JP2006039450A

JP2006039450A - Antireflection film forming method, antireflection film forming apparatus, antireflection film, and optical component

Info

Publication number: JP2006039450A
Application number: JP2004222992A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Miyao; 信之宮尾
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2004-07-30
Filing date: 2004-07-30
Publication date: 2006-02-09

Abstract

【課題】曲面を有する基材であっても、容易に反射防止膜を形成することができる反射防止膜の形成方法および反射防止膜の形成装置を提供すること、また、これら方法および装置を用いて形成された反射防止膜、このような反射防止膜を備えた光学部品を提供すること。
【解決手段】本発明の反射防止膜の形成方法は、曲面を有する基材の曲面上に成形型を用いて、表面に所定のパターンの微細な凹凸を有する反射防止膜を形成する方法であって、成形型は、シリコーン樹脂で構成され、かつ、形成すべき反射防止膜の表面形状に対応したパターンの微細な凹凸が形成されており、曲面上に、樹脂を供給する工程と、曲面上に供給した樹脂に、成形型を圧接する工程と、樹脂を固化させ、固化物を得る工程と、固化物から前記成形型を剥離する工程とを有することを特徴とする。凹凸のピッチおよびその高低差のいずれもが、可視光の波長未満である。
【選択図】無し

An object of the present invention is to provide an antireflection film forming method and an antireflection film forming apparatus capable of easily forming an antireflection film even on a curved substrate, and to use these methods and apparatuses. An antireflection film formed in the above manner and an optical component provided with such an antireflection film.
A method for forming an antireflection film according to the present invention is a method for forming an antireflection film having fine irregularities of a predetermined pattern on a surface using a mold on a curved surface of a substrate having a curved surface. The mold is made of silicone resin, and has fine irregularities in a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed. And a step of press-contacting the mold to the resin supplied to the resin, a step of solidifying the resin to obtain a solidified product, and a step of peeling the mold from the solidified product. Both the pitch of the unevenness and the height difference thereof are less than the wavelength of visible light.
[Selection] None

Description

本発明は、反射防止膜の形成方法、反射防止膜の形成装置、反射防止膜および光学部品に関するものである。 The present invention relates to an antireflection film forming method, an antireflection film forming apparatus, an antireflection film, and an optical component.

従来より、光学部品の表面での光の反射を防止するため、光学部品の表面に反射防止膜を設けることが行われている。
この反射防止膜を形成する方法として、例えば、基材の表面に酸化物を蒸着する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
しかし、このような方法では、大がかりな設備が必要である上に成膜に時間がかかるため、成膜コストが高いという問題がある。 Conventionally, in order to prevent reflection of light on the surface of the optical component, an antireflection film is provided on the surface of the optical component.
As a method of forming this antireflection film, for example, a method of depositing an oxide on the surface of a substrate is known (see, for example, Patent Document 1).
However, such a method has a problem that the film formation cost is high because a large facility is required and the film formation takes time.

一方、反射防止を実現するもう１つの方法として、Ｍｏｔｈｅｙｅ（モスアイ、蛾の目）と呼ばれる微細な構造（モスアイ構造）が有効であることが知られている。モスアイの呼称は、１９７０年前後に自然科学者の間で蛾（ｍｏｔｈ）の目（ｅｙｅ）が光を反射しない性質に着目し、蛾の目の表面を電子顕微鏡で観察したところ高さ２００ｎｍ程度の円錐状の突起が、２００ｎｍ程度の間隔で敷き詰められていることがわかったことに由来する。この構造が光の反射防止に寄与しており、波長の４０％程度の高さの構造体が必要であることが明らかにされている。この構造は、照射光の入射角度に依存せず、比較的幅広い波長にわたって反射防止効果を有する。 On the other hand, as another method for realizing antireflection, it is known that a fine structure (motheye structure) called Mothey (motheye structure) is effective. The name of Moth Eye is about 200 nm when the surface of the eye of the eyelid is observed with an electron microscope focusing on the property that the eye of the eye (eye) does not reflect light among natural scientists around 1970. This is because it was found that the conical protrusions of the above were spread at intervals of about 200 nm. It has been clarified that this structure contributes to the prevention of reflection of light and a structure having a height of about 40% of the wavelength is necessary. This structure does not depend on the incident angle of irradiation light, and has an antireflection effect over a relatively wide range of wavelengths.

このようなモスアイ構造の形成は、一般に、モスアイ構造に対応した形状を表面に有する平板状の金型を作製し、該金型から膜等に転写することにより行われる。このため、転写に関しては大がかりな設備も特に必要なく、容易に反射防止膜を形成できるという利点がある。
しかし、前述したような金型は、平板に対して表面形状を転写するには適しているが、曲面を有する基材上に反射防止膜を設ける場合、表面形状を十分に転写するのが困難であるといった問題がある。また、曲面に対応した形状の金型を作製することも考えられるが、このような曲面に対応した形状の金型を作製するのは困難で、また、コストも高くなるといった問題があった。また、各光学部品によって表面の曲率が異なり、それぞれに対応した金型を作製しなければならないため、さらにコストがかかるといった問題があった。特に、このような硬い金型を用いた場合、形成した反射防止膜を金型から剥離するのが容易ではなく、無理に剥離しようとすると、反射防止膜に転写された微細形状が破損する場合があった。 Formation of such a moth-eye structure is generally performed by producing a flat mold having a shape corresponding to the moth-eye structure on the surface and transferring the mold to a film or the like. For this reason, there is an advantage that an antireflection film can be easily formed without requiring a large-scale equipment for transfer.
However, although the mold as described above is suitable for transferring the surface shape to the flat plate, it is difficult to transfer the surface shape sufficiently when an antireflection film is provided on a substrate having a curved surface. There is a problem such as. Although it is conceivable to manufacture a mold having a shape corresponding to a curved surface, it is difficult to manufacture a mold having a shape corresponding to such a curved surface, and there is a problem that the cost is increased. In addition, the curvature of the surface differs depending on each optical component, and it is necessary to manufacture a mold corresponding to each optical component. In particular, when such a hard mold is used, it is not easy to peel off the formed antireflection film from the mold, and if the forcible peeling is attempted, the fine shape transferred to the antireflection film is damaged. was there.

特開平１−９７９０２号公報JP-A-1-97902

本発明の目的は、曲面を有する基材であっても、容易に反射防止膜を形成することができる反射防止膜の形成方法および反射防止膜の形成装置を提供すること、また、これら方法および装置を用いて形成された反射防止膜および該反射防止膜を備えた光学部品を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an antireflection film forming method and an antireflection film forming apparatus capable of easily forming an antireflection film, even for a substrate having a curved surface. An object of the present invention is to provide an antireflection film formed using an apparatus and an optical component provided with the antireflection film.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の反射防止膜の形成方法は、曲面を有する基材の前記曲面上に成形型を用いて、表面に所定のパターンの微細な凹凸を有する反射防止膜を形成する方法であって、
前記成形型は、シリコーン樹脂で構成され、かつ、形成すべき前記反射防止膜の表面形状に対応したパターンの微細な凹凸が形成されており、
前記曲面上に、樹脂を供給する工程と、
前記曲面上に供給した前記樹脂に、前記成形型を圧接する工程と、
前記樹脂を固化させ、固化物を得る工程と、
前記固化物から前記成形型を剥離する工程とを有することを特徴とする。
これにより、従来用いられてきた金型では反射防止膜の形成が困難であった曲面を有する基材であっても、容易かつ確実に反射防止膜を形成することができる。 Such an object is achieved by the present invention described below.
The method for forming an antireflection film of the present invention is a method for forming an antireflection film having fine irregularities of a predetermined pattern on the surface using a mold on the curved surface of a substrate having a curved surface,
The mold is composed of a silicone resin, and fine irregularities of a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed are formed,
Supplying a resin on the curved surface;
A step of pressure-contacting the mold to the resin supplied on the curved surface;
Solidifying the resin to obtain a solidified product;
And a step of peeling the mold from the solidified product.
Thereby, even if it is the base material which has a curved surface for which formation of the anti-reflective film was difficult with the conventionally used metal mold | die, an anti-reflective film can be formed easily and reliably.

本発明の反射防止膜の形成方法では、流体の圧力を用いて、前記成形型を前記樹脂に圧接することが好ましい。
これにより、成形型全体に均一に圧力を加えることができる。その結果、均一な形状の反射防止膜を得ることができる。
本発明の反射防止膜の形成方法では、前記流体は、気体であることが好ましい。
これにより、より適度な圧力を成形型全体に加えることができ、過剰な圧力による凹凸の変形をより効果的に防止することができる。 In the antireflection film forming method of the present invention, it is preferable that the mold is pressed against the resin by using a pressure of fluid.
Thereby, a pressure can be uniformly applied to the whole mold. As a result, an antireflection film having a uniform shape can be obtained.
In the method for forming an antireflection film of the present invention, the fluid is preferably a gas.
Thereby, a more appropriate pressure can be applied to the entire mold, and the deformation of the unevenness due to excessive pressure can be more effectively prevented.

本発明の反射防止膜の形成方法では、可撓性を有する材料で構成され、前記流体が収納された袋状の圧接体を用いて、圧接することが好ましい。
これにより、成形型全体に均一に圧力を加えることができる。その結果、均一な形状の反射防止膜を得ることができる。
本発明の反射防止膜の形成方法では、前記凹凸のピッチおよびその高低差のいずれもが、可視光の波長未満であることが好ましい。
従来の方法では、曲面上にこのような微細な凹凸パターンを有する反射防止膜を形成するのは困難であったが、本発明では、このような微細な凹凸パターンであっても、より容易かつ確実に形成することができる。 In the method for forming an antireflection film of the present invention, it is preferable to press-contact using a bag-like press-contact body made of a flexible material and containing the fluid.
Thereby, a pressure can be uniformly applied to the whole mold. As a result, an antireflection film having a uniform shape can be obtained.
In the method for forming an antireflection film of the present invention, it is preferable that both the pitch of the unevenness and the height difference thereof are less than the wavelength of visible light.
In the conventional method, it was difficult to form an antireflection film having such a fine concavo-convex pattern on a curved surface, but in the present invention, even with such a fine concavo-convex pattern, It can be reliably formed.

本発明の反射防止膜の形成方法では、前記成形型は、第１のシリコーン樹脂で構成され、かつ、一方の面に、形成すべき前記反射防止膜の表面形状に対応したパターンの凹凸を有する第１の層と、
前記第１の層の他方の面側に配され、前記第１のシリコーン樹脂よりも重量平均分子量の低い第２のシリコーン樹脂で構成された第２の層とを有することが好ましい。
これにより、成形型全体としての柔軟性は保持しつつ、確実に成形型の形状を樹脂に転写することができる。また、反射防止膜から剥離する際に、成形型の凹凸の型くずれや、破損等を防止することができる。 In the method for forming an antireflection film of the present invention, the mold is made of a first silicone resin, and has one surface with irregularities having a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed. A first layer;
It is preferable to have the 2nd layer comprised by the 2nd silicone resin which is distribute | arranged to the other surface side of the said 1st layer, and has a weight average molecular weight lower than the said 1st silicone resin.
Thereby, the shape of the mold can be reliably transferred to the resin while maintaining the flexibility of the entire mold. In addition, when peeling from the antireflection film, it is possible to prevent the mold from being deformed or damaged.

本発明の反射防止膜の形成方法では、前記第１のシリコーン樹脂の分子量と前記第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量との差は、３００，０００〜７００，０００であることが好ましい。
これにより、成形型全体としての柔軟性を十分に保持しつつ、より確実に成形型の形状を樹脂に転写することができる。また、反射防止膜から剥離する際に、凹凸の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。また、反射防止膜から成形型をより容易に剥離することができる。 In the method for forming an antireflection film of the present invention, the difference between the molecular weight of the first silicone resin and the weight average molecular weight of the second silicone resin is preferably 300,000 to 700,000.
Thereby, the shape of the mold can be more reliably transferred to the resin while sufficiently maintaining the flexibility of the entire mold. Further, when peeling from the antireflection film, it is possible to more surely prevent irregularities in the shape and damage of the unevenness. In addition, the mold can be more easily peeled from the antireflection film.

本発明の反射防止膜の形成方法では、前記第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量が、６００，０００以上であることが好ましい。
これにより、より確実に成形型の表面形状を転写することができる。
本発明の反射防止膜の形成方法では、前記第１の層の厚さが、０．５〜５．０ｍｍであることが好ましい。
これにより、成形型全体としての柔軟性を十分に保持しつつ、より確実に成形型の形状を樹脂に転写することができる。 In the antireflection film forming method of the present invention, it is preferable that a weight average molecular weight of the first silicone resin is 600,000 or more.
Thereby, the surface shape of the mold can be transferred more reliably.
In the method for forming an antireflection film of the present invention, the thickness of the first layer is preferably 0.5 to 5.0 mm.
Thereby, the shape of the mold can be more reliably transferred to the resin while sufficiently maintaining the flexibility of the entire mold.

本発明の反射防止膜の形成方法では、前記第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量が、３００，０００〜３５０，０００であることが好ましい。
これにより、成形型に、より適度な柔軟性を付与することができ、曲面への追従性が向上する。また、反射防止膜から剥離する際に、転写された微細形状を破壊することなく、より容易に剥離することができる。 In the method for forming an antireflection film of the present invention, the second silicone resin preferably has a weight average molecular weight of 300,000 to 350,000.
Thereby, more appropriate flexibility can be given to the mold, and the followability to the curved surface is improved. Further, when peeling from the antireflection film, it can be more easily peeled without destroying the transferred fine shape.

本発明の反射防止膜の形成方法では、前記第２の層の厚さが、１．０〜１０．０ｍｍであることが好ましい。
これにより、成形型に、より適度な柔軟性を付与することができ、曲面への追従性が向上する。また、反射防止膜から剥離する際に、転写された微細形状を破壊することなく、より容易に剥離することができる。 In the method for forming an antireflection film of the present invention, the thickness of the second layer is preferably 1.0 to 10.0 mm.
Thereby, more appropriate flexibility can be given to the mold, and the followability to the curved surface is improved. Further, when peeling from the antireflection film, it can be more easily peeled without destroying the transferred fine shape.

本発明の反射防止膜の形成装置は、本発明の反射防止膜の形成方法に適用されることを特徴とする。
これにより、従来用いられてきた金型では反射防止膜の形成が困難であった曲面を有する基材であっても、容易かつ確実に反射防止膜を形成することができる。
本発明の反射防止膜の形成装置は、曲面を有する基材上に反射防止膜を形成する形成装置であって、
シリコーン樹脂で構成された成形型を、前記曲面上に供給された樹脂に、圧接させる圧接手段を備えることを特徴とする。
これにより、従来用いられてきた金型では反射防止膜の形成が困難であった曲面を有する基材であっても、容易かつ確実に反射防止膜を形成することができる。 The antireflection film forming apparatus of the present invention is applied to the antireflection film forming method of the present invention.
Thereby, even if it is the base material which has a curved surface for which formation of the anti-reflective film was difficult with the conventionally used metal mold | die, an anti-reflective film can be formed easily and reliably.
The antireflection film forming apparatus of the present invention is a forming apparatus for forming an antireflection film on a curved substrate,
It is characterized by comprising press contact means for press-contacting a mold made of silicone resin to the resin supplied on the curved surface.
Thereby, even if it is the base material which has a curved surface for which formation of the anti-reflective film was difficult with the conventionally used metal mold | die, an anti-reflective film can be formed easily and reliably.

本発明の反射防止膜の形成装置では、前記圧接手段は、少なくとも、前記成形型と接する側の面が、可撓性を有するシート材で構成され、内部に流体が充填された圧接室を備えていることが好ましい。
これにより、樹脂が曲面に供給された場合であっても、成形体が樹脂全体を均一に圧接するため、得られる反射防止膜の表面形状を均一なものとすることができる。
本発明の反射防止膜は、本発明の方法により形成されたことを特徴とする。
これにより、高い反射防止効果を有する反射防止膜を提供することができる。
本発明の反射防止膜は、本発明の形成装置を用いて形成されたことを特徴とする。
これにより、高い反射防止効果を有する反射防止膜を提供することができる。 In the antireflection film forming apparatus of the present invention, the press contact means includes a press contact chamber in which at least a surface in contact with the mold is made of a flexible sheet material and filled with a fluid. It is preferable.
Thereby, even if the resin is supplied to the curved surface, the molded body uniformly presses the entire resin, so that the surface shape of the obtained antireflection film can be made uniform.
The antireflection film of the present invention is formed by the method of the present invention.
Thereby, an antireflection film having a high antireflection effect can be provided.
The antireflection film of the present invention is formed using the forming apparatus of the present invention.
Thereby, an antireflection film having a high antireflection effect can be provided.

本発明の反射防止膜は、曲面を有する基材の前記曲面上に設けられ、表面に所定のパターンの微細な凹凸を有する、主として樹脂で構成された反射防止膜であって、
前記凹凸のピッチおよびその高低差のいずれもが、可視光の波長未満であることを特徴とする。
これにより、高い反射防止効果を有する反射防止膜を提供することができる。
本発明の光学部品は、本発明の反射防止膜を備えることを特徴とする。
これにより、高い反射防止効果を有する光学部品を提供することができる。 The antireflection film of the present invention is an antireflection film mainly composed of a resin, which is provided on the curved surface of a substrate having a curved surface and has fine irregularities of a predetermined pattern on the surface,
Both the pitch of the unevenness and the height difference thereof are less than the wavelength of visible light.
Thereby, an antireflection film having a high antireflection effect can be provided.
The optical component of the present invention includes the antireflection film of the present invention.
Thereby, an optical component having a high antireflection effect can be provided.

以下、本発明の反射防止膜の形成方法、反射防止膜の形成装置、反射防止膜および光学部品の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
［反射防止膜］
まず、本発明の反射防止膜について説明する。
図１は、本発明の反射防止膜が設けられた光学部品を模式的に示す縦断面図、図２は、本発明の反射防止膜の表面形状を示す部分縦断面図である。 Hereinafter, preferred embodiments of an antireflection film forming method, an antireflection film forming apparatus, an antireflection film, and an optical component according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[Antireflection film]
First, the antireflection film of the present invention will be described.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing an optical component provided with the antireflection film of the present invention, and FIG. 2 is a partial longitudinal sectional view showing the surface shape of the antireflection film of the present invention.

図１に示すように、光学部品１０（本発明の光学部品）は、一方の面に曲面１１を備えた透明基材１と、曲面１１上に設けられた反射防止膜２とを有している。
反射防止膜２の表面には、図２に示すように、微細な凹凸２１が所定のパターンで形成されている。
この所定のパターンで形成された凹凸２１は、いわゆる、モスアイ構造を構成している。このモスアイ構造は、微細な凹凸２１により、光学部品１０の外側の反射防止膜２の屈折率から基材１の屈折率まで漸次変化する領域となり、極めて低反射率の反射防止構造である。また、照射光の入射角度に依存せず、比較的幅広い波長にわたって反射防止効果を有している。 As shown in FIG. 1, an optical component 10 (an optical component of the present invention) includes a transparent base material 1 having a curved surface 11 on one surface, and an antireflection film 2 provided on the curved surface 11. Yes.
On the surface of the antireflection film 2, fine irregularities 21 are formed in a predetermined pattern as shown in FIG.
The irregularities 21 formed in this predetermined pattern constitute a so-called moth-eye structure. This moth-eye structure is a region that gradually changes from the refractive index of the antireflection film 2 outside the optical component 10 to the refractive index of the base material 1 due to the minute unevenness 21, and is an antireflection structure with extremely low reflectance. Further, it has an antireflection effect over a relatively wide range of wavelengths without depending on the incident angle of irradiation light.

本発明では、凹凸２１が、後述するように、シリコーン樹脂で構成された成形型３を用いて形成されるため、型くずれ等がなく、反射防止膜２全面にわたって均一に形成されている。
図２中Ｐで示す凹凸２１のピッチ、すなわち、隣接する凹凸２１の最も高い頂部（最も低い底部）の距離は、可視光の波長未満となっている。 In the present invention, as will be described later, the unevenness 21 is formed using the molding die 3 made of silicone resin, so that there is no mold deformation and the like, and it is uniformly formed over the entire antireflection film 2.
The pitch of the unevenness 21 indicated by P in FIG. 2, that is, the distance between the highest top (lowest bottom) of the adjacent unevenness 21 is less than the wavelength of visible light.

また、図２中Ｈに示す凹凸２１の高低差、すなわち、凹凸２１の最も高い頂部と最も低い底部との高低差も、前述した凹凸２１のピッチと同様に、可視光の波長未満となっている。
より具体的には、凹凸２１のピッチおよびその高低差は、１００〜４００ｎｍ程度であるのが好ましく、１５０〜２５０ｎｍ程度であるのがより好ましい。これにより、より高い反射防止効果が得られる。 Also, the height difference of the unevenness 21 shown in H in FIG. 2, that is, the height difference between the highest top and the lowest bottom of the unevenness 21 is less than the wavelength of visible light, similar to the pitch of the unevenness 21 described above. Yes.
More specifically, the pitch of the unevenness 21 and the height difference thereof are preferably about 100 to 400 nm, and more preferably about 150 to 250 nm. Thereby, a higher antireflection effect can be obtained.

反射防止膜２は、樹脂で構成されている。
反射防止膜２を構成する樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられ、いずれのものも用いることができる。
反射防止膜２の厚さ、すなわち、凹凸２１の最も高い頂部から基材１と接する面までの距離は、特に限定はされないが０．１ｍｍ以下であるのが好ましい。これにより、光学部品１０の特性を阻害することなく、優れた反射防止効果を発揮する。 The antireflection film 2 is made of resin.
Examples of the resin constituting the antireflection film 2 include curable resins such as ultraviolet curable resins and thermosetting resins, thermoplastic resins, and the like, and any of them can be used.
The thickness of the antireflection film 2, that is, the distance from the highest top of the unevenness 21 to the surface in contact with the substrate 1 is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm or less. Thereby, the outstanding anti-reflective effect is exhibited, without inhibiting the characteristic of the optical component 10. FIG.

基材１を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、ガラス、樹脂等いずれのものも用いることができる。特に、基材１を構成する材料として、反射防止膜２と同じ種類の材料を用いた場合、基材１と反射防止膜２の密着性が向上し、反射防止膜２の剥離等を効果的に防止することができる。また、各々の屈折率に関しても基材1に対して反射防止膜２の材料は同等以下のものであれば、より反射防止効果が得られることができる。 It does not specifically limit as a material which comprises the base material 1, For example, any things, such as glass and resin, can be used. In particular, when the same kind of material as that of the antireflection film 2 is used as the material constituting the base material 1, the adhesion between the base material 1 and the antireflection film 2 is improved, and the antireflection film 2 is effectively peeled off. Can be prevented. Further, with respect to each refractive index, if the material of the antireflection film 2 is equal to or less than that of the base material 1, an antireflection effect can be further obtained.

［反射防止膜の形成方法］
次に、本発明の反射防止膜の形成方法について、添付図面を参照しつつ説明する。
図３、図４は、本発明の反射防止膜の形成方法を示した図である。なお、以下の説明では、図中、上側を「上方」、下側を「下方」という。
まず、曲面１１を有する透明基材１を用意する。 [Method of forming antireflection film]
Next, a method for forming an antireflection film according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
3 and 4 are views showing a method for forming an antireflection film according to the present invention. In the following description, the upper side is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower” in the drawings.
First, a transparent substrate 1 having a curved surface 11 is prepared.

次に、図３（ａ）に示すように、曲面１１上に未硬化の紫外線硬化性樹脂２’（以下、単に樹脂２’ともいう）を供給する。
次に、成形型３を用意する。
この成形型３は、シリコーン樹脂で構成され、前述した反射防止膜２の微細な凹凸２１のパターンに対応した凹凸３１１が形成されている。なお、成形型３については、後に詳述する。 Next, as shown in FIG. 3A, uncured ultraviolet curable resin 2 ′ (hereinafter also simply referred to as resin 2 ′) is supplied onto the curved surface 11.
Next, the mold 3 is prepared.
The mold 3 is made of a silicone resin, and has an unevenness 311 corresponding to the fine unevenness 21 pattern of the antireflection film 2 described above. The mold 3 will be described in detail later.

次に、図３（ｂ）に示すように、成形型３を、成形型３の凹凸パターンと樹脂２’が向かい合うように設置する。
次に、図３（ｃ）に示すように、成形型３を樹脂２’に圧接する。これにより、成形型３の凹凸パターンが、樹脂２’に転写される。このとき、成形型３は、従来用いられてきた金型と比較して、柔軟性（可撓性）を有しているため、曲面１１の形状に追従することができる。その結果、確実に、成形型３の表面形状を転写することができ、曲面１１の表面に均一な凹凸２１を有する反射防止膜２を形成することができる。 Next, as shown in FIG. 3B, the mold 3 is placed so that the concave / convex pattern of the mold 3 and the resin 2 ′ face each other.
Next, as shown in FIG. 3C, the mold 3 is pressed against the resin 2 ′. Thereby, the uneven | corrugated pattern of the shaping | molding die 3 is transcribe | transferred by resin 2 '. At this time, since the mold 3 has flexibility (flexibility) compared to a conventionally used mold, it can follow the shape of the curved surface 11. As a result, the surface shape of the mold 3 can be reliably transferred, and the antireflection film 2 having the uniform unevenness 21 on the surface of the curved surface 11 can be formed.

このように成形型３を樹脂２’に圧接する方法としては、例えば、後に詳述する、流体の圧力を用いて行うのが好ましい。これにより、成形型３全体に均一に圧力を加えることができる。
次に、図３（ｄ）に示すように、透明基材１の下方より、紫外線を照射し、樹脂２’を硬化させる。これにより、樹脂層２”（固化物）が形成される。 As a method for press-contacting the mold 3 to the resin 2 ′ in this manner, for example, it is preferable to use a fluid pressure, which will be described in detail later. Thereby, a pressure can be uniformly applied to the whole mold 3.
Next, as shown in FIG. 3D, ultraviolet rays are irradiated from below the transparent substrate 1 to cure the resin 2 ′. Thereby, the resin layer 2 ″ (solidified product) is formed.

次に、図４（ｅ）に示すように、成形型３を樹脂層２”から剥離する。
この際、柔軟性を有する成形型３を用いているため、転写された微細な凹凸形状を破損させることなく、容易に剥離することができる。また、反射防止膜２も型くずれ等することなく、繰り返し使用することができる。
以上のようにして、図４（ｆ）に示すような反射防止膜２（光学部品１０）が得られる。 Next, as shown in FIG. 4E, the mold 3 is peeled from the resin layer 2 ″.
At this time, since the flexible mold 3 is used, it can be easily peeled without damaging the transferred fine uneven shape. Further, the antireflection film 2 can be repeatedly used without being deformed.
As described above, the antireflection film 2 (optical component 10) as shown in FIG. 4F is obtained.

以上説明したように、本発明の反射防止膜の形成方法は、シリコーン樹脂で構成され、かつ、形成すべき反射防止膜の表面形状に対応したパターンの微細な凹凸が形成された成形型を用いて、反射防止膜を形成する点に特徴を有している。これにより、従来用いられてきた金型では反射防止膜の形成が困難であった、曲面を有する基材であっても、容易かつ確実に反射防止膜を形成することができる。 As described above, the method for forming an antireflection film according to the present invention uses a mold made of silicone resin and having fine irregularities in a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed. The antireflection film is characterized in that it is formed. Thereby, even if it is the base material which has a curved surface for which the formation of the antireflection film was difficult with the conventionally used metal mold | die, an antireflection film can be formed easily and reliably.

また、本発明によれば、優れた反射防止効果を有する反射防止膜を安価に形成することができる。
また、特に、本発明の方法によれば、均一な凹凸パターンのモスアイ構造を容易に形成することができる。
なお、上記説明では、樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いた場合について説明したが、これに限定されず、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等を用いてもよい。 Further, according to the present invention, an antireflection film having an excellent antireflection effect can be formed at low cost.
In particular, according to the method of the present invention, a moth-eye structure having a uniform concavo-convex pattern can be easily formed.
In the above description, the case where an ultraviolet curable resin is used as the resin has been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like may be used.

［反射防止膜の形成装置］
次に、本発明の反射防止膜の形成装置について説明する。
図５は、本発明の反射防止膜の形成装置の概略を示した縦断面図、図６は、本発明の反射防止膜の形成装置を用いて成形型を樹脂に圧接した際の部分断面図である。なお、以下の説明では、図中、上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」という。 [Antireflection film forming apparatus]
Next, the antireflection film forming apparatus of the present invention will be described.
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing an outline of the antireflection film forming apparatus of the present invention, and FIG. 6 is a partial cross sectional view when the mold is pressed against the resin using the antireflection film forming apparatus of the present invention. It is. In the following description, the upper side is referred to as “upper” or “upper” and the lower side is referred to as “lower” or “lower” in the drawings.

図５に示すように、反射防止膜の形成装置２０（以下単に形成装置２０ともいう）は、透明基材１を設置する設置台２０１と、成形型３と、成形型３が設置された圧接手段２０２と、設置台２０１に固定され、かつ、圧接手段２０２を支持する支持台２０３とを有している。
設置台２０１は、樹脂２’に対して、紫外線を照射する紫外線照射手段２１１が設けられている。 As shown in FIG. 5, the antireflection film forming apparatus 20 (hereinafter also simply referred to as the forming apparatus 20) includes an installation table 201 on which the transparent substrate 1 is installed, a molding die 3, and a pressure contact on which the molding die 3 is installed. Means 202 and a support base 203 that is fixed to the installation base 201 and supports the pressure contact means 202 are provided.
The installation table 201 is provided with ultraviolet irradiation means 211 for irradiating the resin 2 ′ with ultraviolet rays.

圧接手段２０２は、可撓性を有するシート材２２２で構成され、内部に空気が充填された袋状の圧接室（圧接体）２３２と、シート材２２２を保持するシート材保持部２４２と、駆動部２１２とを有している。
駆動部２１２は、図示せぬ駆動手段により上下に駆動し、圧接手段２０２全体が上下に移動するよう構成されている。 The pressure contact means 202 is composed of a flexible sheet material 222, a bag-shaped pressure contact chamber (pressure contact body) 232 filled with air, a sheet material holding portion 242 that holds the sheet material 222, and a drive Part 212.
The drive unit 212 is configured to be driven up and down by a drive unit (not shown) so that the entire pressure contact unit 202 moves up and down.

本実施形態の形成装置２０は、曲面１１の表面に樹脂２’が供給された透明基材１を設置台２０１に設置した状態で、圧接手段２０２を下方に移動することにより、成形型３を樹脂２’に圧接するよう構成されている。
このように、圧接手段２０２によって、成形型３を樹脂２’に圧接させると、図６に示すように、圧接室２２３がゆがむ。圧接室２２３は、内部に充填された空気の圧力により、もとの形状に戻ろうとする。このとき、圧接室２２３内の空気がシート材２２２を押す力、すなわち、空気圧は、圧接室２２３内では、どこにおいても一定であるため、シート材２２２が成形型３を押す力も成形型３のどの部位においても一定となる。これにより、樹脂２’が曲面に供給された場合であっても、成形型３が樹脂２’全体を均一に圧接するため、得られる反射防止膜２の表面形状を均一なものとすることができる。 The forming apparatus 20 of the present embodiment moves the press contact means 202 downward in a state where the transparent base material 1 to which the resin 2 ′ is supplied on the surface of the curved surface 11 is installed on the installation table 201. It is comprised so that it may press-contact with resin 2 '.
Thus, when the mold 3 is pressed against the resin 2 ′ by the press contact means 202, the press contact chamber 223 is distorted as shown in FIG. The pressure contact chamber 223 attempts to return to its original shape by the pressure of the air filled therein. At this time, since the air in the pressure contact chamber 223 pushes the sheet material 222, that is, the air pressure is constant everywhere in the pressure contact chamber 223, the force by which the sheet material 222 pushes the mold 3 is also the same as that of the mold 3. It becomes constant in every part. Thereby, even when the resin 2 ′ is supplied to the curved surface, the molding die 3 presses the entire resin 2 ′ uniformly, so that the surface shape of the obtained antireflection film 2 is made uniform. it can.

以上説明したように、本発明によれば、反射防止膜を形成すべき基材の形状によらず、均一な形状の凹凸パターンを有する反射防止膜を、容易かつ確実に形成することができる。すなわち、本発明によれば、多品種少量生産に好適に適用でき、コスト的にも有利である。
なお、前述した実施形態では、圧接室内に空気が充填されているものとして説明したが、流体であればいかなるものであってもよく、空気以外の気体や液体等であってもよい。例えば、比較的破損しやすい基材上に反射防止膜を形成する場合には、比較的小さく、適度な圧力が加えられる気体を用いるのが好ましい。また、反射防止膜の材料として比較的強固なものを用いる場合、大きな圧力を加えることが可能な液体を用いるのが好ましい。 As described above, according to the present invention, it is possible to easily and reliably form an antireflection film having an uneven pattern with a uniform shape regardless of the shape of the base material on which the antireflection film is to be formed. That is, according to the present invention, the present invention can be suitably applied to high-mix low-volume production, which is advantageous in terms of cost.
In the above-described embodiment, the pressure contact chamber is described as being filled with air. However, any fluid may be used, and a gas or liquid other than air may be used. For example, when an antireflection film is formed on a substrate that is relatively easy to break, it is preferable to use a gas that is relatively small and to which an appropriate pressure is applied. When a relatively strong material is used as the antireflection film, it is preferable to use a liquid capable of applying a large pressure.

また、前述した実施形態では、圧接手段に成形型を設置するものとして説明したが、これに限定されず、設置されていなくてもよい。
また、前述した実施形態では、紫外線照射手段が設けられた構成について説明したが、これに限定されない。例えば、反射防止膜の構成材料として熱硬化性樹脂を用いた場合、加熱手段が設けられていてもよい。 In the above-described embodiment, the molding die is installed in the press contact unit. However, the present invention is not limited to this, and the molding die may not be installed.
In the above-described embodiment, the configuration in which the ultraviolet irradiation unit is provided has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, when a thermosetting resin is used as a constituent material of the antireflection film, a heating means may be provided.

［成形型３］
次に、本発明の反射防止膜の形成に用いられる成形型について説明する。
本発明の反射防止膜の形成に用いられる成形型は、シリコーン樹脂で構成されたものであれば、いかなる構成のものであってもよいが、例えば、以下に説明するような、分子量の異なるシリコーン樹脂で構成された２層以上の積層体であるのが好ましい。 [Mold 3]
Next, the mold used for forming the antireflection film of the present invention will be described.
The mold used for forming the antireflection film of the present invention may have any structure as long as it is composed of a silicone resin. For example, silicones having different molecular weights as described below It is preferably a laminate of two or more layers made of resin.

図７は、本発明の反射防止膜の形成に用いる成形型の一例を示す縦断面図、図８は、成形型の製造方法を示す図である。
図７に示すように、成形型３は、第１のシリコーン樹脂で構成され、一方の面に反射防止膜２の表面形状に対応したパターンの凹凸３１１が形成された第１の層３１と、第１の層３１の他方の面側に配され、第１のシリコーン樹脂よりも重量平均分子量の低い第２のシリコーン樹脂で構成された第２の層３２とを有している。 FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing an example of a mold used for forming the antireflection film of the present invention, and FIG. 8 is a view showing a method for manufacturing the mold.
As shown in FIG. 7, the mold 3 is made of a first silicone resin, and has a first layer 31 in which concave and convex 311 having a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film 2 is formed on one surface, The second layer 32 is disposed on the other surface side of the first layer 31 and is composed of a second silicone resin having a weight average molecular weight lower than that of the first silicone resin.

このように、比較的硬い第１のシリコーン樹脂で構成されている第１の層３１と、第１のシリコーン樹脂よりも重量平均分子量が低い第２のシリコーン樹脂、すなわち、比較的柔らかい第２のシリコーン樹脂で構成されている第２の層３２とを組み合わせることにより、成形型３全体としての柔軟性は保持しつつ、確実に成形型３の形状を樹脂２’に転写することができる。また、反射防止膜２から剥離する際に、成形型３の凹凸３１１の型くずれや、破損等を防止することができる。その結果、繰り返し使用することができる。 As described above, the first layer 31 made of the relatively hard first silicone resin and the second silicone resin having a weight average molecular weight lower than that of the first silicone resin, that is, the relatively soft second silicone resin. By combining with the second layer 32 made of silicone resin, the shape of the mold 3 can be reliably transferred to the resin 2 ′ while maintaining the flexibility of the entire mold 3. Moreover, when the antireflection film 2 is peeled off, it is possible to prevent the mold 3D from being deformed or damaged, etc. As a result, it can be used repeatedly.

ここで、シリコーン樹脂とは、有機ケイ素ポリマーの１つである、シリコーン（ポリオルガノシロキサン）ゴムである。ポリシロキサンは、ケイ素−酸素結合が繰り返す高分子鎖構造を有しており、このケイ素−酸素結合が極低温から高温まで、幅広い温度域で柔軟性を保つことができる。
シリコーン樹脂の種類としては室温硬化型（触媒付加、水分等によって硬化するタイプ）、紫外線硬化型、電子線硬化型、無溶剤型等いずれのものでも用いることができる。このようなシリコーン樹脂は、成形型の材料として用いた場合、剥離する際には変形して容易に剥離することができ、剥離した後には形状がすぐに復元されるため、成形型の材料として好適に用いることができる。 Here, the silicone resin is a silicone (polyorganosiloxane) rubber which is one of organosilicon polymers. Polysiloxane has a polymer chain structure in which silicon-oxygen bonds repeat, and the silicon-oxygen bonds can maintain flexibility in a wide temperature range from extremely low temperatures to high temperatures.
As the type of silicone resin, any of room temperature curable type (type added with catalyst, cured by moisture, etc.), ultraviolet curable type, electron beam curable type, solventless type and the like can be used. When such a silicone resin is used as a mold material, it can be easily deformed and peeled when peeled, and the shape is immediately restored after peeling. It can be used suitably.

第１のシリコーン樹脂、第２のシリコーン樹脂は、前述した種類のうち、いずれものもの用いてもよいが、互いに同じ種類のものを用いるのが好ましい。これにより、第１の層３１と第２の層３２との密着性がより高いものとなる。その結果、成形型３の耐久性を向上させることができる。
第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量は、第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量よりも高いのものであれば、特に限定されないが、６０,００００以上であるのが好ましく、６００，０００〜１，０００，０００であるのがより好ましい。これにより、より確実に成形型３の表面形状を転写することができる。また、反射防止膜２から剥離する際に、反射防止膜２に転写した形状の破損等をより確実に防止し、また、成形型の凹凸３１１の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。これに対し、第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量が低すぎると、第１の層３１の厚さや第２の層３２の厚さ等によっては、第１の層３１に十分な硬度を付与することができず、反射防止膜２から成形型３を剥離する際に、凹凸３１１のパターンの型くずれや破損等を十分に防止するのが困難となる場合がある。一方、第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量が高すぎると、第１の層３１の厚さや第２の層３２の厚さ等によっては、成形型３全体としての柔軟性が十分に得られず、反射防止膜２から成形型３を容易に剥離するのが困難となる場合がある。 Any of the types described above may be used as the first silicone resin and the second silicone resin, but it is preferable to use the same type of resin. Thereby, the adhesiveness between the first layer 31 and the second layer 32 becomes higher. As a result, the durability of the mold 3 can be improved.
The weight average molecular weight of the first silicone resin is not particularly limited as long as it is higher than the weight average molecular weight of the second silicone resin, but it is preferably 60,0000 or more, 600,000 to 1, More preferably, it is 1,000,000. Thereby, the surface shape of the shaping | molding die 3 can be transcribe | transferred more reliably. Further, when peeling from the antireflection film 2, it is possible to more reliably prevent the shape transferred to the antireflection film 2 from being damaged, and to more reliably prevent the mold from being deformed or damaged. it can. On the other hand, if the weight average molecular weight of the first silicone resin is too low, sufficient hardness is imparted to the first layer 31 depending on the thickness of the first layer 31, the thickness of the second layer 32, and the like. When the mold 3 is peeled from the antireflection film 2, it may be difficult to sufficiently prevent the pattern of the unevenness 311 from being deformed or damaged. On the other hand, if the weight average molecular weight of the first silicone resin is too high, the flexibility of the mold 3 as a whole cannot be sufficiently obtained depending on the thickness of the first layer 31, the thickness of the second layer 32, or the like. In some cases, it is difficult to easily peel the mold 3 from the antireflection film 2.

第１のシリコーン樹脂の引張強度は、２８０ｋｇ／ｃｍ^２以上であるのが好ましく、２８０〜４５０ｋｇ／ｃｍ^２であるのがより好ましい。これにより、反射防止膜２から剥離する際に、反射防止膜２に転写した形状の破損等をより確実に防止し、また、成形型３の凹凸３１１の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。
図中Ａで示す第１の層３１の厚さ、すなわち、第１の層３１と第２の層３２との界面から凹凸３１１の縁部までの距離は、凹凸３１１の深さ以上であれば、特に限定されないが、０．５〜５．０ｍｍであるのが好ましく、０．５〜２．０ｍｍであるのがより好ましい。これにより、成形型３全体としての柔軟性を十分に保持しつつ、反射防止膜２から剥離する際に、凹凸３１１の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。 The tensile strength of the first silicone resin is preferably at 280 kg / cm ² or more, and more preferably 280~450kg / cm ^2. Thereby, when peeling from the antireflection film 2, the shape transferred to the antireflection film 2 is more reliably prevented from being damaged, and the unevenness or damage of the unevenness 311 of the mold 3 is more reliably prevented. be able to.
If the thickness of the first layer 31 shown by A in the drawing, that is, the distance from the interface between the first layer 31 and the second layer 32 to the edge of the unevenness 311 is equal to or greater than the depth of the unevenness 311 Although not particularly limited, it is preferably 0.5 to 5.0 mm, and more preferably 0.5 to 2.0 mm. Thereby, when the mold 3 is peeled off from the antireflection film 2, it is possible to more reliably prevent the irregularities 311 from being deformed or damaged.

第２の層３２を構成する第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量は、前述した第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量よりも小さければ、特に限定されないが、３００，０００〜３５０，０００であるのが好ましい。これにより、成形型３に、より適度な柔軟性を付与することができ、曲面への追従性が向上する。また、反射防止膜２から剥離する際に、転写された微細形状を破壊することなく、より容易に剥離することができる。これに対し、第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量が低すぎると、第１の層３１の厚さや第１のシリコーン樹脂の重量平均分子量等によっては、成形型３としての形状を十分に維持するのが困難となる場合がある。一方、第２のシリコーン樹脂の重量平均分子量が高すぎると、第１の層３１の厚さや第２の層３２の厚さ等によっては、成形型３として十分な柔軟性が得られず、反射防止膜２から成形型３を容易に剥離することができなくなる場合がある。 The weight average molecular weight of the second silicone resin constituting the second layer 32 is not particularly limited as long as it is smaller than the weight average molecular weight of the first silicone resin described above, but is 300,000-350,000. Is preferred. Thereby, more moderate softness | flexibility can be provided to the shaping | molding die 3, and the followable | trackability to a curved surface improves. Moreover, when peeling from the anti-reflective film 2, it can peel more easily, without destroying the transferred fine shape. On the other hand, if the weight average molecular weight of the second silicone resin is too low, the shape of the mold 3 is sufficiently maintained depending on the thickness of the first layer 31 and the weight average molecular weight of the first silicone resin. May be difficult. On the other hand, if the weight average molecular weight of the second silicone resin is too high, sufficient flexibility as the mold 3 cannot be obtained depending on the thickness of the first layer 31 and the thickness of the second layer 32, and the like. In some cases, the mold 3 cannot be easily peeled off from the prevention film 2.

第１のシリコーン樹脂と第２のシリコーン樹脂との重量平均分子量の差は、３００，０００〜７００，０００であるのが好ましい。これにより、成形型３全体としての柔軟性を十分に保持しつつ、より確実に成形型３の形状を樹脂２’に転写することができる。また、反射防止膜２から剥離する際に、凹凸３１１の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。また、反射防止膜２から成形型３をより容易に剥離することができる。 The difference in weight average molecular weight between the first silicone resin and the second silicone resin is preferably 300,000 to 700,000. Thereby, the shape of the molding die 3 can be transferred to the resin 2 'more reliably while sufficiently maintaining the flexibility of the molding die 3 as a whole. Further, when the antireflection film 2 is peeled off, it is possible to more reliably prevent the irregularities 311 from being deformed or damaged. Further, the mold 3 can be more easily peeled from the antireflection film 2.

第２の層３２の厚さは、特に限定されるものではないが、１．０〜１０．０ｍｍであるのが好ましく、１．０〜５．０ｍｍであるのがより好ましい。これにより、成形型３に、より適度な柔軟性を付与することができ、曲面への追従性が向上する。また、反射防止膜２から剥離する際に、転写された微細形状を破壊することなく、より容易に剥離することができる。これに対し、第２の層３２の厚さが薄すぎると、第１の層３１の厚さや第２の層３２の厚さ等によっては、成形型３として十分な柔軟性が得られず、反射防止膜２から成形型３を容易に剥離することができなくなる場合がある。 Although the thickness of the 2nd layer 32 is not specifically limited, It is preferable that it is 1.0-10.0 mm, and it is more preferable that it is 1.0-5.0 mm. Thereby, more moderate softness | flexibility can be provided to the shaping | molding die 3, and the followable | trackability to a curved surface improves. Moreover, when peeling from the anti-reflective film 2, it can peel more easily, without destroying the transferred fine shape. On the other hand, if the thickness of the second layer 32 is too thin, sufficient flexibility as the mold 3 cannot be obtained depending on the thickness of the first layer 31, the thickness of the second layer 32, and the like. In some cases, the mold 3 cannot be easily peeled off from the antireflection film 2.

前述した第１の層３１と第２の層３２との厚さの比は、特に限定されるものではないが、１：２〜１：１０であるのが好ましく、１：５〜１：１０であるのがより好ましい。第１の層３１の厚さと第２の層３２の厚さがこのような関係を満足することにより、成形型３全体としての柔軟性を十分に保持しつつ、より確実に成形型３の形状を樹脂２’に転写することができる。また、反射防止膜２から剥離する際に、凹凸３１１の型くずれや破損等をより確実に防止することができる。また、反射防止膜２から成形型３をより容易に剥離することができる。 The ratio of the thickness of the first layer 31 and the second layer 32 described above is not particularly limited, but is preferably 1: 2 to 1:10, and 1: 5 to 1:10. It is more preferable that By satisfying such a relationship between the thickness of the first layer 31 and the thickness of the second layer 32, the shape of the mold 3 can be more reliably maintained while sufficiently maintaining the flexibility of the mold 3 as a whole. Can be transferred to the resin 2 ′. Further, when the antireflection film 2 is peeled off, it is possible to more reliably prevent the irregularities 311 from being deformed or damaged. Further, the mold 3 can be more easily peeled from the antireflection film 2.

なお、前述した実施形態では、成形型３が、シリコーン樹脂の重量平均分子量の異なる第１の層３１と第２の層３２とで構成されたものとして説明したが、本発明は、これに限定されない。例えば、第１の層３１と第２の層３２との間に、第３の層があってもよい。第３の層を構成するする材料としては、特に限定されないが、シリコーン樹脂を用いるのが好ましい。このような場合、第３の層を構成するシリコーン樹脂としては、第１のシリコーン樹脂と第２のシリコーン樹脂との中間的な重量平均分子量を有するものを用いるのが好ましい。これにより、例えば、加熱時等の温度変化の際に、第１の層３１を構成する第１のシリコーン樹脂と第２の層３２を構成する第２のシリコーン樹脂の熱膨張係数の違いによって生じる成形型３の歪み等を緩和することができる。また、成形型３は、シリコーン樹脂の重量平均分子量が次第に変化していくよう構成されたものであってもよい。 In the above-described embodiment, the mold 3 has been described as being composed of the first layer 31 and the second layer 32 having different weight average molecular weights of the silicone resin. However, the present invention is not limited to this. Not. For example, there may be a third layer between the first layer 31 and the second layer 32. Although it does not specifically limit as a material which comprises a 3rd layer, It is preferable to use a silicone resin. In such a case, as the silicone resin constituting the third layer, it is preferable to use a resin having an intermediate weight average molecular weight between the first silicone resin and the second silicone resin. Thereby, for example, when the temperature changes during heating or the like, it is caused by a difference in thermal expansion coefficient between the first silicone resin constituting the first layer 31 and the second silicone resin constituting the second layer 32. The distortion of the mold 3 can be alleviated. Moreover, the shaping | molding die 3 may be comprised so that the weight average molecular weight of a silicone resin may change gradually.

［成形型３の製造］
つぎに、成形型３の製造方法について説明する。
図８は、本発明の成形型の製造方法を模式的に示す図である。
まず、図８（ａ）に示すように、マスター原盤５を用意する。このマスター原盤５には、前述した凹凸３１１に対応した形状の凹凸５１が所定パターンで形成されている。 [Manufacture of mold 3]
Next, a method for manufacturing the mold 3 will be described.
FIG. 8 is a diagram schematically showing a method for manufacturing a mold according to the present invention.
First, as shown in FIG. 8A, a master master 5 is prepared. The master master 5 is provided with irregularities 51 having a shape corresponding to the irregularities 311 described above in a predetermined pattern.

そして、このマスター原盤５を、型取りトレイ６の内部に、例えば凹凸５１が鉛直上方に開放するように設置する。
次に、図８（ｂ）に示すように、マスター原盤５上に、未硬化の第１のシリコーン樹脂２９を供給する。
なお、シリコーン樹脂を供給するときに空気を巻き込んで気泡が入る場合がある。この場合、シリコーン樹脂の上面部は開放状態にあるため、所定時間放置してシリコーン樹脂の自重により気泡を追い出すか、真空脱泡することが好ましい。 Then, this master master 5 is installed inside the mold taking tray 6 so that, for example, the unevenness 51 is opened vertically upward.
Next, as shown in FIG. 8B, an uncured first silicone resin 29 is supplied onto the master master 5.
In addition, when supplying silicone resin, air may be involved and air bubbles may enter. In this case, since the upper surface portion of the silicone resin is in an open state, it is preferable that the silicone resin is left for a predetermined period of time to expel air bubbles by the weight of the silicone resin or vacuum degas.

次に、この第１のシリコーン樹脂２９を仮硬化させる。
例えば触媒付加による室温硬化の場合、仮硬化の時間は２〜５時間程度であるのが好ましい。
次に、図８（ｃ）に示すように仮硬化した第１のシリコーン樹脂２９上に、未硬化の第２のシリコーン樹脂３９を供給する。 Next, the first silicone resin 29 is temporarily cured.
For example, in the case of room temperature curing by addition of a catalyst, the temporary curing time is preferably about 2 to 5 hours.
Next, an uncured second silicone resin 39 is supplied onto the temporarily cured first silicone resin 29 as shown in FIG.

次に、全体を硬化（本硬化）させる。
触媒付加による室温硬化の場合、本硬化の時間は１２〜２４時間程度であるのが好ましい。この硬化方法は使用するシリコーン樹脂の種類によって変わり、たとえば熱硬化型樹脂の場合は、加熱温度と加熱時間を仮硬化と本硬化で変えることで第１、第２シリコーンを固化させ一体ものとさせることができる。 Next, the whole is cured (main curing).
In the case of room temperature curing by addition of a catalyst, the main curing time is preferably about 12 to 24 hours. This curing method varies depending on the type of silicone resin used. For example, in the case of a thermosetting resin, the first and second silicones are solidified and integrated by changing the heating temperature and heating time between temporary curing and main curing. be able to.

その後、固化した成形型３を、マスター原盤５から剥離する。反射防止膜２は容易に変形するので、マスター原盤５から剥離する際も容易に剥離することができる。
これにより、図７に示すような成形型３が得られる。
以上、本発明の反射防止膜の形成方法、反射防止膜の形成装置、反射防止膜および光学部品について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Thereafter, the solidified mold 3 is peeled off from the master master 5. Since the antireflection film 2 is easily deformed, it can be easily peeled off when peeled off from the master master 5.
Thereby, the shaping | molding die 3 as shown in FIG. 7 is obtained.
The antireflection film forming method, antireflection film forming apparatus, antireflection film, and optical component of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited thereto. .

例えば、本発明の反射防止膜の形成方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、本発明の反射防止膜の形成装置では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
また、前述した実施形態では、反射防止膜を形成する基材として、透明な基材を用いた場合について説明したが、これに限定されない。 For example, in the method for forming an antireflection film of the present invention, an optional process can be added as necessary.
In the antireflection film forming apparatus of the present invention, the configuration of each part can be replaced with an arbitrary configuration that exhibits the same function, and an arbitrary configuration can be added.
Moreover, although embodiment mentioned above demonstrated the case where a transparent base material was used as a base material which forms an antireflection film, it is not limited to this.

本発明の反射防止膜が設けられた光学部品を模式的に示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows typically the optical component provided with the anti-reflective film of this invention. 本発明の反射防止膜の表面形状を示す部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-section which shows the surface shape of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止膜の形成方法を示した図である。It is the figure which showed the formation method of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止膜の形成方法を示した図である。It is the figure which showed the formation method of the antireflection film of this invention. 本本発明の反射防止膜の形成装置の概略を示した縦断面図である。It is the longitudinal cross-sectional view which showed the outline of the formation apparatus of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止膜の形成装置を用いて成形型を樹脂に圧接した際の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view at the time of pressing a shaping | molding die to resin using the formation apparatus of the anti-reflective film of this invention. 本発明の反射防止膜の形成に用いる成形型の一例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows an example of the shaping | molding die used for formation of the antireflection film of this invention. 成形型の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a shaping | molding die.

Explanation of symbols

１……透明基材１０……光学部品１１……曲面２……反射防止膜２１……凹凸２’……樹脂２”……樹脂層２９……第１のシリコーン樹脂３……成形型３１……第１の層３２……第２の層３１１……凹凸３９……第２のシリコーン樹脂５……マスター原盤５１……凹凸６……型取りトレイ２０……反射防止膜の形成装置２０１……設置台２０２……圧接手段２０３……支持台２１１……紫外線照射手段２１２……駆動部２２２……シート材２３２……圧接室２４２……シート材保持部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent base material 10 ... Optical component 11 ... Curved surface 2 ... Antireflection film 21 ... Concavity and convexity 2 '... Resin 2 "... Resin layer 29 ... 1st silicone resin 3 ... Mold 31 …… First layer 32 ...... Second layer 311 ...... Concavity and convexity 39 ...... Second silicone resin 5 ...... Master master 51 concavo-convex 6 ...... Molding tray 20 ...... Antireflection film forming apparatus 201 …… Installation table 202 …… Pressing means 203 …… Supporting table 211 …… UV irradiation means 212 …… Drive unit 222 …… Sheet material 232 …… Pressing chamber 242 …… Sheet material holding part

Claims

A method of forming an antireflection film having fine irregularities of a predetermined pattern on the surface using a mold on the curved surface of a substrate having a curved surface,
The mold is made of silicone resin, and has fine irregularities in a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed,
Supplying a resin on the curved surface;
A step of pressure-contacting the mold to the resin supplied on the curved surface;
Solidifying the resin to obtain a solidified product;
And a step of peeling the mold from the solidified product.

The method for forming an antireflection film according to claim 1, wherein the mold is pressed against the resin by using a fluid pressure.

The method of forming an antireflection film according to claim 2, wherein the fluid is a gas.

The method for forming an antireflection film according to claim 2 or 3, wherein the antireflection film is made of pressure by using a bag-like pressure contact body made of a flexible material and containing the fluid.

5. The method for forming an antireflection film according to claim 1, wherein both the pitch of the unevenness and the height difference thereof are less than the wavelength of visible light.

The molding die is composed of a first silicone resin, and has a first layer having irregularities in a pattern corresponding to the surface shape of the antireflection film to be formed on one surface;
And a second layer composed of a second silicone resin having a weight average molecular weight lower than that of the first silicone resin, the second layer being disposed on the other surface side of the first layer. A method for forming an antireflection film according to claim 1.

The method of forming an antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein a difference between a molecular weight of the first silicone resin and a weight average molecular weight of the second silicone resin is 300,000 to 700,000. .

The method of forming an antireflection film according to claim 1, wherein the first silicone resin has a weight average molecular weight of 600,000 or more.

The method for forming an antireflection film according to claim 1, wherein the first layer has a thickness of 0.5 to 5.0 mm.

The method of forming an antireflection film according to claim 1, wherein the second silicone resin has a weight average molecular weight of 300,000 to 350,000.

The method of forming an antireflection film according to claim 1, wherein the second layer has a thickness of 1.0 to 10.0 mm.

An apparatus for forming an antireflection film, which is applied to the method for forming an antireflection film according to claim 1.

A forming apparatus for forming an antireflection film on a substrate having a curved surface,
An apparatus for forming an antireflection film, comprising: a pressing means for pressing a molding die made of a silicone resin against the resin supplied on the curved surface.

14. The antireflection film according to claim 13, wherein the pressure contact means includes a pressure contact chamber in which at least a surface in contact with the mold is made of a flexible sheet material and is filled with a fluid. Forming equipment.

An antireflection film formed by the method according to claim 1.

An antireflection film formed by using the forming apparatus according to claim 12.

An antireflection film mainly composed of a resin, which is provided on the curved surface of a substrate having a curved surface and has fine irregularities of a predetermined pattern on the surface,
Both the pitch of the unevenness and the height difference thereof are less than the wavelength of visible light.

An optical component comprising the antireflection film according to claim 15.