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JP2006036760A - Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic compound and synthetic intermediate thereof - Google Patents

Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic compound and synthetic intermediate thereof Download PDF

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JP2006036760A
JP2006036760A JP2005183005A JP2005183005A JP2006036760A JP 2006036760 A JP2006036760 A JP 2006036760A JP 2005183005 A JP2005183005 A JP 2005183005A JP 2005183005 A JP2005183005 A JP 2005183005A JP 2006036760 A JP2006036760 A JP 2006036760A
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JP
Japan
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group
compound
substituted
substituent
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP2005183005A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tomori
浩 戸森
Shigemi Abe
成己 阿邊
Kenji Susa
健二 須佐
Keijiro Kobayashi
慶二朗 小林
Takashi Takita
崇 瀧田
Fumihiko Toriyama
史彦 鳥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a N-carbonyl saturated heterocyclic compound and to provide a synthetic intermediate thereof and a method for producing the intermediate and to provide a method for using the N-carbonyl saturated heterocyclic compound. <P>SOLUTION: The invention relates to the formulas and reaction schemes disclosed in the specification. (In the formula, R<SP>1</SP>is H, an alkoxyl, a (substituted)phenyl, etc., R<SP>2</SP>is a halogen substituted phenyl, R<SP>3</SP>is H, OH, etc., G<SP>1</SP>is an alkylene, G<SP>2</SP>is a single bond or CH<SB>2</SB>, G<SP>3</SP>is an alkylene, etc., X is OH, etc., Y is a leaving group.). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、N−カルボニル飽和複素環類の新規な製造方法に関連し、N−カルボニル飽和複素環類を製造するための新規な化合物、その製造方法及び使用方法を提供する。
The present invention relates to a novel process for producing N-carbonyl saturated heterocycles, and provides a novel compound for producing N-carbonyl saturated heterocycles, a process for producing the same and a method for using the same.

N−カルボニル飽和複素環類は、ニューロキニン拮抗剤を製造するための中間体として有用であるが、(特許文献1参照)、このようなN−カルボニル飽和複素環類を分子内求核置換反応による閉環で合成する場合、N−アルキル又はN−スルホニル保護された鎖状化合物の閉環反応の後、N−アルキル又はスルホニル基を脱保護し、その後、窒素原子をカルボニル化することが必要であった(非特許文献1、2及び3)。   N-carbonyl saturated heterocycles are useful as intermediates for producing neurokinin antagonists (see Patent Document 1), and such N-carbonyl saturated heterocycles are converted into intramolecular nucleophilic substitution reactions. In the case of synthesizing by the ring closure according to the above, it is necessary to deprotect the N-alkyl or sulfonyl group after the ring-closing reaction of the N-alkyl or N-sulfonyl protected chain compound, and then carbonylate the nitrogen atom. (Non-Patent Documents 1, 2 and 3).

このため、この方法では工程数が多く、工業的なN−カルボニル飽和複素環の製法としては適切なものではなかった。   For this reason, in this method, there are many steps, and it was not suitable as a manufacturing method of an industrial N-carbonyl saturated heterocyclic ring.

もう一つの方法は例えば、アゾジカルボン酸ジエチル(DEAD)およびトリフェニルホスフィン(PhP)を用いた光延反応により、N−tert−ブトキシカルボニル鎖状ジオールから対応するN−カルボニル飽和複素環を合成する方法(下記の反応式)が知られている(非特許文献4及び非特許文献5参照)。 Another method synthesizes the corresponding N-carbonyl saturated heterocycle from N-tert-butoxycarbonyl chain diol by Mitsunobu reaction using, for example, diethyl azodicarboxylate (DEAD) and triphenylphosphine (Ph 3 P). There are known methods (see the following reaction formulas) (see Non-Patent Document 4 and Non-Patent Document 5).

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(上記式中、TBDMSはtert−ブチルジメチルシリルであり、Bocはtert−ブトキシカルボニルである。)
しかしながら、この方法においては、副生成物としてジエチルヒドラジンジカルボキシラートおよびトリフェニルホスフィンオキシドが生成し、これらは目的物の分離精製を妨害することから工業的なN−カルボニル飽和複素環の製法には適さないものであった。

米国特許第6511975号明細書 Y. Jinbo et al., J. Med. Chem., 37, 2791 (1994) G. Bettoni, et al., Tetrahedron, 36, 409 (1980) R. A. Firestone, et al., J. Med. Chem., 27, 1037 (1984) T. Nishi et al., Tetrahedron: Asymmetry, 9, 3251 (1998) T. Nishi et al., Bioorg. Med. Chem. Lett., 10, 1665 (2000)
(In the above formula, TBDMS is tert-butyldimethylsilyl and Boc is tert-butoxycarbonyl.)
However, in this method, diethyl hydrazine dicarboxylate and triphenylphosphine oxide are produced as by-products, which interfere with the separation and purification of the target product, so that it is difficult to produce an industrial N-carbonyl saturated heterocyclic ring. It was not suitable.

US Pat. No. 6,511,1975 Y. Jinbo et al., J. Med. Chem., 37, 2791 (1994) G. Bettoni, et al., Tetrahedron, 36, 409 (1980) RA Firestone, et al., J. Med. Chem., 27, 1037 (1984) T. Nishi et al., Tetrahedron: Asymmetry, 9, 3251 (1998) T. Nishi et al., Bioorg. Med. Chem. Lett., 10, 1665 (2000)

本発明者等は、これらの問題を解決し、N−カルボニル飽和複素環類の新規な製造方法を確立する目的で鋭意研究を行った結果、下記一般式(1)、(2)及び(4)の化合物を経由し、反応条件を精査することにより、従来では合成が難しかったN−カルボニル飽和複素環類を工業的に高収率で得られることを見出し、本発明を完成した。
As a result of intensive studies aimed at solving these problems and establishing a novel method for producing N-carbonyl saturated heterocyclic rings, the present inventors have found that the following general formulas (1), (2) and (4) By scrutinizing the reaction conditions via the compound (1), it was found that saturated N-carbonyl heterocycles that were conventionally difficult to synthesize were obtained industrially in high yield, and the present invention was completed.

本発明は、
(1)下記一般式(1)
The present invention
(1) The following general formula (1)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水素原子、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、Gは、C−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す)を有する化合物を、下記一般式(2) (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, or a substituent. R represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents hydrogen atom, hydroxyl group, protected hydroxyl group, C 1 -C 4 haloalkane sulfonyloxy group, C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, or optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β A good C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, and G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group. , C 2 -C 3 alkenylene group Is represents a C 2 -C 3 alkynylene group, the α substituent group, hydroxyl group, C 1 -C 4 alkoxy groups, C 1 -C 4 represents the group consisting of halogenated alkyl groups and tetrazolyl, the substituent group beta, A compound having a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group is represented by the following general formula (2)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示し、Yは、脱離基を示す。)を有する化合物に変換し、次いで、一般式(2)を有する化合物を塩基で処理することにより、下記一般式(3) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, Y represents a leaving group), By treating a compound having the formula (2) with a base, the following general formula (3)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法に関する。

上記のうち好適な方法は、
(2)Rが、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(3)Rが、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(4)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である方法、
(5)Rが、水酸基又は保護された水酸基であり、GがC−Cアルキレン基である方法、
(6)Rが、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基であり、GがC−Cアルキレン基である方法、
(7)Rが、水素原子であり、Gがビニル基である方法、
(8)Gが、メチレン又はエチレンである方法、
(9)Gが、エチレンである方法、
(10)Gが、単結合である方法、
(11)Gが、エチレンである方法、並びに、
(12)Yが、クロロベンゼンスルホニルオキシである方法
である。

更に本発明は、
(13) 下記一般式(4)
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above).

Among the above, the preferred method is
(2) the method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α;
(3) The method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group α,
(4) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(5) The method wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group,
(6) R 3 is a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. The way that is,
(7) The method wherein R 3 is a hydrogen atom and G 3 is a vinyl group,
(8) The method in which G 1 is methylene or ethylene,
(9) The method wherein G 1 is ethylene,
(10) The method wherein G 2 is a single bond,
(11) the method wherein G 3 is ethylene, and
(12) The method wherein Y is chlorobenzenesulfonyloxy.

Furthermore, the present invention provides
(13) The following general formula (4)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水素原子、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、C−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその塩と、下記一般式(5) (In the formula, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, C 1. A C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from —C 4 alkanesulfonyloxy group or substituent group β, and G 1 represents C 1 -C 6 represents an alkylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, a C 2 -C 3 alkenylene group or a C 2 -C 3 alkynylene group, and the substituent group β represents a nitro group, a halogen atom, C 1 A compound having a —C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group ”or a salt thereof, and the following general formula (5)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、Xは、水酸基、C−Cアルキルカルボニルオキシ基、C−Cアルコキシカルボニルオキシ基又はハロゲン原子を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示す。)を有する化合物とを塩基存在下、反応させて下記一般式(1) (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, or a substituent. A phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, G 2 represents a single bond or a methylene group, X represents a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy; group, C 1 -C 4 shows an alkoxycarbonyloxy group or a halogen atom, the α substituent group, a hydroxyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, a group consisting of C 1 -C 4 halogenated alkyl group, and tetrazolyl. And a compound having the following general formula (1):

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造し、一般式(1)を有する化合物を下記一般式(2) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above), and the compound having the general formula (1) is represented by the following general formula: (2)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示し、Yは、脱離基を示す。)を有する化合物に変換し、次いで、一般式(2)を有する化合物を塩基で処理することにより、下記一般式(3) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, Y represents a leaving group), By treating a compound having the formula (2) with a base, the following general formula (3)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法に関する。

上記のうち好適な方法は、
(14)Rが、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(15)Rが、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(16)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である方法、
(17)Rが、水酸基又は保護された水酸基であり、GがC−Cアルキレン基である方法、
(18)Rが、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基であり、GがC−Cアルキレン基である方法、
(19)Rが、水素原子であり、Gがビニル基である方法、
(20)Gが、メチレン又はエチレンである方法、
(21)Gが、エチレンである方法、
(22)Gが、単結合である方法、
(23)Gが、エチレンである方法、
(24)Xが、塩素原子又は臭素原子である方法、並びに、
(25)Yが、クロロベンゼンスルホニルオキシである方法
である。

更に本発明は、
(26) 下記一般式(4)
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above).

Among the above, the preferred method is
(14) The method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α,
(15) The method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group α,
(16) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(17) The method wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group,
(18) R 3 is a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. The way that is,
(19) The method wherein R 3 is a hydrogen atom and G 3 is a vinyl group,
(20) The method wherein G 1 is methylene or ethylene,
(21) The method wherein G 1 is ethylene,
(22) The method wherein G 2 is a single bond,
(23) The method wherein G 3 is ethylene,
(24) The method wherein X is a chlorine atom or a bromine atom, and
(25) The method wherein Y is chlorobenzenesulfonyloxy.

Furthermore, the present invention provides
(26) The following general formula (4)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、GはC−Cアルキレン基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す)を有する化合物又はその塩に関する。

上記のうち好適な化合物は、
(27)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である化合物、
(28)Rが、水酸基である化合物、
(29)Gが、メチレン又はエチレンである化合物、
(30)Gが、エチレンである化合物、
(31)Gがエチレンである化合物、及び
(32)一般式(4)が、下記一般式(4’)
(Wherein R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, R 3 represents a hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, Or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, and G 3 Represents a C 2 -C 3 alkylene group, and the substituent group β represents a compound having a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group) or About its salt.

Among the above, preferred compounds are
(27) The compound wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(28) The compound wherein R 3 is a hydroxyl group,
(29) The compound wherein G 1 is methylene or ethylene,
(30) the compound wherein G 1 is ethylene,
(31) The compound in which G 3 is ethylene, and (32) General formula (4) is represented by the following general formula (4 ′)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

である化合物
並びにその塩(好適には、塩酸塩、硫酸塩又はシュウ酸塩)である。

上記のうち、特に好適な化合物は、
(33)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基であり、Rが、水酸基であり、Gが、エチレンであり、Gが、エチレンである化合物又は、その塩酸塩、硫酸塩若しくはシュウ酸塩
である。

更に本発明は、
(34)下記一般式(1)
And the salts thereof (preferably hydrochlorides, sulfates or oxalates).

Of the above, particularly preferred compounds are:
(33) A compound wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms, R 3 is a hydroxyl group, G 1 is ethylene, and G 3 is ethylene Or its hydrochloride, sulfate or oxalate.

Furthermore, the present invention provides
(34) The following general formula (1)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、GはC−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物
に関する。

上記のうち好適な化合物は、
(35)Rが、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である化合物、
(36)Rが、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である化合物、
(37)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である化合物、
(38)Rが、水酸基又は保護された水酸基である化合物、
(39)Gが、メチレン又はエチレンである化合物、
(40)Gが、エチレンである化合物、
(41)Gが、単結合である化合物、
(42)Gが、エチレンである化合物、並びに、
(43)一般式(1)が、下記一般式(1’)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a phenyl group optionally substituted by 1 to 3 groups selected from the substituent group α, and R 2 represents 1 or 2 halogen atoms. R 1 represents a substituted phenyl group, and R 3 is selected from a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, or a substituent group β A C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with three groups, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, a C 2 -C 3 alkenylene group or a C 2 -C 3 alkynylene group, and the substituent group α is a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 halogen. Alkyl group and tetrazo Represents the group consisting of Le, the β substituent group, a nitro group, relates to a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 compound having a.) Indicating the group consisting of halogenated alkyl groups.

Among the above, preferred compounds are
(35) The compound wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α,
(36) The compound wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α,
(37) The compound wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(38) The compound wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group,
(39) A compound wherein G 1 is methylene or ethylene,
(40) the compound wherein G 1 is ethylene,
(41) The compound wherein G 2 is a single bond,
(42) the compound in which G 3 is ethylene, and
(43) General formula (1) is represented by the following general formula (1 ′)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

である化合物
である。

上記のうち、特に好適な化合物は、
(44)Rが、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基であり、Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基であり、Rが、水酸基又は保護された水酸基であり、Gが、エチレンであり、Gが、単結合であり、Gがエチレンである化合物
である。

更に本発明は、
(45)実質的に下記工程A、工程B、及び工程Cからなることを特徴とする、一般式(5)
It is a compound which is.

Of the above, particularly preferred compounds are:
(44) R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α, and R 2 is substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms A compound in which R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, G 1 is ethylene, G 2 is a single bond, and G 3 is ethylene.

Furthermore, the present invention provides
(45) General formula (5), characterized by substantially consisting of the following step A, step B, and step C

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、GはC−Cアルキレン基を示し、Gは、>C−OH又は>S→Oを示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその薬理上許容される塩の製造方法:
{ここで、工程Aは、一般式(1)
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, or a substituent. R 1 represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and G 1 represents C 1 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, G 4 represents> C-OH or> S → O, The substituent group α represents a group consisting of a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 halogenated alkyl group, and tetrazolyl, and the substituent group β represents a nitro group, a halogen atom, or C 1 -C 4. shows the group consisting of alkyl groups and C 1 -C 4 halogenated alkyl group .) Compounds with or manufacturing method of a pharmacologically acceptable salt thereof:
{Here, step A is represented by the general formula (1)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、Rは、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]
を有する化合物を、一般式(2)
[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1- A C 4 alkanesulfonyloxy group, or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 group consisting halogenated alkyl group. ]
A compound having the general formula (2)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、R及びYは、それぞれ、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]を有する化合物に変換する工程であり、
工程Bは、工程Aで得られた化合物(2)を塩基で処理することにより、一般式(3)
[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 and Y are a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group and a C 1 -C 4 alkane, respectively. A sulfonyloxy group or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, shows the C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 group consisting halogenated alkyl group. A compound having the following formula:
In step B, compound (2) obtained in step A is treated with a base to give a general formula (3)

Figure 2006036760
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、Rは、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]を有する化合物に変換する工程であり、
工程Cは、工程Bで得られた化合物(3)と一般式(6)
[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 represents a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, Or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C A group consisting of 4 alkyl groups and C 1 -C 4 halogenated alkyl groups is shown. A compound having the following formula:
Step C includes the compound (3) obtained in Step B and the general formula (6).

Figure 2006036760
Figure 2006036760

[式中、Gは前記と同意義を示す。]を有する化合物とを反応させて、一般式(5)を有する化合物を製造する工程である。}

上記のうち、好適な方法は、
(46)Rが、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(47)Rが、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である方法、
(48)Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である方法、
(49)化合物(1)のRが、水酸基又は保護された水酸基である方法、
(50)Gが、メチレン又はエチレンである方法、
(51)Gが、エチレンである方法、
(52)Gが、単結合である方法、
(53)Gが、エチレンである方法、並びに
(54)化合物(2)及び化合物(3)のR及びYがクロロベンゼンスルホニルオキシである方法
である。


本発明を特定するために用いられている、「C−Cアルコキシ基」、「置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基」、「置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基」、「1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基」、「保護された水酸基」、「C−Cアルカンスルホニルオキシ基」、「C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基」、「置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基」、「C−Cアルキレン基」、「C−Cアルキレン基」、「C−Cアルケニレン基」、「C−Cアルキニレン基」、「C−Cハロゲン化アルキル基」、「ハロゲン原子」、「C−Cアルキル基」、「脱離基」、「C−Cアルキルカルボニルオキシ基」及び「C−Cアルコキシカルボニルオキシ基」の語は、それぞれ以下のように定義される。
[Wherein G 4 is as defined above. And a compound having the general formula (5) to produce a compound having the general formula (5). }

Among the above, the preferred method is
(46) The method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α,
(47) The method wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α,
(48) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(49) The method wherein R 3 of the compound (1) is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group,
(50) The method wherein G 1 is methylene or ethylene,
(51) The method wherein G 1 is ethylene,
(52) The method wherein G 2 is a single bond,
(53) A method in which G 3 is ethylene, and (54) a method in which R 3 and Y of compound (2) and compound (3) are chlorobenzenesulfonyloxy.


C 7 -C 11 aralkyl optionally substituted with 1 to 3 groups selected from “C 1 -C 4 alkoxy group” and “substituent group β, which is used for specifying the present invention "Oxy group", "phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α", "phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms", "protected C which may be substituted with 1 to 3 groups selected from “hydroxyl group”, “C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group”, “C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group”, “substituent group β 6 -C 10 arylsulfonyloxy group "," C 1 -C 6 alkylene group "," C 2 -C 3 alkylene group "," C 2 -C 3 alkenylene group "," C 2 -C 3 alkynylene group ""C 1 -C 4 halogenated alkyl Group "," halogen atom "," C 1 -C 4 alkyl group ", the term" leaving group "," C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group "and" C 1 -C 4 alkoxycarbonyloxy group " Are defined as follows.

及び置換基群αの定義における「C−Cアルコキシ基」は、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ又はtert−ブトキシであり得、Rとしては、好適には、エトキシ又はtert−ブトキシであり、置換基群αとしては、好適には、C−Cアルコキシ基(更に好適には、メトキシ又はイソプロポキシ)である。 “C 1 -C 4 alkoxy group” in the definition of R 1 and substituent group α may be, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy or tert-butoxy, and R 1 is preferably Is ethoxy or tert-butoxy, and the substituent group α is preferably a C 1 -C 3 alkoxy group (more preferably, methoxy or isopropoxy).

の定義における「置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基」は、アリール部分が置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリール(好適には、フェニル)であり、アルコキシ部分がC−Cアルコキシ(好適には、メトキシ、エトキシ又はプロポキシであり、特に好適には、メトキシである)である基であり、好適には、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいベンジルオキシであり、特に好適には、ベンジルオキシ又はニトロベンジルオキシであり、最も好適には、ベンジルオキシである。 The “C 7 -C 11 aralkyloxy group optionally substituted by 1 to 3 groups selected from substituent group β” in the definition of R 1 is 1 in which the aryl moiety is selected from substituent group β C 6 -C 10 aryl optionally substituted with 3 to 3 groups (preferably phenyl) and the alkoxy moiety is C 1 -C 4 alkoxy (preferably methoxy, ethoxy or propoxy, Particularly preferred is methoxy), preferably benzyloxy which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, and particularly preferably Benzyloxy or nitrobenzyloxy, most preferably benzyloxy.

の定義における「置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基」は、好適にはフェニル、3−イソプロポキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルであり、特に好適には3,4,5−トリメトキシフェニル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルであり、最も好適には、3,4,5−トリメトキシフェニルである。 The “phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group α” in the definition of R 1 is preferably phenyl, 3-isopropoxyphenyl, 3,4,5-tri Methoxyphenyl or 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl, particularly preferably 3,4,5-trimethoxyphenyl or 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl, most preferably 3,4,5-trimethoxyphenyl.

置換基群β及びXの定義における「ハロゲン原子」、並びに、Rの定義における「1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基」のハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。置換基群βとしては、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好適であり、塩素原子が更に好適である。Xとしては、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好適であり、塩素原子が特に好適である。 The halogen atom of the “halogen atom” in the definition of the substituent groups β and X and the “phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms” in the definition of R 2 are a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or It is an iodine atom. As the substituent group β, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom is preferable, and a chlorine atom is more preferable. As X, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable, and a chlorine atom is particularly preferable.

の定義における「1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基」は、好適には、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基であり、更に好適には、4−フルオロフェニル、4−クロロフェニル、3,4−ジフルオロフェニル又は3,4−ジクロロフェニルであり、より更に好適には、3,4−ジフルオロフェニル又は3,4−ジクロロフェニルであり、特に好適には、3,4−ジクロロフェニルである。 The “phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms” in the definition of R 2 is preferably a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms, and more preferably, 4-fluorophenyl, 4-chlorophenyl, 3,4-difluorophenyl or 3,4-dichlorophenyl, still more preferably 3,4-difluorophenyl or 3,4-dichlorophenyl, particularly preferably 3,4-dichlorophenyl.

の定義における「保護された水酸基」は、有機合成化学の分野で一般に水酸基の保護基で保護された水酸基であり、そのような保護基は、例えば、tert−ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,1,2−トリメチルプロピル又は1,1−ジメチルブチルのようなC−C分枝鎖アルキル基;アリル、又は1−メチル−2−プロペニルのようなC−C直鎖若しくは分枝鎖2−アルケニル基;ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、3−メチルノナノイル、8−メチルノナノイル、3−エチルオクタノイル、3,7−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、1−メチルペンタデカノイル、14−メチルペンタデカノイル、13,13−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、15−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、1−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、エイコサノイル又はヘンエイコサノイルのようなC−C21アルカノイル基;クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル又はトリフルオロアセチルのようなC−Cハロゲノアルカノイル基;メトキシアセチルのようなC−CアルコキシC−Cアルカノイル基;(E)−2−メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルカノイル基;ベンゾイル、1−ナフトイル又は2−ナフトイルのようなC−C10アリールカルボニル基;2−ブロモベンゾイル又は4−クロロベンゾイルのようなC−C10ハロゲノアリールカルボニル基;2,4,6−トリメチルベンゾイル又はp−トルオイルのようなC−Cアルキル化C−C10アリールカルボニル基;p−アニソイル基のようなC−Cアルコキシ化C−C10アリールカルボニル基;2−カルボキシベンゾイル、3−カルボキシベンゾイル又は4−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化C−C10アリールカルボニル基;4−ニトロベンゾイル又は2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化C−C10アリールカルボニル基;2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルのようなC−Cアルコキシカルボニル化C−C10アリールカルボニル基;4−フェニルベンゾイルのようなC−C10アリール化C−C10アリールカルボニル基;テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル又は4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチオピラニル基;テトラヒドロフラン−2−イル又はテトラヒドロチオフラン−2−イルのようなテトラヒドロフラニル基又はテトラヒドロチオフラニル基;メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル又はtert−ブトキシメチルのようなC−Cアルコキシメチル基;2−メトキシエトキシメチルのようなC−Cアルコキシ化C−Cアルコキシメチル基;2,2,2−トリクロロエトキシメチル又はビス(2−クロロエトキシ)メチルのようなC−Cハロゲノアルコキシメチル基;1−メトキシ−1−メチルエチル、1−エトキシエチル又は1−(イソプロポキシ)エチルのようなC−Cアルコキシ化エチル基;ベンジル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル又は1−ナフチル(ジフェニル)メチルのような、1乃至3個のC−C10アリール及びC−Cアルキルからなるアラルキル基;(4−メトキシフェニル)ジフェニルメチル、ビス(4−メトキシフェニル)フェニルメチル、ジフェニル(p−トリル)メチル、トリ(p−トリル)メチルのようなC−Cアルキル又はC−Cアルコキシ基で置換されたアリール環を1つ以上有するトリアリールメチル基;4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシベンジル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル又は4−シアノベンジルのような、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ハロゲン、ニトロ又はシアノ基でアリール環が置換されたC7−C15アラルキル基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル又はイソブトキシカルボニルのようなC−Cアルコキシカルボニル基;2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルようなC−Cハロゲン化アルコキシカルボニル基;ビニルオキシカルボニル又はアリルオキシカルボニルのようなC2−C5アルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル又は4−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、1又は2個のC−Cアルコキシ若しくはニトロ基でアリール環が置換されていてもよいC7−C15アラルキルオキシカルボニル基;或いは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、ジイソプロピルメチルシリル、ジ−tert−ブチルメチルシリル、トリイソプロピルシリル、メチルジフェニルシリル、ブチルジフェニルシリル、イソプロピルジフェニルシリル又はジイソプロピルフェニルシリルのようなシリル基であり得、好適には、C−C分枝鎖アルキル基;テトラヒドロピラニル基;1乃至3個のC−C10アリール及びC−Cアルキルからなるアラルキル基;或いは、C−Cアルキル又はC−Cアルコキシ基でアリール環が置換されたC7−C15アラルキル基であり、更に好適には、テトラヒドロピラン−2−イル、トリフェニルメチル、トリメチルシリル又はtert−ブチルジメチルシリルであり、特に好適には、テトラヒドロピラン−2−イル又はトリフェニルメチルである。 The “protected hydroxyl group” in the definition of R 3 is generally a hydroxyl group protected with a hydroxyl protecting group in the field of synthetic organic chemistry, such as tert-butyl, 1,1-dimethyl. C 3 -C 6 branched alkyl groups such as propyl, 1,1,2-trimethylpropyl or 1,1-dimethylbutyl; C 3 -C 6 straight, such as allyl or 1-methyl-2-propenyl Chain or branched 2-alkenyl groups; formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, nonanoyl, decanoyl, 3-methylnonanoyl, 8-methylnonanoyl, 3-ethyloctanoyl, 3,7- Dimethyloctanoyl, undecanoyl, dodecanoyl, tridecanoyl, tetradecanoyl, pen Tadecanoyl, hexadecanoyl, 1-methylpentadecanoyl, 14-methylpentadecanoyl, 13,13-dimethyltetradecanoyl, heptadecanoyl, 15-methylhexadecanoyl, octadecanoyl, 1-methylheptadecanoyl, nonadecanoyl A C 1 -C 21 alkanoyl group such as eicosanoyl or heneicosanoyl; a C 2 -C 4 halogenoalkanoyl group such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl or trifluoroacetyl; C 1- such as methoxyacetyl A C 4 alkoxy C 2 -C 4 alkanoyl group; an unsaturated alkanoyl group such as (E) -2-methyl-2-butenoyl; a C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as benzoyl, 1-naphthoyl or 2-naphthoyl; ; 2-bro 2,4,6 C 1 -C 4 alkylated C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as trimethyl benzoyl or p- toluoyl; C 6 -C 10 halogenoaryl carbonyl groups such as benzoyl or 4-chlorobenzoyl; 2-carboxybenzoyl, 3-carboxybenzoyl or 4-carboxyphenyl carboxylated C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as benzoyl; C 1 -C 4 alkoxylated C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as a p- anisoyl group ; 4-nitrobenzoyl or 2-nitrated C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as nitrobenzoyl; 2- (methoxycarbonyl) C 1 -C 4 alkoxycarbonyl of C 6 -C 10 arylcarbonyl group such as benzoyl C 6 such as 4-phenylbenzoyl -C 10 aryl of C 6 -C 10 arylcarbonyl group; tetrahydropyran-2-yl, 3-bromo-tetrahydropyran-2-yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl or 4 A tetrahydropyranyl group or a tetrahydrothiopyranyl group such as methoxytetrahydrothiopyran-4-yl; a tetrahydrofuranyl group or a tetrahydrothiofuranyl group such as tetrahydrofuran-2-yl or tetrahydrothiofuran-2-yl; C 1 -C 4 alkoxylated C 1 -C such as 2-methoxyethoxymethyl; methyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, iso-propoxymethyl, C 1 -C 4 alkoxymethyl group such as butoxymethyl or tert- butoxymethyl 4 Alkyki Cimethyl group; C 1 -C 4 halogenoalkoxymethyl group such as 2,2,2-trichloroethoxymethyl or bis (2-chloroethoxy) methyl; 1-methoxy-1-methylethyl, 1-ethoxyethyl or 1- A C 1 -C 4 alkoxylated ethyl group such as (isopropoxy) ethyl; 1 to Aralkyl groups consisting of three C 6 -C 10 aryls and C 1 -C 3 alkyls; (4-methoxyphenyl) diphenylmethyl, bis (4-methoxyphenyl) phenylmethyl, diphenyl (p-tolyl) methyl, tri ( p- tolyl) C 1 -C 4 alkyl or C 1 -C 4 alkoxy group such as methyl A triarylmethyl group having one or more substituted aryl rings; 4-methylbenzyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, 3,4,5-trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 2-nitrobenzyl, 4- C 7 substituted aryl ring with C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy, halogen, nitro or cyano group, such as nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl or 4-cyanobenzyl -C 15 aralkyl group; methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert- butoxycarbonyl or C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group such as isobutoxycarbonyl; 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl such C 1 -C 4 halogenated Alkoxycarbonyl group; vinyloxycarbonyl or allyloxy C 2 -C 5 alkenyloxycarbonyl group such as carbonyl; benzyloxycarbonyl, such as 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyl oxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl or 4-nitrobenzyloxycarbonyl A C 7 -C 15 aralkyloxycarbonyl group in which the aryl ring may be substituted with one or two C 1 -C 4 alkoxy or nitro groups; or trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, tert-butyldimethyl Silyl, diisopropylmethylsilyl, di-tert-butylmethylsilyl, triisopropylsilyl, methyldiphenylsilyl, butyldiphenylsilyl, isopropyldiphenylsilyl or diisopropylphenylsilyl It is a silyl group such as, preferably, C 3 -C 6 branched-chain alkyl group; a tetrahydropyranyl group; 1 or aralkyl consisting of three C 6 -C 10 aryl and C 1 -C 3 alkyl A C 7 -C 15 aralkyl group in which the aryl ring is substituted with a C 1 -C 4 alkyl or C 1 -C 4 alkoxy group, and more preferably tetrahydropyran-2-yl, triphenylmethyl , Trimethylsilyl or tert-butyldimethylsilyl, particularly preferably tetrahydropyran-2-yl or triphenylmethyl.

の定義における「C−Cアルカンスルホニルオキシ基」は、好適には、メタンスルホニルオキシ又はエタンスルホニルオキシであり、特に好適には、メタンスルホニルオキシである。 The “C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group” in the definition of R 3 is preferably methanesulfonyloxy or ethanesulfonyloxy, and particularly preferably methanesulfonyloxy.

の定義における「C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基」は、上記「ハロゲン原子」(好適には、フッ素原子)で置換されたC−Cアルカンスルホニルオキシ基であり、好適には、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はペンタフルオロエタンスルホニルオキシであり、特に好適には、トリフルオロメタンスルホニルオキシである。 The “C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group” in the definition of R 3 is a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group substituted with the above “halogen atom” (preferably a fluorine atom), preferably , Trifluoromethanesulfonyloxy or pentafluoroethanesulfonyloxy, particularly preferably trifluoromethanesulfonyloxy.

の定義における「置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基」は、アリール部分が置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよい、C−C10アリールスルホニルオキシ基であり、好適には、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいベンゼンスルホニルオキシ基であり、更に好適には、ベンゼンスルホニルオキシ、2−ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4−ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4−クロロベンゼンスルホニルオキシ、4−メチルベンゼンスルホニルオキシ又は4−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシであり、特に好適には、4−クロロベンゼンスルホニルオキシである。 The “C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β” in the definition of R 3 has an aryl moiety selected from substituent group β A C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups, and preferably 1 to 3 groups selected from substituent group β Preferred benzenesulfonyloxy groups, more preferably benzenesulfonyloxy, 2-nitrobenzenesulfonyloxy, 4-nitrobenzenesulfonyloxy, 4-chlorobenzenesulfonyloxy, 4-methylbenzenesulfonyloxy or 4-trifluoromethylbenzenesulfonyloxy. Particularly preferred is 4-chlorobenzenesulfonyloxy.

の定義における「C−Cアルキレン基」は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1,1−ジメチルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1,2−ジメチルトリメチレン又はヘキサメチレン基のような直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基であり得、好適には、C−Cアルキレン基であり、更に好適には、C−C直鎖アルキレン基であり、より更に好適には、メチレン又はエチレンであり、最も好適にはエチレンである。 “C 1 -C 6 alkylene group” in the definition of G 1 is, for example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene. , 1,1-dimethyltrimethylene, 2,2-dimethyltrimethylene, 1,2-dimethyltrimethylene, or a straight or branched alkylene group such as a hexamethylene group, preferably C 1- A C 3 alkylene group, more preferably a C 1 -C 3 linear alkylene group, still more preferably methylene or ethylene, and most preferably ethylene.

の定義における「C−Cアルキレン基」は、エチレン、トリメチレン又はプロピレンであり、好適には、エチレン又はトリメチレンであり、特に好適には、エチレンである。尚、GがC−Cアルキレン基である場合、Rは、好適には、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基である。 The “C 2 -C 3 alkylene group” in the definition of G 3 is ethylene, trimethylene or propylene, preferably ethylene or trimethylene, and particularly preferably ethylene. When G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group, R 3 is preferably a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, or a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group. Or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β.

の定義における「C−Cアルケニレン基」は、ビニレン、1−プロペニレン又は2−プロペニレンであり、特に好適には、ビニレンである。尚、Gが、C−Cアルケニレン基である場合、Rは、好適には、水素原子である。 The “C 2 -C 3 alkenylene group” in the definition of G 3 is vinylene, 1-propenylene or 2-propenylene, and particularly preferably vinylene. When G 3 is a C 2 -C 3 alkenylene group, R 3 is preferably a hydrogen atom.

の定義における「C−Cアルキニレン基」は、エチニレン、1−プロピニレン又は2−プロピニレンであり、特に好適には、エチニレンである。尚、Gが、C−Cアルケニレン基である場合、Rは、好適には、水素原子である。 The “C 2 -C 3 alkynylene group” in the definition of G 3 is ethynylene, 1-propynylene or 2-propynylene, and particularly preferably ethynylene. When G 3 is a C 2 -C 3 alkenylene group, R 3 is preferably a hydrogen atom.

置換基群α及び置換基群βの定義における「C−Cハロゲン化アルキル基」は、上記「ハロゲン原子」で置換されたC−Cアルキル基であり、好適には、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2,2,2−トリクロロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フルオロエチル又は2,2−ジブロモエチルであり、更に好適には、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル又はフルオロメチルであり、特に好適には、トリフルオロメチルである。 The “C 1 -C 4 halogenated alkyl group” in the definition of the substituent group α and the substituent group β is a C 1 -C 4 alkyl group substituted with the above “halogen atom”, preferably trifluoro Methyl, trichloromethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, fluoromethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl or 2 , 2-dibromoethyl, more preferably trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl or fluoromethyl, and particularly preferably trifluoromethyl.

置換基群βの定義における「C−Cアルキル基」は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル又はtert−ブチルであり、好適には、メチル又はエチルであり、特に好適には、メチルである。 “C 1 -C 4 alkyl group” in the definition of substituent group β is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl or tert-butyl, preferably methyl or ethyl, Particularly preferred is methyl.

Yの定義における脱離基は、例えば、塩素原子、臭素原子もしくは沃素原子のようなハロゲン原子;メトキシカルボニルオキシもしくはエトキシカルボニルオキシのようなC−Cアルコキシカルボニルオキシ基;メタンスルホニルオキシもしくはエタンスルホニルオキシのようなC−Cアルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシもしくはペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなC−Cハロアルカンスルホニルオキシ基;又はベンゼンスルホニルオキシ、2−ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4−ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4−クロロベンゼンスルホニルオキシ、4−メチルベンゼンスルホニルオキシ又は4−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシのような置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基であり得、好適には、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、4−ニトロベンゼンスルホニルオキシ、4−クロロベンゼンスルホニルオキシ又は4−メチルベンゼンスルホニルオキシであり、より更に好適には、メタンスルホニルオキシ又は4−クロロベンゼンスルホニルオキシであり、特に好適には、4−クロロベンゼンスルホニルオキシである。

Xの定義におけるC−Cアルキルカルボニルオキシ基のC−Cアルキルは、置換基群βの定義における「C−Cアルキル基」と同意義を示し、好適にはピバロイル基である。
The leaving group in the definition of Y is, for example, a halogen atom such as chlorine atom, bromine atom or iodine atom; C 2 -C 5 alkoxycarbonyloxy group such as methoxycarbonyloxy or ethoxycarbonyloxy; methanesulfonyloxy or ethane C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group such as sulfonyloxy; C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group such as trifluoromethanesulfonyloxy or pentafluoroethanesulfonyloxy; or benzenesulfonyloxy, 2-nitrobenzenesulfonyloxy, 4 -Substituent groups β such as nitrobenzenesulfonyloxy, 4-chlorobenzenesulfonyloxy, 4-methylbenzenesulfonyloxy or 4-trifluoromethylbenzenesulfonyloxy Be a 1 to 3 of which may be substituted with a group C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group are al selected, preferably, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, 4-nitrobenzene It is sulfonyloxy, 4-chlorobenzenesulfonyloxy or 4-methylbenzenesulfonyloxy, more preferably methanesulfonyloxy or 4-chlorobenzenesulfonyloxy, and particularly preferably 4-chlorobenzenesulfonyloxy.

C 1 -C 4 alkyl C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group in the definition of X includes "C 1 -C 4 alkyl group" in the definition of Substituent group β the same meaning, preferably pivaloyl group is there.

Xの定義におけるC−Cアルコキシカルボニルオキシ基のC−Cアルコキシは、R及び置換基群αの定義における「C−Cアルコキシ基」と同意義を示し、好適にはtert−ブトキシカルボニル基である。


一般式(4)を有する化合物の塩及び一般式(4’)を有する化合物の塩、並びに、一般式(5)を有する化合物の薬理上許容される塩は、例えば、塩酸塩、硫酸塩若しくは燐酸塩のような無機酸塩;又は、酢酸塩、シュウ酸塩、フマル酸塩若しくはコハク酸塩のような有機酸塩であり得、一般式(4)若しくは一般式(4’)を有する化合物の塩としては、好適には、塩酸塩、硫酸塩又はシュウ酸塩であり、一般式(5)を有する化合物の薬理上許容される塩としては、好適には、塩酸塩又はフマル酸塩である。

本発明は、下記<A法>にしたがって実施される。
<A法>
C 1 -C 4 alkoxy C 1 -C 4 alkoxycarbonyloxy groups in the definition of X are the same meanings as "C 1 -C 4 alkoxy group" in the definition of R 1 and Substituent group alpha, preferably a tert-butoxycarbonyl group;


The salt of the compound having the general formula (4) and the salt of the compound having the general formula (4 ′) and the pharmacologically acceptable salt of the compound having the general formula (5) are, for example, hydrochloride, sulfate or An inorganic acid salt such as a phosphate; or an organic acid salt such as acetate, oxalate, fumarate or succinate, a compound having general formula (4) or general formula (4 ′) Preferably, the salt is a hydrochloride, sulfate or oxalate, and the pharmacologically acceptable salt of the compound having the general formula (5) is preferably hydrochloride or fumarate. is there.

The present invention is carried out according to the following <Method A>.
<Method A>

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G、G、X及びYは前記と同意義を示す。)
第1工程は、化合物(4)又はその塩と化合物(5)とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応させて、化合物(1)を製造する工程である。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 , G 3 , X and Y are as defined above.)
The first step is a step of producing compound (1) by reacting compound (4) or a salt thereof and compound (5) in the presence of a base in an inert solvent.

使用される不活性溶媒は、反応を害さず、出発物質を溶解するものであれば特に限定は無く、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又はシクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又はニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類;メタノール、エタノール、プロパノール又はブタノールのようなアルコール類;水;或いはこれらの混合液であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類、水又はその混合物であり、更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、水又はその混合物である。   The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not impair the reaction and dissolves the starting material. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; benzene, toluene or Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or Esters such as diethyl carbonate; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl Ketones such as ruketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane or nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethylformamide, Amides such as N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; Sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol; Water; Or a mixture thereof, preferably aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or a mixture thereof, more preferably toluene, tetrahydrofuran, acetonite. Le, water or mixtures thereof.


使用される塩基は、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はなく、例えば、N−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機塩基類であり得、好適には、トリエチルアミン及びN,N−ジイソプロピルエチルアミンであり、特に好適には、トリエチルアミンである。

The base used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction. For example, N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, Dicyclohexylamine, N-methylpiperidine, N-methylpyrrolidine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) -4-methylpyridine, imidazole, N-methyl Imidazole, quinoline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2 ] Octane (DABCO) or 1,8-diazabicyclo [ .4.0] obtained an organic bases such as undec-7-ene (DBU), preferably triethylamine and N, an N- diisopropylethylamine, particularly preferably triethylamine.

反応温度は、通常、−20℃乃至100℃(好適には、−5℃乃至10℃)であり、反応時間は、反応温度等によっても異なるが、通常、5分間乃至24時間(好適には、10分間乃至2時間)である。

尚、Xが水酸基の場合、溶媒中、上記塩基の存在又は非存在下に、「縮合剤」で反応させることによっても達成される。使用される縮合剤は、ジエチルホスホリルシアニド、ジフェニルホスホリルシアニドのようなリン酸エステル類;1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3−ジイソプロピルカルボジイミド、3−(3−ジメチルアミノプロピル)−1−エチルカルボジイミドのようなカルボジイミド類;上記カルボニルジイミド類とN−ヒドロキシスクシンイミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミドのようなN−ヒドロキシ類との組みあわせ;N,N’−ジスクシンイミジルカーボネート、ジ−2−ピリジルカーボネート、S,S’−ビス(1−フェニル−1H−テトラゾール−5−イル)ジチオカーボネートのようなカーボネート類;N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィニッククロライドのようなホスフィニック クロリド類;N,N’−ジスクシンイミジルオキザレート、N,N’−ジフタルイミドオキザレート、1,1’−ビス(ベンゾトリアゾリル)オキザレートのようなオキザレート類;2−クロロ−1−メチルピリジニウム ヨーダイドのような2−ハロ−1−低級アルキルピリジニウム ハライド類;1,1’−オキザリルジイミダゾール、N,N’−カルボニルジイミダゾールのようなイミダゾール類;フェニルジクロロホスフェート、ポリホスフェートエステルのようなホスフェート類;1−プロパンホスホン酸環状無水物のようなホスホン酸環状無水物類;クロロスルホニルイソシアネートのようなハロゲノスルホニルイソシアネート類;トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリドのようなハロゲノシラン類;メタンスルホニルクロリドのような低級アルカンスルホニルハライド類;を挙げることができ、好適にはホスホン酸環状無水物類又は低級アルカンスルホニルハライド類である。
The reaction temperature is usually −20 ° C. to 100 ° C. (preferably −5 ° C. to 10 ° C.), and the reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but usually 5 minutes to 24 hours (preferably 10 minutes to 2 hours).

In addition, when X is a hydroxyl group, it can also be achieved by reacting with a “condensation agent” in the presence or absence of the base in a solvent. The condensing agents used are phosphate esters such as diethyl phosphoryl cyanide and diphenyl phosphoryl cyanide; 1,3-dicyclohexylcarbodiimide, 1,3-diisopropylcarbodiimide, 3- (3-dimethylaminopropyl) -1- Carbodiimides such as ethylcarbodiimide; combinations of the above carbonyldiimides with N-hydroxys such as N-hydroxysuccinimide, 1-hydroxybenzotriazole, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide Carbonates such as N, N′-disuccinimidyl carbonate, di-2-pyridyl carbonate, S, S′-bis (1-phenyl-1H-tetrazol-5-yl) dithiocarbonate; N, N ′ -Bis (2-oxo-3-oxazo Phosphinic chlorides such as (diynyl) phosphinic chloride; N, N′-disuccinimidyl oxalate, N, N′-diphthalimido oxalate, 1,1′-bis (benzotriazolyl) oxalate Such oxalates; 2-halo-1-lower alkylpyridinium halides such as 2-chloro-1-methylpyridinium iodide; 1,1′-oxalyldiimidazole, such as N, N′-carbonyldiimidazole Imidazoles; Phosphates such as phenyl dichlorophosphate and polyphosphate esters; Phosphonic acid cyclic anhydrides such as 1-propanephosphonic acid cyclic anhydrides; Halogenosulfonyl isocyanates such as chlorosulfonyl isocyanate; Trimethylsilyl chloride, Triethylsilyl Halogenosilanes such as luchloride; lower alkanesulfonyl halides such as methanesulfonyl chloride; phosphonic acid cyclic anhydrides or lower alkanesulfonyl halides are preferred.

使用される不活性溶媒は、反応を害さず、出発物質を溶解するものであれば特に限定は無く、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又はシクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又はニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類を挙げることができる。

第2工程は、化合物(1)の一級水酸基を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下で、脱離基Yに変換することにより、化合物(2)を製造する工程である。
The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not impair the reaction and dissolves the starting material. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; benzene, toluene or Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or Esters such as diethyl carbonate; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl Ketones such as ruketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane or nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethylformamide, Mention may be made of amides such as N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane.

The second step is a step for producing the compound (2) by converting the primary hydroxyl group of the compound (1) into a leaving group Y in an inert solvent in the presence or absence of a base.

使用される不活性溶媒は、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド又はクロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又はシクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又はニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類;メタノール、エタノール、プロパノール又はブタノールのようなアルコール類;水;又はこれらの混合液であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類、水又はその混合物であり、更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、水又はその混合物である。   Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride or chloroform, carbon tetrachloride, Halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tert- Ethers such as butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexane Ketones such as Sanone; nitro compounds such as nitroethane or nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N Amides such as methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol; water; or mixtures thereof Preferred are aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or a mixture thereof, and more preferred are toluene, tetrahydrofuran, acetonitrile, water or a mixture thereof.

使用される塩基は、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;水酸化カルシウム又は水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸カルシウム又は炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三カリウム又はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド又はカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はN−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸化物類であり、特に好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。

使用される塩基の量は、好適には、1当量の化合物(4)に対して2当量乃至60当量であり、更に好適には、10当量乃至25当量であり、かかる塩基は、一度に若しくは徐々に加えることができる。

塩基としてアルカリ金属水酸化物類を用いる場合、その粒度は、好適には、425μm以下であり、更に好適には、212μm以下であり、特に好適には、180μm以下である。

脱離基Yを形成する試薬としては対応するハロゲン化物を使用し、かかる試薬としては、好適には、メタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、4−メチルベンゼンスルホニルクロリド、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド、2−ニトロベンゼンスルホニルクロリド又は4−ニトロベンゼンスルホニルクロリドであり、特に好適には、4−クロロベンゼンスルホニルクロリドである。

反応温度は、好適には−40℃乃至0℃(更に好適には、−35℃乃至−25℃又は−5℃乃至0℃、特に好適には−35℃乃至−25℃)であり、反応時間は、反応温度等によっても異なるが、通常、15分間乃至24時間(好適には、30分間乃至2時間)である。

第3工程は、化合物(2)を、不活性溶媒中、塩基の存在下で環化させて、化合物(3)を製造する工程である。
Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide or barium hydroxide; lithium carbonate Alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate or barium carbonate; lithium hydride, sodium hydride or hydrogen Alkali metal hydrides such as potassium hydroxide; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ethoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium Methoxide, potassium ester Alkali metal alkoxides such as toxide or potassium tert-butoxide; or N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylpiperidine, N-methylpyrrolidine Pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) -4-methylpyridine, imidazole, N-methylimidazole, quinoline, N, N-dimethylaniline, N , N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) or 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] It obtained an organic amines such as dec-7-ene (DBU), preferably an alkali metal hydroxides, particularly preferably sodium hydroxide or potassium hydroxide.

The amount of the base used is preferably 2 to 60 equivalents, more preferably 10 to 25 equivalents relative to 1 equivalent of compound (4), and such base can be used at one time or Can be added gradually.

When alkali metal hydroxides are used as the base, the particle size is preferably 425 μm or less, more preferably 212 μm or less, and particularly preferably 180 μm or less.

As the reagent for forming the leaving group Y, a corresponding halide is used, and as such a reagent, methanesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, 4-methylbenzenesulfonyl chloride, 4-chlorobenzenesulfonyl chloride, 2- Nitrobenzenesulfonyl chloride or 4-nitrobenzenesulfonyl chloride is preferable, and 4-chlorobenzenesulfonyl chloride is particularly preferable.

The reaction temperature is preferably −40 ° C. to 0 ° C. (more preferably −35 ° C. to −25 ° C. or −5 ° C. to 0 ° C., particularly preferably −35 ° C. to −25 ° C.). The time varies depending on the reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 2 hours).

The third step is a step of producing compound (3) by cyclizing compound (2) in the presence of a base in an inert solvent.

使用される不活性溶媒は、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又はシクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又はニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類又はスルホン類;メタノール、エタノール、プロパノール又はブタノールのようなアルコール類;水;又はこれらの混合液であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類、水又はその混合物であり、更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、水又はその混合物である。   Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, Halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tert- Ethers such as butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexane Ketones such as non; nitro compounds such as nitroethane or nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N Amides such as methyl-2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol; water Or a mixture thereof, preferably aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or a mixture thereof, more preferably toluene, tetrahydrofuran, acetonitrile, water or a mixture thereof. .

使用される塩基は、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;水酸化カルシウム又は水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸カルシウム又は炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三カリウム又はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド又はカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はN−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸化物類であり、特に好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。

使用される塩基の量は、好適には、1当量の化合物(4)に対して2当量乃至60当量であり、更に好適には、10当量乃至25当量であり、かかる塩基は、一度に若しくは徐々に加えることができる。

塩基としてアルカリ金属水酸化物類を用いる場合、その粒度は、好適には、425μm以下であり、更に好適には、212μm以下であり、特に好適には、180μm以下である。

反応温度は、通常、−40℃乃至20℃(好適には、−40℃乃至0℃、更に好適には、−35℃乃至−25℃又は−5℃乃至0℃、特に好適には−35℃乃至−25℃)であり、反応時間は、反応温度等によっても異なるが、通常、15分間乃至24時間(好適には、30分間乃至6時間)である。
Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide or barium hydroxide; lithium carbonate Alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate or barium carbonate; lithium hydride, sodium hydride or hydrogen Alkali metal hydrides such as potassium hydroxide; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ethoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium Methoxide, potassium ester Alkali metal alkoxides such as toxide or potassium tert-butoxide; or N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylpiperidine, N-methylpyrrolidine Pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) -4-methylpyridine, imidazole, N-methylimidazole, quinoline, N, N-dimethylaniline, N , N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) or 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] It obtained an organic amines such as dec-7-ene (DBU), preferably an alkali metal hydroxides, particularly preferably sodium hydroxide or potassium hydroxide.

The amount of the base used is preferably 2 to 60 equivalents, more preferably 10 to 25 equivalents relative to 1 equivalent of compound (4), and such base can be used at one time or Can be added gradually.

When alkali metal hydroxides are used as the base, the particle size is preferably 425 μm or less, more preferably 212 μm or less, and particularly preferably 180 μm or less.

The reaction temperature is usually −40 ° C. to 20 ° C. (preferably −40 ° C. to 0 ° C., more preferably −35 ° C. to −25 ° C. or −5 ° C. to 0 ° C., particularly preferably −35 ° C. The reaction time is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 6 hours), although it varies depending on the reaction temperature and the like.

化合物(1)及び化合物(2)は単離することなく、第1、第2及び第3工程を連続的に行うこともできる。


上記化合物(3)を用いて、下記<B法>にしたがって反応を行うことにより、ニューロキニン受容体拮抗剤[化合物(5)]を製造することができる。
<B法>
The first, second, and third steps can be performed continuously without isolating the compound (1) and the compound (2).


A neurokinin receptor antagonist [compound (5)] can be produced by reacting the compound (3) according to the following <Method B>.
<Method B>

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R、R、G、G、G及びGは前記と同意義を示し、Rは、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)
本工程は、化合物(3)と化合物(6)とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応させて化合物(5)を製造する工程である。
(In the formula, R 1 , R 2 , G 1 , G 2 , G 3 and G 4 are as defined above, and R 3 is a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, C 1 -C 4 alkanesulfonyl. An oxy group or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C 4 represents an alkyl group and C 1 -C 4 group consisting halogenated alkyl group.)
This step is a step of producing compound (5) by reacting compound (3) with compound (6) in the presence of a base in an inert solvent.

使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、tert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又はシクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又はニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類であり得、好適には、アミド類、エ−テル類又はニトリル類であり、更に好適には、ニトリル類であり、特に好適には、アセトニトリルである。   The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, Esters such as butyl acetate or diethyl carbonate; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone Ketones such as nitrogen, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane or nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethylformamide, Amides such as N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphoric triamide; or sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane, preferably Is an amide, an ether or a nitrile, more preferably a nitrile, and particularly preferably acetonitrile.

使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム若しくは炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸カルシウム若しくは炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム若しくは炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム若しくは水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若しくは水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類;又は水酸化カルシウム若しくは水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類;:或いは、N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機塩基類であり得、好適には、無機塩基類であり、最も好適には、アルカリ金属炭酸水素塩類である。尚、反応を促進させる目的で、触媒量の沃化カリウム若しくは沃化ナトリウムのようなアルカリ金属沃化物類を添加することも有用である。   The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate or lithium carbonate; calcium carbonate or barium carbonate Alkaline earth metal carbonates such as; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or lithium hydrogen carbonate; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride; Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide; or alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide or barium hydroxide; or alternatively N-methylmorpholine, triethylamine , Tripropylamine, tri Tylamine, N, N-diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylpiperidine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) -4-methylpyridine, quinoline N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane ( DABCO) or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), and can be organic bases, preferably inorganic bases, most preferably alkali metals. Hydrogen carbonates. For the purpose of promoting the reaction, it is also useful to add a catalytic amount of an alkali metal iodide such as potassium iodide or sodium iodide.

反応温度は、例えば、0℃乃至150℃であり得、好適には、20℃乃至120℃である。   The reaction temperature can be, for example, 0 ° C. to 150 ° C., and preferably 20 ° C. to 120 ° C.

反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される不活性溶媒の種類によって異なるが、30分間乃至48時間であり得、好適には、1時間乃至12時間である。

反応終了後、目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。
The reaction time mainly varies depending on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent or the kind of the inert solvent used, but can be 30 minutes to 48 hours, and preferably 1 hour to 12 hours.

After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method.

例えば、反応混合物に水を加えトルエンのような混和しない有機溶剤で抽出し、抽出液を水等で洗浄し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶剤を留去することによって得られる。   For example, it can be obtained by adding water to the reaction mixture and extracting with an immiscible organic solvent such as toluene, washing the extract with water or the like, drying with anhydrous magnesium sulfate or the like, and then distilling off the solvent.

得られた化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製することができる。

上記<A法>において、化合物(4)の光学活性体、即ち化合物(4’)、を用いることにより、化合物(1)、化合物(2)及び化合物(3)の光学活性体を製造することができ、化合物(3)の光学活性体を用いて<B法>にしたがって反応を行うことにより、化合物(5)の光学活性体を製造することができる。
If necessary, the obtained compound can be separated and purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation, or silica gel column chromatography.

In the above <Method A>, by using the optically active substance of compound (4), that is, compound (4 ′), the optically active substance of compound (1), compound (2) and compound (3) is produced. The optically active form of compound (5) can be produced by carrying out the reaction according to <Method B> using the optically active form of compound (3).

化合物(4’)において、Rが水酸基であり、Gがエチレン基である化合物は、例えば、下記<C法>により製造することができる。
<C法>
In the compound (4 ′), a compound in which R 3 is a hydroxyl group and G 3 is an ethylene group can be produced by, for example, the following <Method C>.
<Method C>

Figure 2006036760
Figure 2006036760

(式中、R及びGは前記と同意義を示す。)
第4工程は、プロペン誘導体(7)とパラホルムアルデヒドとを反応させて3−ブテン−1−オール化合物(8)を製造する工程である。本工程は、岡地らの方法(Organic Letters 2002, 4, 1667-1669)に従って実施するか、又は、トリフルオロボラン錯化合物(例えば、トリフルオロボラン;トリフルオロボラン・メチルエーテル錯体、トリフルオロボラン・エチルエーテル錯体、トリフルオロボラン・n−ブチルエーテル錯体のようなトリフルオロボラン・C−Cアルキルエーテル錯体;トリフルオロボラン・メチルスルフィド錯体のようなトリフルオロボラン・C−Cアルキルスルフィド錯体;又はトリフルオロボラン・テトラヒドロフラン錯体であり得、好適にはトリフルオロボラン・C−Cアルキルエーテル錯体であり、更に好適にはトリフルオロボラン・エチルエーテル錯体である。)及び塩基(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三カリウム又はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド又はカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はN−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニリン又はN,N−ジエチルアニリンのような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類であり、更に好適には、アルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類であり、特に好適には、ナトリウムメトキシド又はトリエチルアミンである。)の存在下でプロペン誘導体(7)とパラホルムアルデヒドとを反応させることにより実施することができる。
(In the formula, R 2 and G 1 are as defined above.)
The fourth step is a step of producing the 3-buten-1-ol compound (8) by reacting the propene derivative (7) with paraformaldehyde. This step is performed according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2002, 4, 1667-1669), or a trifluoroborane complex compound (for example, trifluoroborane; trifluoroborane / methyl ether complex, trifluoroborane Ethyl ether complexes, trifluoroborane / C 1 -C 4 alkyl ether complexes such as trifluoroborane / n-butyl ether complex; trifluoroborane / C 1 -C 4 alkyl sulfide complexes such as trifluoroborane / methyl sulfide complex Or a trifluoroborane · tetrahydrofuran complex, preferably a trifluoroborane · C 1 -C 4 alkyl ether complex, more preferably a trifluoroborane · ethyl ether complex) and a base (eg, Lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide Alkali metal hydroxides such as lithium; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate or potassium bicarbonate; lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride Alkali metal hydrides such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ethoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium methoxide, Alkali metal alkoxides such as potassium ethoxide or potassium tert-butoxide; or N-methylmorpholine, triethylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylpi Peridine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) -4-methylpyridine, quinoline, N, N-dimethylaniline or N, N-diethylaniline Such organic amines can be used, preferably alkali metal hydroxides, alkali metal alkoxides or organic amines, more preferably alkali metal alkoxides or organic amines, and particularly preferably. , Sodium methoxide or triethylamine) in the presence of propene derivative (7) and paraformaldehyde.

後者の方法については、好適には、反応は不活性溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;又はジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロメチルベンゼン又はトリフルオロメチルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、更に好適にはジクロロメタンである。)中でおこなわれる。

使用されるパラホルムアルデヒドの量は、1当量のプロペン誘導体(7)に対し、1.0乃至10.0当量(好適には、1.0当量乃至2.0当量)であり、使用されるトリフルオロボラン錯化合物の量は、1当量のプロペン誘導体(7)に対し、1.0乃至10.0当量(好適には、1.0当量乃至3.0当量)であり、使用される塩基の量は1当量のプロペン誘導体(7)に対し、0.1当量乃至1.0当量(好適には、0.3当量乃至0.8当量)である。反応温度は、通常、−10℃乃至20℃(好適には、−5℃乃至5℃)であり、反応時間は、通常、1時間乃至20時間(好適には、1時間乃至8時間)である。
For the latter method, preferably the reaction is carried out in an inert solvent (eg aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or diethyl carbonate). Nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; or halogens such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, trichloromethylbenzene or trifluoromethylbenzene And is preferably halogenated hydrocarbons, more preferably dichloromethane.).

The amount of paraformaldehyde used is 1.0 to 10.0 equivalents (preferably 1.0 equivalent to 2.0 equivalents) per 1 equivalent of propene derivative (7). The amount of the roborane complex compound is 1.0 to 10.0 equivalents (preferably 1.0 equivalent to 3.0 equivalents) relative to 1 equivalent of the propene derivative (7). The amount is 0.1 equivalent to 1.0 equivalent (preferably 0.3 equivalent to 0.8 equivalent) with respect to 1 equivalent of propene derivative (7). The reaction temperature is usually −10 ° C. to 20 ° C. (preferably −5 ° C. to 5 ° C.), and the reaction time is usually 1 hour to 20 hours (preferably 1 hour to 8 hours). is there.

尚、前者の方法(岡地らの方法)を実施する場合には、プロペン誘導体(7)の重量と同量のモレキュラーシーブを使用しなければならず、モレキュラーシーブの回収再利用は困難であり産業廃棄物となるので、前者の方法には工業的な実施には適さないという欠点がある。これに対し、後者の方法は、モレキュラーシーブを使用することなく3−ブテン−1−オール化合物(8)を製造することができるので、工業的な実施に適している。

第5工程は、3−ブテン−1−オール化合物(8)を不斉エポキシ化し、化合物(9)を製造する工程である。本工程は、岡地らの方法(Organic Letters 2003, 5, 85-87)に従って実施するか、又は、不活性溶媒中、モレキュラーシーブス及びジルコニウム(IV)アルコキシド(例えば、ジルコニウム(IV)エトキシド、ジルコニウム(IV)プロポキシド、ジルコニウム(IV)イソプロポキシド、ジルコニウム(IV)ブトキシド又はジルコニウム(IV)tert−ブトキシドであり、好適にはジルコニウム(IV)イソプロポキシド又はジルコニウム(IV)tert−ブトキシドである。)と光学活性な酒石酸ジエステル(例えば、酒石酸ジメチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジイソプロピル、酒石酸ジブチル又は酒石酸ジ−tert−ブチル酒石酸)とから調製される不斉触媒の存在下、酸化剤(例えば、m−クロロ過安息香酸、3,5−ジニトロ過安息香酸、o−カルボキシ過安息香酸、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、過フタル酸、クメンヒドロペルオキシド、イソプロピルクミルヒドロペルオキシドであり得、好適には、クメンヒドロペルオキシド又はイソプロピルクミルヒドロペルオキシドであり、最も好適には、クメンヒドロペルオキシドである。)を作用させて不斉エポキシ化することにより、実施することができる。
In the case of carrying out the former method (Okachi et al. Method), the molecular sieve must be used in the same amount as the weight of the propene derivative (7), and it is difficult to recover and reuse the molecular sieve. Since it becomes waste, the former method has a drawback that it is not suitable for industrial implementation. In contrast, the latter method is suitable for industrial implementation because the 3-buten-1-ol compound (8) can be produced without using a molecular sieve.

The fifth step is a step of producing compound (9) by asymmetric epoxidation of 3-buten-1-ol compound (8). This step is carried out according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2003, 5, 85-87), or in an inert solvent, molecular sieves and zirconium (IV) alkoxide (for example, zirconium (IV) ethoxide, zirconium ( IV) propoxide, zirconium (IV) isopropoxide, zirconium (IV) butoxide or zirconium (IV) tert-butoxide, preferably zirconium (IV) isopropoxide or zirconium (IV) tert-butoxide. ) And an optically active tartaric acid diester (eg, dimethyl tartrate, diethyl tartrate, diisopropyl tartrate, dibutyl tartrate or di-tert-butyl tartrate tartrate) in the presence of an asymmetric catalyst (eg, m-chloro Perbenzoic acid, 3,5-dinitro Benzoic acid, o-carboxyperbenzoic acid, peracetic acid, pertrifluoroacetic acid, perphthalic acid, cumene hydroperoxide, isopropyl cumyl hydroperoxide, preferably cumene hydroperoxide or isopropyl cumyl hydroperoxide Most preferred is cumene hydroperoxide.), And asymmetric epoxidation.

使用される不活性溶媒は、例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類又は上記の混合溶媒を挙げることができ、更に好適には、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、特に好適には、トルエンである。

使用されるモレキュラーシーブスの量は、3−ブテン−1−オール化合物(8)の重量に対し0.02乃至1倍量の重量であり、好適には0.05乃至0.15倍量の重量である。

使用されるジルコニウム(IV)アルコキシドの量は、1当量の3−ブテン−1−オール化合物(8)に対して0.01乃至1当量であり、好適には0.1乃至0.5当量である。

使用される光学活性な酒石酸ジエステルの量は、1当量の3−ブテン−1−オール化合物(8)に対して0.02乃至2.2当量であり、好適には0.21乃至1.1当量である。
Inert solvents used are, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or diethyl carbonate; methylene chloride, chloroform, tetra Halogenated hydrocarbons such as carbon chloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether such as acetone or methyl ethyl ketone Ketones; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile or the above mixed solvents, and more preferably aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons. , Particularly preferably, toluene.

The amount of molecular sieve used is 0.02 to 1 times the weight of the 3-buten-1-ol compound (8), preferably 0.05 to 0.15 times the weight. It is.

The amount of zirconium (IV) alkoxide used is 0.01 to 1 equivalent, preferably 0.1 to 0.5 equivalent, relative to 1 equivalent of 3-buten-1-ol compound (8). is there.

The amount of the optically active tartaric acid diester used is 0.02 to 2.2 equivalents, preferably 0.21 to 1.1 equivalents to 1 equivalent of the 3-buten-1-ol compound (8). Is equivalent.

使用される酸化剤の量は、好適には、1当量の3−ブテン−1−オール化合物(8)に対して0.5乃至10当量であり、好適には1乃至1.5当量である。   The amount of the oxidizing agent used is preferably 0.5 to 10 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to 1 equivalent of the 3-buten-1-ol compound (8). .

反応温度は、通常、0℃乃至80℃(好適には、10℃乃至30℃)であり、反応時間は、通常、1時間乃至5日間(好適には、2時間乃至2日間)である。

第6工程は、不斉エポキシ化合物(9)とアミノアルコール化合物(10)とを、不活性溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類であり得、好適には、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、更に好適には、トルエンである。)中で反応させることにより、化合物(4’a)を製造する工程である。
The reaction temperature is usually 0 ° C. to 80 ° C. (preferably 10 ° C. to 30 ° C.), and the reaction time is usually 1 hour to 5 days (preferably 2 hours to 2 days).

In the sixth step, the asymmetric epoxy compound (9) and the amino alcohol compound (10) are mixed with an inert solvent (for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate). Esters such as butyl acetate or diethyl carbonate; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran Ethers such as dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; nitriles such as acetonitrile, propionitrile or isobutyronitrile; formamide, N, N-dimethyl Amides such as formamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphoric triamide; can be sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane, preferably Are aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons, and more preferably toluene.) In this step, compound (4′a) is produced by reaction in toluene.

反応温度は、通常、−20℃乃至150℃(好適には、30℃乃至80℃)であり、反応時間は、通常、10分間乃至3日間(好適には、30分間乃至1日間)である。

更に、化合物(4)、化合物(4’)、化合物(4’a)並びに化合物(5)及びその光学活性体は、所望に応じて酸(当該酸は、例えば、塩化水素、硫酸若しくは燐酸のような無機酸;又は、酢酸、シュウ酸、フマル酸若しくはコハク酸のような有機酸であり得る。)を用いて常法にしたがって処理することにより、容易に塩、又は薬理上許容される塩に導くことができる。
The reaction temperature is usually −20 ° C. to 150 ° C. (preferably 30 ° C. to 80 ° C.), and the reaction time is usually 10 minutes to 3 days (preferably 30 minutes to 1 day). .

Furthermore, the compound (4), the compound (4 ′), the compound (4′a), the compound (5), and an optically active form thereof may be converted to an acid (for example, hydrogen chloride, sulfuric acid, or phosphoric acid). Or an organic acid such as acetic acid, oxalic acid, fumaric acid or succinic acid. Can lead to.

上記<B法>及び<C法>において出発原料として用いられる化合物は、例えば、米国特許第6159967号、米国特許第6511975号及び、David T. M. et al., J. Amer. Chem. Soc., 69, 851 (1947)に開示されているか、これらに開示されている化合物から容易に製造することができる。
The compounds used as starting materials in the above <Method B> and <Method C> are, for example, US Pat. No. 6,159,967, US Pat. No. 6,511,975, and David ™ et al., J. Amer. Chem. Soc. 851 (1947) or can be readily prepared from the compounds disclosed therein.

本発明により、従来では合成が難しかったN−カルボニル飽和複素環類を工業的に高収率で得られる。
According to the present invention, N-carbonyl saturated heterocycles that have been difficult to synthesize conventionally can be obtained industrially in high yield.

以下に実施例及び参考例をあげて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples and reference examples below, but the present invention is not limited to these examples.

尚、各実施例におけるエナンチオマー過剰率は、いずれも、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による分析に基づく値であり、エナンチオマー過剰率は下記「HPLC条件」の条件で分析した。
<HPLC条件>
カラム:CHRALCEL AD (商品名、ダイセル化学工業(株)製)
4.6φ×250mm
移動層:Hexane:EtOH=94:6
カラム温度:40℃
検出:UV(220nm)
流量:1ml/min
保持時間:R体:11.2min、S体:12.8min

(実施例)
(実施例1) (3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール
参考例3で得られた2−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)オキシラン−2−イル]エタノールのトルエン溶液に2−アミノエタノール98.62g(1.61mol)を加え、55乃至60℃で4時間撹拌した。20乃至25℃に冷却後、ピロ亜硫酸ナトリウム12.28g(64.60mmol)の水40ml溶液を加え、30分間撹拌した。0乃至5℃に冷却後、6mol/l塩酸280mlを滴下し、水層を分離した。25%水酸化ナトリウム水溶液で分離した水層をアルカリ性にし、シクロペンチルメチルエーテルで抽出した。分離した有機層をHPLCで定量した結果、標記化合物が36.72g(収率86.5%)含有されることが示された。液量80mlとなるまで有機層を濃縮し実施例2に用いた。
1H-NMR (400 MHz, CD3OD)δ ppm: 1.97 (ddd, J=14.4, 6.3, 4.9 Hz, 1H), 2.13 (ddd, J=14.4, 7.9, 6.8 Hz, 1H), 2.65 (t, J=5.4 Hz, 2H), 2.86 (d, J=12.2 Hz, 1H), 2.91 (d, J=12.2 Hz, 1H), 3.42 (ddd, J=11.0, 6.8, 4.9 Hz, 1H), 3.58 (t, J=5.4 Hz, 2H), 3.63 (ddd, J=11.0, 7.9, 6.3 Hz, 1H), 7.36 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.47 (d, J=8.5 Hz, 1H), 7.65 (d, J=2.2 Hz, 1H).
13C-NMR (100 MHz, CD3OD)δ ppm: 43.40, 52.78, 58.68, 60.58, 61.56, 76.36, 126.34, 128.81, 131.24, 131.40, 133.15, 148.35.

(実施例2) (3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・0.5硫酸塩
実施例1で得られた溶液にアセトン240ml及びメタノール40mlを加え、40℃に加温した。濃硫酸7.41g(74.04mmol)のアセトン80ml溶液を滴下し、同温で1時間以上撹拌した。20乃至30℃に冷却後、30分間以上撹拌し、析出した結晶をろ取した。減圧下50℃で10時間以上乾燥し、標記化合物42.2g(純度96.8%、収率82.4%)を得た。
1H-NMR (400 MHz, CD3OD)δ ppm: 2.05 (ddd, J=14.6, 5.1, 4.9 Hz, 1H), 2.26 (ddd, J=14.6, 8.9, 5.6 Hz, 1H), 3.11 (t, J=5.4 Hz, 2H), 3.32 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.53 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.53 (ddd, J=11.0, 5.6, 5.1 Hz, 1H), 3.66 (ddd, J=11.0, 8.9, 4.9 Hz, 1H), 3.79 (t, J=5.4 Hz, 2H), 7.46 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.56 (d, J=8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J=2.2 Hz, 1H).
Anal. Calcd for C12H17Cl2NO3・0.5H2SO4: C, 41.99; H, 5.29; N, 4.08; Cl, 20.66; S, 4.67. Found: C, 41.79; H, 5.29; N, 4.09; Cl, 20.36; S 4.90.

(実施例3) (3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・塩酸塩
(3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール8.03g(27.3mmol)の酢酸イソプロピル100ml溶液に、3mol/lのHCl−酢酸イソプロピル溶液10.3ml(30.9mmol)を滴下し、減圧濃縮した。得られた油状物にアセトン20ml及び酢酸イソプロピル20mlを加え、20乃至30℃で撹拌した。酢酸イソプロピルを更に20ml加え、同温で30分間以上撹拌し、析出した結晶をろ取した。結晶にアセトン25ml及び酢酸イソプロピル25mlを加え、40℃で30分間以上撹拌した。20乃至30℃に冷却し、30分間以上撹拌した。結晶をろ過し、減圧下50℃で10時間以上乾燥し、標記化合物4.71g(収率52.2%)を得た。
1H-NMR (400 MHz, CD3OD)δ ppm: 2.03 (ddd, J=14.9, 4.9, 4.4 Hz, 1H), 2.24 (ddd, J=14.9, 9.0, 5.4 Hz, 1H), 3.03-3.15 (m, 2H), 3.35 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.45 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.59 (ddd, J=11.0, 5.4, 4.9 Hz, 1H), 3.67 (ddd, J=11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1H), 3.78 (t, J=5.4 Hz, 2H), 7.45 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.57 (d, J=8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J=2.2 Hz, 1H).
Anal. Calcd for C12H17Cl2NO3・HCl: C, 43.59; H, 5.49; N, 4.24; Cl, 32.17. Found: C, 43.48; H, 5.58; N, 4.23; Cl, 31.92.

(実施例4) (3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・シュウ酸塩
(3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・0.5硫酸塩4.91g(14.3mmol)を25%水酸化ナトリウム水溶液50mlで遊離塩基とし、シクロぺンチルメチルエーテル50mlで抽出した。更に水層をシクロぺンチルメチルエーテル25mlで抽出した。有機層を合致し、20%塩化ナトリウム水溶液25mlで洗浄し、減圧濃縮した。得られた油状物にアセトン50ml及びメタノール0.2mlを加え40乃至50℃に加熱した。シュウ酸1.84g(14.6mmol)を加え、同温で1時間以上撹拌した。20乃至30℃に冷却し、30分間以上撹拌した。析出した結晶をろ取し、減圧下50℃で10時間以上乾燥し、標記化合物4.35g(純度98.0%、収率77.6%)を得た。
1H-NMR (400 MHz, CD3OD)δ ppm: 2.03 (ddd, J=14.6, 4.9, 4.4 Hz, 1H), 2.23 (ddd, J=14.6, 9.0, 5.4 Hz, 1H), 3.02-3.12 (m, 2H), 3.34 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.45 (d, J=12.7 Hz, 1H), 3.58 (ddd, J=11.0, 5.4, 4.9 Hz, 1H), 3.67 (ddd, J=11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1H), 3.77 (t, J=5.4 Hz, 2H), 7.44 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.57 (d, J=8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J=2.2 Hz, 1H).
Anal. Calcd for C12H17Cl2NO3・(COOH)2: C, 43.77; H, 4.98; N, 3.65; Cl, 18.46. Found: C, 43.58; H, 4.93; N, 3.67; Cl, 18.08.

(実施例5) 2−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−2−イル]エチル 4−クロロベンゼンスルホナート
(3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・0.5硫酸塩9.56g(27.9mmol)のアセトニトリル100ml溶液にトリエチルアミン5.64g(55.7mmol)を加え、20乃至25℃で10分間以上撹拌した。混合液に水5mlを添加後、0乃至5℃に冷却した。次に、トリメトキシベンゾイルクロリド6.75g(29.3mmol)のトルエン34ml溶液を5℃以下で滴下し、0乃至5℃で30分間撹拌した。この混合液を−20乃至−10℃に冷却後、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド12.05g(57.1mmol)のアセトニトリル50ml溶液を添加した。次いで、粒度180μm以下の水酸化ナトリウム5.57g(139.3mmol)を−5℃以下で添加した。−20乃至−10℃に冷却後、更に、粒度180μm以下の水酸化ナトリウム16.71g(417.8mmol)を−5℃以下で添加した。−15℃で2時間撹拌後、水120mlを5℃以下で滴下し、不溶物をろ過し有機層を分離した。有機層を濃縮し、トルエン100mlと水50mlを添加後、有機層を分離した。次いで、分離した有機層を25mlとなるまで濃縮し、50℃で約1時間撹拌した。0乃至5℃冷却後、更に1時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、減圧下50℃で15時間乾燥し、標記化合物14.6g(純度99.1%、収率80.5%)を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ ppm: 2.00-2.25 (m, 1H), 2.25-2.50 (m, 1H), 3.30-3.90 (m, 6H), 3.86 (s, 9H), 4.00-4.15 (m, 1H), 4.15-4.30 (m, 1H), 6.52 (s, 2H), 6.70-7.90 (m, 7H).

(実施例6) 2−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−2−イル]エチル 4−クロロベンゼンスルホナート
(3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−1,3−ブタンジオール・0.5硫酸塩4.78g(13.9mmol)のアセトニトリル50ml溶液にトリエチルアミン2.82g(27.9mmol)を加え、20乃至25℃で10分間以上撹拌した。混合液に水2.5mlを添加後、0乃至5℃に冷却した。次に、トリメトキシベンゾイルクロリド3.37g(14.6mmol)のトルエン17ml溶液を5℃以下で滴下し、0乃至5℃で30分間撹拌した。この混合液を−30乃至−35℃に冷却後、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド6.03g(28.6mmol)のアセトニトリル25ml溶液を添加した。次いで、−35乃至−25℃を保ちながら、粒度180μm以下の水酸化ナトリウム0.28g(7.0mmol)を1.5乃至3分間の間隔で40回添加した。−35乃至−25℃で3時間乃至4時間撹拌後、水75mlを5℃以下で滴下し、不溶物をろ過し有機層を分離した。有機層を濃縮し、トルエン50mlと5%重曹水25mlを添加し、有機層を分離した。次いで、分離した有機層を30mlとなるまで濃縮し、50℃で1時間撹拌した。エチルシクロヘキサン10mlを添加し、同温で1時間撹拌した。20乃至25℃に冷却し1時間撹拌した後、析出した結晶をろ取した。結晶を減圧下50℃で15時間乾燥し、標記化合物7.24g(純度99.0%、収率79.8%)を得た。

(実施例7) tert−ブチル 2−(3,4−ジクロロフェニル)−2−[2−(トリチルオキシ)エチル]モルホリン−4−カルボキシラート
トルエン120ml及びアセトン240ml混合溶液に、3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテニル トリチルエーテル28.2g(61.4mmol)を添加し、次いで炭酸水素ナトリウム16.4g(195.2mmol)を添加した。OXONETM40.0g(65.0mmol)の水240ml溶液を30℃以下で滴下した。25乃至30℃で2時間撹拌後、チオ硫酸ナトリウム五水和物3.23g(13.0mmol)の水30ml溶液を添加し、10分間撹拌した。液量が390mlとなるまで減圧濃縮し、塩化メチレン240mlを添加した。抽出後、有機層を水210mlで洗浄し、減圧濃縮した。
The enantiomeric excess in each example is a value based on analysis by high performance liquid chromatography (HPLC), and the enantiomeric excess was analyzed under the conditions of the following “HPLC conditions”.
<HPLC conditions>
Column: CHRALCEL AD (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
4.6φ × 250mm
Moving layer: Hexane: EtOH = 94: 6
Column temperature: 40 ° C
Detection: UV (220 nm)
Flow rate: 1 ml / min
Retention time: R-form: 11.2 min, S-form: 12.8 min

(Example)
Example 1 (3R) -3- (3,4-Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol 2-[(2R) obtained in Reference Example 3 2- (3,4-Dichlorophenyl) oxilan-2-yl] ethanol in toluene was added with 98.62 g (1.61 mol) of 2-aminoethanol and stirred at 55 to 60 ° C. for 4 hours. After cooling to 20 to 25 ° C., a solution of sodium pyrosulfite 12.28 g (64.60 mmol) in 40 ml of water was added and stirred for 30 minutes. After cooling to 0 to 5 ° C., 280 ml of 6 mol / l hydrochloric acid was added dropwise, and the aqueous layer was separated. The aqueous layer separated with a 25% aqueous sodium hydroxide solution was made alkaline and extracted with cyclopentyl methyl ether. As a result of quantifying the separated organic layer by HPLC, it was shown that the title compound contained 36.72 g (yield: 86.5%). The organic layer was concentrated to a liquid volume of 80 ml and used in Example 2.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD) δ ppm: 1.97 (ddd, J = 14.4, 6.3, 4.9 Hz, 1H), 2.13 (ddd, J = 14.4, 7.9, 6.8 Hz, 1H), 2.65 (t , J = 5.4 Hz, 2H), 2.86 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 2.91 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 3.42 (ddd, J = 11.0, 6.8, 4.9 Hz, 1H), 3.58 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 3.63 (ddd, J = 11.0, 7.9, 6.3 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.47 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.65 (d, J = 2.2 Hz, 1H).
13 C-NMR (100 MHz, CD 3 OD) δ ppm: 43.40, 52.78, 58.68, 60.58, 61.56, 76.36, 126.34, 128.81, 131.24, 131.40, 133.15, 148.35.

(Example 2) (3R) -3- (3,4-Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol.0.5 sulfate obtained in Example 1 To the solution, 240 ml of acetone and 40 ml of methanol were added and heated to 40 ° C. A solution of 7.41 g (74.04 mmol) of concentrated sulfuric acid in 80 ml of acetone was added dropwise, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour or more. After cooling to 20 to 30 ° C., the mixture was stirred for 30 minutes or more, and the precipitated crystals were collected by filtration. It was dried at 50 ° C. under reduced pressure for 10 hours or more to obtain 42.2 g of the title compound (purity 96.8%, yield 82.4%).
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD) δ ppm: 2.05 (ddd, J = 14.6, 5.1, 4.9 Hz, 1H), 2.26 (ddd, J = 14.6, 8.9, 5.6 Hz, 1H), 3.11 (t , J = 5.4 Hz, 2H), 3.32 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.53 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.53 (ddd, J = 11.0, 5.6, 5.1 Hz, 1H), 3.66 (ddd, J = 11.0, 8.9, 4.9 Hz, 1H), 3.79 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 7.46 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.56 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 2.2 Hz, 1H).
Anal.Calcd for C 12 H 17 Cl 2 NO 3・ 0.5H 2 SO 4 : C, 41.99; H, 5.29; N, 4.08; Cl, 20.66; S, 4.67. Found: C, 41.79; H, 5.29; N , 4.09; Cl, 20.36; S 4.90.

Example 3 (3R) -3- (3,4-Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol hydrochloride (3R) -3- (3,4 -Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol 8.03 g (27.3 mmol) in 100 ml of isopropyl acetate 10.3 ml of 3 mol / l HCl-isopropyl acetate solution ( 30.9 mmol) was added dropwise and concentrated under reduced pressure. To the obtained oily substance, 20 ml of acetone and 20 ml of isopropyl acetate were added and stirred at 20 to 30 ° C. An additional 20 ml of isopropyl acetate was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes or more, and the precipitated crystals were collected by filtration. To the crystal, 25 ml of acetone and 25 ml of isopropyl acetate were added and stirred at 40 ° C. for 30 minutes or more. The mixture was cooled to 20 to 30 ° C. and stirred for 30 minutes or more. The crystals were filtered and dried under reduced pressure at 50 ° C. for 10 hours or more to obtain 4.71 g (yield 52.2%) of the title compound.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD) δ ppm: 2.03 (ddd, J = 14.9, 4.9, 4.4 Hz, 1H), 2.24 (ddd, J = 14.9, 9.0, 5.4 Hz, 1H), 3.03-3.15 (m, 2H), 3.35 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.45 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.59 (ddd, J = 11.0, 5.4, 4.9 Hz, 1H), 3.67 (ddd, J = 11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1H), 3.78 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 7.45 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 2.2 Hz, 1H).
Anal.Calcd for C 12 H 17 Cl 2 NO 3・ HCl: C, 43.59; H, 5.49; N, 4.24; Cl, 32.17.Found: C, 43.48; H, 5.58; N, 4.23; Cl, 31.92.

Example 4 (3R) -3- (3,4-Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol oxalate (3R) -3- (3 4-dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol.0.5 sulfate (4.91 g, 14.3 mmol) was converted to the free base with 50 ml of 25% aqueous sodium hydroxide solution, Extraction was performed with 50 ml of cyclopentyl methyl ether. Further, the aqueous layer was extracted with 25 ml of cyclopentyl methyl ether. The organic layers were matched, washed with 25 ml of 20% aqueous sodium chloride solution and concentrated under reduced pressure. To the obtained oily substance, 50 ml of acetone and 0.2 ml of methanol were added and heated to 40 to 50 ° C. 1.84 g (14.6 mmol) of oxalic acid was added and stirred at the same temperature for 1 hour or more. The mixture was cooled to 20 to 30 ° C. and stirred for 30 minutes or more. The precipitated crystals were collected by filtration and dried at 50 ° C. under reduced pressure for 10 hours or more to obtain 4.35 g (purity 98.0%, yield 77.6%) of the title compound.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD) δ ppm: 2.03 (ddd, J = 14.6, 4.9, 4.4 Hz, 1H), 2.23 (ddd, J = 14.6, 9.0, 5.4 Hz, 1H), 3.02-3.12 (m, 2H), 3.34 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.45 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.58 (ddd, J = 11.0, 5.4, 4.9 Hz, 1H), 3.67 (ddd, J = 11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1H), 3.77 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 7.44 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 2.2 Hz, 1H).
Anal. Calcd for C 12 H 17 Cl 2 NO 3・ (COOH) 2 : C, 43.77; H, 4.98; N, 3.65; Cl, 18.46.Found: C, 43.58; H, 4.93; N, 3.67; Cl, 18.08.

Example 5 2-[(2R) -2- (3,4-dichlorophenyl) -4- (3,4,5-trimethoxybenzoyl) morpholin-2-yl] ethyl 4-chlorobenzenesulfonate (3R) Triethylamine 5 was added to a solution of 9.56 g (27.9 mmol) of 3- (3,4-dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol 0.5 sulfate in 100 ml of acetonitrile. .64 g (55.7 mmol) was added, and the mixture was stirred at 20 to 25 ° C. for 10 minutes or more. After adding 5 ml of water to the mixture, it was cooled to 0 to 5 ° C. Next, a solution of 6.75 g (29.3 mmol) of trimethoxybenzoyl chloride in 34 ml of toluene was added dropwise at 5 ° C. or lower and stirred at 0 to 5 ° C. for 30 minutes. After cooling the mixture to −20 to −10 ° C., a solution of 12.05 g (57.1 mmol) of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride in 50 ml of acetonitrile was added. Next, 5.57 g (139.3 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 μm or less was added at −5 ° C. or less. After cooling to −20 to −10 ° C., 16.71 g (417.8 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 μm or less was further added at −5 ° C. or less. After stirring at −15 ° C. for 2 hours, 120 ml of water was added dropwise at 5 ° C. or less, the insoluble matter was filtered, and the organic layer was separated. The organic layer was concentrated, and after adding 100 ml of toluene and 50 ml of water, the organic layer was separated. Next, the separated organic layer was concentrated to 25 ml and stirred at 50 ° C. for about 1 hour. After cooling at 0 to 5 ° C., the mixture was further stirred for 1 hour. The precipitated crystals were collected by filtration and dried at 50 ° C. under reduced pressure for 15 hours to obtain 14.6 g of the title compound (purity 99.1%, yield 80.5%).
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 2.00-2.25 (m, 1H), 2.25-2.50 (m, 1H), 3.30-3.90 (m, 6H), 3.86 (s, 9H), 4.00- 4.15 (m, 1H), 4.15-4.30 (m, 1H), 6.52 (s, 2H), 6.70-7.90 (m, 7H).

Example 6 2-[(2R) -2- (3,4-dichlorophenyl) -4- (3,4,5-trimethoxybenzoyl) morpholin-2-yl] ethyl 4-chlorobenzenesulfonate (3R) Triethylamine 2 was added to a solution of 4.78 g (13.9 mmol) of 3- (3,4-dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] -1,3-butanediol 0.5 sulfate in 50 ml of acetonitrile. .82 g (27.9 mmol) was added, and the mixture was stirred at 20 to 25 ° C. for 10 minutes or more. After adding 2.5 ml of water to the mixed solution, it was cooled to 0 to 5 ° C. Next, a solution of 3.37 g (14.6 mmol) of trimethoxybenzoyl chloride in 17 ml of toluene was added dropwise at 5 ° C. or lower and stirred at 0 to 5 ° C. for 30 minutes. After cooling this mixture to −30 to −35 ° C., a solution of 6.03 g (28.6 mmol) of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride in 25 ml of acetonitrile was added. Next, while maintaining −35 to −25 ° C., 0.28 g (7.0 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 μm or less was added 40 times at intervals of 1.5 to 3 minutes. After stirring at −35 to −25 ° C. for 3 to 4 hours, 75 ml of water was added dropwise at 5 ° C. or less, the insoluble matter was filtered, and the organic layer was separated. The organic layer was concentrated, 50 ml of toluene and 25 ml of 5% sodium bicarbonate water were added, and the organic layer was separated. Next, the separated organic layer was concentrated to 30 ml and stirred at 50 ° C. for 1 hour. 10 ml of ethylcyclohexane was added and stirred at the same temperature for 1 hour. After cooling to 20 to 25 ° C. and stirring for 1 hour, the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were dried under reduced pressure at 50 ° C. for 15 hours to obtain 7.24 g of the title compound (purity 99.0%, yield 79.8%).

(Example 7) tert-butyl 2- (3,4-dichlorophenyl) -2- [2- (trityloxy) ethyl] morpholine-4-carboxylate To a mixed solution of 120 ml of toluene and 240 ml of acetone, 3- (3,4 -Dichlorophenyl) -3-butenyl trityl ether 28.2 g (61.4 mmol) was added followed by sodium bicarbonate 16.4 g (195.2 mmol). A solution of 40.0 g (65.0 mmol) of OXONE ™ in 240 ml of water was added dropwise at 30 ° C. or lower. After stirring at 25 to 30 ° C. for 2 hours, a solution of sodium thiosulfate pentahydrate 3.23 g (13.0 mmol) in 30 ml of water was added and stirred for 10 minutes. The solution was concentrated under reduced pressure until the liquid volume reached 390 ml, and 240 ml of methylene chloride was added. After extraction, the organic layer was washed with 210 ml of water and concentrated under reduced pressure.

この混合物にトルエンを加え液量120mlに調整し、エタノール90mlを加えた。次に、過塩素酸リチウム三水和物15.6g(97.2mmol)及び2−アミノエタノール19.6ml(326.5mmol)を加え、7時間還流した。冷却後、トルエン210ml及び水120mlを加え、抽出し有機層を水120mlで洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。   Toluene was added to this mixture to adjust the liquid volume to 120 ml, and 90 ml of ethanol was added. Next, 15.6 g (97.2 mmol) of lithium perchlorate trihydrate and 19.6 ml (326.5 mmol) of 2-aminoethanol were added and refluxed for 7 hours. After cooling, 210 ml of toluene and 120 ml of water were added for extraction, and the organic layer was washed with 120 ml of water. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure.

得られた油状物の6分の1をトルエン10mlに溶解し、ジ−tert−ブチル ジカーボネート2.61g(12.0mmol)を添加し、25乃至30℃で1.5時間撹拌した。混合液を−10℃以下に冷却後、トリエチルアミン1.69g(16.7mmol)を加え、5℃以下でメタンスルホニルクロリド1.65g(14.4mmol)のトルエン5ml溶液を滴下した。−10乃至0℃で3時間撹拌後、0乃至1℃の水25ml及び0乃至1℃の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液25mlで有機層を順次洗浄した。   One-sixth of the obtained oil was dissolved in 10 ml of toluene, 2.61 g (12.0 mmol) of di-tert-butyl dicarbonate was added, and the mixture was stirred at 25 to 30 ° C. for 1.5 hours. After cooling the mixture to −10 ° C. or lower, 1.69 g (16.7 mmol) of triethylamine was added, and a solution of 1.65 g (14.4 mmol) of methanesulfonyl chloride in 5 ml of toluene was added dropwise at 5 ° C. or lower. After stirring at −10 to 0 ° C. for 3 hours, the organic layer was washed successively with 25 ml of water at 0 to 1 ° C. and 25 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution at 0 to 1 ° C.

分離した有機層に0乃至1℃のエタノール20ml及び0乃至1℃のトルエン37.5mlを加え、混合液を−15乃至−10℃に冷却した。28%ナトリウムメトキシド−メタノール溶液5.25g(27.2mmol)を−10℃以下で滴下した。20℃に加温し、1.5時間撹拌した。水25mlで2回洗浄し有機層を分離後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗生成物をHPLCによる絶対検量線法で定量した結果、標記化合物が5.69g(収率89.9%)含有されることが示された。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ ppm: 1.42 (s, 9H), 1.80-2.00 (m, 1H), 2.05-2.25 (m, 1H), 2.45-2.65 (m, 1H), 2.95-3.14 (m, 2H), 3.15-3.30 (m, 1H), 3.30-3.50 (m, 1H), 3.50-3.65 (m, 1H), 3.65-3.80 (m, 1H), 4.55-4.75 (m, 1H), 7.06-7.48 (m, 18H).

(実施例8) 2−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)−4−(フェニルアセチル)モルホリン−2−イル]エチル 4−クロロベンゼンスルホナート
(3R)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−4−[(2−ヒドロキシエチル)アミノ]ブタン−1,3−ジオール・0.5硫酸塩14.3g(41.8mmol)のアセトニトリル225ml溶液にトリエチルアミン10.6g(104.3mmol)及び水15mlを加え、20乃至25℃で10分間以上撹拌した。次に、0乃至5℃に冷却し、フェニルアセチルクロリド7.45g(48.2mmol)のアセトニトリル75ml溶液を5℃以下で滴下した。0乃至5℃で1時間撹拌後、反応混合物を濃縮した。塩化メチレン225ml及び20%食塩水105mlで抽出し、有機層を分離した。有機層を濃縮し得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、N−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)−2,4−ジヒドロキシブチル]−N−(2−ヒドロキシエチル)−2−フェニルアセトアミド11.6g(収率67.3%)を得た。
To the separated organic layer, 20 ml of ethanol at 0 to 1 ° C. and 37.5 ml of toluene at 0 to 1 ° C. were added, and the mixture was cooled to −15 to −10 ° C. 28% sodium methoxide-methanol solution (5.25 g, 27.2 mmol) was added dropwise at -10 ° C or lower. Warm to 20 ° C. and stir for 1.5 hours. The organic layer was separated by washing twice with 25 ml of water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was quantified by an absolute calibration curve method using HPLC. As a result, it was shown that 5.69 g (yield: 89.9%) of the title compound was contained.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 1.42 (s, 9H), 1.80-2.00 (m, 1H), 2.05-2.25 (m, 1H), 2.45-2.65 (m, 1H), 2.95- 3.14 (m, 2H), 3.15-3.30 (m, 1H), 3.30-3.50 (m, 1H), 3.50-3.65 (m, 1H), 3.65-3.80 (m, 1H), 4.55-4.75 (m, 1H ), 7.06-7.48 (m, 18H).

Example 8 2-[(2R) -2- (3,4-Dichlorophenyl) -4- (phenylacetyl) morpholin-2-yl] ethyl 4-chlorobenzenesulfonate (3R) -3- (3,4 -Dichlorophenyl) -4-[(2-hydroxyethyl) amino] butane-1,3-diol.0.5 sulfate 14.3 g (41.8 mmol) in acetonitrile 225 ml solution 10.6 g (104.3 mmol) of triethylamine And 15 ml of water were added and the mixture was stirred at 20 to 25 ° C. for 10 minutes or more. Next, the mixture was cooled to 0 to 5 ° C., and a solution of 7.45 g (48.2 mmol) of phenylacetyl chloride in 75 ml of acetonitrile was added dropwise at 5 ° C. or lower. After stirring at 0-5 ° C. for 1 hour, the reaction mixture was concentrated. Extraction was performed with 225 ml of methylene chloride and 105 ml of 20% brine, and the organic layer was separated. The crude product obtained by concentrating the organic layer was purified by silica gel column chromatography, and N-[(2R) -2- (3,4-dichlorophenyl) -2,4-dihydroxybutyl] -N- (2- 11.6 g (yield 67.3%) of hydroxyethyl) -2-phenylacetamide was obtained.

得られたアセトアミド1.93g(4.68mmol)のアセトニトリル30ml溶液に、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド2.07g(9.83mmol)を加え、−20乃至−15℃に冷却した。粒度180μm以下の水酸化ナトリウム0.94g(23.5mmol)を1℃以下で加え、−20乃至−10℃に冷却後、更に、粒度180μm以下の水酸化ナトリウム2.80g(70.0mmol)を−5℃以下で加えた。−15乃至−10℃で2時間撹拌後、水24mlを5℃以下で滴下し、不溶物をろ過し、有機層を分離した。有機層を濃縮し得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標記化合物2.33g(収率87.6%)を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ ppm: 2.04 (ddd, J=14.6, 7.1, 6.6 Hz, 1H), 2.14 (ddd, J=14.6, 6.8, 6.3 Hz, 1H), 3.05-3.15 (m, 1H), 3.24 (d, J=13.9 Hz, 1H), 3.26-3.36 (m, 1H), 3.36-3.46 (m, 2H), 3.63 (d, J=15.0 Hz, 1H), 3.68 (d, J=15.0 Hz, 1H), 3.78 (ddd, J=10.3, 7.1, 6.8 Hz, 1H), 4.05 (ddd, J=10.3, 6.6, 6.3 Hz, 1H), 4.51 (d, J=13.9 Hz, 1H), 6.94-7.01 (m, 2H), 7.12 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.14-7.19 (m, 3H), 7.36 (d, J=8.5 Hz, 1H), 7.38 (d, J=2.2 Hz, 1H), 7.49-7.55 (m, 2H), 7.72-7.78 (m, 2H).

(参考例)
(参考例1) 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテン−1−オール
窒素気流下、塩化メチレン85mlにナトリウムメトキシド1.27g(22.3mmol)を添加し、0乃至1℃に冷却した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体9.41ml(74.3mmol)を滴下後、パラホルムアルデヒド1.65g(49.5mmol)を添加し、次いで1,2−ジクロロ−4−イソプロペニルベンゼン9.10g(48.6mmol)の塩化メチレン10ml溶液を滴下した。0乃至1℃で3.5時間撹拌し、反応混合物をHPLCで定量した結果、標記化合物が6.77g(収率64.1%)含有されることが示された。

(参考例2) 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテン−1−オール
窒素気流下、塩化メチレン45mlにトリエチルアミン1.33g(13.18mmol)を添加し、0乃至1℃に冷却した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体6.67ml(52.6mmol)を滴下後、パラホルムアルデヒド0.878g(26.3mmol)を添加し、次いで1,2−ジクロロ−4−イソプロペニルベンゼン4.92g(26.3mmol)の塩化メチレン5ml溶液を滴下した。0乃至1℃で4.25時間撹拌し、反応混合物をHPLCで定量した結果、標記化合物が4.52g(収率79.2%)が含有されることが示された。

(参考例3) 2−[(2R)−2−(3,4−ジクロロフェニル)オキシラン−2−イル]エタノール
窒素気流下、20乃至25℃において、トルエン240mlにモレキュラーシーブス4A4.0g及びD−酒石酸ジイソプロピル16.26g(69.41mmol)を順次加え、30分間撹拌した。次に、ジルコニウム(IV)イソプロポキシド イソプロパノール錯体12.52g(32.30mmol)を加え1時間撹拌した。この溶液にクメンヒドロキシペルオキシド36.86g(純度80%、19.37mmol)を滴下し、次いで3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテン−1−オール35.05g(161.45mmol)のトルエン30ml溶液を滴下した。20乃至25℃で24時間撹拌し、モレキュラーシーブスをろ過後、トルエン溶液をHPLCで定量した結果、標記化合物が33.65g(収率89.4%、エナンチオマー過剰率88.9%)含有されることが示された。1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ ppm: 1.91 (s (br), 1H), 2.10 (ddd, J=14.9, 6.6, 5.3 Hz, 1H), 2.46 (ddd, J=14.9, 6.6, 5.6 Hz, 1H), 2.73 (d, J=5.0 Hz, 1H), 3.12 (d, J=5.0 Hz, 1H), 3.72 (m, 2H), 7.23 (dd, J=8.3, 2.0 Hz, 1H), 7.42 (d, J=8.3 Hz, 1H), 7.48 (d, J=2.0Hz, 1H).
To a 30 ml acetonitrile solution of 1.93 g (4.68 mmol) of the obtained acetamide, 2.07 g (9.83 mmol) of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride was added and cooled to −20 to −15 ° C. 0.94 g (23.5 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 μm or less was added at 1 ° C. or less, and after cooling to −20 to −10 ° C., 2.80 g (70.0 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 μm or less was further added. Added at -5 ° C or lower. After stirring at −15 to −10 ° C. for 2 hours, 24 ml of water was added dropwise at 5 ° C. or lower, insoluble matters were filtered, and the organic layer was separated. The crude product obtained by concentrating the organic layer was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.33 g (yield 87.6%) of the title compound.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 2.04 (ddd, J = 14.6, 7.1, 6.6 Hz, 1H), 2.14 (ddd, J = 14.6, 6.8, 6.3 Hz, 1H), 3.05-3.15 ( m, 1H), 3.24 (d, J = 13.9 Hz, 1H), 3.26-3.36 (m, 1H), 3.36-3.46 (m, 2H), 3.63 (d, J = 15.0 Hz, 1H), 3.68 (d , J = 15.0 Hz, 1H), 3.78 (ddd, J = 10.3, 7.1, 6.8 Hz, 1H), 4.05 (ddd, J = 10.3, 6.6, 6.3 Hz, 1H), 4.51 (d, J = 13.9 Hz, 1H), 6.94-7.01 (m, 2H), 7.12 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 7.14-7.19 (m, 3H), 7.36 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.38 (d , J = 2.2 Hz, 1H), 7.49-7.55 (m, 2H), 7.72-7.78 (m, 2H).

(Reference example)
(Reference Example 1) 3- (3,4-Dichlorophenyl) -3-buten-1-ol Under nitrogen flow, 1.27 g (22.3 mmol) of sodium methoxide was added to 85 ml of methylene chloride, and the temperature was adjusted to 0 to 1 ° C. Cooled down. After 9.41 ml (74.3 mmol) of boron trifluoride diethyl ether complex was added dropwise, 1.65 g (49.5 mmol) of paraformaldehyde was added, and then 9.10 g of 1,2-dichloro-4-isopropenylbenzene (48 .6 mmol) in 10 ml of methylene chloride was added dropwise. The mixture was stirred at 0 to 1 ° C. for 3.5 hours, and the reaction mixture was quantified by HPLC. The result showed that 6.77 g (yield 64.1%) of the title compound was contained.

(Reference Example 2) 3- (3,4-Dichlorophenyl) -3-buten-1-ol Under nitrogen flow, 1.33 g (13.18 mmol) of triethylamine was added to 45 ml of methylene chloride, and cooled to 0 to 1 ° C. . 6.67 ml (52.6 mmol) of boron trifluoride diethyl ether complex was added dropwise, then 0.878 g (26.3 mmol) of paraformaldehyde was added, and then 4.92 g (26 of 1,2-dichloro-4-isopropenylbenzene) .3 mmol) in 5 ml of methylene chloride was added dropwise. The mixture was stirred at 0 to 1 ° C. for 4.25 hours, and the reaction mixture was quantified by HPLC. The result showed that the title compound contained 4.52 g (yield 79.2%).

Reference Example 3 2-[(2R) -2- (3,4-Dichlorophenyl) oxiran-2-yl] ethanol Under nitrogen flow at 20 to 25 ° C., 240 ml of toluene and 4.0 g of molecular sieves 4A and D-tartaric acid 16.26 g (69.41 mmol) of diisopropyl was sequentially added and stirred for 30 minutes. Next, 12.52 g (32.30 mmol) of zirconium (IV) isopropoxide isopropanol complex was added and stirred for 1 hour. To this solution was added dropwise 36.86 g of cumene hydroxyperoxide (purity 80%, 19.37 mmol), followed by 35.05 g (161.45 mmol) of 3- (3,4-dichlorophenyl) -3-buten-1-ol. A 30 ml solution was added dropwise. After stirring at 20 to 25 ° C. for 24 hours and filtering the molecular sieve, the toluene solution was quantified by HPLC. As a result, the title compound contained 33.65 g (yield 89.4%, enantiomeric excess 88.9%). It was shown that. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 1.91 (s (br), 1H), 2.10 (ddd, J = 14.9, 6.6, 5.3 Hz, 1H), 2.46 (ddd, J = 14.9, 6.6, 5.6 Hz, 1H), 2.73 (d, J = 5.0 Hz , 1H), 3.12 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 3.72 (m, 2H), 7.23 (dd, J = 8.3, 2.0 Hz, 1H), 7.42 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.48 (d, J = 2.0Hz, 1H).

本発明により、従来では合成が難しかったN−カルボニル飽和複素環類を工業的に高収率で得られる。   According to the present invention, N-carbonyl saturated heterocycles that have been difficult to synthesize conventionally can be obtained industrially in high yield.

Claims (65)

下記一般式(1)
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水素原子、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、Gは、C−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す)を有する化合物を、下記一般式(2)
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示し、Yは、脱離基を示す。)を有する化合物に変換し、次いで、一般式(2)を有する化合物を塩基で処理することにより、下記一般式(3)
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。
The following general formula (1)
Figure 2006036760

(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, or a substituent. R represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents hydrogen atom, hydroxyl group, protected hydroxyl group, C 1 -C 4 haloalkane sulfonyloxy group, C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, or optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β A good C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, and G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group. , C 2 -C 3 alkenylene group Is represents a C 2 -C 3 alkynylene group, the α substituent group, hydroxyl group, C 1 -C 4 alkoxy groups, C 1 -C 4 represents the group consisting of halogenated alkyl groups and tetrazolyl, the substituent group beta, A compound having a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group is represented by the following general formula (2)
Figure 2006036760

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, Y represents a leaving group), By treating a compound having the formula (2) with a base, the following general formula (3)
Figure 2006036760

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above).
が、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項1に記載された方法。 The method according to claim 1 , wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α. が、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項1に記載された方法。 The method according to claim 1 , wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α. が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項1乃至請求項3から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms. が、水酸基又は保護された水酸基であり、GがC−Cアルキレン基である、請求項1乃至請求項4から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. が、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基であり、GがC−Cアルキレン基である、請求項1乃至請求項4から選択されるいずれか1項に記載された方法。 R 3 is a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. 5. A method according to any one of claims 1 to 4, selected from claims 1 to 4. が、水素原子であり、Gがビニル基である、請求項1乃至請求項4から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein R 3 is a hydrogen atom, and G 3 is a vinyl group. が、メチレン又はエチレンである、請求項1乃至請求項7から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is a methylene or ethylene, as described in item 1 one selected from claims 1 to 7 methods. が、エチレンである、請求項1乃至請求項7から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is an ethylene, as described in item 1 one selected from claims 1 to 7 methods. が、単結合である、請求項1乃至請求項9から選択されるいずれか1項に記載された方法。 METHOD G 2 is a single bond, as described in item 1 one selected from claims 1 to 9. が、エチレンである、請求項1乃至請求項10から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 3 is ethylene, as described in item 1 one selected from claims 1 to 10 methods. Yが、クロロベンゼンスルホニルオキシである、請求項1乃至請求項11から選択されるいずれか1項に記載された方法。
The method according to any one of claims 1 to 11, wherein Y is chlorobenzenesulfonyloxy.
下記一般式(4)
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水素原子、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、C−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその塩と、下記一般式(5)
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、Xは、水酸基、C−Cアルキルカルボニルオキシ基、C−Cアルコキシカルボニルオキシ基又はハロゲン原子を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示す。)を有する化合物とを塩基存在下、反応させて下記一般式(1)
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造し、一般式(1)を有する化合物を下記一般式(2)
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示し、Yは、脱離基を示す。)を有する化合物に変換し、次いで、一般式(2)を有する化合物を塩基で処理することにより、下記一般式(3)
Figure 2006036760

(式中、R、R、R、G、G及びGは、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。
The following general formula (4)
Figure 2006036760

(In the formula, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, C 1. A C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from —C 4 alkanesulfonyloxy group or substituent group β, and G 1 represents C 1 -C 6 represents an alkylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, a C 2 -C 3 alkenylene group or a C 2 -C 3 alkynylene group, and the substituent group β represents a nitro group, a halogen atom, C 1 A compound having a —C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group ”or a salt thereof, and the following general formula (5)
Figure 2006036760

(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, or a substituent. A phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, G 2 represents a single bond or a methylene group, X represents a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy; group, C 1 -C 4 shows an alkoxycarbonyloxy group or a halogen atom, the α substituent group, a hydroxyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, a group consisting of C 1 -C 4 halogenated alkyl group, and tetrazolyl. And a compound having the following general formula (1):
Figure 2006036760

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above), and the compound having the general formula (1) is represented by the following general formula: (2)
Figure 2006036760

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, Y represents a leaving group), By treating a compound having the formula (2) with a base, the following general formula (3)
Figure 2006036760

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above).
が、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項13に記載された方法。 The method according to claim 13, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α. が、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項13に記載された方法。 The method according to claim 13, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α. が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項13乃至請求項15から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 13 to 15, wherein R 2 is a phenyl group substituted with one or two fluorine atoms or chlorine atoms. が、水酸基又は保護された水酸基であり、GがC−Cアルキレン基である、請求項13乃至請求項16から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 13 to 16, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. が、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基であり、GがC−Cアルキレン基である、請求項13乃至請求項16から選択されるいずれか1項に記載された方法。 R 3 is a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, and G 3 is a C 2 -C 3 alkylene group. 17. A method as claimed in any one of claims 13 to 16 selected. が、水素原子であり、Gがビニル基である、請求項13乃至請求項16から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 13 to 16, wherein R 3 is a hydrogen atom, and G 3 is a vinyl group. が、メチレン又はエチレンである、請求項13乃至請求項19から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is a methylene or ethylene, as described in item 1 one selected from claims 13 to claim 19 method. が、エチレンである、請求項13乃至請求項19から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is an ethylene, as described in item 1 one selected from claims 13 to claim 19 method. が、単結合である、請求項13乃至請求項21から選択されるいずれか1項に記載された方法。 METHOD G 2 is a single bond, as described in item 1 one selected from claims 13 to claim 21. が、エチレンである、請求項13乃至請求項22から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 3 is ethylene, as described in item 1 one selected from claims 13 to claim 22 method. Xが、塩素原子又は臭素原子である、請求項13乃至請求項23から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 13 to 23, wherein X is a chlorine atom or a bromine atom. Yが、クロロベンゼンスルホニルオキシである、請求項13乃至請求項24から選択されるいずれか1項に記載された方法。
25. The method according to any one of claims 13 to 24, wherein Y is chlorobenzenesulfonyloxy.
下記一般式(4)
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、GはC−Cアルキレン基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す)を有する化合物又はその塩。
The following general formula (4)
Figure 2006036760

(In the formula, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, R 3 represents a hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, Or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, and G 3 Represents a C 2 -C 3 alkylene group, and the substituent group β represents a compound having a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group and a C 1 -C 4 halogenated alkyl group) or Its salt.
が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項26に記載された化合物又はその塩。 R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or a phenyl group substituted with a chlorine atom, a compound or a salt thereof according to claim 26. が、水酸基である、請求項26又は請求項27に記載された化合物又はその塩。 R 3 is a hydroxyl group, compound or salt thereof according to claim 26 or claim 27. が、メチレン又はエチレンである、請求項26乃至請求項28から選択されるいずれか1項に記載された化合物又はその塩。 G 1 is a methylene or ethylene, compound or a salt thereof as described in 1, wherein any one selected from claims 26 to claim 28. が、エチレンである、請求項26乃至請求項28から選択されるいずれか1項に記載された化合物又はその塩。 G 1 is an ethylene, a compound or a salt thereof as described in 1, wherein any one selected from claims 26 to claim 28. がエチレンである、請求項26乃至請求項30から選択されるいずれか1項に記載された化合物又はその塩。 G 3 is ethylene, a compound or a salt thereof as described in 1, wherein any one selected from claims 26 to claim 30. 一般式(4)が、下記一般式(4’)
Figure 2006036760

である、請求項26乃至請求項31から選択されるいずれか1項に記載された化合物又はその塩。
General formula (4) is the following general formula (4 ′)
Figure 2006036760

32. The compound or a salt thereof according to any one of claims 26 to 31, which is:
が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基であり、Rが、水酸基であり、Gが、エチレンであり、Gが、エチレンである、請求項32に記載された化合物又はその塩酸塩、硫酸塩若しくはシュウ酸塩。
R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or a phenyl group substituted by a chlorine atom, R 3 is a hydroxyl group, G 1 is ethylene, G 3 is an ethylene, claim 32 Or a hydrochloride, sulfate or oxalate thereof.
下記一般式(1)
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Rは、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、GはC−Cアルキレン基、C−Cアルケニレン基又はC−Cアルキニレン基を示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物。
The following general formula (1)
Figure 2006036760

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a phenyl group optionally substituted by 1 to 3 groups selected from the substituent group α, and R 2 represents 1 or 2 halogen atoms. R 1 represents a substituted phenyl group, and R 3 is selected from a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, or a substituent group β A C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group which may be substituted with three groups, G 1 represents a C 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, a C 2 -C 3 alkenylene group or a C 2 -C 3 alkynylene group, and the substituent group α is a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 halogen. Alkyl group and tetrazo It represents the group consisting of Le, the β substituent group, a nitro group, a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 shows the group consisting of halogenated alkyl groups.) Compound having.
が、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項34に記載された化合物。 35. The compound according to claim 34, wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from a C 1 -C 4 alkoxy group or a substituent group α. が、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項34に記載された化合物。 The compound according to claim 34, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α. が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項34乃至請求項36から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or a phenyl group substituted by a chlorine atom, the compound described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 36. が、水酸基又は保護された水酸基である、請求項34乃至請求項37から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 37. が、メチレン又はエチレンである、請求項34乃至請求項38から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 G 1 is methylene or ethylene, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 38. が、エチレンである、請求項34乃至請求項38から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 G 1 is an ethylene, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 38. が、単結合である、請求項34乃至請求項40から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 G 2 is a bond, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 40. が、エチレンである、請求項34乃至請求項41から選択されるいずれか1項に記載された化合物。 G 3 is ethylene, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 41. 一般式(1)が、下記一般式(1’)
Figure 2006036760

である、請求項34乃至請求項42から選択されるいずれか1項に記載された化合物。
General formula (1) is the following general formula (1 ′)
Figure 2006036760

43. The compound according to any one of claims 34 to 42, wherein:
が、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基であり、Rが、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基であり、Rが、水酸基又は保護された水酸基であり、Gが、エチレンであり、Gが、単結合であり、Gがエチレンである、請求項43に記載された化合物。
R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α, and R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms 44. The compound of claim 43, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, G 1 is ethylene, G 2 is a single bond, and G 3 is ethylene.
実質的に下記工程A、工程B、及び工程Cからなることを特徴とする、一般式(5)
Figure 2006036760

(式中、Rは、水素原子、C−Cアルコキシ基、置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C11アラルキルオキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、Gは、C−Cアルキレン基を示し、Gは、単結合又はメチレン基を示し、GはC−Cアルキレン基を示し、Gは、>C−OH又は>S→Oを示し、置換基群αは、水酸基、C−Cアルコキシ基、C−Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルからなる群を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその薬理上許容される塩の製造方法:
{ここで、工程Aは、一般式(1)
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、Rは、水酸基、保護された水酸基、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]
を有する化合物を、一般式(2)
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、R及びYは、それぞれ、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]を有する化合物に変換する工程であり、
工程Bは、工程Aで得られた化合物(2)を塩基で処理することにより、一般式(3)
Figure 2006036760

[式中、R、R、G、G及びGは前記と同意義を示し、Rは、C−Cハロアルカンスルホニルオキシ基、C−Cアルカンスルホニルオキシ基、又は置換基群βから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいC−C10アリールスルホニルオキシ基を示し、置換基群βは、ニトロ基、ハロゲン原子、C−Cアルキル基及びC−Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。]を有する化合物に変換する工程であり、
工程Cは、工程Bで得られた化合物(3)と一般式(6)
Figure 2006036760

[式中、Gは前記と同意義を示す。]を有する化合物とを反応させて、一般式(5)を有する化合物を製造する工程である。}。
The general formula (5) is characterized by substantially comprising the following step A, step B, and step C.
Figure 2006036760

(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 7 -C 11 aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group β, or a substituent. R 1 represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the group α, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and G 1 represents C 1 1 -C 6 alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C 2 -C 3 alkylene group, G 4 represents> C-OH or> S → O, The substituent group α represents a group consisting of a hydroxyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 halogenated alkyl group, and tetrazolyl, and the substituent group β represents a nitro group, a halogen atom, or C 1 -C 4. shows the group consisting of alkyl groups and C 1 -C 4 halogenated alkyl group .) Compounds with or manufacturing method of a pharmacologically acceptable salt thereof:
{Here, step A is represented by the general formula (1)
Figure 2006036760

[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1- A C 4 alkanesulfonyloxy group, or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 group consisting halogenated alkyl group. ]
A compound having the general formula (2)
Figure 2006036760

[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 and Y are a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group and a C 1 -C 4 alkane, respectively. A sulfonyloxy group or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, shows the C 1 -C 4 alkyl and C 1 -C 4 group consisting halogenated alkyl group. A compound having the following formula:
In step B, compound (2) obtained in step A is treated with a base to give a general formula (3)
Figure 2006036760

[Wherein R 1 , R 2 , G 1 , G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 represents a C 1 -C 4 haloalkanesulfonyloxy group, a C 1 -C 4 alkanesulfonyloxy group, Or a C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 groups selected from the substituent group β, wherein the substituent group β is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C A group consisting of 4 alkyl groups and C 1 -C 4 halogenated alkyl groups is shown. A compound having the following formula:
Step C includes the compound (3) obtained in Step B and the general formula (6).
Figure 2006036760

[Wherein G 4 is as defined above. And a compound having the general formula (5) to produce a compound having the general formula (5). }.
が、C−Cアルコキシ基又は置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項45に記載された方法。 R 1 is a C 1 -C 4 alkoxy or 1 to 3 phenyl group which may be substituted with a group selected from Substituent group alpha, according to claim 45 methods. が、置換基群αから選択される1乃至3個の基で置換されていてもよいフェニル基である、請求項45に記載された方法。 46. The method according to claim 45, wherein R 1 is a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group α. が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項45乃至請求項47から選択されるいずれか1項に記載された方法。 R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or a phenyl group substituted by a chlorine atom, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 47 method. 化合物(1)のRが、水酸基又は保護された水酸基である、請求項45乃至請求項48から選択されるいずれか1項に記載された方法。 The method according to any one of claims 45 to 48, wherein R 3 of the compound (1) is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group. が、メチレン又はエチレンである、請求項45乃至請求項49から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is a methylene or ethylene, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 49 method. が、エチレンである、請求項45乃至請求項49から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 1 is an ethylene, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 49 method. が、単結合である、請求項45乃至請求項51から選択されるいずれか1項に記載された方法。 METHOD G 2 is a single bond, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 51. が、エチレンである、請求項45乃至請求項52から選択されるいずれか1項に記載された方法。 G 3 is ethylene, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 52 method. 化合物(2)及び化合物(3)のR及びYがクロロベンゼンスルホニルオキシである、請求項45乃至請求項53から選択されるいずれか1項に記載された方法。
R 3 and Y of the compound (2) and the compound (3) is chlorobenzene sulfonyloxy, the method described in any one selected from claims 45 to claim 53.
一般式(7)
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示す。)を有する化合物とパラホルムアルデヒドとを、トリフルオロボラン錯化合物及び塩基の存在下で反応させて一般式(8)
Figure 2006036760

(式中、Rは前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。
General formula (7)
Figure 2006036760

(Wherein R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms) and paraformaldehyde are reacted in the presence of a trifluoroborane complex compound and a base. (8)
Figure 2006036760

(Wherein R 2 is as defined above).
一般式(7)
Figure 2006036760

(式中、Rは、1又は2個のハロゲン原子で置換されたフェニル基を示す。)を有する化合物とパラホルムアルデヒドとを、トリフルオロボラン錯化合物及び塩基の存在下で反応させて一般式(8)
Figure 2006036760

(式中、Rは前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造し、次いで、一般式(8)(式中、Rは前記と同意義を示す。)を有する化合物に、不活性溶媒中、モレキュラーシーブス及びジルコニウム(IV)アルコキシドと光学活性な酒石酸ジエステルとから調製される不斉触媒の存在下、酸化剤を作用させて、一般式(9)
Figure 2006036760

(式中、Rは前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。
General formula (7)
Figure 2006036760

(Wherein R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms) and paraformaldehyde are reacted in the presence of a trifluoroborane complex compound and a base. (8)
Figure 2006036760

(Wherein R 2 has the same meaning as described above), and then the compound having the general formula (8) (wherein R 2 has the same meaning as described above) In an active solvent, an oxidant is allowed to act in the presence of an asymmetric catalyst prepared from molecular sieves and zirconium (IV) alkoxide and an optically active tartaric acid diester, to give a compound of the general formula (9)
Figure 2006036760

(Wherein R 2 is as defined above).
が、1又は2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフェニル基である、請求項55又は請求項56に記載された方法。 R 2 is one or two fluorine atoms or a phenyl group substituted with a chlorine atom, as claimed in claim 55 or claim 56 method. トリフルオロボラン錯化合物がトリフルオロボラン・C−Cアルキルエーテル錯体である、請求項55乃至請求項57から選択されるいずれか1項に記載された方法。 Trifluoroborane complex compounds are trifluoroborane · C 1 -C 4 alkyl ether complex, the method described in 1, wherein any one selected from claims 55 to claim 57. トリフルオロボラン錯化合物がトリフルオロボラン・エチルエーテル錯体である、請求項55乃至請求項57から選択されるいずれか1項に記載された方法。 58. The method according to any one of claims 55 to 57, wherein the trifluoroborane complex compound is a trifluoroborane-ethyl ether complex. 塩基がアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類である、請求項55乃至請求項59から選択されるいずれか1項に記載された方法。 60. The method according to any one of claims 55 to 59, wherein the base is an alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide or organic amine. 塩基がアルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類である、請求項55乃至請求項59から選択されるいずれか1項に記載された方法。 60. The method according to any one of claims 55 to 59, wherein the base is an alkali metal alkoxide or an organic amine. 塩基がナトリウムメトキシド又はトリエチルアミンである、請求項55乃至請求項59から選択されるいずれか1項に記載された方法。 60. The method according to any one of claims 55 to 59, wherein the base is sodium methoxide or triethylamine. ジルコニウム(IV)アルコキシドがジルコニウム(IV)イソプロポキシド又はジルコニウム(IV)tert−ブトキシドである、請求項56乃至請求項62から選択されるいずれか1項に記載された方法。 63. The method according to any one of claims 56 to 62, wherein the zirconium (IV) alkoxide is zirconium (IV) isopropoxide or zirconium (IV) tert-butoxide. 光学活性な酒石酸ジエステルが酒石酸ジイソプロピルである、請求項56乃至請求項63から選択されるいずれか1項に記載された方法。 64. The method according to any one of claims 56 to 63, wherein the optically active tartaric acid diester is diisopropyl tartrate. 酸化剤がクメンヒドロペルオキシド又はイソプロピルクミルヒドロペルオキシドである、請求項56乃至請求項64から選択されるいずれか1項に記載された方法。 65. A method according to any one of claims 56 to 64, wherein the oxidizing agent is cumene hydroperoxide or isopropyl cumyl hydroperoxide.
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