JP2002016037A

JP2002016037A - 液処理装置

Info

Publication number: JP2002016037A
Application number: JP2000198646A
Authority: JP
Inventors: Yuji Kamikawa; 裕二上川
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2000-06-30
Filing date: 2000-06-30
Publication date: 2002-01-18
Anticipated expiration: 2020-06-30
Also published as: JP4506916B2

Abstract

(57)【要約】【課題】制御が容易で被処理体に対する洗浄等の液処
理を効率的に行うことを可能ならしめ、また、特に大口
径ウエハの液処理を行う液処理装置において、その大型
化を抑制したコンパクトな液処理装置を提供する。【解決手段】液処理装置の一例である洗浄処理装置１
は、例えば、基板たる半導体ウエハＷを所定間隔で保持
可能なロータ３１に駆動機構たるモータ３２が取り付け
られてなるロータ回転機構８と、半導体ウエハＷを収納
可能なキャリアＣとロータ３１との間で半導体ウエハＷ
の搬送を行うウエハ搬送機構７と、ロータ３１を収容
し、ロータ３１に保持された半導体ウエハＷに所定の液
処理を施す処理チャンバ５１とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理
を施すために用いられる液処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、基板としての半導体ウエハ（ウエハ）を所定の
薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するウエハ洗浄装置や、Ｎ_２ガス等の不活性
ガスや揮発性および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によって
ウエハから液滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ
乾燥装置が使用されている。これらの洗浄装置および乾
燥装置としては、複数枚のウエハをウエハ洗浄室やウエ
ハ乾燥室内に収納してバッチ式に処理するものが知られ
ている。

【０００３】例えば、図１１に示すように、ウエハ洗浄
室２０１を形成する処理チャンバ２０２を有し、ウエハ
Ｗを保持可能かつ回転可能に設けられたロータ２０５を
処理チャンバ２０２の前方側に形成されたウエハ搬入出
口２０３から進退可能とし、ロータ２０５を処理チャン
バ２０２から進出させた状態で、ロータ２０５と搬送ア
ームのウエハチャック２０９ａ・２０９ｂとの間でウエ
ハＷの受け渡しが可能となっている構造を有するウエハ
洗浄装置２００が知られている。なお、図１１における
参照符号２０７はロータ２０５を進出退避させ回転させ
る駆動機構、２０８は回転軸、２０４は処理チャンバ２
０２の蓋、２０６はロータ２０５の保持部材である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１１
に示したウエハ洗浄装置２００では、ウエハチャック２
０９ａ・２０９ｂとロータ２０５の保持部材２０６とが
互いに衝突しないように制御しなければならないことか
ら、動作プログラム等が複雑なものとなってしまう問題
がある。

【０００５】また、近年、半導体デバイスの微細高集積
化や量産化に伴って、ウエハの大きさについては、２０
０ｍｍφから３００ｍｍφへの大口径化が進んでおり、
ウエハの大きさおよび重量が嵩むようになってきている
ことから、３００ｍｍφウエハの保存や搬送等は、例え
ば、２５枚のウエハを水平状態で収納したキャリア（ポ
ッド）を用いて取り扱われる。しかし、液処理そのもの
は、従来と同様にウエハをほぼ垂直な状態として行うこ
とが好ましい。従って、ウエハ洗浄装置２００に限ら
ず、従来、ウエハをほぼ垂直な状態に保持して搬送を行
っていた装置においては、別途、ウエハの姿勢変換機構
等を設けなければならず、また、ウエハを取り扱う各部
の部材も大型化することから、全体的に装置が大型化す
る問題がある。そのために、装置の構成を改良すること
によって、装置の大型化を抑制することが望まれてい
る。

【０００６】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みてなされたものであって、制御が容易で、基板の洗浄
等の液処理を効率的に行うことを可能ならしめ、また、
特に大口径の基板の液処理を行うにあたって生ずる処理
装置の大型化を抑制したコンパクトな液処理装置を提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、第１に、基板に所定の処理液を供
給して液処理を行う液処理装置であって、前記基板を所
定間隔で保持可能なロータに、前記基板が面内回転する
ように前記ロータを回転させる駆動機構が取り付けられ
てなるロータ回転機構と、前記基板を収納可能なキャリ
アと前記ロータとの間で前記基板の搬送を行う基板搬送
機構と、前記ロータを収容し、当該ロータに保持された
基板に所定の液処理を施す処理チャンバと、を具備する
ことを特徴とする液処理装置、が提供される。

【０００８】また、本発明によれば、第２に、基板に所
定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であっ
て、前記基板を所定間隔で保持可能なロータに、前記基
板が面内回転するように前記ロータを回転させる駆動機
構が取り付けられてなるロータ回転機構と、前記基板を
収納可能なキャリアと前記ロータとの間で前記基板を水
平状態で搬送する基板搬送機構と、前記ロータにおいて
前記基板が立設状態または水平状態で保持可能なように
前記ロータ回転機構の姿勢変換を行う姿勢変換機構と、
前記ロータを収容し、当該ロータに保持された基板に所
定の液処理を施す処理チャンバと、前記ロータが前記処
理チャンバに収容されるように、前記ロータ回転機構と
前記姿勢変換機構をともに、または前記処理チャンバを
スライドさせる移動機構と、を具備することを特徴とす
る液処理装置、が提供される。

【０００９】また、本発明によれば、第３に、基板に所
定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であっ
て、前記基板を所定間隔で保持可能なロータと、前記基
板を収納可能なキャリアと前記ロータとの間で、前記基
板を水平状態で搬送する基板搬送機構と、前記基板を立
設状態または水平状態で保持可能なように前記ロータの
姿勢変換を行う姿勢変換機構と、前記ロータを収容し、
当該ロータに保持された基板に所定の液処理を施す処理
チャンバと、前記ロータが前記処理チャンバに収容され
るように、前記ロータと前記姿勢変換機構をともにスラ
イドさせる移動機構と、前記処理チャンバ内において前
記ロータを授受し、前記ロータを前記基板が面内回転す
るように回転させるロータ授受／回転駆動機構と、を具
備することを特徴とする液処理装置、が提供される。

【００１０】これら本発明の液処理装置は、基板が収容
されるキャリアと液処理を行うために基板を保持するロ
ータとの間の搬送経路が短いため、装置が小型化され
る。また、ロータを方向転換させて基板を水平状態と立
設状態との間で姿勢変換することが可能であり、ロータ
を直接に処理チャンバに収容することが可能であること
から、複数の機構間で基板を移し替える必要がなく、ま
た、そのような基板の移し替えを行う複数の機構を設け
る必要がないために、装置がコンパクト化され、基板の
汚れ発生も防止される。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の液
処理装置は、各種基板を被処理体とする洗浄処理装置、
乾燥処理装置等に適用できるが、本実施形態では、半導
体ウエハ（ウエハ）の搬入、洗浄、乾燥、搬出をバッチ
式に一貫して行うように構成された洗浄処理装置として
用いた場合について説明する。

【００１２】図１は本実施形態に係る洗浄処理装置１の
斜視図であり、図２はその側面図、図３はその平面図で
ある。これら図１から図３に示されるように、洗浄処理
装置１は、ウエハＷを複数枚、例えば２５枚ほど水平状
態で収納可能なキャリア（収納容器）Ｃを載置するため
のキャリアステージ２ａ・２ｂと、ウエハＷに対して洗
浄処理を実施する洗浄処理ユニット３と、キャリアステ
ージ２ａ・２ｂと洗浄処理ユニット３との間に設けら
れ、ウエハＷの搬送を行うウエハ搬送ユニット４と、液
処理のための薬液を貯蔵等する薬液貯蔵ユニット５と、
洗浄処理装置１内に配設された各種の電動駆動機構のた
めの電源ユニット６と、から主に構成されている。

【００１３】キャリアステージ２ａ・２ｂはキャリアＣ
を載置する場所であり、キャリアＣは、そのウエハＷを
搬入出するための搬入出口がウエハ搬送ユニット４の壁
部１１に設けられた窓部１２ａ（キャリアステージ２ａ
側）・１２ｂ（キャリアステージ２ｂ側）に対面するよ
うにして、キャリアステージ２ａ・２ｂ上に載置され
る。

【００１４】壁部１１の内側（ウエハ搬送ユニット４
側）には、窓部１２ａ・１２ｂを開閉するシャッターと
キャリアＣの搬入出口を開閉する蓋体の開閉を行う蓋体
開閉機構とを有する開閉装置１４ａ（キャリアステージ
２ａ側）・１４ｂ（キャリアステージ２ｂ側）が配設さ
れており、キャリアＣをキャリアステージ２ａ・２ｂに
載置していない状態では、シャッターを閉じた状態とす
る。一方、ウエハＷをキャリアＣから搬出する際または
キャリアＣへ搬入する際にはシャッターおよびキャリア
Ｃの蓋体が蓋体開閉機構により開かれた状態とされる。

【００１５】ウエハ搬送ユニット４内には、開閉装置１
４ａ・１４ｂに隣接して、キャリアＣ内のウエハＷの枚
数を計測するための検出センサ機構１３ａ（キャリアス
テージ２ａ側）・１３ｂ（キャリアステージ２ｂ側）が
配設されている。検出センサ機構１３ａ・１３ｂは、例
えば、赤外線センサヘッドをＺ方向にスキャンさせなが
ら、ウエハＷのＹ方向端の２カ所でウエハＷの枚数を検
査する。

【００１６】検出センサ機構１３ａ・１３ｂとしてはま
た、ウエハＷの枚数の検査と並行して、ウエハＷの収納
状態、例えば、キャリアＣ内にウエハＷが所定のピッチ
で平行に１枚ずつ収納されているかどうか、ウエハＷが
段差ずれして斜めに収納されていないかどうか、ウエハ
ＷがキャリアＣ内の所定位置から飛び出していないか等
を検出するセンサを具備したものを用いることが、より
好ましい。さらに、ウエハＷの収納状態を確認した後
に、同センサを用いてウエハＷの枚数を検出するように
してもよい。なお、後述するウエハ搬送機構７に検出セ
ンサ機構を取り付けて、ウエハ搬送機構７とともに移動
可能な構造とすれば、検出センサ機構は１カ所のみの配
設で済ませることが可能である。

【００１７】ウエハ搬送ユニット４には、キャリアステ
ージ２ａ・２ｂに載置されたキャリアＣと後述するロー
タ３１との間でウエハＷを水平状態で搬送するウエハ搬
送機構７が配設されている。ウエハ搬送機構７は、未処
理のウエハＷを搬送するための搬送アーム２１ａと、液
処理済みのウエハＷを搬送するための搬送アーム２１ｂ
を有しており、１個の搬送アーム２１ａ・２１ｂが１枚
のウエハＷを搬送し、かつ、キャリアＣに収容されてい
る２５枚のウエハＷを一度に搬送可能なように、それぞ
れ２５個ずつが略平行に配設されている。

【００１８】合計５０個の搬送アーム２１ａ・２１ｂを
保持する搬送アーム保持部２２は図示しないＸ軸駆動機
構を内在し、テーブル２３に設けられた溝部またはガイ
ドレール等の案内機構２４に沿って、Ｘ方向にスライド
可能となっている。また、搬送アーム保持部２２は、Ｘ
−Ｙ面内のθ方向に回転可能に構成されている。このθ
方向回転を行う図示しないθ回転駆動機構は、搬送アー
ム保持部２２に内在させることが可能であり、また、後
述するＺ軸駆動機構９９やテーブル２３もともに回転す
る構造として設けることも可能である。

【００１９】このようなＸ軸駆動機構やθ回転駆動機構
を用いれば、例えば、Ｘ軸駆動機構を用いて搬送アーム
２１ａをキャリアＣ内へ挿入し、キャリアＣ内のウエハ
Ｗを搬出した後、θ回転駆動機構を用いて搬送アーム２
１ａの向きを１８０°回転させてウエハＷを洗浄処理ユ
ニット３側へ向け、再びＸ軸駆動機構を用いて搬送アー
ム２１ａを洗浄処理ユニット３に配設されたロータ３１
へ挿入し、ウエハＷをロータ３１に収納することや、そ
の逆の動作が可能となる。なお、Ｘ軸駆動機構に代え
て、またはＸ軸駆動機構とともに、搬送アーム２１ａ・
２１ｂが、多関節アーム等の伸縮自在な形態を有してい
ることにより、ウエハＷをキャリアＣとテーブル３１ａ
〜３１ｃとの間で搬送することが可能な形態とすること
も好ましい。

【００２０】通常、搬送アーム２１ａ・２１ｂどうしの
間隔は、キャリアＣ内でのウエハＷの収納間隔と同じと
するが、搬送アーム保持部２２に、搬送アーム２１ａ・
２１ｂの間隔を変化させるような搬送アーム間隔調整機
構を設けることも可能である。この場合、例えば、搬送
アーム２１ａどうしの間隔をキャリアＣ内のウエハＷの
収納間隔に合わせてキャリアＣからウエハＷを搬出した
後、搬送アーム２１ａの間隔を半分に変換して、さらに
後述するＺ軸駆動機構９９を用いて搬送アーム２１ａの
高さ調整を行い、ウエハＷをロータ３１の下半分または
上半分に収納するといった動作を行うことが可能とな
る。

【００２１】搬送アーム２１ａ・２１ｂおよび搬送アー
ム保持部２２ならびにテーブル２３は、Ｚ軸駆動機構９
９によりＺ方向（垂直方向）に移動可能となっている。
このＺ軸駆動機構９９は、例えば、搬送アーム２１ａ・
２１ｂがキャリアＣまたはロータ３１からウエハＷを搬
出する際、または搬送アーム２１ａ・２１ｂに保持され
たウエハＷをキャリアＣまたはロータ３１に搬入する際
に用いられる。例えば、キャリアＣ内からウエハＷを搬
出する場合には、先ず、キャリアＣ内の各ウエハＷの下
側に各搬送アーム２１ａが位置するようにＺ軸駆動機構
９９を用いて高さ調整を行い、その後に搬送アーム２１
ａをキャリアＣ内に挿入し、次いでＺ軸駆動機構９９を
用いて搬送アーム２１ａを所定高さほど上昇させること
によって搬送アーム２１ａ上にウエハＷを保持させ、そ
の状態でＸ軸駆動機構により搬送アーム２１ａを元の位
置まで退却させることにより、キャリアＣからウエハＷ
を搬出することができる。

【００２２】搬送アーム２１ａ・２１ｂおよび搬送アー
ム保持部２２ならびにテーブル２３はまた、Ｙ軸駆動機
構９８によりガイドレール９７に沿ってＹ方向に移動可
能となっており、ウエハ搬送機構７は、キャリアステー
ジ２ａ・２ｂに載置されたキャリアＣにいずれにもアク
セス可能となっている。

【００２３】ウエハ搬送ユニット４の天井部分には、フ
ィルタファンユニット２８ａが配設されており、ウエハ
搬送ユニット４内にパーティクルを除去した空気等が送
風されるようになっている。また、ウエハ搬送ユニット
４と洗浄処理ユニット３との境界を形成する壁部２５に
は、ウエハＷをウエハ搬送機構７とロータ３１との間で
のウエハＷの搬送を可能とするために、シャッター２７
により開閉が可能な窓部２６が形成されている。シャッ
ター２７はウエハ搬送ユニット４側に配設されており、
ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３の雰囲気が
分離できるようになっている。なお、シャッター２７
は、洗浄処理ユニット３側に設けることもできる。

【００２４】洗浄処理ユニット３の天井部分にも、フィ
ルタファンユニット２８ｂが配設されており、洗浄処理
ユニット３内にパーティクルを除去した空気等が送風さ
れるようになっている。また、洗浄処理ユニット３は、
ウエハＷを所定間隔で保持可能なロータ３１にウエハＷ
が面内回転するようにロータ３１を回転させるモータ
（駆動機構）３２が軸部材３７を介して取り付けられて
なるロータ回転機構８を有する。図４はロータ３１の構
造を示す斜視図であり、ロータ３１は、ウエハＷを保持
するための溝等が形成された係止部材３１ａ、係止部材
３１ａと同様に溝等が形成され開閉可能なホルダー３１
ｂを有する。係止部材３１ａは、所定の間隔をおいて配
置された一対の円盤３３ａ・３３ｂに架設され、固定さ
れている。また、ホルダー３１ｂは、ホルダーロックピ
ン３１ｃの状態によって開閉が制限される。つまり、ホ
ルダー３１ｂにロックが掛かっているときは、ホルダー
３１ｂはウエハＷを保持するように閉じられた状態にあ
り、ロックが掛かっていない状態では、ホルダー回転シ
リンダ３４によってウエハＷを保持するように閉じた
り、またはウエハＷの搬入出を可能とすべく開くように
動かすことができる。

【００２５】例えば、ホルダー３１ｂを開く場合には、
ホルダー３１ｂのロック（固定）状態解除のためのホル
ダー解除シリンダ３５を、ロータ３１の上部から下降さ
せて円盤３３ａに形成されているホルダーロックピン３
１ｃを押しつけた状態に保持する。このとき、ホルダー
３１ｂはロック状態から解除され、自由に動かすことが
可能な状態となる。この状態において、例えば、円盤３
３ａとホルダー３１ｂとの結合部に、円盤３３ｂ側から
ホルダー回転シリンダ３４を噛み合わせてホルダー回転
シリンダ３４を回転させると、ホルダー３１ｂを開くこ
とができる。

【００２６】なお、ホルダー３１ｂを閉じるときには、
逆に、ホルダー回転シリンダ３４を回転させて開かれて
いたホルダー３１ｂを閉じた後に、ホルダー解除シリン
ダ３５を上昇させることで、自然にホルダーロックピン
３１ｃにより、ホルダー３１ｂにロックが掛かる。

【００２７】ロータ３１とモータ３２を連結する軸部材
３７は、円盤３３ｂ側に配置された別の円盤３８の中心
部を貫通している。円盤３８は、後述するように、ロー
タ３１を処理チャンバ５１（外側チャンバ５１ａ）へ挿
入したときに、処理チャンバ５１のロータ挿入口５３を
閉塞するための部材であり、回転することはない。軸部
材３７が円盤３８を貫通する部分は、処理チャンバ５１
から処理液が漏出しないようにシール構造が採られる。

【００２８】円盤３８には、ロータ回転機構支持部材３
６が取り付けられている。このロータ回転機構支持部材
３６は、回転軸３６ａ周りにロータ回転機構８をＹ−Ｚ
面内で所定角度ほど回転させ、ウエハＷを水平状態と立
設状態、例えば垂直状態（ウエハＷの表面と水平方向と
のなす角が９０°の状態）との間で姿勢変換させる姿勢
変換機構９の一部である。このような姿勢変換機構９の
駆動は、モータやアクチュエータ等の駆動装置を用いて
行うことができる。

【００２９】なお、ロータ回転機構支持部材３６は軸部
材３７のカバーとしても機能する。従って、ロータ回転
機構支持部材３６の形状は、図示したものに限定される
ものではなく、例えば、軸部材３７とモータ３２の全体
を取り囲むような形態としてもよく、この場合には、モ
ータ３２で発生するパーティクル等が洗浄処理ユニット
３内の雰囲気を悪化させることを抑制することができ
る。

【００３０】姿勢変換機構９の脚部３６ｂは、ガイドレ
ール３９上をＹ方向に移動可能なＹ軸駆動機構１０上に
配設されており、これによりロータ回転機構８も洗浄処
理ユニット３内をＹ方向に移動可能となっている。この
Ｙ軸駆動機構１０を用いて、ウエハＷが立設状態、例え
ば、垂直状態で保持されるように姿勢変換されたロータ
回転機構８のロータ３１の部分を処理チャンバ５１に挿
入することができる。

【００３１】なお、ガイドレール３９の下部スペース９
４には、例えば、ロータ回転機構８、姿勢変換機構９、
Ｙ軸駆動機構１０等の制御装置を収納することができ
る。また、図１から図３には示していないが、ガイドレ
ール３９が配設されたスペースと処理チャンバ５１が配
設されたスペースとの間に開閉可能なシャッターを設け
て、処理チャンバ５１内の雰囲気が洗浄処理ユニット３
全体に拡散しないような構造とすることができる。

【００３２】図５および図６は、ロータ３１を処理チャ
ンバ５１に挿入した状態の一形態を示す断面図である。
ここで、図５および図６においては、姿勢変換機構９や
Ｙ軸駆動機構１０を省略しており、処理チャンバ５１に
ついては、断面略台形の筒形の形態を有する外側チャン
バ５１ａと、Ｙ方向にスライド可能な内側チャンバ５１
ｂとからなる二重構造を有するものを示している。な
お、外側チャンバ５１ａはメンテナンス等の際には、図
５に示される内側チャンバ５１ｂの位置へ待避させるこ
とができるようになっている。

【００３３】図５は内側チャンバ５１ｂを図中右側へ待
避させ、外側チャンバ５１ａを用いて液処理を行う際の
状態を示しており、図６は内側チャンバ５１ｂを外側チ
ャンバ５１ａ内に収納して、内側チャンバ５１ｂによる
液処理を行う状態を示している。図５に示すように、外
側チャンバ５１ａにおける洗浄処理は、垂直壁５２ａ
と、ロータ挿入口５３が形成された垂直壁５２ｂと、ロ
ータ挿入口５３を閉塞するロータ回転機構８の円盤３８
とにより形成される処理空間９５において行われる。垂
直壁５２ｂの上部には、排気バルブ６５と排気管６７か
らなる排気経路が設けられており、処理空間９５の雰囲
気の調整が可能となっている。

【００３４】また、垂直壁５２ｂの下部には、ドレイン
バルブ６１とドレイン管６３からなるドレイン（排液経
路）が形成されており、処理空間９５から使用された洗
浄液が排出されるようになっている。ここで、外側チャ
ンバ５１ａは、垂直壁５２ｂ側が長径側に設定され、ま
た、外側チャンバ５１ａの胴部下側に、垂直壁５２ｂ側
が下方となるような勾配が形成されるように固定されて
いるので、使用された洗浄液は、容易にドレインバルブ
６１からドレイン管６３を通して排出される。

【００３５】外側チャンバ５１ａ内の上端近傍部分に
は、多数の吐出口５４を有する吐出ノズル５５が、吐出
口５４が水平方向に並ぶようにして垂直壁５２ｂに取り
付けられている。吐出ノズル５５からは、薬液貯蔵ユニ
ット５内の供給源から供給された純水、ＩＰＡ等の各種
薬液や、Ｎ_２ガス等の乾燥ガスが吐出可能となってい
る。また、垂直壁５２ａ・５２ｂには、円盤３３ａ・３
３ｂのそれぞれ垂直壁５２ａ・５２ｂに対向する面を洗
浄するための処理液の吐出ノズル７４ａ・７４ｂが配設
されている。このような吐出ノズル７４ａ・７４ｂは、
主に、種々の薬液処理後に純水で円盤３３ａ・３３ｂの
洗浄を行う際に使用される。なお、吐出ノズル５５は、
図５および図６中には１本しか示されていないが、複数
本設けることが可能である。

【００３６】内側チャンバ５１ｂは、外側チャンバ５１
ａよりも径が小さい断面略台形の筒状の形態を有し、図
５に示す位置と図６に示す位置との間でＹ方向に平行移
動（スライド）可能に構成されている。内側チャンバ５
１ｂは、その短径側の端面にリング部材５８ｂを、長径
側の端面にリング部材５８ａを有しており、内側チャン
バ５１ｂが外側チャンバ５１ａ内に配置されたときに
は、リング部材５８ａが垂直壁５２ａに密着し、また、
リング部材５８ｂが垂直壁５２ｂに密着することで処理
空間９６が形成される。

【００３７】なお、内側チャンバ５１ｂを外側チャンバ
５１ａから待避させたときに、リング部材５８ｂが垂直
壁５２ａに密着するとともにリング部材５８ａが垂直壁
５２ｃに密着することによって、外側チャンバ５１ａに
よって形成される処理空間９５の雰囲気は、内側チャン
バ５１ｂ内の雰囲気と隔離される。

【００３８】内側チャンバ５１ｂ内の上部には、多数の
吐出口５６を有する吐出ノズル５７が、吐出口５６が水
平方向に並ぶようにして取り付けられている。吐出ノズ
ル５７からは、薬液貯蔵ユニット５内の供給源から供給
された各種薬液、純水、ＩＰＡ等が吐出される。また、
内側チャンバ５１ｂの上部内壁には、円盤３３ａ・３３
ｂの対向面（ウエハＷに対向する面）を洗浄するための
処理液の吐出ノズル７５ａ・７５ｂが配設されており、
純水等の洗浄液を吐出可能となっている。なお、吐出ノ
ズル５７は、図５および図６中には１本しか示されてい
ないが、複数本設けることが可能である。

【００３９】リング部材５８ａの上端部には排気口６６
が形成されており、排気管６８を通じて、処理空間９６
内の雰囲気調整または退避位置での内側チャンバ５１ｂ
内の雰囲気調整を行うことが可能となっている。また、
リング部材５８ａの下端部には処理液排出口４６が形成
されており、この処理液排出口４６と連通するようにド
レイン誘導部材４７が配設されている。

【００４０】内側チャンバ５１ｂは、モータ３２側を短
径側とし、また下側に勾配が形成されるようにして配設
されている。つまり、処理液排出口４６は、内側チャン
バ５１ｂの下側に形成された勾配の下方側に形成されて
いることから、内側チャンバ５１ｂで使用された処理液
は、容易に処理液排出口４６からドレイン誘導部材４７
へ流れ込む。

【００４１】ドレイン誘導部材４７は下方に伸び、その
先端部４８は水平方向を向くように構成されている。一
方、垂直壁５２ａの下方には別体としてドレイン管４９
が配置されており、ドレイン管４９の先端には先端部と
してのキャップ部５０が形成されている。

【００４２】内側チャンバ５１ｂが退避位置にあるとき
は、ドレイン誘導部材４７の先端部４８とキャップ部５
０とは隔離された状態にあるが、内側チャンバ５１ｂを
ウエハＷの洗浄処理等のために外側チャンバ５１ａ内に
収容されるようにスライドさせると、先端部４８がキャ
ップ部５０に嵌合されて気密にシールされ、これによ
り、ドレイン誘導部材４７とドレイン管４９とが連通
し、処理液の排液が可能となる構造となっている。他
方、ウエハＷの液処理が終了して、内側チャンバ５１ｂ
を外側チャンバ５１ａから退避させる際には、先端部４
８とキャップ部５０とは離隔される。

【００４３】次に、キャリアステージ２ａに載置された
キャリアＣをキャリアＣ１とし、キャリアステージ２ｂ
に載置されたキャリアＣをキャリアＣ２として、これら
２個のキャリアＣ１・Ｃ２に収納されたウエハＷを一括
して洗浄処理装置１を用いて洗浄処理する場合を例に、
その洗浄処理工程について説明する。なお、図１〜図３
においては、キャリアＣについてそれぞれキャリアＣ１
・Ｃ２と明示していない。

【００４４】先ず、２５枚のウエハＷが所定の間隔で平
行に収納されたキャリアＣ１・Ｃ２を、キャリアＣ１・
Ｃ２においてウエハＷの出し入れを行う搬入出口が窓部
１２ａ・１２ｂと対面するように、それぞれキャリアス
テージ２ａ・２ｂに載置する。

【００４５】最初にキャリアＣ１内のウエハＷを搬送す
るために、開閉装置１４ａを用いて窓部１２ａを閉じて
いるシャッターを開き、また、キャリアＣ１の搬入出口
を閉塞している蓋体を開いて、キャリアＣ１の内部とウ
エハ搬送ユニット４の内部が連通する状態とする。その
後に、検出センサ機構１３ａをＺ方向にスキャンさせ
て、キャリアＣ１内のウエハＷの枚数および収納状態を
確認する。ここで、異常が検出された場合には処理を中
断し、キャリアＣ２からのウエハＷの搬出動作に移る
か、または、キャリアＣ１・Ｃ２を生産管理上等の問題
から１ロットとして一括処理することが前提とされてい
る場合等には、キャリアＣ１・Ｃ２をキャリアステージ
２ａ・２ｂから撤去して、別のロットの洗浄処理へ移行
する。

【００４６】キャリアＣ１内のウエハＷに異常が検出さ
れなかった場合には、個々の搬送アーム２１ａが各ウエ
ハＷの下側に位置するようにＺ軸駆動機構９９により搬
送アーム２１ａの高さを合わせた後に、ウエハ搬送機構
７の有するＸ軸駆動機構を動作させて搬送アーム２１ａ
をキャリアＣ１内に挿入し、Ｚ軸駆動機構９９を所定高
さほど上昇させて１個の搬送アーム２１ａに１枚のウエ
ハＷを保持させ、再びＸ軸駆動機構を動作させて搬送ア
ーム２１ａを元の位置へ戻す。開閉装置１４ａを動作さ
せて窓部１２ａおよびキャリアＣ１の蓋体を閉めること
により、２５枚全てのウエハＷはキャリアＣ１からウエ
ハ搬送ユニット４内に移動したこととなる。なお、ウエ
ハＷはキャリアＣ１内での収納間隔と同じ間隔で、搬送
アーム２１ａに保持された状態にある。

【００４７】続いて、搬送アーム２１ａに保持されたウ
エハＷが、ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３
との境界をなす壁部２５に形成された窓部２６に対面す
るように、ウエハ搬送機構７の有するθ回転駆動機構を
１８０°回転させる。そして、窓部２６を閉じていたシ
ャッター２７を開き、ウエハ搬送機構７のＸ軸駆動機構
を動作させて、洗浄処理ユニット３において窓部２６に
対面する位置に待機させていたロータ３１内へ、ウエハ
Ｗが保持された搬送アーム２１ａを挿入する。

【００４８】このとき当然に、ロータ３１はホルダーロ
ックピン３１ｃがホルダー解除シリンダ３５によって押
さえつけられてホルダー３１ｂは可動な状態にあり、ホ
ルダー３１ｂはホルダー回転シリンダ３４により外側に
開かれた状態、つまりウエハＷの搬入出が可能な状態と
されている。また、ウエハＷの高さ位置は、ウエハＷが
係止部材３１ａに形成されたウエハＷを保持するための
溝部等に納まるように調整されている。

【００４９】ウエハＷが係止部材３１ａに保持された状
態から、ウエハ搬送機構７が有するＺ軸駆動機構９９を
動作させて搬送アーム２１ａの位置を下げ、さらにＸ軸
駆動機構を動作させて搬送アーム２１ａを元の位置に戻
し、シャッター２７を閉じる。以上の工程により、キャ
リアＣ１に収納されていたウエハＷのロータ３１への搬
送が終了する。

【００５０】次に、キャリアＣ２に収容されているウエ
ハＷをロータ３１に搬送するために、搬送アーム２１ａ
が再びキャリアステージ２ａ・２ｂ側となるように、ウ
エハ搬送機構７のθ回転駆動機構を動作させる。また、
Ｙ軸駆動機構９８を動作させて、搬送アーム２１ａが窓
部１２ｂに対向する位置まで、ウエハ搬送機構７を移動
させる。そして、前述したキャリアＣ１からウエハＷを
搬出した場合と同様にして、キャリアＣ２内からウエハ
Ｗを搬出し、θ回転駆動機構およびＹ軸駆動機構９８を
動作させて、ウエハＷを保持した搬送アーム２１ａを窓
部２６に対面する位置まで移動させる。

【００５１】キャリアＣ２のウエハＷは、先にロータ３
１に収納したキャリアＣ１のウエハＷの間に挿入する。
つまり、ウエハＷは、ロータ３１内においてキャリアＣ
１・Ｃ２における収納間隔の半分の間隔で収納されるこ
ととなる。このために、搬送アーム２１ａの高さ位置つ
まりウエハＷの高さ位置を、ウエハＷの保持間隔の半分
の間隔ほどＺ軸駆動機構９９を動作させて上方または下
方へずらし、しかる後にシャッター２７を開いてウエハ
搬送機構７の有するＸ軸駆動機構を動作させ、ウエハＷ
および搬送アーム２１ａをロータ３１へ挿入する。

【００５２】Ｚ軸駆動機構９９により搬送アーム２１ａ
を僅かに下げた後、Ｘ軸駆動機構を用いて搬送アーム２
１ａを元の位置に戻し、シャッター２７を閉めることに
より、キャリアＣ１・Ｃ２のウエハＷのロータ３１への
搬送が終了する。また、ロータ３１においては、ホルダ
ー３１ｂがウエハＷを保持するように閉じられ、また、
ホルダー解除シリンダ３５を上部に移動させてホルダー
ロックピン３１ｃによりホルダー３１ｂが自由に動くこ
とができない状態とする。

【００５３】次に、姿勢変換機構９を用いて、ロータ３
１が処理チャンバ５１側を向くようにロータ回転機構８
を９０°ほど倒し、ロータ回転機構８を水平状態に保持
する。このときウエハＷは垂直状態に保持されることと
なる。そして、Ｙ軸駆動機構１０を用いて、ロータ３１
が外側チャンバ５１ａに収容され、また、円盤３８によ
り外側チャンバ５１ａのロータ挿入口５３が閉塞される
ように、ロータ回転機構８をスライドさせる。

【００５４】処理チャンバ５１において、例えば、内側
チャンバ５１ｂでは薬液を用いたポリマー除去等の処理
を、外側チャンバ５１ａでは純水を用いた処理とその後
の乾燥処理を行うとすると、最初は内側チャンバ５１ｂ
を外側チャンバ５１ａ内に収容して、モータ３２により
ロータ３１を所定の回転数で回転させながら、吐出ノズ
ル５７から純水を吐出してウエハＷの洗浄を行い、しか
る後に吐出ノズル７５ａ・７５ｂから純水を吐出させ
て、円盤３３ａ・３３ｂのウエハＷに対向する面を洗浄
する。

【００５５】次に、内側チャンバ５１ｂを外側チャンバ
５１ａから待避させた状態として、ロータ３１を所定の
回転数で回転させながら、吐出ノズル５５から所定の薬
液をウエハＷに向かって吐出する。薬液を用いた処理が
終了した後に、吐出ノズル７４ａ・７４ｂから純水を吐
出して、円盤３３ａ・３３ｂのそれぞれ垂直壁５２ａ・
５２ｂに対向する面を洗浄する。その後、処理液の吐出
を行わずに所定の回転数でロータ３１を回転させて、ロ
ータ３１やウエハＷに付着した純水を振り切り、必要に
応じて、Ｎ_２ガス等をウエハＷに噴射して乾燥処理を行
う。

【００５６】液処理および乾燥処理が終了した後には、
Ｙ軸駆動機構１０を用いて、ロータ３１を処理チャンバ
５１から搬出するために、ロータ回転機構８を処理チャ
ンバ５１から離れるようにスライドさせ、続いて姿勢変
換機構９を動作させてウエハＷが水平状態で保持される
ようにロータ回転機構８を立て直し、ロータ３１を窓部
２６と対面する位置へ戻す。そして、ロータ３１につい
て、ホルダー３１ｂを開いたときの搬入出口が窓部２６
に対面するように位置合わせを行う。そして、ホルダー
解除シリンダ３５を降下させてホルダーロックピン３１
ｃを押しつけ、ホルダー３１ｂのロックを解除した状態
とし、ホルダー回転シリンダ３４（図４参照）を用いて
ホルダー３１ｂを回転させ、ウエハＷの搬出が可能とな
るようにホルダー３１ｂを開く。

【００５７】ウエハＷの液処理等が行われている間に、
ウエハ搬送機構７については、θ回転駆動機構を動作さ
せて搬送アーム２１ｂが窓部２６に対面した状態として
おく。そして、例えば、先にキャリアＣ２に収納されて
いたウエハＷをキャリアＣ２に戻すこととすると、搬送
アーム２１ｂが該当するウエハＷを搬出することができ
るように、Ｚ軸駆動機構９９を動作させて搬送アーム２
１ｂの高さ位置を調節し、シャッター２７を開いてＸ軸
駆動機構により搬送アーム２１ｂをロータ３１内に挿入
し、その後にウエハＷをＺ軸駆動機構９９を動作させて
ウエハＷを持ち上げ、さらにＸ軸駆動機構により搬送ア
ーム２１ｂを元の位置に戻すことで、該当するウエハＷ
をロータ３１内から搬出することができる。

【００５８】シャッター２７を閉じた後に、搬送アーム
２１ｂがキャリアステージ２ａ・２ｂ側を向くようにθ
回転駆動機構を駆動させ、また、Ｙ軸駆動機構９８によ
り搬送アーム２１ｂが窓部１２ｂに対面するように、ウ
エハ搬送機構７を移動させる。開閉装置１４ｂを用いて
窓部１２ｂを開くとともにキャリアＣ２の蓋体を開い
て、キャリアＣ２の内部とウエハ搬送ユニット４が連通
した状態とし、Ｚ軸駆動機構９９を用いて搬送アーム２
１ｂ全体の高さを調節した後に、Ｘ軸駆動機構を用いて
搬送アーム２１ｂをキャリアＣ２内に挿入し、ウエハＷ
を搬入して搬送アーム２１ｂを元の位置に戻す。キャリ
アＣ２の蓋体と窓部１２ｂを閉じると、キャリアＣ２へ
のウエハＷの収納が終了する。

【００５９】同様の方法により、搬送アーム２１ｂを窓
部２６に対面する位置へ戻した後にロータ３１からウエ
ハＷを取り出し、キャリアＣ１へ収納する。キャリアＣ
１・Ｃ２をキャリアステージ２ａ・２ｂから撤去する
と、次のキャリアＣの処理を開始することができる。

【００６０】次に、洗浄処理装置の別の実施形態につい
て説明する。図７は洗浄処理装置１００の側面図であ
り、図８はその平面図である。洗浄処理装置１００は、
前述した洗浄処理装置１の洗浄処理ユニット３と構造の
異なる洗浄処理ユニット３ａを有している以外は、洗浄
処理装置１と同じユニットを用いて構成されている。従
って、以下、洗浄処理ユニット３ａの構造と洗浄処理ユ
ニット３ａにおけるウエハＷの処理形態について説明す
る。

【００６１】洗浄処理ユニット３ａに配設されているロ
ータ搬送機構８０は、ロータ８１、姿勢変換機構９ａ、
Ｙ軸駆動機構１０ａから構成されている。ロータ８１
は、円盤３３ｂと姿勢変換機構９ａに接合された連結部
材８２ａとの間で脱着可能に構成されており、また円盤
３３ａには後述するロータ授受／回転駆動機構９０への
ロータ８１の連結とその解除を行うための連結部材８２
ｂが取り付けられている。なお、ロータ８１には、ロー
タ３１と同様に、円盤３３ａ・３３ｂ間に係止部材３１
ａ、ホルダー３１ｂがあり、円盤３３ａには図示しない
ホルダーロックピン３１ｃが配設されている。

【００６２】姿勢変換機構９ａは、ウエハＷの搬入出を
行うホルダー３１ｂの搬入出口が窓部２６へ対面するよ
うに位置調整を行うための位置調節機構を有しているこ
とが好ましい。姿勢変換機構９ａとＹ軸駆動機構１０ａ
の動作は、先に説明した洗浄処理装置１の姿勢変換機構
９とＹ軸駆動機構１０の動作と同じである。

【００６３】洗浄処理ユニット３ａには、また、ロータ
授受／回転駆動機構９０および処理チャンバ５１が配設
されている。ロータ授受／回転駆動機構９０がロータ８
１を保持した状態の一形態を示す断面図を図９に示す。
ロータ授受／回転駆動機構９０は、回転軸部材８３およ
びモータ３２ａから構成されている。回転軸部材８３の
端部は、ロータ８１を脱着可能な構造となっており、モ
ータ３２ａの回転によりロータ８１の回転が可能となっ
ている。

【００６４】処理チャンバ５１としては、図５および図
６に示した外側チャンバ５１ａと内側チャンバ５１ｂと
からなる二重構造チャンバを示した。従って、洗浄処理
装置１の場合と同様に、内側チャンバ５１ｂの位置に応
じて、外側チャンバ５１ａでの洗浄処理と内側チャンバ
５１ｂでの洗浄処理とを使い分けすることができる。外
側チャンバ５１ａのロータ挿入口５３には、シャッター
５３ａが取り付けられており、ロータ８１を外側チャン
バ５１ａ内に搬入出する際にはこのシャッター５３ａが
開かれ、洗浄処理中は閉じた状態とされる。

【００６５】次に、洗浄処理ユニット３ａにおけるウエ
ハＷの洗浄方法について説明する。ウエハ搬送機構７と
ロータ８１との間でのウエハＷの搬入出は、洗浄処理装
置１の場合と同様にウエハＷを水平状態として行われ
る。ロータ８１内にウエハＷが収納されたら、姿勢変換
機構９ａを動作させてウエハＷが立設状態、例えば垂直
状態で保持されるようにロータ８１を姿勢変換し、次い
でＹ軸駆動機構１０を動作させて、ロータ８１をロータ
挿入口５３から外側チャンバ５１ａ内に挿入する。

【００６６】Ｙ軸駆動機構１０を、連結部材８２ｂが回
転軸部材８３に連結されるまで移動させ、連結部材８２
ｂと回転軸部材８３が連結された後に、円盤３３ｂと連
結部材８２ａとの間の連結を解除する。こうして、ロー
タ８１はロータ授受／回転駆動機構９０により回転可能
な状態となる。しかる後に連結部材８２ａが外側チャン
バ５１ａの外側に位置するまでＹ軸駆動機構１０ａを動
作させ、シャッター５３ａを閉じる。

【００６７】外側チャンバ５１ａと内側チャンバ５１ｂ
による処理空間９５・９６の形成の形態は洗浄処理装置
１の場合と変わらず、また、モータ３２ａを回転させる
とロータ８１が回転するので、例えば、図９の状態で
は、外側チャンバ５１ａによる洗浄処理を行うことがで
きる。一連の洗浄処理が終了した後には、シャッター５
３ａを開いて、Ｙ軸駆動機構１０ａを動作させて連結部
材８２ａをロータ８１の円盤３３ｂに連結させた後に、
回転軸部材８３と連結部材８２ｂとの連結を解除する。
その後、Ｙ軸駆動機構１０ａおよび姿勢変換機構９ａを
動作させ、ウエハＷが窓部２６と対面する位置へロータ
８１を戻し、そしてホルダー３１ｂを開いて、ロータ８
１内のウエハＷをウエハ搬送機構７を用いて搬出する。

【００６８】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるもので
ないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。
例えば、洗浄処理装置１と他の処理装置等との間でキャ
リアＣの搬送を行う装置が洗浄処理装置１の上部に取り
付けられる場合があり、このとき、キャリアステージ２
ａ・２ｂに載置されたキャリアＣに、洗浄処理装置１が
配設されたクリーンルームの天井方向から供給されるダ
ウンフローが当たらない事態が生じ得る。この場合、ウ
エハＷにパーティクル等が付着しやすくなる問題を生ず
る。

【００６９】そこで、図１０（ａ）に示すように、ウエ
ハ搬送ユニット４の壁部１１の上方に所定の傾きを設
け、また、フィルタ２９ａを内在させた構造として、ウ
エハ搬送ユニット４に配設されたフィルタファンユニッ
ト２８ａからのクリーンエアーがキャリアＣに当てるよ
うに構成することができる。また、図１０（ｂ）に示す
ように、開閉装置１４ａ・１４ｂとして、シャッターを
フィルタ２９ｂから構成することにより、シャッターを
閉じた状態でも、フィルタファンユニット２８ａからの
クリーンエアーがキャリアＣに向かって流れる構造とす
ることもできる。

【００７０】上記実施の形態では、ロータの回転の形態
に関しては、ロータがいわゆる片持ちで軸支された状態
で回転する場合について説明したが、例えば、図９にお
ける連結部材８２ａが姿勢変換機構９ａに軸受け等され
て回転可能としておけば、処理時に円盤３３ｂと連結部
材８２ｂは一体のままでもよい。このようなロータを両
持ちする形態は、洗浄処理装置１においても、内側チャ
ンバ５１ｂ側から円盤３３ａと連結される回転可能な連
結部材を配置しておくなどして、用いることができる。

【００７１】また、上記実施の形態では、ウエハＷを立
設状態に保持する形態としてウエハＷを垂直状態に保持
する形態を示したが、ウエハＷを立設状態に保持するこ
とには、ウエハＷの表面と水平方向とのなす角が、例え
ば４５°〜９０°の範囲の任意の角度となるように、ウ
エハＷを傾斜させた状態として保持することが含まれ
る。つまり、姿勢変換機構の傾き角度を任意に設定し
て、ウエハＷを処理チャンバ５１内に収容し、液処理を
行うことが可能である。この場合には、例えば、処理チ
ャンバ５１の配設状態やロータ挿入口５３の形状をウエ
ハＷの傾斜角度に合わせて傾斜させたり、上記実施の形
態では軸部材３７は円盤３８を垂直に貫通しているが、
軸部材３７が円盤３８を貫通する角度を変化させる等、
適宜、装置部材の形状や配設の形態を変更すればよい。

【００７２】さらに、上記実施の形態では、処理チャン
バ５１として、外側チャンバ５１ａおよび内側チャンバ
５１ｂからなる二重構造のものを用いて液処理を行う場
合について説明したが、チャンバは３つ以上であっても
よいし、１つであってもよい。また、外側チャンバ５１
ａおよび内側チャンバ５１ｂは、例えば、一方を洗浄に
他方を乾燥のみに用いても構わず、洗浄と乾燥の両方を
連続して行う用途にも用いることができる。

【００７３】さらにまた、上記実施の形態では、ロータ
回転機構８と姿勢変換機構９をＹ軸駆動機構１０を用い
てスライドさせることにより、ロータ３１を処理チャン
バ５１内に収容するように構成したが、逆に、処理チャ
ンバ５１をＹ方向に移動させることによって、ロータ３
１を処理チャンバ５１内に収容するように構成してもよ
い。

【００７４】また、上記実施の形態では、ウエハＷを略
垂直状態に保持して処理チャンバ５１内に収容したが、
ウエハＷの表面と水平方向とのなす角を４５°〜９０°
といった範囲の任意の角度で傾斜させて、ウエハＷを処
理チャンバ５１内に収容し、液処理を行うことも可能で
ある。この場合には、例えば、処理チャンバ５１の配設
状態やロータ挿入口５３の形状をウエハＷの傾斜角に合
わせて傾斜させたり、ロータ３１と軸部材３７との結合
部分に傾斜化機能を持たせたり、または、上記実施の形
態では軸部材３７は円盤３８を垂直に貫通しているが、
軸部材３７が円盤３８を貫通する角度を変化させる等、
適宜、装置部材の形状や配設の形態を変更すればよい。

【００７５】上記実施の形態では本発明を洗浄処理に適
用した場合について示したが、これに限らず、所定の塗
布液を塗布する塗布処理やエッチング処理等に適用する
ことも可能である。さらにまた、半導体ウエハに適用し
た場合について示したが、これに限らず、液晶表示装置
（ＬＣＤ）用基板等、他の基板の処理にも適用すること
ができる。

【００７６】

【発明の効果】本発明の液処理装置は、基板が収容され
るキャリアと液処理を行うために基板を保持するロータ
との間の搬送経路が短く、装置が小型化されるという効
果を奏する。また、ロータを方向転換させてロータを直
接に処理チャンバに収容することが可能であり、基板の
移し替えの回数が少ないことから、このような構造によ
っても装置がコンパクト化され、基板の汚れ発生が防止
されるという利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液処理装置の一実施形態に係る洗浄処
理装置を示す斜視図。

【図２】図１記載の洗浄処理装置の側面図。

【図３】図１記載の洗浄処理装置の平面図。

【図４】図１記載のロータの構造を示す説明図。

【図５】本発明の液処理装置を構成する液処理ユニット
に配設される処理チャンバの一実施形態を示す断面図。

【図６】図５に示した処理チャンバを構成する内側チャ
ンバを外側チャンバ内に収納した状態を示す断面図。

【図７】本発明の液処理装置の別の実施形態を示す側面
図。

【図８】図７記載の液処理装置の平面図。

【図９】図７記載の液処理装置を構成する液処理ユニッ
トに配設される処理チャンバ周辺の構造の一例を示す断
面図。

【図１０】本発明の液処理装置おいて、キャリアステー
ジ上のキャリアにクリーンエアーを供給する手段を示し
た説明図。

【図１１】従来の洗浄処理ユニットを示す説明図。

【符号の説明】

１・１００；洗浄処理装置２ａ・２ｂ；キャリアステージ３；洗浄処理ユニット４；ウエハ搬送ユニット５；薬液貯蔵ユニット６；電源ユニット７；ウエハ搬送機構８；ロータ回転機構９・９ａ；姿勢変換機構１０・１０ａ；Ｙ軸駆動機構２１ａ・２１ｂ；搬送アーム３１・８１；ロータ３２・３２ａ；モータ（回転機構）５１ａ；外側チャンバ５１ｂ；内側チャンバ８２ａ・８２ｂ；連結部材８３；回転軸部材Ｗ；半導体ウエハ（基板）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に所定の処理液を供給して液処理を
行う液処理装置であって、前記基板を所定間隔で保持可能なロータに、前記基板が
面内回転するように前記ロータを回転させる駆動機構が
取り付けられてなるロータ回転機構と、前記基板を収納可能なキャリアと前記ロータとの間で前
記基板の搬送を行う基板搬送機構と、前記ロータを収容し、当該ロータに保持された基板に所
定の液処理を施す処理チャンバと、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】基板に所定の処理液を供給して液処理を
行う液処理装置であって、前記基板を所定間隔で保持可能なロータに、前記基板が
面内回転するように前記ロータを回転させる駆動機構が
取り付けられてなるロータ回転機構と、前記基板を収納可能なキャリアと前記ロータとの間で前
記基板を水平状態で搬送する基板搬送機構と、前記ロータにおいて前記基板が立設状態または水平状態
で保持可能なように前記ロータ回転機構の姿勢変換を行
う姿勢変換機構と、前記ロータを収容し、当該ロータに保持された基板に所
定の液処理を施す処理チャンバと、前記ロータが前記処理チャンバに収容されるように、前
記ロータ回転機構と前記姿勢変換機構をともに、または
前記処理チャンバをスライドさせる移動機構と、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】基板に所定の処理液を供給して液処理を
行う液処理装置であって、前記基板を所定間隔で保持可能なロータと、前記基板を収納可能なキャリアと前記ロータとの間で、
前記基板を水平状態で搬送する基板搬送機構と、前記基板を立設状態または水平状態で保持可能なように
前記ロータの姿勢変換を行う姿勢変換機構と、前記ロータを収容し、当該ロータに保持された基板に所
定の液処理を施す処理チャンバと、前記ロータが前記処理チャンバに収容されるように、前
記ロータと前記姿勢変換機構をともにスライドさせる移
動機構と、前記処理チャンバ内において前記ロータを授受し、前記
ロータを前記基板が面内回転するように回転させるロー
タ授受／回転駆動機構と、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項４】前記基板搬送機構は、それぞれ１枚の基
板を搬送する複数の搬送アームを有し、前記複数の搬送
アームは前記キャリアに収容される複数枚の基板を一度
に搬送可能であることを特徴とする請求項１から請求項
３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】前記基板搬送機構は、未処理の基板を搬
送するための搬送アームと、液処理済みの基板を搬送す
るための別の搬送アームを有することを特徴とする請求
項１から請求項４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】前記基板搬送機構が、前記搬送アームの
間隔を調整する機構を有することを特徴とする請求項４
または請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】前記ロータが、前記キャリアの２個分の
基板を一度に収納可能であることを特徴とする請求項１
から請求項６のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】前記処理チャンバが、外側チャンバと内
側チャンバからなる二重構造を有することを特徴とする
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液処理装
置。