−1,2−ジイル基、4−クロロベンゼン−1,2−ジイル基、5−ノルボルネン−2,3−ジイル基、4,5,6,7−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジイル基、ナフタレン−1,8−ジイル基、ナフタレン−1,2−ジイル基、ナフタレン−2,3−ジイル基等が挙げられる。 In the above general formulas (3) and (4), A 2 is a substituted or unsubstituted divalent alkylene group, alkenylene group or arylene group having 2 to 40 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms. Represents an organic group such as a group to which these are bonded. Specific examples of A 2 include 1,2-ethanediyl group, 1,2-ethenediyl group, 1,3-propanediyl group, 2,3-butanediyl group, 2-butene-2,3-diyl group, and 7-octene. -1,2-diyl group, cyclohexylene group, 1,2-phenylene group, 3,4,5,6-tetrahydrobenzene-1,2-diyl group, 4-chlorobenzene-1,2-diyl group, 5 -Norbornene-2,3-diyl group, 4,5,6,7-tetrahydronaphthalene-1,2-diyl group, naphthalene-1,8-diyl group, naphthalene-1,2-diyl group, naphthalene-2, 3-diyl group etc. are mentioned.

上記一般式(3)で表される化合物の例としては、無水こはく酸、2−メチリデンこはく酸無水物、アリルこはく酸無水物、2−ブテニルこはく酸無水物、(2−メチル−2−プロペニル)こはく酸無水物、オクチルこはく酸無水物、オクテニルこはく酸無水物、(2,7−オクタジエニル)こはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、 ドデセニルこはく酸無水物、デシルこはく酸無水物、デセニルこはく酸無水物、テトラデシルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ヘキサデシルこはく酸無水物、ヘキサデセニルこはく酸無水物、オクタデシルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、無水マレイン酸、2−メチルマレイン酸無水物、2,3−ジメチルマレイン酸無水物、グルタル酸無水物、2,2−ジメチルグルタル酸無水物、3,3−ジメチルグルタル酸無水物、3−メチルグルタル酸無水物、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロペンタン二酸無水物、無水フタル酸、3−フルオロフタル酸無水物、4−フルオロフタル酸無水物、4−クロロフタル酸無水物、4,5−ジクロロフタル酸無水物、テトラクロロフタル酸無水物、4−ブロモフタル酸無水物、テトラブロモフタル酸無水物、3−ニトロフタル酸無水物、4−ニトロフタル酸無水物、4−メチルフタル酸無水物、4−エチニルフタル酸無水物、4−tert−ブチルフタル酸無水物、4−フェニルエチニルフタル酸無水物、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、2,3−ピリジンジカルボン酸無水物、7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、無水トリメリット酸クロライド、無水トリメリット酸メチルエステル、無水トリメリット酸トリメチルシリルエステル、無水トリメリット酸トリエチルシリルエステル、無水トリメリット酸tert−ブチルジメチルシリルエステル、無水トリメリット酸フェニルジメチルシリルエステル、無水トリメリット酸テキシルジメチルシリルエステル、無水トリメリット酸トリイソプロピルエステル、無水トリメリット酸トリイソブチルエステル、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、1,4,5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、1,1−シクロペンタン二酢酸無水物、ナフタレン−1,8−ジカルボン酸無水物、ナフタレン−1,2−ジカルボン酸無水物、ナフタレン−2,3−ジカルボン酸無水物、4−ブロモナフタレン−1,2−ジカルボン酸無水物、2,2’−ビフェニルジカルボン酸無水物等が挙げられる。   Examples of the compound represented by the general formula (3) include succinic anhydride, 2-methylidene succinic anhydride, allyl succinic anhydride, 2-butenyl succinic anhydride, (2-methyl-2-propenyl). ) Succinic anhydride, octyl succinic anhydride, octenyl succinic anhydride, (2,7-octadienyl) succinic anhydride, dodecyl succinic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, decyl succinic anhydride, decenyl succinic Acid anhydride, tetradecyl succinic anhydride, tetradecenyl succinic anhydride, hexadecyl succinic anhydride, hexadecenyl succinic anhydride, octadecyl succinic anhydride, octadecenyl succinic anhydride, maleic anhydride, 2-methylmaleic anhydride 2,3-dimethylmaleic anhydride, glutaric anhydride, 2,2-dimethylglucan Luric anhydride, 3,3-dimethylglutaric anhydride, 3-methylglutaric anhydride, 2,2,3,3,4,4-hexafluoropentanedioic anhydride, phthalic anhydride, 3-fluoro Phthalic anhydride, 4-fluorophthalic anhydride, 4-chlorophthalic anhydride, 4,5-dichlorophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, 4-bromophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride 3-nitrophthalic anhydride, 4-nitrophthalic anhydride, 4-methylphthalic anhydride, 4-ethynylphthalic anhydride, 4-tert-butylphthalic anhydride, 4-phenylethynylphthalic anhydride, cyclohexane 1,2-dicarboxylic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 4- Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 2,3-pyridine Dicarboxylic anhydride, 7-oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride, trimellitic anhydride chloride, trimellitic anhydride methyl ester, trimellitic anhydride trimethylsilyl ester , Trimellitic anhydride triethylsilyl ester, trimellitic anhydride tert-butyldimethylsilyl ester, trimellitic anhydride phenyldimethylsilyl ester, trimellitic anhydride texyldimethylsilyl ester, trimellitic anhydride triisopropyl ester, trimellitic anhydride Acid triisobutyl ester Ter, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 1,4,5,6,7,7-hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 1,1-cyclopentanediacetic acid Anhydride, naphthalene-1,8-dicarboxylic acid anhydride, naphthalene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, naphthalene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, 4-bromonaphthalene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 2,2′-biphenyldicarboxylic acid anhydride and the like.

上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物との反応は、通常溶媒の存在下に行う。使用できる溶媒としては非プロトン性溶媒が好ましく、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルアセタミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、ヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等を用いることができる。二種類以上の溶媒を混合して使用することもできる。反応基質であるジカルボン酸無水物は水分と反応して低反応性のジカルボン酸となるので、本反応には水分を低減した溶媒を用いることが好ましい。溶媒の使用量は任意であるが、反応基質及び生成物を溶解させるのに十分な量を用いることが好ましい。   The reaction of the triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the general formula (2) and the dicarboxylic acid anhydride represented by the following general formula (3) is usually performed in the presence of a solvent. As a solvent that can be used, an aprotic solvent is preferable, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ketones such as acetone, cyclopentanone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone, N, N-dimethyl Amides such as acetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, hydrocarbons such as hexane, isooctane, benzene, toluene, xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and dichloroethane, acetonitrile, propio Nitriles such as nitrile and benzonitrile, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and the like can be used. Two or more kinds of solvents can be mixed and used. Since the dicarboxylic acid anhydride which is a reaction substrate reacts with water to form a low-reactivity dicarboxylic acid, it is preferable to use a solvent with reduced water content in this reaction. The amount of the solvent used is arbitrary, but it is preferable to use an amount sufficient to dissolve the reaction substrate and the product.

この場合、式(2)のトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと式(3)のジカルボン酸無水物の使用割合は適宜選定されるが、前者1モルに対して後者0.5〜2モル、特に0.8〜1.2モルとすることが好ましい。   In this case, the proportion of the triorganosilylamino group-containing organosiloxane of the formula (2) and the dicarboxylic acid anhydride of the formula (3) is appropriately selected, but the latter 0.5 to 2 mol with respect to 1 mol of the former, In particular, the amount is preferably 0.8 to 1.2 mol.

上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンが二個以上のトリオルガノシリルアミノ基を有する場合には、反応させる上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物の当量を調節することによって全てあるいは一部のトリオルガノシリルアミノ基を反応させることが可能である。   When the triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the general formula (2) has two or more triorganosilylamino groups, the dicarboxylic acid anhydride represented by the general formula (3) to be reacted is used. It is possible to react all or part of the triorganosilylamino group by adjusting the equivalent amount.

上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物との反応温度は60℃以下、より好ましくは0〜40℃で行うのがよい。反応温度が高いと生成したアミド酸トリオルガノシリルエステルが一部イミド化して純度が低下する。また過度に冷却すると反応進行が遅くなる。   The reaction temperature of the triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the general formula (2) and the dicarboxylic acid anhydride represented by the general formula (3) is 60 ° C. or lower, more preferably 0 to 40 ° C. Good to do. When the reaction temperature is high, the produced amic acid triorganosilyl ester is partially imidized and the purity is lowered. Moreover, when it cools too much, reaction progress will become slow.

このようにして製造される上記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルとしては、例えば、表1〜表78に例示するものなどが挙げられる。   Examples of the amic acid triorganosilyl ester to which the organosiloxane represented by the general formula (4) thus produced is bonded include those exemplified in Tables 1 to 78.

ここで、上記一般式(4)のアミド酸トリオルガノシリルエステルとしては、下記一般式(4)−1〜(4)−7で表されるものが挙げられる。   Here, examples of the amic acid triorganosilyl ester of the general formula (4) include those represented by the following general formulas (4) -1 to (4) -7.

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(上記式中、R1、R2、A1、A2、R、a、b、Rx、c、RS、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、n、o、Rtは上記定義の通りである。Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rfはそれぞれ上記Rと同様に定義される基である。)
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(In the formula, R 1, R 2, A 1, A 2, R, a, b, R x, c, R S, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m , N, o, and R t are as defined above, and R a , R b , R c , R d , R e , and R f are groups defined in the same manner as R above.)

本発明においては、上記一般式(4)のアミド酸トリオルガノシリルエステルを脱トリオルガノシラノール反応により閉環イミド化させることによる下記一般式(5)のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法、好ましくは、上記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が結合した、上記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることにより、上記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、該アミド酸トリオルガノシリルエステルを閉環イミド化させることによる、下記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法を提供する。   In the present invention, a method for producing an imide bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (5) by ring-closing imidation of the amic acid triorganosilyl ester represented by the general formula (4) by detriorganosilanol reaction, preferably A triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the above general formula (2) to which a triorganosilyl group represented by the above general formula (1) is bonded, and a dicarboxylic acid represented by the above general formula (3) By reacting with an acid anhydride, the amic acid triorganosilyl ester represented by the above general formula (4) is obtained, and then the amic acid triorganosilyl ester is ring-closed imidized by a detriorganosilanol reaction. Provides a method for producing an imide bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (5) That.

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上記式(5)において、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表し、これらの基は上記一般式(1)〜(4)において説明したものと同義である。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。 In the above formula (5), R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be the same or different, and A 1 is 1 to 1 carbon atom. 20 substituted or unsubstituted divalent organic groups, A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms. Sx represents a monovalent or polyvalent organosiloxanyl group having a silicon number of 2 to 2,000, and these groups have the same meanings as described in the general formulas (1) to (4). α represents the valence of the organosiloxanyl group and is an integer of 1 to 100.

本発明のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法においては、前記の本発明の製造方法により上記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、該アミド酸トリオルガノシリルエステルを閉環イミド化させる。脱トリオルガノシラノール反応によるイミド化は、上記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを加熱することにより行うことが好ましい。イミド化反応の温度は40℃以上、好ましくは100〜300℃である。   In the method for producing an imide bonded with an organosiloxane according to the present invention, the triorganosilyl ester represented by the general formula (4) is obtained by the production method according to the present invention, and then detriorganosilanol reaction is performed. The amic acid triorganosilyl ester is ring-closed imidized. The imidization by the detriorganosilanol reaction is preferably performed by heating the amic acid triorganosilyl ester represented by the general formula (4). The temperature of the imidization reaction is 40 ° C. or higher, preferably 100 to 300 ° C.

アミド酸トリオルガノシリルエステルは単離したものを用いてもよいし、単離せずに反応混合物を用いてイミド化反応を行ってもよい。イミド化反応には溶媒を用いてもよく、前記アミド酸トリオルガノシリルエステルの製造に用いられる溶媒が使用できる。   The amidic acid triorganosilyl ester may be isolated, or may be imidized using the reaction mixture without isolation. A solvent may be used for the imidation reaction, and a solvent used for producing the amidic acid triorganosilyl ester can be used.

イミド化反応は生成したトリオルガノシラノールを留去しながら減圧下で行うか、あるいは窒素やアルゴンなどの不活性ガス気流中で生成したトリオルガノシラノールを留去しながら常圧下に行うのが好ましい。   The imidation reaction is preferably carried out under reduced pressure while distilling off the generated triorganosilanol, or under normal pressure while distilling off the triorganosilanol produced in an inert gas stream such as nitrogen or argon.

以下、表1〜表78を示す。ここで、下記表において、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基、i−Prはイソプロピル基、t−Buはtert−ブチル基、i−Buはイソブチル基、c−Penはシクロペンチル基、Txはテキシル基、c−Hexはシクロヘキシル基、Phはフェニル基、Viはビニル基、TFPは3,3,3−トリフルオロプロピル基、TMSOはトリメチルシロキシ基、NFHは3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基、TDFOは3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチル基、HDFDは3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル基を表す。   Tables 1 to 78 are shown below. Here, in the following table, Me is a methyl group, Et is an ethyl group, Pr is a propyl group, i-Pr is an isopropyl group, t-Bu is a tert-butyl group, i-Bu is an isobutyl group, and c-Pen is cyclopentyl. Group, Tx is texyl group, c-Hex is cyclohexyl group, Ph is phenyl group, Vi is vinyl group, TFP is 3,3,3-trifluoropropyl group, TMSO is trimethylsiloxy group, NFH is 3,3,4 , 4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, TDFO is 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl Group, HDFD represents 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl group.

表1〜5の化合物:

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Compounds in Tables 1-5:
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表6〜11の化合物:

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Compounds in Tables 6-11:
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表12〜22の化合物:

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Compounds in Tables 12-22:
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表23〜30の化合物:

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Compounds in Tables 23-30:
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表31〜51の化合物:

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Compounds in Tables 31-51:
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表52〜62の化合物:

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Compounds in Tables 52-62:
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表63〜78の化合物:

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Compounds in Tables 63-78:
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以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において、反応はすべて窒素雰囲気下で行った。目的物のGC測定は10%THF溶液として行い、溶媒ピークを差し引いて純度を算出した。GPC測定はTHF溶離液、カラムはTSKgelSuperHZ2000(東ソー(株)製)×3を用い、UV検出器(波長254nm)を使用した。溶媒に起因するピークを差し引いて純度を算出した。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the following examples, all reactions were performed in a nitrogen atmosphere. The GC measurement of the target product was performed as a 10% THF solution, and the purity was calculated by subtracting the solvent peak. For GPC measurement, THF eluent, TSKgelSuperHZ2000 (manufactured by Tosoh Corp.) × 3 was used, and a UV detector (wavelength 254 nm) was used. The purity was calculated by subtracting the peak due to the solvent.

[実施例1] 1−[3−(tert−ブチルジメチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサンを原料とした、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの合成(下記式中、Meはメチル基を、t−Buは第三ブチル基を表す。)     [Example 1] 1- [3- (tert-Butyldimethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was used as a raw material. Synthesis of (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide (wherein Me represents a methyl group and t-Bu represents a tert-butyl group) To express.)

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(アミド酸シリルエステル合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸1.48g(10mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水テトラヒドロフラン(以下、THFと略)24gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートより1−[3−(tert−ブチルジメチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン4.54g(10mmol)を2.5時間で滴下した。滴下後室温で1時間撹拌したところ、原料が消失したことがGC分析により確認された。反応混合物を少量採取して濃縮し、EI−MSにより分析すると、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸tert−ブチルジメチルシリルエステルが主生成物として生成していることが判明した。   (Amic acid silyl ester synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel was purged with nitrogen. 1.48 g (10 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 24 g of dehydrated tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF) was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 4.54 g (10 mmol) of 1- [3- (tert-butyldimethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane from a dropping funnel. ) Was added dropwise over 2.5 hours. After stirring for 1 hour at room temperature, the disappearance of the raw material was confirmed by GC analysis. A small amount of the reaction mixture was collected, concentrated, and analyzed by EI-MS to find N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamide. It was found that acid tert-butyldimethylsilyl ester was formed as the main product.

N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸tert−ブチルジメチルシリルエステルのEI−MSによる分析結果を以下に示す。m/z 601(M+),586,544,454,281,130,73 The results of EI-MS analysis of N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamic acid tert-butyldimethylsilyl ester are shown below. Show. m / z 601 (M + ), 586, 544, 454, 281, 130, 73

(常圧でのイミド化反応)上記反応混合物を減圧濃縮するとオレンジ色の油状物が6.06g得られた。この油状物180mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、窒素通気しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して200℃で1時間加熱した。冷却すると黄色の固体137mgが得られ、EI−MS及びFT−IRの分析結果より、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドであることがわかった。GC純度は99.5%、GPC純度は95.1%であり、収率は無水フタル酸に対して98.1%であった。N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドのEI−MS分析結果を以下に示す。m/z 469(M+),454,281,130 (Imidation reaction under normal pressure) The above reaction mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 6.06 g of an orange oil. 180 mg of this oily substance was weighed into a glass vial, and the vial was put in an oven with the cap removed, and heated at 80 ° C. for 1 hour while nitrogen was bubbled, and further heated at 200 ° C. for 1 hour. Upon cooling, 137 mg of a yellow solid was obtained. From the analysis results of EI-MS and FT-IR, the target N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane- 1-yl) propyl] phthalimide. The GC purity was 99.5%, the GPC purity was 95.1%, and the yield was 98.1% based on phthalic anhydride. The EI-MS analysis results of N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide are shown below. m / z 469 (M + ), 454, 281, 130

(減圧でのイミド化反応)上記油状物113mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、3.0kPaに減圧しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して130℃で2時間加熱した。冷却すると黄色の固体82mgが得られ、EI−MSの分析結果より、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドであることがわかった。GC純度は99.1%、GPC純度は96.5%であり、収率は無水フタル酸に対して96.0%であった。   (Imidation reaction under reduced pressure) 113 mg of the above oily substance was weighed into a glass vial, and the vial was placed in an oven with the cap removed, and the temperature was gradually raised at 80 ° C. for 1 hour while reducing the pressure to 3.0 kPa. And heated at 130 ° C. for 2 hours. Upon cooling, 82 mg of a yellow solid was obtained. From the result of EI-MS analysis, the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) was obtained. Propyl] phthalimide. The GC purity was 99.1%, the GPC purity was 96.5%, and the yield was 96.0% based on phthalic anhydride.

[実施例2] 1−[3−(トリエチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサンを原料とした、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの合成(下記式中、Etはエチル基を表す。)     [Example 2] N- [3- (1, 1- [3- (triethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was used as a raw material. Synthesis of 3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide (In the following formula, Et represents an ethyl group.)

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(アミド酸シリルエステル合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸1.48g(10mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水THF24gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートより1−[3−(トリエチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン4.54g(10mmol)を2.5時間で滴下した。滴下後室温で1時間撹拌したところ、原料が消失したことがGC分析(検出器TCD、以下同様)により確認された。反応混合物を少量採取して濃縮し、EI−MSにより分析すると、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸トリエチルシリルエステルが定量的収率で生成していることが判明した。   (Amic acid silyl ester synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel was purged with nitrogen. 1.48 g (10 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 24 g of dehydrated THF was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 4.54 g (10 mmol) of 1- [3- (triethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was added from the dropping funnel. Dropped in 5 hours. After stirring for 1 hour at room temperature, the disappearance of the raw material was confirmed by GC analysis (detector TCD, the same applies hereinafter). A small amount of the reaction mixture was collected, concentrated, and analyzed by EI-MS to find N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamide. It was found that acid triethylsilyl ester was produced in quantitative yield.

N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸トリエチルシリルエステルのEI−MS分析結果を以下に示す。m/z 601(M+),572,454,281,130 The EI-MS analysis result of N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamic acid triethylsilyl ester is shown below. m / z 601 (M + ), 572, 454, 281, 130

(減圧でのイミド化反応)上記反応混合物を減圧濃縮すると淡黄色の油状物が6.20g得られた。この油状物127mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、3.0kPaに減圧しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して130℃で1時間加熱した。冷却すると淡黄色の固体96mgが得られ、EI−MSの分析結果より、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドであることがわかった。GC純度は96.9%、GPC純度は95.9%であり、収率は無水フタル酸に対して99.8%であった。   (Imidation reaction under reduced pressure) The above reaction mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 6.20 g of a pale yellow oil. Weigh 127 mg of this oil in a glass vial, put the vial in an oven with the cap removed, heat at 80 ° C. for 1 hour while reducing the pressure to 3.0 kPa, and heat at 130 ° C. for 1 hour. did. Upon cooling, 96 mg of a pale yellow solid was obtained. From the results of EI-MS analysis, the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl] was obtained. ) Propyl] phthalimide. The GC purity was 96.9%, the GPC purity was 95.9%, and the yield was 99.8% based on phthalic anhydride.

[比較例1] 1−(3−アミノプロピル)−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサンを原料とした、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの合成     [Comparative Example 1] N- [3- (1,3,3, 1- (3-aminopropyl) -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was used as a raw material. Synthesis of 5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide

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(アミド酸合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸1.48g(10mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水THF20gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートより1−(3−アミノプロピル)−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン3.40g(10mmol)を1.5時間で滴下した。反応混合物を減圧濃縮すると白色の固体が4.83g得られた。この固体をMALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)により分析すると、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸であることがわかった。以下にMALDI−TOFMS分析の結果を示す。m/z 526([M+K]+),510([M+Na]+),281 (Amic acid synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel was replaced with nitrogen. 1.48 g (10 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 20 g of dehydrated THF was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 3.40 g (10 mmol) of 1- (3-aminopropyl) -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was added from a dropping funnel in 1.5 hours. It was dripped. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 4.83 g of a white solid. When this solid was analyzed by MALDI-TOFMS (cobalt matrix), it was N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamic acid. I understood it. The results of MALDI-TOFMS analysis are shown below. m / z 526 ([M + K] + ), 510 ([M + Na] + ), 281

(常圧でのイミド化反応)得られた固体117mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、窒素通気しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して200℃で1時間加熱した。冷却すると白色の固体110mgが得られ、EI−MSの分析結果より、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドが主生成物であることがわかった。しかしGC純度は95.3%であり、GC−MS分析によってシロキサンが不均化したN−[3−(1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロトリシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミド及びN−[3−(1,3,3,5,5,7,7、9,9−ノナメチルシクロペンタシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドが生成していることがわかり、生成量はそれぞれ1.0%及び2.8%であった。GPC純度は87.8%であり、目的物の高分子量側にブロードなピークが検出された。収率は無水フタル酸に対して96.6%であった。   (Imidation reaction under normal pressure) Weigh 117 mg of the obtained solid into a glass vial, put the vial in the oven with the cap removed, and gradually raise the temperature at 80 ° C. for 1 hour while bubbling nitrogen. And heated at 200 ° C. for 1 hour. Upon cooling, 110 mg of a white solid was obtained. From the result of EI-MS analysis, the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) was obtained. Propyl] phthalimide was found to be the main product. However, the GC purity was 95.3%, and N- [3- (1,3,3,5,5-pentamethylcyclotrisiloxane-1-yl) propyl] in which the siloxane was disproportionated by GC-MS analysis] It can be seen that phthalimide and N- [3- (1,3,3,5,5,7,7,9,9-nonamethylcyclopentasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide are produced. Were 1.0% and 2.8%, respectively. The GPC purity was 87.8%, and a broad peak was detected on the high molecular weight side of the target product. The yield was 96.6% based on phthalic anhydride.

(減圧でのイミド化反応)上記固体101mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、3.0kPaに減圧しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して130℃で1時間加熱した。冷却すると白色の固体94mgが得られたが、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドのGC純度は95.2%であった。不均化生成物であるN−[3−(1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロトリシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミド及びN−[3−(1,3,3,5,5,7,7、9,9−ノナメチルシクロペンタシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの生成量はそれぞれ0.7%及び1.9%であった。GPC純度は93.4%であり、収率は無水フタル酸に対して94.5%であった。   (Imidation reaction under reduced pressure) 101 mg of the above solid was weighed into a glass vial, the cap was removed and the vial was placed in an oven, and the temperature was further gradually increased at 80 ° C. for 1 hour while reducing the pressure to 3.0 kPa. And heated at 130 ° C. for 1 hour. Upon cooling, 94 mg of a white solid was obtained. The GC purity of the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide Was 95.2%. The disproportionation products N- [3- (1,3,3,5,5-pentamethylcyclotrisiloxane-1-yl) propyl] phthalimide and N- [3- (1,3,3,5) , 5,7,7,9,9-nonamethylcyclopentasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide were 0.7% and 1.9%, respectively. The GPC purity was 93.4% and the yield was 94.5% based on phthalic anhydride.

[比較例2] 1−[3−(トリメチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサンを原料とした、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの合成     Comparative Example 2 1- [3- (Trimethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was used as a raw material, and N- [3- (1,3 , 3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide

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(アミド酸シリルエステル合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸1.48g(10mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水THF22gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートより1−[3−(トリメチルシリルアミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン4.12g(10mmol)を2.5時間で滴下した。反応混合物を減圧濃縮すると白色の固体が5.43g得られた。この固体をMALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)により分析すると、N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸トリメチルシリルエステルであることがわかった。以下に結果を示す。m/z 598([M+K]+),281 (Amic acid silyl ester synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel was purged with nitrogen. 1.48 g (10 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 22 g of dehydrated THF was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 2.12 g (10 mmol) of 1- [3- (trimethylsilylamino) propyl] -1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane was added from a dropping funnel. It was dripped in 5 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 5.43 g of a white solid. When this solid was analyzed by MALDI-TOFMS (cobalt matrix), N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalamic acid trimethylsilyl ester I found out that The results are shown below. m / z 598 ([M + K] + ), 281

(常圧でのイミド化反応)得られた固体124mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、窒素通気しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して200℃で1時間加熱した。冷却すると白色の固体108mgが得られ、EI−MSの分析結果より、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドが主生成物であることがわかった。しかしGC純度は90.9%であり、不均化生成物であるN−[3−(1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロトリシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミド及びN−[3−(1,3,3,5,5,7,7、9,9−ノナメチルシクロペンタシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの生成量はそれぞれ0.9%及び1.5%であった。更にGC−MSにより両末端がトリメチルシリル基でキャップされた直鎖シロキサンが生成していることがわかり、生成量は6.0%であった。またGPC純度は87.3%であり、目的物の高分子量側にブロードなピークが検出された。   (Imidation reaction at normal pressure) 124 mg of the obtained solid was weighed into a glass vial, and the vial was placed in an oven with the cap removed, and the temperature was further gradually raised at 80 ° C. for 1 hour while nitrogen was bubbled. And heated at 200 ° C. for 1 hour. Upon cooling, 108 mg of a white solid was obtained. From the results of EI-MS analysis, the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) was obtained. Propyl] phthalimide was found to be the main product. However, the GC purity is 90.9%, and the disproportionation products N- [3- (1,3,3,5,5-pentamethylcyclotrisiloxane-1-yl) propyl] phthalimide and N- The production amounts of [3- (1,3,3,5,5,7,7,9,9-nonamethylcyclopentasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide were 0.9% and 1.5%, respectively. there were. Furthermore, it was found by GC-MS that a straight-chain siloxane with both ends capped with a trimethylsilyl group was produced, and the production amount was 6.0%. The GPC purity was 87.3%, and a broad peak was detected on the high molecular weight side of the target product.

(減圧でのイミド化反応)上記固体119mgをガラスバイアルに秤量し、キャップをはずした状態でバイアルをオーブン中に入れ、3.0kPaに減圧しながら80℃で1時間、更に徐々に昇温して130℃で1時間加熱した。冷却すると白色の固体100mgが得られたが、目的のN−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドのGC純度は92.4%であった。不均化生成物であるN−[3−(1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロトリシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミド及びN−[3−(1,3,3,5,5,7,7、9,9−ノナメチルシクロペンタシロキサン−1−イル)プロピル]フタルイミドの生成量はそれぞれ0.7%及び1。5%であった。また直鎖シロキサンが4.0%生成していた。GPC純度は89.6%であり、目的物の高分子量側にブロードなピークが検出された。   (Imidation reaction under reduced pressure) 119 mg of the above solid was weighed into a glass vial, and the vial was placed in an oven with the cap removed, and the temperature was further gradually raised at 80 ° C. for 1 hour while reducing the pressure to 3.0 kPa. And heated at 130 ° C. for 1 hour. Upon cooling, 100 mg of a white solid was obtained. The GC purity of the desired N- [3- (1,3,3,5,5,7,7-heptamethylcyclotetrasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide Was 92.4%. The disproportionation products N- [3- (1,3,3,5,5-pentamethylcyclotrisiloxane-1-yl) propyl] phthalimide and N- [3- (1,3,3,5) , 5,7,7,9,9-nonamethylcyclopentasiloxane-1-yl) propyl] phthalimide were 0.7% and 1.5%, respectively. In addition, 4.0% of linear siloxane was produced. The GPC purity was 89.6%, and a broad peak was detected on the high molecular weight side of the target product.

[実施例3] 1,5−ビス[3−(トリイソプロピルシリルアミノ)プロピル]−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンを原料とした、1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンの合成(下記式中、i−Prはイソプロピル基を表す。)     [Example 3] 1,5-bis (3 using 1,5-bis [3- (triisopropylsilylamino) propyl] -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane as a raw material -Phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane synthesis (wherein i-Pr represents an isopropyl group)

Figure 2007031321
Figure 2007031321

(アミド酸シリルエステル合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸296mg(2.0mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水ジエチレングリコールジメチルエーテル8.38gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら1,5−ビス[3−(トリイソプロピルシリルアミノ)プロピル]−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン635mg(1.0mmol)を添加した。室温で3時間撹拌したところ、原料が消失したことがGC分析により確認された。反応混合物を少量採取して濃縮しMALDI−TOFMSにより分析すると、N,N’−ビス[2−(トリイソプロピルシロキシカルボニル)ベンゾイル]−1,5−ビス(アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンが定量的収率で生成していることが判明した。分析結果を以下に示す。   (Amic acid silyl ester synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, and a thermometer was purged with nitrogen. 296 mg (2.0 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 8.38 g of dehydrated diethylene glycol dimethyl ether was added and dissolved. While the solution was stirred at room temperature, 635 mg (1.0 mmol) of 1,5-bis [3- (triisopropylsilylamino) propyl] -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane was added. After stirring for 3 hours at room temperature, it was confirmed by GC analysis that the raw material had disappeared. A small amount of the reaction mixture was collected, concentrated, and analyzed by MALDI-TOFMS. N, N′-bis [2- (triisopropylsiloxycarbonyl) benzoyl] -1,5-bis (aminopropyl) -1,1,3, It was found that 3,5,5-hexamethyltrisiloxane was produced in quantitative yield. The analysis results are shown below.

MALDI−TOFMS:m/z 970.5(M+K+),954.4(M+Na+),568.6; MALDI-TOFMS: m / z 970.5 (M + K + ), 954.4 (M + Na + ), 568.6;

(常圧でのイミド化反応)上記反応混合物1.50gをステンレスシャーレ上で減圧濃縮した後オーブン中に入れ、窒素通気しながら240℃で0.5時間加熱した。冷却すると黄色の固体88.8mgが得られ、EI−MS及びFT−IRの分析結果より、目的の1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンであることがわかった。GC純度は94.6%、GPC純度は87.1%であり、収率は無水フタル酸に対して94.6%であった。分析結果を以下に示す。   (Imidation reaction under normal pressure) 1.50 g of the above reaction mixture was concentrated under reduced pressure on a stainless steel petri dish, then placed in an oven, and heated at 240 ° C. for 0.5 hour while introducing nitrogen. Upon cooling, 88.8 mg of a yellow solid was obtained. From the results of EI-MS and FT-IR analysis, the desired 1,5-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5- It was found to be hexamethyltrisiloxane. The GC purity was 94.6%, the GPC purity was 87.1%, and the yield was 94.6% based on phthalic anhydride. The analysis results are shown below.

EI−MS:m/z 567([M−Me]+),394,246,130 EI-MS: m / z 567 ([M-Me] + ), 394, 246, 130

[比較例3] 1,5−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンを原料とした、1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンの合成     [Comparative Example 3] 1,5-bis (3-phthalimidopropyl)-starting from 1,5-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane Synthesis of 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane

Figure 2007031321
Figure 2007031321

(アミド酸合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸296mg(2.0mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水ジエチレングリコールジメチルエーテル5.57gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら1,5−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン323mg(1.0mmol)を添加した。白色沈澱が生成したが室温で3時間撹拌したところ無色溶液となり、原料が消失したことがGC分析により確認された。反応混合物を少量採取して濃縮しMALDI−TOFMSにより分析すると、N,N’−ビス(2−カルボキシベンゾイル)−1,5−ビス(アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンが定量的収率で生成していることが判明した。分析結果を以下に示す。   (Amic acid synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, and a thermometer was purged with nitrogen. 296 mg (2.0 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 5.57 g of dehydrated diethylene glycol dimethyl ether was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 323 mg (1.0 mmol) of 1,5-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane was added. A white precipitate was formed, but when it was stirred at room temperature for 3 hours, it became a colorless solution, and it was confirmed by GC analysis that the raw material had disappeared. A small amount of the reaction mixture was collected, concentrated, and analyzed by MALDI-TOFMS. N, N′-bis (2-carboxybenzoyl) -1,5-bis (aminopropyl) -1,1,3,3,5,5 -It was found that hexamethyltrisiloxane was produced in quantitative yield. The analysis results are shown below.

MALDI−TOFMS:m/z 658.2(M+K+),641.7(M+Na+MALDI-TOFMS: m / z 658.2 (M + K + ), 641.7 (M + Na + )

(常圧でのイミド化反応)上記反応混合物1.20gをステンレスシャーレ上で減圧濃縮した後オーブン中に入れ、窒素通気しながら240℃で0.5時間加熱した。冷却すると淡黄色の油状物106mgが得られ、GC−MSによる分析結果より、目的の1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンであることがわかったが、GC純度は75.9%、GPC純度は64.6%であり、副生成物として1,3−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、及び1,7−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサンが多量生成しているため低純度であった。収率は無水フタル酸に対して93.8%であった。   (Imidation reaction at normal pressure) 1.20 g of the above reaction mixture was concentrated under reduced pressure on a stainless steel petri dish, then placed in an oven, and heated at 240 ° C. for 0.5 hours while ventilating with nitrogen. Upon cooling, 106 mg of a pale yellow oily substance was obtained. From the result of GC-MS analysis, the desired 1,5-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane was obtained. However, the GC purity was 75.9% and the GPC purity was 64.6%, and 1,3-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3-as a by-product. Low purity because tetramethyldisiloxane and 1,7-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane are produced in large quantities. . The yield was 93.8% based on phthalic anhydride.

[比較例4] 1,5−ビス[3−(トリメチルシリルアミノ)プロピル]−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンを原料とした、1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンの合成(下記式中、Meはメチル基を表す。)     [Comparative Example 4] 1,5-bis (3-phthalimide using 1,5-bis [3- (trimethylsilylamino) propyl] -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane as a raw material Propyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane (wherein Me represents a methyl group)

Figure 2007031321
Figure 2007031321

(アミド酸合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸296mg(2.0mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水ジエチレングリコールジメチルエーテル6.87gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら1,5−ビス[3−(トリメチルシリルアミノ)プロピル]−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン467mg(1.0mmol)を添加した。室温で3時間撹拌したところ無色溶液となり、原料が消失しN,N’−ビス[(2−トリメチルシロキシカルボニル)ベンゾイル]−1,5−ビス(アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンが定量的収率で生成していた。   (Amic acid synthesis reaction) A 100 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, and a thermometer was purged with nitrogen. 296 mg (2.0 mmol) of phthalic anhydride was charged into the flask, and 6.87 g of dehydrated diethylene glycol dimethyl ether was added and dissolved. While stirring the solution at room temperature, 467 mg (1.0 mmol) of 1,5-bis [3- (trimethylsilylamino) propyl] -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane was added. When stirred at room temperature for 3 hours, a colorless solution was obtained, and the raw material disappeared, and N, N′-bis [(2-trimethylsiloxycarbonyl) benzoyl] -1,5-bis (aminopropyl) -1,1,3,3 5,5-Hexamethyltrisiloxane was produced in quantitative yield.

(常圧でのイミド化反応)上記反応混合物1.40gをステンレスシャーレ上で減圧濃縮した後オーブン中に入れ、窒素通気しながら240℃で0.5時間加熱した。冷却すると淡黄色の油状物94.2mgが得られ、GC−MSによる分析結果より、目的の1,5−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンが生成していることがわかったが、GC純度は78.0%、GPC純度は67.0%であり、副生成物として1,3−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、及び1,7−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサンが多量生成しているため低純度であった。収率は無水フタル酸に対して88.1%であった。   (Imidation reaction at normal pressure) 1.40 g of the above reaction mixture was concentrated under reduced pressure on a stainless steel petri dish, then placed in an oven, and heated at 240 ° C. for 0.5 hours while ventilating nitrogen. Upon cooling, 94.2 mg of a pale yellow oily substance was obtained. From the result of analysis by GC-MS, the desired 1,5-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyl was obtained. Although it was found that trisiloxane was produced, the GC purity was 78.0%, the GPC purity was 67.0%, and 1,3-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1 as a by-product. , 3,3-tetramethyldisiloxane and 1,7-bis (3-phthalimidopropyl) -1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane are produced in large quantities. It was low purity. The yield was 88.1% based on phthalic anhydride.

[実施例4] 1−[3−(トリイソプロピルシリルアミノ)プロピル]ジメチルシロキシ−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタキス(トリメチルシロキシ)ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサンを原料とした、1−(3−フタルイミドプロピル)ジメチルシロキシ−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタキス(トリメチルシロキシ)ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサンの合成(下記式中、i−Prはイソプロピル基、Meはメチル基を表す。) Example 4 1- [3- (Triisopropylsilylamino) propyl] dimethylsiloxy-3,5,7,9,11,13,15-heptakis (trimethylsiloxy) pentacyclo [9.5.1.1 3 , 9 . 1 5,15 . 1, 13 ] octasiloxane as a raw material, 1- (3-phthalimidopropyl) dimethylsiloxy-3,5,7,9,11,13,15-heptakis (trimethylsiloxy) pentacyclo [9.5.1. 1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] Synthesis of octasiloxane (wherein i-Pr represents an isopropyl group and Me represents a methyl group)

Figure 2007031321
Figure 2007031321

(アミド酸シリルエステル合成反応)ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた50mLの四つ口フラスコを窒素置換した。1−[3−(トリイソプロピルシリルアミノ)プロピル]ジメチルシロキシ−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタキス(トリメチルシロキシ)ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン266mg(0.20mmol)をフラスコ内に仕込み、脱水THF2.66gを加えて溶解させた。無水フタル酸29.6mg(0.20mmol)を添加し、室温で24時間撹拌したところ、原料が消失したことがGC分析により確認された。反応混合物を少量採取して濃縮しMALDI−TOFMSにより分析すると、N−[2−(トリイソプロピルシロキシカルボニル)ベンゾイル]−1−(3−アミノプロピル)ジメチルシロキシ−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタキス(トリメチルシロキシ)ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサンが定量的収率で生成していることが判明した。分析結果を以下に示す。 (Amic acid silyl ester synthesis reaction) A 50 mL four-necked flask equipped with a Dimroth reflux condenser, a stirrer, and a thermometer was purged with nitrogen. 1- [3- (Triisopropylsilylamino) propyl] dimethylsiloxy-3,5,7,9,11,13,15-heptakis (trimethylsiloxy) pentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13] was charged octasiloxane 266mg of (0.20 mmol) into a flask, and dissolved by adding dehydrated THF2.66G. When 29.6 mg (0.20 mmol) of phthalic anhydride was added and stirred for 24 hours at room temperature, it was confirmed by GC analysis that the raw material had disappeared. A small amount of the reaction mixture was collected, concentrated, and analyzed by MALDI-TOFMS. N- [2- (Triisopropylsiloxycarbonyl) benzoyl] -1- (3-aminopropyl) dimethylsiloxy-3,5,7,9,11 , 13,15-heptakis (trimethylsiloxy) pentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . It was found that [ 1,7,13 ] octasiloxane was produced in quantitative yield. The analysis results are shown below.

MALDI−TOFMS:m/z 1500.1(M+Na+)、1461.7 MALDI-TOFMS: m / z 1500.1 (M + Na + ), 1461.7

(常圧でのイミド化反応)上記反応混合物0.50gをステンレスシャーレ上で減圧濃縮した後オーブン中に入れ、窒素通気しながら240℃で0.5時間加熱した。冷却すると白色固体40.0mgが得られ、MALDI−TOFMS及びFT−IRの分析結果より、目的の1−(3−フタルイミドプロピル)ジメチルシロキシ−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタキス(トリメチルシロキシ)ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサンであることがわかった。GC純度は96.2%、GPC純度は92.8%であり、収率は無水フタル酸に対して80.1%であった。分析結果を以下に示す。 (Imidation reaction under normal pressure) 0.50 g of the above reaction mixture was concentrated under reduced pressure on a stainless steel petri dish, then placed in an oven, and heated at 240 ° C. for 0.5 hours while ventilating with nitrogen. Upon cooling, 40.0 mg of a white solid was obtained. From the analysis results of MALDI-TOFMS and FT-IR, the desired 1- (3-phthalimidopropyl) dimethylsiloxy-3,5,7,9,11,13,15- Heptakis (trimethylsiloxy) pentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] found to be octasiloxane . The GC purity was 96.2%, the GPC purity was 92.8%, and the yield was 80.1% based on phthalic anhydride. The analysis results are shown below.

MALDI−TOFMS:m/z 1326.1(M+Na+),1287.0 MALDI-TOFMS: m / z 1326.1 (M + Na +), 1287.0

Claims (8)

窒素原子に下記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が結合した、下記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることにより、下記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、該アミド酸トリオルガノシリルエステルを閉環イミド化させることを特徴とする下記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。
Figure 2007031321

(式中、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。)
A triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the following general formula (2) in which a triorganosilyl group represented by the following general formula (1) is bonded to a nitrogen atom, and the following general formula (3) By reacting with a dicarboxylic acid anhydride, an amic acid triorganosilyl ester represented by the following general formula (4) was obtained, and then the amidic acid triorganosilyl ester was removed by a detriorganosilanol reaction. The manufacturing method of the imide which the organosiloxane represented by the following general formula (5) couple | bonded characterized by making it combine.
Figure 2007031321

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and A 1 is a substitution having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsubstituted divalent organic group, A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms, and Sx is a monovalent or polyvalent organo group having 2 to 2,000 silicon atoms. Represents a siloxanyl group, α represents the valence of the organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 100.)
上記一般式(2)、(4)、(5)において、Sxが鎖状、環状、かご状及び部分開裂したかご状の一価又は多価のオルガノシロキサニル基より選択される請求項1に記載のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。   In the general formulas (2), (4), and (5), Sx is selected from a chain-like, cyclic, cage-like, or partially cleaved cage-like monovalent or polyvalent organosiloxanyl group. A method for producing an imide bonded with an organosiloxane as described in 1. 上記一般式(2)、(4)、(5)において、Sxが下記一般式(6)で表される一価又は多価の環状オルガノシロキサニル基、下記一般式(7)及び(9)で表される一価又は多価の鎖状オルガノシロキサニル基、下記一般式(11)で表される一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基、及び下記一般式(12)で表される部分開裂した一価又は多価のかご状オルガノシロキサニル基の中より選択される請求項2に記載のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、aはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜10の整数、bは0〜10の整数を表す。)
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、Rxは炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは下記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表す。cは0〜100の整数を表す。)
Figure 2007031321

(式中、R1、R2及びA1は上記一般式(1)及び(2)で説明したものと同義の置換基を表す。)
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、Rxは同一でも異なってもよく、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基あるいは上記一般式(8)で表されるトリオルガノシリルアミノ基で置換された有機基を表す。RSは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは下記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。dはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数を、eは0〜100の整数を表す。)
Figure 2007031321

(式中、Rは上記一般式(9)で定義したものと同義の置換基を表す。)
Figure 2007031321
(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表し、RSは炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは上記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。f及びhは0〜10の整数、gはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜20の整数、iは0〜19の整数を表す。但し、gとiの和は6以上20以下である。)
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。RS及びRtはそれぞれ独立に炭素数1〜20の一価炭化水素基あるいは上記一般式(10)で表されるトリオルガノシロキシ基を表す。j、l及びnは0〜10の整数、kはオルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜3の整数、mは0〜2の整数、oは2〜16の整数を表す。但し、kとmの和は3であり、mが2のとき、Rtは互いに結合して下記式(13)
Figure 2007031321

(式中、Rは互いに同一でも異なってもよく、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。)
で表される基を形成してもよい。)
In the general formulas (2), (4), and (5), Sx is a monovalent or polyvalent cyclic organosiloxanyl group represented by the following general formula (6), the following general formulas (7) and (9 ) Represented by a monovalent or polyvalent chain organosiloxanyl group, a monovalent or polyvalent caged organosiloxanyl group represented by the following general formula (11), and the following general formula (12) The method for producing an imide bonded with an organosiloxane according to claim 2, which is selected from partially cleaved monovalent or polyvalent cage-like organosiloxanyl groups represented by the formula:
Figure 2007031321

(In the formula, Rs may be the same or different and each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom; a represents the valence of an organosiloxanyl group; (The integer of 1-10, b represents the integer of 0-10.)
Figure 2007031321

(In the formula, Rs may be the same or different and each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and R x is a substituted or unsubstituted group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a monovalent hydrocarbon group or an organic group substituted with a triorganosilylamino group represented by the following general formula (8), c represents an integer of 0 to 100.)
Figure 2007031321

(In the formula, R 1 , R 2 and A 1 represent substituents having the same meaning as described in the general formulas (1) and (2)).
Figure 2007031321

(Wherein R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom; R x may be the same or different; Represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group of ˜20 or an organic group substituted with a triorganosilylamino group represented by the general formula (8), wherein R S is a monovalent carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. It represents a hydrogen group or a triorganosiloxy group represented by the following general formula (10): d represents the valence of the organosiloxanyl group, an integer of 1 to 100, and e represents an integer of 0 to 100. )
Figure 2007031321

(In the formula, R represents a substituent having the same meaning as defined in the general formula (9).)
Figure 2007031321
(In the formula, R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and R S is a monovalent hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Or a triorganosiloxy group represented by the general formula (10), wherein f and h are integers of 0 to 10, g is a valence of an organosiloxanyl group, an integer of 1 to 20, and i is Represents an integer of 0 to 19. However, the sum of g and i is 6 or more and 20 or less.)
Figure 2007031321

(In the formula, R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom. R S and R t each independently represents 1 to 1 carbon atoms. 20 represents a monovalent hydrocarbon group or a triorganosiloxy group represented by the above general formula (10), j, l and n are integers of 0 to 10, k represents a valence of an organosiloxanyl group, An integer of 1 to 3, m is an integer of 0 to 2, and o is an integer of 2 to 16. However, the sum of k and m is 3, and when m is 2, R t is bonded to each other and Formula (13)
Figure 2007031321

(In the formula, R may be the same or different from each other, and represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom.)
You may form group represented by these. )
上記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソブチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テキシルジメチルシリル基の中から選択される請求項1〜3のいずれか1項に記載のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。   The triorganosilyl group represented by the general formula (1) is selected from a triethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triisobutylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a texyldimethylsilyl group. The manufacturing method of the imide which the organosiloxane of any one of 1-3 is couple | bonded. 上記一般式(2)におけるA1が窒素原子とsp3炭素で結合している、請求項1〜4のいずれか1項に記載のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。 The general formula (2) A 1 in is attached at the nitrogen atom and sp 3 carbon, the production method of the imide bound organosiloxane according to any one of claims 1 to 4. 下記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステル。
Figure 2007031321

(式中、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。)
An amic acid triorganosilyl ester to which an organosiloxane represented by the following general formula (4) is bonded.
Figure 2007031321

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and A 1 is a substitution having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsubstituted divalent organic group, A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms, and Sx is a monovalent or polyvalent organo group having 2 to 2,000 silicon atoms. Represents a siloxanyl group, α represents the valence of the organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 100.)
窒素原子に下記一般式(1)で表されるトリオルガノシリル基が結合した、下記一般式(2)で表されるトリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物とを反応させることを特徴とする下記一般式(4)で表されるオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法。
Figure 2007031321

(式中、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。)
A triorganosilylamino group-containing organosiloxane represented by the following general formula (2) in which a triorganosilyl group represented by the following general formula (1) is bonded to a nitrogen atom, and the following general formula (3) A method for producing an amic acid triorganosilyl ester bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (4), wherein the dicarboxylic acid anhydride is reacted.
Figure 2007031321

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and A 1 is a substitution having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsubstituted divalent organic group, A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms, and Sx is a monovalent or polyvalent organo group having 2 to 2,000 silicon atoms. Represents a siloxanyl group, α represents the valence of the organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 100.)
下記一般式(4)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを脱トリオルガノシラノール反応により閉環イミド化させることを特徴とする下記一般式(5)で表されるオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。
Figure 2007031321

(式中、R1は炭素数2〜20の一価炭化水素基、R2は同一でも異なってもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は炭素数1〜20の置換又は非置換の二価の有機基、A2は炭素数2〜40の置換又は非置換の二価の有機基を表す。Sxはケイ素数が2〜2,000の一価又は多価のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、1〜100の整数である。)
Production of an imide bonded with an organosiloxane represented by the following general formula (5), characterized in that the triorganosilyl ester of amic acid represented by the following general formula (4) is ring-closing imidized by a detriorganosilanol reaction Method.
Figure 2007031321

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and A 1 is a substitution having 1 to 20 carbon atoms. Or an unsubstituted divalent organic group, A 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms, and Sx is a monovalent or polyvalent organo group having 2 to 2,000 silicon atoms. Represents a siloxanyl group, α represents the valence of the organosiloxanyl group, and is an integer of 1 to 100.)
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