JP2001217348A - Multilayer wiring board - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 直交させた平行配線群を有する多層配線基板
において、クロストークノイズの発生しない差動回路を
構成できるペア配線を設ける。
【解決手段】 第1の平行配線群L1を有する第1の絶
縁層I1上に、第1の平行配線群L1と直交する第2の
平行配線群L2を有する第2の絶縁層I3と、第2の平
行配線群L2と直交する第3の平行配線群L3を有する
第3の絶縁層I3とを積層して貫通導体群Tで電気的に
接続して成る積層配線体を具備して成り、第1の平行配
線群L1は互いに隣接する2本の信号配線から成る信号
配線対SP1とこれに隣接する電源配線P1または接地
配線G1とを有し、第3の平行配線群L3は信号配線対
SP1に対向する2本の電源配線P3および/または接
地配線P3を有する多層配線基板である。クロストーク
ノイズの発生しないペア配線による良好な特性の差動回
路を構成できる。
(57) Abstract: A multi-layer wiring board having a group of parallel wirings arranged orthogonally is provided with a pair of wirings that can constitute a differential circuit free of crosstalk noise. SOLUTION: On a first insulating layer I1 having a first parallel wiring group L1, a second insulating layer I3 having a second parallel wiring group L2 orthogonal to the first parallel wiring group L1 is provided. A stacked wiring body formed by stacking two parallel wiring groups L2 and a third insulating layer I3 having a third parallel wiring group L3 orthogonal to each other and electrically connecting them with a through conductor group T; The first parallel wiring group L1 includes a signal wiring pair SP1 composed of two signal wirings adjacent to each other and a power supply wiring P1 or a ground wiring G1 adjacent thereto, and the third parallel wiring group L3 includes a signal wiring pair. This is a multilayer wiring board having two power supply wirings P3 and / or ground wirings P3 opposed to SP1. It is possible to configure a differential circuit having good characteristics by pair wiring that does not generate crosstalk noise.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電子回路基板等に使
用される多層配線基板に関し、より詳細には高速で作動
する半導体素子を搭載する多層配線基板における配線構
造に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board used for an electronic circuit board or the like, and more particularly to a wiring structure in a multilayer wiring board on which a semiconductor element operating at a high speed is mounted.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体集積回路素子等の半導体素
子が搭載され、電子回路基板等に使用される多層配線基
板においては、内部配線用の配線導体の形成にあたっ
て、アルミナ等のセラミックスから成る絶縁層とタング
ステン(W)等の高融点金属から成る配線導体とを交互
に積層して多層配線基板を形成していた。2. Description of the Related Art Conventionally, in a multilayer wiring board on which a semiconductor element such as a semiconductor integrated circuit element is mounted and which is used for an electronic circuit board or the like, an insulating material made of ceramics such as alumina is used for forming a wiring conductor for internal wiring. Layers and wiring conductors made of a refractory metal such as tungsten (W) are alternately stacked to form a multilayer wiring board.
【0003】従来の多層配線基板においては、内部配線
用配線導体のうち信号配線は通常はストリップ線路構造
とされており、信号配線として形成された配線導体の上
下に絶縁層を介していわゆるベタパターン形状の広面積
の接地(グランド)層または電源層が形成されていた。In a conventional multilayer wiring board, signal wirings of internal wiring wiring conductors usually have a strip line structure, and a so-called solid pattern is formed above and below wiring conductors formed as signal wirings via insulating layers. A ground (ground) layer or a power supply layer having a wide area of the shape was formed.
【0004】また、多層配線基板が取り扱う電気信号の
高速化に伴い、絶縁層を比誘電率が10程度であるアルミ
ナセラミックスに代えて比誘電率が3.5 〜5と比較的小
さいポリイミド樹脂やエポキシ樹脂を用いて形成し、こ
の絶縁層上に蒸着法やスパッタリング法等の気相成長法
による薄膜形成技術を用いて銅(Cu)から成る内部配
線用導体層を形成し、フォトリソグラフィ法により微細
なパターンの配線導体を形成して、この絶縁層と配線導
体とを多層化することにより高密度・高機能でかつ半導
体素子の高速作動が可能となる多層配線基板を得ること
も行なわれていた。Further, with the increase in the speed of electric signals handled by the multilayer wiring board, the insulating layer is replaced with alumina ceramics having a relative dielectric constant of about 10, and a polyimide resin or epoxy resin having a relatively small relative dielectric constant of 3.5 to 5 is used. A conductive layer for internal wiring made of copper (Cu) is formed on the insulating layer by using a thin film forming technique such as a vapor deposition method such as a vapor deposition method or a sputtering method. By forming a wiring conductor in a pattern and multiplying the insulating layer and the wiring conductor into layers, a multilayer wiring board having a high density, a high function and a high speed operation of a semiconductor element has been obtained.
【0005】一方、多層配線基板の内部配線の配線構造
として、配線のインピーダンスの整合によるリンギング
ノイズの低減や信号配線間のクロストークの低減等を図
り、しかも高密度配線を実現するために、各絶縁層の上
面に平行配線群を形成し、これを多層化して各層の配線
群のうち所定の配線同士をビア導体やスルーホール導体
等の貫通導体を介して電気的に接続する構造が提案され
ている。On the other hand, the wiring structure of the internal wiring of the multilayer wiring board is designed to reduce ringing noise and reduce crosstalk between signal wirings by matching the impedance of the wirings, and to realize high-density wiring. A structure has been proposed in which a group of parallel wirings is formed on the upper surface of an insulating layer, and this is multi-layered to electrically connect predetermined wirings of the wiring group of each layer via through conductors such as via conductors and through-hole conductors. ing.
【0006】このような平行配線群を有する多層配線基
板においては、この多層配線基板に搭載される半導体素
子等の電子部品とこの多層配線基板が実装される実装ボ
ードとを電気的に接続するために、多層配線基板内で各
平行配線群のうちから適当な配線を選択し、異なる配線
層間における配線同士の接続はビア導体等の貫通導体を
介して行なわれる。In a multilayer wiring board having such parallel wiring groups, an electronic component such as a semiconductor element mounted on the multilayer wiring board is electrically connected to a mounting board on which the multilayer wiring board is mounted. Then, an appropriate wiring is selected from each parallel wiring group in the multilayer wiring board, and the connection between the wirings between different wiring layers is performed via a through conductor such as a via conductor.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】平行配線群を有する多
層配線基板に搭載される半導体素子については、その低
消費電力化に伴い、動作電圧が低く設定される傾向にあ
る。そして、動作電圧が低くなると、半導体素子内の論
理回路でオン/オフ判定を行なうための基準電圧(スレ
ショルド電圧)も低くなり、電圧低下によりノイズも同
様に小さくなる。しかし、他方でスイッチング数の増加
や高速化等の電圧以外の要因によりノイズが大きくなる
傾向にあり、結果として総合的にはノイズは大きくなる
傾向にある。その結果、スレショルド電圧の低下とノイ
ズの増大とにより、多層配線基板に搭載された半導体素
子の誤動作が生じやすくなるという問題点があった。The operating voltage of a semiconductor element mounted on a multilayer wiring board having a group of parallel wirings tends to be set low with a reduction in power consumption. When the operating voltage decreases, the reference voltage (threshold voltage) for performing on / off determination in the logic circuit in the semiconductor element also decreases, and noise decreases similarly due to the voltage drop. However, on the other hand, noise tends to increase due to factors other than voltage, such as an increase in the number of switching operations and speeding up. As a result, noise tends to increase overall. As a result, there has been a problem that a malfunction of the semiconductor element mounted on the multilayer wiring board is likely to occur due to a decrease in the threshold voltage and an increase in noise.
【0008】この問題点を解決する一つの方法として、
2本の信号配線を隣接配置して信号配線対、いわゆるペ
ア配線として使用する差動回路を構成する方法がある。
これは、配線基板内で2本の信号配線を隣接させてそれ
ぞれに逆位相の信号を入力することで、それぞれの信号
配線における入力電圧を低くし、ノイズを小さく抑えつ
つ所望の出力信号を得るものである。[0008] As one method for solving this problem,
There is a method of arranging two signal lines adjacent to each other to form a differential circuit used as a signal line pair, that is, a so-called pair line.
This is because two signal wirings are arranged adjacent to each other in a wiring board, and signals having opposite phases are input to each other, thereby lowering an input voltage in each signal wiring and obtaining a desired output signal while suppressing noise. Things.
【0009】しかしながら、上記のような従来の平行配
線群を有する多層配線基板においては、その平行配線群
内にペア配線を設けた場合、このペア配線同士が隣接す
るようになるとペア配線同士でクロストークノイズが発
生することがあり、そうなると直交させて積層した平行
配線群同士でのクロストークノイズの発生が抑えられる
という特長が活かせなくなってしまうという問題点があ
った。However, in the conventional multilayer wiring board having a parallel wiring group as described above, when a pair wiring is provided in the parallel wiring group, if the pair wirings are adjacent to each other, the crossing between the pair wirings is performed. Talk noise may be generated, and in that case, there is a problem that the feature of suppressing the generation of crosstalk noise between the parallel wiring groups stacked perpendicularly to each other cannot be utilized.
【0010】本発明は上記問題点に鑑み案出されたもの
であり、その目的は、直交させて積層した平行配線群で
構成され、同一層内および上下層間における配線間のク
ロストークノイズを低減させることができる配線構造を
有しつつクロストークノイズ・リンギングノイズ・EM
Iノイズ等の発生を抑えた信号配線対を設け、配線間の
クロストークノイズを低減させることができる配線構造
を有しつつクロストークノイズの発生を抑えた信号配線
対を設け、それにより多層配線基板の特長を持ちながら
差動回路を実現することができる、高速で作動する半導
体素子等の電子部品を搭載する電子回路基板や半導体素
子収納用パッケージ・マルチチップパッケージ等に好適
な多層配線基板を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce crosstalk noise between wirings in the same layer and between upper and lower layers by forming parallel wiring groups stacked at right angles. Crosstalk noise, ringing noise, EM while having a wiring structure that can
A signal wiring pair that suppresses the occurrence of I noise and the like is provided, and a signal wiring pair that suppresses the occurrence of crosstalk noise is provided while having a wiring structure capable of reducing crosstalk noise between wirings, thereby providing a multilayer wiring. Multi-layer wiring boards suitable for electronic circuit boards, semiconductor element storage packages, multi-chip packages, etc., which can realize differential circuits while having the features of the board, and which mount electronic components such as semiconductor elements operating at high speed. To provide.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の多層配線基板
は、信号配線を含む第1の平行配線群を有する第1の絶
縁層上に、信号配線を含み前記第1の平行配線群と直交
する第2の平行配線群を有する第2の絶縁層と、信号配
線を含み前記第2の平行配線群と直交する第3の平行配
線群を有する第3の絶縁層とを積層し、前記第1乃至第
3の少なくとも2つの平行配線群を貫通導体群で電気的
に接続して成る積層配線体を具備して成り、前記第1の
平行配線群は互いに隣接する2本の前記信号配線から成
る信号配線対と該信号配線対に隣接する電源配線または
接地配線とを有するとともに、前記第3の平行配線群は
互いに隣接しかつ前記信号配線対に対向する2本の電源
配線および/または接地配線を有することを特徴とする
ものである。According to the present invention, there is provided a multilayer wiring board including a signal wiring and a first parallel wiring group including a signal wiring, and including a signal wiring and being orthogonal to the first parallel wiring group. A second insulating layer having a second group of parallel wirings, and a third insulating layer having a third group of parallel wirings including signal wiring and orthogonal to the second group of parallel wirings, A stacked wiring body formed by electrically connecting at least two first to third parallel wiring groups with a through conductor group, wherein the first parallel wiring group is formed by two signal wirings adjacent to each other; Signal wiring pair and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to the signal wiring pair, and the third parallel wiring group is adjacent to each other and two power supply wirings and / or grounds facing the signal wiring pair. It is characterized by having wiring.
【0012】また、本発明の多層配線基板は、上記構成
において、前記第1乃至第3の平行配線群は、それぞれ
前記信号配線対以外の信号配線と、各信号配線に隣接す
る電源配線または接地配線とを有することを特徴とする
ものである。In the multi-layer wiring board according to the present invention, the first to third parallel wiring groups each include a signal wiring other than the signal wiring pair and a power supply wiring or a ground adjacent to each signal wiring. And a wiring.
【0013】本発明の多層回路基板によれば、平行配線
群同士を互いに直交配置して貫通導体群で接続して成る
積層配線体において、第1の平行配線群を互いに隣接す
る2本の信号配線から成る信号配線対と、この信号配線
対に隣接する電源配線または接地配線とを有するものと
するとともに、第3の平行配線群を互いに隣接しかつ第
1の平行配線群の信号配線対と対向する2本の電源配線
および/または接地配線を有するものとしたことから、
積層された平行配線群同士での信号配線対間のクロスト
ークノイズとともに、同じ平行配線群内での信号配線対
間のクロストークノイズも大幅に低減させることがで
き、さらに信号配線対と対向することとなる平行配線を
電源配線および/または接地配線としたことから、対向
する平行配線同士でのクロストークノイズも大幅に低減
させることができるので、多層の積層配線体における特
長を活かしつつ良好な特性の差動回路を構成することが
できる。According to the multilayer circuit board of the present invention, in a laminated wiring body in which parallel wiring groups are arranged at right angles to each other and connected by through conductor groups, the first parallel wiring group is connected to two adjacent signal lines. A signal wiring pair comprising a wiring and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to the signal wiring pair, and the third parallel wiring group is connected to the signal wiring pair of the first parallel wiring group adjacent to each other. Having two opposing power supply wirings and / or ground wirings,
Along with the crosstalk noise between the signal wiring pairs in the stacked parallel wiring groups, the crosstalk noise between the signal wiring pairs in the same parallel wiring group can be significantly reduced, and furthermore, the signal lines oppose the signal wiring pairs. Since the different parallel wirings are power wirings and / or ground wirings, crosstalk noise between the parallel wirings facing each other can be greatly reduced, so that it is possible to make good use of the features of the multilayer wiring structure. A differential circuit having characteristics can be configured.
【0014】また、信号配線対以外の信号配線に対して
も、それぞれに電源配線または接地配線を隣接させて配
置することにより、それら信号配線についても同じ平行
配線群内でのクロストークノイズの発生を大幅に低減さ
せることができる。Further, by arranging a power supply wiring or a ground wiring adjacent to each of the signal wirings other than the signal wiring pair, the generation of crosstalk noise in the same parallel wiring group is also performed for the signal wirings. Can be greatly reduced.
【0015】これにより、本発明の多層配線基板によれ
ば、平行配線群同士を直交配置して成る多層配線基板に
おいてその優れた電気的特性を劣化させることなくクロ
ストークノイズの発生を抑えた信号配線対を設けること
ができ、それにより良好な特性の差動回路を実現するこ
とができる、高速で作動する半導体素子等の電子部品を
搭載する電子回路基板や各種パッケージ等に好適な多層
配線基板となる。Thus, according to the multilayer wiring board of the present invention, in a multilayer wiring board in which parallel wiring groups are orthogonally arranged, a signal in which the generation of crosstalk noise is suppressed without deteriorating its excellent electrical characteristics. A multilayer wiring board suitable for an electronic circuit board on which electronic components such as a semiconductor element operating at a high speed are mounted, and various packages, etc., which can provide a wiring pair and thereby realize a differential circuit having good characteristics. Becomes
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の多層配線基板につ
いて添付図面に示す実施例に基づき詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a multilayer wiring board according to the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the accompanying drawings.
【0017】図1は本発明の多層配線基板に係る積層配
線体の実施の形態の一例を示す分解平面図であり、同図
(a)は第1の絶縁層の、(b)は第2の絶縁層の、
(c)は第3の絶縁層の平面図をそれぞれ示している。
また、図2はこれらを積層して成る積層配線体から成る
本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示す透視平
面図であり、図3はそのA−B線断面図である。FIG. 1 is an exploded plan view showing an example of an embodiment of a laminated wiring body according to the multilayer wiring board of the present invention, wherein FIG. 1A shows a first insulating layer, and FIG. Of the insulating layer,
(C) has shown the top view of the 3rd insulating layer, respectively.
FIG. 2 is a perspective plan view showing an example of an embodiment of the multilayer wiring board of the present invention comprising a laminated wiring body obtained by laminating them, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AB.
【0018】これらの図において、I1〜I4はそれぞ
れ第1〜第4の絶縁層であり、L1〜L3はそれぞれ第
1〜第3の絶縁層I1〜I3の上面に略平行に配設され
た第1〜第3の平行配線群、S1〜S3はそれぞれ第1
〜第3の平行配線群L1〜L3中の信号配線、SP1は
互いに隣接する2本の信号配線S1から成る第1の平行
配線群L1中の信号配線対、G1〜G3はそれぞれ第1
〜第3の平行配線群L1〜L3中の接地配線、P1〜P
3はそれぞれ第1〜第3の平行配線群L1〜L3中の電
源配線、Tは第1〜第3の平行配線群L1〜L3の少な
くとも2つの平行配線群を所定の箇所で電気的に接続す
る貫通導体群である。これらにより本発明の多層配線基
板に係る積層配線体が構成されている。In these figures, I1 to I4 denote first to fourth insulating layers, respectively, and L1 to L3 are disposed substantially parallel to the upper surfaces of the first to third insulating layers I1 to I3, respectively. The first to third parallel wiring groups, S1 to S3, are respectively the first parallel wiring groups.
To the signal wirings in the third parallel wiring group L1 to L3, SP1 is the signal wiring pair in the first parallel wiring group L1 composed of two signal wirings S1 adjacent to each other, and G1 to G3 are the first.
To ground wirings in the third parallel wiring groups L1 to L3, P1 to P
Reference numeral 3 denotes a power supply wiring in each of the first to third parallel wiring groups L1 to L3, and T denotes an electrical connection of at least two parallel wiring groups of the first to third parallel wiring groups L1 to L3 at a predetermined location. This is a through conductor group. These constitute a multilayer wiring body according to the multilayer wiring board of the present invention.
【0019】なお、同じ平面に配設された複数の信号配
線S1〜S3はそれぞれ異なる信号を伝送するものとし
てもよく、同じ平面に配設された複数の電源配線P1〜
P3はそれぞれ異なる電源を供給するものとしてもよ
い。また、信号配線対SP1は2本の信号配線によって
差動回路を構成するようにすることが好ましいが、2本
の信号配線で同じ信号を伝送するようにしてもよい。ま
た、信号配線対SP1は複数設けてもよく、第2および
第3の平行配線群L2・L3中にも同様の信号配線対を
設けてもよい。The plurality of signal wirings S1 to S3 arranged on the same plane may transmit different signals, respectively, and the plurality of power supply wirings P1 to P3 arranged on the same plane may be used.
P3 may supply different powers. Further, it is preferable that the signal wiring pair SP1 forms a differential circuit by two signal wirings, but the same signal may be transmitted by two signal wirings. Further, a plurality of signal wiring pairs SP1 may be provided, and similar signal wiring pairs may be provided in the second and third parallel wiring groups L2 and L3.
【0020】このような本発明の多層配線基板には、例
えばその表面にMPU(Micro Processing Unit)・A
SIC(Application Specific Integrated Circuit)
・DSP(Digital Signal Processor)のような半導体
素子等の電子部品が搭載される。そして、半導体素子収
納用パッケージ等の電子部品収納用パッケージや電子部
品搭載用基板、多数の半導体集積回路素子が搭載される
いわゆるマルチチップモジュールやマルチチップパッケ
ージ、あるいはマザーボード等として使用される。これ
らの電子部品は、例えばいわゆるバンプ電極によりこの
多層配線基板の表面に実装されて、あるいは接着剤・ろ
う材等により搭載部に取着されるとともにボンディング
ワイヤ等を介して、貫通導体等により例えば第2の平行
配線群L2と電気的に接続される。なお、外部電気回路
との接続部ならびに搭載される半導体素子等の電子部品
との接続部は図示していない。In such a multilayer wiring board of the present invention, for example, an MPU (Micro Processing Unit) · A
SIC (Application Specific Integrated Circuit)
An electronic component such as a semiconductor device such as a DSP (Digital Signal Processor) is mounted. It is used as a package for storing electronic components such as a package for storing semiconductor devices, a substrate for mounting electronic components, a so-called multi-chip module or multi-chip package on which a large number of semiconductor integrated circuit devices are mounted, or a motherboard. These electronic components are mounted on the surface of the multilayer wiring board by, for example, so-called bump electrodes, or are attached to the mounting portion by an adhesive, a brazing material, or the like, and are connected to the mounting portion via a bonding wire or the like. It is electrically connected to the second parallel wiring group L2. A connection portion with an external electric circuit and a connection portion with an electronic component such as a semiconductor element to be mounted are not shown.
【0021】貫通導体群Tは、ここでは絶縁層I2およ
び/または絶縁層I3を貫通して上下の配線同士を、あ
るいは配線と半導体素子または多層配線基板の表面に形
成される外部接続端子等とを電気的に接続するものであ
り、通常はスルーホール導体やビア導体等が用いられ、
接続に必要な箇所に形成される。The through conductor group T here penetrates the insulating layer I2 and / or the insulating layer I3, and connects the upper and lower wirings, or the wiring and external connection terminals formed on the surface of the semiconductor element or the multilayer wiring board. Are electrically connected, usually through-hole conductors and via conductors are used,
It is formed where necessary for connection.
【0022】本発明の多層配線基板の積層配線体におい
ては、信号配線S1および信号配線対SP1を有する第
1の平行配線群L1は第1の方向に略平行に配線され、
この上に積層される同じく信号配線S2および信号配線
対を有する第2の平行配線群L2は第1の方向と直交す
る第2の方向に略平行に配設されており、さらにこの上
に積層される同じく信号配線S3および信号配線対を有
する第3の平行配線群L3は第2の方向と直交する方
向、すなわち第1の方向に略平行に配設されており、こ
れらの各配線が第2の絶縁層I2および/または第3の
絶縁層I3を貫通する貫通導体群Tで電気的に接続され
て、積層配線体を構成している。In the multilayer wiring body of the multilayer wiring board of the present invention, the first parallel wiring group L1 having the signal wiring S1 and the signal wiring pair SP1 is wired substantially parallel to the first direction.
A second parallel wiring group L2 having the same signal wiring S2 and signal wiring pair stacked thereon is disposed substantially parallel to a second direction orthogonal to the first direction, and further stacked thereon. Similarly, a third parallel wiring group L3 having a signal wiring S3 and a signal wiring pair is disposed in a direction orthogonal to the second direction, that is, substantially parallel to the first direction. It is electrically connected by a through conductor group T penetrating the second insulating layer I2 and / or the third insulating layer I3 to form a laminated wiring body.
【0023】このような積層配線体によれば、第1の平
行配線群L1と第2の平行配線群L2とが、および第2
の平行配線群L2と第3の平行配線群L3とがそれぞれ
直交するように積層されていることから、それら平行配
線群L1・L2の配線間および平行配線群L2・L3の
配線間における電磁界の結合が殆どなく、クロストーク
ノイズを最小とすることができる。According to such a laminated wiring body, the first parallel wiring group L1 and the second parallel wiring group L2 and the second parallel wiring group L2
And the third parallel wiring group L3 are stacked so as to be orthogonal to each other, so that the electromagnetic field between the wirings of the parallel wiring groups L1 and L2 and between the wirings of the parallel wiring groups L2 and L3 is formed. And the crosstalk noise can be minimized.
【0024】そして、本発明の多層配線基板において
は、第1の平行配線群L1に互いに隣接する2本の信号
配線S1から成る信号配線対SP1を設けるとともに、
これに隣接させて電源配線P1または接地配線G1を配
設し、さらに、第3の平行配線群L3において、互いに
隣接しかつ信号配線対SP1に対向する配線として、2
本の電源配線および/または接地配線を配設している。
これにより、信号配線SP1〜SP3間の電磁界の拡散
を抑え、複数の信号配線対SP1を設けた場合であって
も、同じ平行配線群L1内でのこれら信号配線対SP1
間のクロストークノイズの発生を大幅に低減させること
ができ、この信号配線対SP1に対向する配線となる第
3の平行配線群L3との間でのクロストークノイズの発
生も電源配線P3または接地配線G3と対向することと
なって大幅に低減させることができる、良好な特性の差
動回路を構成することができるものとなる。In the multilayer wiring board of the present invention, the first parallel wiring group L1 is provided with a signal wiring pair SP1 composed of two signal wirings S1 adjacent to each other.
A power supply wiring P1 or a ground wiring G1 is provided adjacent to this, and further, in the third parallel wiring group L3, two wirings adjacent to each other and facing the signal wiring pair SP1 are provided.
A power supply wiring and / or a ground wiring are provided.
Thereby, the diffusion of the electromagnetic field between the signal lines SP1 to SP3 is suppressed, and even when a plurality of signal line pairs SP1 are provided, these signal line pairs SP1 in the same parallel line group L1 are provided.
The occurrence of crosstalk noise can be greatly reduced, and the occurrence of crosstalk noise with the third parallel wiring group L3 which is a wiring facing the signal wiring pair SP1 is also reduced by the power supply wiring P3 or the ground. By facing the wiring G3, a differential circuit having excellent characteristics, which can be greatly reduced, can be formed.
【0025】なお、このような信号配線対SP1の2本
の信号配線S1の間隔やそれらの幅・厚み等は、平行配
線群L1の他の配線の構成を基本としながら、差動回路
等に必要な特性や仕様に応じて適宜設定すればよい。The distance between the two signal lines S1 of the signal line pair SP1 and the width and thickness of the signal lines S1 are based on the configuration of the other lines of the parallel line group L1 and are different from those of the differential circuit. What is necessary is just to set suitably according to required characteristics and specifications.
【0026】また、図1および図2に示す例では、積層
配線体を構成する第1〜第3の平行配線群L1〜L3
は、信号配線対SP1以外の信号配線S1やS2・S3
に対しても電源配線P1〜P3または接地配線G1〜G
3をそれぞれ隣接するように配設している。これによ
り、同じ絶縁層I1〜I3上の信号配線S1〜S3間ま
たは信号配線対SP1との間を電磁的に遮断して、同じ
平面上の左右の配線間のクロストークノイズを大幅に低
減することができる。In the example shown in FIGS. 1 and 2, the first to third parallel wiring groups L1 to L3 constituting the laminated wiring body are shown.
Are the signal lines S1 and S2 and S3 other than the signal line pair SP1.
Power supply lines P1 to P3 or ground lines G1 to G
3 are arranged adjacent to each other. Thus, the signal wirings S1 to S3 on the same insulating layers I1 to I3 or the signal wiring pair SP1 are electromagnetically cut off, and crosstalk noise between the left and right wirings on the same plane is greatly reduced. be able to.
【0027】さらに、信号配線S1〜S3ならびに信号
配線対SP1に必ず電源配線P1〜P3または接地配線
G1〜G3を隣接させることで、同じ平面上の電源配線
P1〜P3または接地配線G1〜G3と信号配線S1〜
S3ならびに信号配線対SP1との相互結合が最大とな
り、信号配線対SP1〜SP3および信号配線S1〜S
3の電流経路を最短にできる。このため、信号配線対S
P1〜SP3および信号配線S1〜S3から電源配線P
1〜P3および接地配線G1〜G3へのインダクタンス
値を減少させることができ、デバイスのスイッチング時
の電源ノイズおよび接地ノイズを効果的に低減すること
ができる。Further, the power supply wirings P1 to P3 or the ground wirings G1 to G3 are always adjacent to the signal wirings S1 to S3 and the signal wiring pair SP1, so that the power supply wirings P1 to P3 or the ground wirings G1 to G3 on the same plane can be connected. Signal wiring S1
The mutual coupling between S3 and the signal wiring pair SP1 is maximized, and the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S
3 can be minimized. Therefore, the signal wiring pair S
P1 to SP3 and signal wirings S1 to S3 to power supply wiring P
It is possible to reduce inductance values to 1 to P3 and the ground wirings G1 to G3, and it is possible to effectively reduce power supply noise and ground noise at the time of device switching.
【0028】なお、このことは、第2および第3の平行
配線群L2・L3に同様の信号配線対を配設した場合に
ついても同様に適用することができる。また、第1の平
行配線群L1の下方または第3の平行配線群L3の上方
の配線層として同様に直交する平行配線群を用いて多層
化した場合には、これらの配線層についても同様に適用
することができる。This can be similarly applied to a case where a similar signal wiring pair is provided in the second and third parallel wiring groups L2 and L3. Further, in the case where a multilayer structure is formed by using parallel wiring groups that are similarly orthogonal as wiring layers below the first parallel wiring group L1 or above the third parallel wiring group L3, these wiring layers are similarly formed. Can be applied.
【0029】また、本発明の多層配線基板においては、
積層配線体の上下には種々の配線構造の多層配線部を積
層して多層配線基板を構成することができる。例えば、
積層配線体と同様に平行配線群を直交させて積層した構
成の配線構造、あるいはストリップ線路構造の配線構
造、その他、マイクロストリップ線路構造・コプレーナ
線路構造等を多層配線基板に要求される仕様等に応じて
適宜選択して用いることができる。In the multilayer wiring board of the present invention,
A multilayer wiring board can be formed by stacking multilayer wiring portions having various wiring structures above and below the multilayer wiring body. For example,
Similar to the multilayer wiring body, the wiring structure of the parallel wiring group stacked orthogonally, the wiring structure of the strip line structure, and the microstrip line structure, the coplanar line structure, etc., to the specifications required for the multilayer wiring board It can be appropriately selected and used depending on the situation.
【0030】また、例えば、ポリイミド絶縁層と銅蒸着
による導体層といったものを積層して、電子回路を構成
してもよい。また、チップ抵抗・薄膜抵抗・コイルイン
ダクタ・クロスコンデンサ・チップコンデンサ・電解コ
ンデンサといったものを取着して半導体素子収納用パッ
ケージを構成してもよい。Further, for example, an electronic circuit may be formed by laminating a polyimide insulating layer and a conductor layer formed by copper deposition. Further, a package for semiconductor element accommodation may be configured by attaching a chip resistor, a thin film resistor, a coil inductor, a cross capacitor, a chip capacitor, and an electrolytic capacitor.
【0031】また、第1〜第3の絶縁層I1〜I3を始
めとする各絶縁層の形状は、図示したような略正方形状
のものに限られるものではなく、長方形状や菱形状・多
角形状等の形状であってもよい。The shape of each insulating layer including the first to third insulating layers I1 to I3 is not limited to a substantially square shape as shown in the figure, but may be a rectangular shape, a rhombic shape, a polygonal shape, or the like. It may be a shape such as a shape.
【0032】なお、第1〜第3の平行配線群L1〜L3
は、第1〜第3の絶縁層I1〜I3の表面に形成するも
のに限られず、それぞれの絶縁層I1〜I3の内部に形
成したものであってもよい。The first to third parallel wiring groups L1 to L3
Is not limited to those formed on the surfaces of the first to third insulating layers I1 to I3, and may be formed inside the respective insulating layers I1 to I3.
【0033】また、図3に示す例に対して、第3の平行
配線群L3を第3の絶縁層I3の内部に形成した場合に
は、第3の平行配線群L3は表面に露出しないため、第
4の絶縁層I4は必ずしも必要ではない。When the third parallel wiring group L3 is formed inside the third insulating layer I3 in the example shown in FIG. 3, the third parallel wiring group L3 is not exposed on the surface. , The fourth insulating layer I4 is not always necessary.
【0034】本発明の多層配線基板において、第1〜第
3の絶縁層I1〜I3を始めとする各絶縁層は、例えば
セラミックグリーンシート積層法によって、酸化アルミ
ニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・炭化珪素
質焼結体・窒化珪素質焼結体・ムライト質焼結体・ガラ
スセラミックス等の無機絶縁材料を使用して、あるいは
ポリイミド・エポキシ樹脂・フッ素樹脂・ポリノルボル
ネン・ベンゾシクロブテン等の有機絶縁材料を使用し
て、あるいはセラミックス粉末等の無機絶縁物粉末をエ
ポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂で結合して成る複合絶縁
材料等の電気絶縁材料を使用して形成される。In the multilayer wiring board of the present invention, each of the insulating layers including the first to third insulating layers I1 to I3 is formed by, for example, a ceramic green sheet laminating method using an aluminum oxide sintered body or an aluminum nitride sintered body. Using inorganic insulating materials such as sintered body, silicon carbide sintered body, silicon nitride sintered body, mullite sintered body, glass ceramics, or polyimide, epoxy resin, fluorine resin, polynorbornene, benzocyclobutene Or an electrically insulating material such as a composite insulating material formed by bonding an inorganic insulating powder such as a ceramic powder with a thermosetting resin such as an epoxy resin.
【0035】これら絶縁層は、それぞれの絶縁層の特性
に応じて、グリーンシート積層法やビルドアップ法等の
方法により所望の多層配線基板を構成するように形成す
ればよい。これら絶縁層の厚みとしては、使用する材料
の特性に応じて、また要求される仕様に対応する機械的
強度や電気的特性・貫通導体群の形成の容易さ等の条件
を満たすように適宜設定される。These insulating layers may be formed so as to form a desired multilayer wiring board by a method such as a green sheet laminating method or a build-up method according to the characteristics of each insulating layer. The thickness of these insulating layers is appropriately set according to the characteristics of the material used, and to satisfy conditions such as mechanical strength and electrical characteristics corresponding to required specifications and ease of forming a through conductor group. Is done.
【0036】第1〜第3の平行配線群L1〜L3やその
他の配線層ならびに貫通導体群T等は、例えばタングス
テンやモリブデン・モリブデン−マンガン・銅・銀・銀
−パラジウム等の金属粉末メタライズ、あるいは銅・銀
・ニッケル・クロム・チタン・金・ニオブやそれらの合
金等の金属材料の薄膜等から成る。The first to third parallel wiring groups L1 to L3 and other wiring layers and the through conductor group T are made of metal powder metallized metal such as tungsten, molybdenum, molybdenum-manganese, copper, silver, silver-palladium, etc. Alternatively, it is formed of a thin film of a metal material such as copper, silver, nickel, chromium, titanium, gold, niobium, or an alloy thereof.
【0037】これら配線導体および貫通導体は、それぞ
れの材料の特性や絶縁層への形成方法に従って、例えば
厚膜印刷法により、あるいはスパッタリング法・真空蒸
着法またはメッキ法により金属層を形成した後フォトリ
ソグラフィ法により、所定のパターン形状・大きさに設
定されて形成され、各絶縁層に配設される。These wiring conductors and through conductors are formed by forming a metal layer by, for example, a thick film printing method, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or a plating method according to the characteristics of each material and the method of forming the insulating layer. It is formed in a predetermined pattern shape and size by a lithography method, and is provided on each insulating layer.
【0038】第1〜第3の平行配線群L1〜L3の各配
線の幅および配線間の間隔は、使用する材料の特性に応
じて、要求される仕様に対応する電気的特性や絶縁層I
1〜I3への配設の容易さ等の条件を満たすように適宜
設定される。The width of each of the first to third parallel wiring groups L1 to L3 and the distance between the wirings are determined according to the characteristics of the material to be used.
It is set appropriately so as to satisfy conditions such as easiness of disposition in 1 to I3.
【0039】なお、各平行配線群L1〜L3の厚みは1
〜20μm程度とすることが好ましい。この厚みが1μm
未満となると配線の抵抗が大きくなるため、配線群によ
る半導体素子への良好な電源供給や安定したグランドの
確保・良好な信号の伝搬が困難となる傾向が見られる。
他方、20μmを超えるとその上に積層される絶縁層によ
る被覆が不十分となって絶縁不良となる場合がある。The thickness of each of the parallel wiring groups L1 to L3 is 1
It is preferably about 20 μm. This thickness is 1 μm
When the value is less than the above, the resistance of the wiring increases, and it tends to be difficult to provide a good power supply to the semiconductor element by the wiring group, secure a stable ground, and propagate a good signal.
On the other hand, if it exceeds 20 μm, the insulation layer laminated thereon may be insufficiently covered, resulting in poor insulation.
【0040】貫通導体群Tの各貫通導体は、横断面形状
が円形のものの他にも楕円形や正方形・長方形等の矩
形、その他の異形状のものを用いてもよい。その位置や
大きさは、使用する材料の特性に応じて、要求される仕
様に対応する電気的特性や絶縁層への形成・配設の容易
さ等の条件を満たすように適宜設定される。Each of the through conductors of the through conductor group T may have a cross section of a circle, an ellipse, a rectangle such as a square or a rectangle, or any other shape. The position and size are appropriately set according to the characteristics of the material to be used, so as to satisfy conditions such as electrical characteristics corresponding to required specifications and easiness of formation and arrangement on the insulating layer.
【0041】例えば、絶縁層にガラスセラミックスを用
い、平行配線群に銅(Cu)を主成分とする導体材料を
用いた場合であれば、絶縁層の厚みを100μmとし、配
線の線幅を100μm、配線間の間隔を100μm、貫通導体
の径を100μmとすることによって、信号配線のインピ
ーダンスを50Ωとし、上下の平行配線群間を高周波信号
の反射を抑えた接続をすることができる。For example, when glass ceramics is used for the insulating layer and a conductor material mainly containing copper (Cu) is used for the parallel wiring group, the thickness of the insulating layer is set to 100 μm, and the line width of the wiring is set to 100 μm. By setting the distance between the wirings to 100 μm and the diameter of the through conductor to 100 μm, the impedance of the signal wiring is set to 50Ω, and the connection between the upper and lower parallel wiring groups can be suppressed while suppressing the reflection of high-frequency signals.
【0042】次に、本発明の多層配線基板の実施の形態
の他の例を図4〜図9に示す。図4〜図9はそれぞれ本
発明の多層配線基板の実施の形態の他の例における各絶
縁層毎の平面図であり、図4は上面に集積回路素子が搭
載される第1層目の絶縁層の上面図、図5はその下の第
2層目の絶縁層の上面図、図6は第3層目の絶縁層の上
面図、図7は第4層目の絶縁層の上面図、図8は第5層
目の絶縁層の上面図、図9は第5層目の絶縁層の下面図
を示している。Next, another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention is shown in FIGS. 4 to 9 are plan views of respective insulating layers in another example of the embodiment of the multilayer wiring board according to the present invention. FIG. 4 shows a first-layer insulating layer on which an integrated circuit element is mounted. FIG. 5 is a top view of a second insulating layer thereunder, FIG. 6 is a top view of a third insulating layer, FIG. 7 is a top view of a fourth insulating layer, FIG. 8 is a top view of the fifth insulating layer, and FIG. 9 is a bottom view of the fifth insulating layer.
【0043】これらの図において、I11〜I15はそれぞ
れ第1層目〜第5層目の絶縁層であり、この例では、第
1層目の絶縁層I11は多層配線基板の最上層となり、第
5層目の絶縁層I15は最下層となっている。また、Mは
第1層目の絶縁層I11の上面、すなわちこの多層配線基
板の上面側の表面の中央部に設けられた集積回路素子等
の半導体素子の搭載領域である。In these figures, I11 to I15 are first to fifth insulating layers, respectively. In this example, the first insulating layer I11 is the uppermost layer of the multilayer wiring board. The fifth insulating layer I15 is the lowermost layer. M is an upper surface of the first insulating layer I11, that is, a mounting area for a semiconductor element such as an integrated circuit element provided at the center of the upper surface of the multilayer wiring board.
【0044】C1は搭載領域Mの下部で第3層目の絶縁
層I13の上面に配設されたストリップ線路部の第1の線
路導体であり、この例では、第2層目の絶縁層I12の表
面に形成された接地導体層GLと、第4層目の絶縁層I
14の表面に形成された電源導体層PLとによりストリッ
プ線路部が形成されている。また、C2は同じく第5層
目の絶縁層I15の上面に配設されたストリップ線路部の
第2の線路導体である。そして、複数の線路導体C1・
C2はそれぞれ接続用の貫通導体群TCを介して多層配
線基板表面の搭載領域Mに導出され、搭載される半導体
素子の各端子電極に電気的に接続される。なお、図4〜
図9中において、接続用の貫通導体群TCを始めとする
各貫通導体はいずれも丸印で示している。C1 is the first line conductor of the strip line portion disposed below the mounting area M and on the upper surface of the third insulating layer I13. In this example, C2 is the second insulating layer I12. Grounding conductor layer GL formed on the surface of
A strip line portion is formed by the power supply conductor layer PL formed on the surface of the substrate 14. C2 is a second line conductor of the strip line portion similarly disposed on the upper surface of the fifth insulating layer I15. And a plurality of line conductors C1.
C2 is led out to the mounting area M on the surface of the multilayer wiring board via the through conductor group TC for connection, and is electrically connected to each terminal electrode of the mounted semiconductor element. In addition, FIG.
In FIG. 9, each through conductor including the through conductor group TC for connection is indicated by a circle.
【0045】GLは第2の絶縁層I12の表面に形成され
た接地導体層である。この接地導体層GLは、半導体素
子を第1の平行配線群L1に第1の線路導体C1を介し
て、また第3の平行配線群L3に第2の線路導体C2を
介して、効率よく電気的に接続するための再配列を可能
にするとともに、搭載されるデバイスの周波数に応じた
接地導体層の面積を最適化し、デバイスへの電位の供給
を安定化させることにより電磁ノイズに対するシールド
効果を有するものである。この接地導体層GLは、多層
配線基板において第2層目の導体層I12の上面に、下方
に形成される各線路導体C1・C2および各平行配線群
L1〜L3の仕様に応じて適宜形成される。このような
接地導体層GLを形成することにより、半導体素子と第
1の平行配線群L1との間で接地配線を効率的に接続で
きるように再配列させることができ、また電磁ノイズに
対して良好なシールド効果を有する多層配線基板を得る
ことができる。GL is a ground conductor layer formed on the surface of the second insulating layer I12. The ground conductor layer GL efficiently connects the semiconductor element to the first parallel wiring group L1 via the first line conductor C1 and to the third parallel wiring group L3 via the second line conductor C2. Shielding effect against electromagnetic noise by optimizing the area of the ground conductor layer according to the frequency of the mounted device and stabilizing the supply of potential to the device Have The ground conductor layer GL is appropriately formed on the upper surface of the second conductor layer I12 in the multilayer wiring board according to the specifications of the line conductors C1 and C2 and the parallel wiring groups L1 to L3 formed below. You. By forming such a ground conductor layer GL, the ground wiring can be rearranged so that the ground wiring can be efficiently connected between the semiconductor element and the first parallel wiring group L1. A multilayer wiring board having a good shielding effect can be obtained.
【0046】また、PLは第4層目の絶縁層I14の表面
に形成された電源導体層である。この電源導体層PL
は、接地導体層GLと同様に、電源配線を半導体素子か
ら第1および第3の平行配線群L1・L3に効率よく電
気的に接続するための再配列を可能とするものである。
この電源配線層PLは、接地導体層GLと同様に、多層
配線基板の仕様に応じて適宜形成されるものであり、こ
のような電源導体層PLを形成することにより、半導体
素子と第1の平行配線群L1との間で電源配線を効率的
に接続できるように再配列させることができる。PL is a power supply conductor layer formed on the surface of the fourth insulating layer I14. This power supply conductor layer PL
As in the case of the ground conductor layer GL, the rearrangement for efficiently electrically connecting the power supply wiring from the semiconductor element to the first and third parallel wiring groups L1 and L3 is enabled.
Like the ground conductor layer GL, the power supply wiring layer PL is appropriately formed according to the specifications of the multilayer wiring board. By forming such a power supply conductor layer PL, the semiconductor element and the first The power supply wiring can be rearranged so as to be efficiently connected to the parallel wiring group L1.
【0047】これら接地導体層GLおよび電源導体層P
Lは、必要に応じて格子状としてもよく、また電源と接
地とを入れ替えて用いてもよいものである。これら各層
を接地または電源のいずれに設定するかは多層配線基板
の仕様に応じて適宜選択すればよい。The ground conductor layer GL and the power supply conductor layer P
L may be in the form of a lattice if necessary, or may be used by exchanging the power supply and the ground. Whether each of these layers is set to the ground or the power supply may be appropriately selected according to the specifications of the multilayer wiring board.
【0048】なお、接続用の貫通導体群TCはこの接地
導体層GLとは電気的に絶縁されてこれらの層を貫通し
ている。The through conductor group TC for connection penetrates through these layers while being electrically insulated from the ground conductor layer GL.
【0049】次に、L1〜L3はそれぞれ第3〜第5の
絶縁層I13〜I15の上面に形成された第1〜第3の平行
配線群である。また、P1〜P3はそれぞれ第1〜第3
の平行配線群L1〜L3中の電源配線、G1〜G3はそ
れぞれ第1〜第3の平行配線群L1〜L3中の接地配
線、S1〜S3はそれぞれ第1〜第3の平行配線群L1
〜L3中の信号配線、SP1〜SP3はそれぞれ第1〜
第3の平行配線群L1〜L3中の2本の信号配線を隣接
させて成る信号配線対を示している。Next, L1 to L3 are first to third parallel wiring groups formed on the upper surfaces of the third to fifth insulating layers I13 to I15, respectively. P1 to P3 are the first to third, respectively.
, Power supply wirings in the parallel wiring groups L1 to L3, G1 to G3 are ground wirings in the first to third parallel wiring groups L1 to L3, respectively, and S1 to S3 are first to third parallel wiring groups L1 respectively.
Signal wirings SP1 to SP3 are first to first, respectively.
FIG. 5 shows a signal wiring pair in which two signal wirings in a third parallel wiring group L1 to L3 are adjacent to each other.
【0050】なお、同じ平面に配設された複数の信号配
線S1〜S3はそれぞれ異なる信号を伝送するものとし
てもよく、同じ平面に配設された複数の電源配線P1〜
P3はそれぞれ異なる電源を供給するものとしてもよ
い。また、信号配線対SP1〜SP3は差動回路を構成
する信号配線としてもよく、同じ信号を伝送する信号配
線としてもよい。The plurality of signal wirings S1 to S3 arranged on the same plane may transmit different signals, respectively, and the plurality of power supply wirings P1 to P3 arranged on the same plane may be used.
P3 may supply different powers. Further, the signal line pairs SP1 to SP3 may be signal lines constituting a differential circuit, or may be signal lines transmitting the same signal.
【0051】また、外部電気回路との接続は、第3の平
行配線群L3乃至第1の平行配線群L1の各配線から外
部接続用の貫通導体群TCLを介してそれぞれ電気的に
接続された、第5層目の絶縁層I15の下面に配設された
接続ランドCLに、それぞれ半田バンプ等の接続導体を
取着し、これらを外部電気回路の接続電極に電気的に接
続することによって行なわれる。なお、これら多数の接
続ランドCLのうちCLPは電源配線P1〜P3が接続
された電源用接続ランドを、CLGは接地配線G1〜G
3が接続された接地用接続ランドを、CLSは信号配線
S1〜S3が接続された信号用接続ランドを、CLSP
は信号配線対SP1〜SP3が接続された信号対用ラン
ドを示している。また、接続ランドCLには必要に応じ
て接地導体層GL・電源導体層PL・第1および第2の
線路導体C1・C2等もそれぞれ貫通導体を介して電気
的に接続される。Further, the connection with the external electric circuit was electrically connected from each of the third parallel wiring group L3 to the first parallel wiring group L1 via the through conductor group TCL for external connection. A connection conductor such as a solder bump is attached to each of the connection lands CL disposed on the lower surface of the fifth insulating layer I15, and these are electrically connected to connection electrodes of an external electric circuit. It is. Among these many connection lands CL, CLP is a connection land for power supply to which the power supply wirings P1 to P3 are connected, and CLG is a ground connection G1 to G.
3 is connected to a ground connection land, CLS is a signal connection land connected to signal lines S1 to S3, CLSP
Indicates a signal pair land to which the signal wiring pairs SP1 to SP3 are connected. Further, the ground conductor layer GL, the power supply conductor layer PL, the first and second line conductors C1 and C2, and the like are also electrically connected to the connection lands CL via the through conductors as necessary.
【0052】第3層目の絶縁層I13上の第1の平行配線
群L1は、第3層目の絶縁層I13の中央部に対応する搭
載領域M内に交点を有する、図6中に一点鎖線で示した
2本の直線で中心角が略等しくなるように区分された各
区分領域において、それぞれ交点側すなわち第3の絶縁
層I13の中央部の搭載領域M側に向かう平行配線群で構
成されている。ここでは、略正方形状の第3の絶縁層I
13の対角線に沿った、交点が搭載領域M内に位置する2
本の直線で中心角が約90度になるように区分された4つ
の区分領域を設定した場合の例を示している。なお、こ
のことは、図8に示す第5層目の絶縁層I15上の第3の
平行配線群L3についても同様である。The first parallel wiring group L1 on the third insulating layer I13 has an intersection in the mounting area M corresponding to the center of the third insulating layer I13. In each of the divided areas divided by two straight lines indicated by chain lines so that the center angles are substantially equal, the divided wirings are formed of parallel wiring groups each directed toward the intersection, that is, toward the mounting area M in the center of the third insulating layer I13. Have been. Here, the substantially square third insulating layer I
The intersection along the 13 diagonals is located within the mounting area M
An example is shown in which four divided areas are set so that the central angle of the straight line is about 90 degrees. This is the same for the third parallel wiring group L3 on the fifth insulating layer I15 shown in FIG.
【0053】また、第4層目の絶縁層I14上に形成され
た第2の平行配線群L2は、この各区分領域(図7中に
も一点鎖線で示す)においてそれぞれ第1の平行配線群
L1の平行配線群と直交する平行配線群で構成されてい
る。そして、ここでは、第2の平行配線群L2のうち各
区分領域の平行配線群の電源配線P2および接地配線G
2が接続されて、略正方形状の第4層目の絶縁層I14の
各辺に平行な配線を有する略正方形状の環状配線を形成
している場合の例を示している。The second parallel wiring group L2 formed on the fourth insulating layer I14 has the first parallel wiring group in each of the divided regions (indicated by a dashed line in FIG. 7). It is composed of a parallel wiring group orthogonal to the parallel wiring group of L1. Here, in the second parallel wiring group L2, the power supply wiring P2 and the ground wiring G
2 is connected to form a substantially square annular wiring having wiring parallel to each side of a substantially square fourth insulating layer I14.
【0054】そして、これら第1〜第3の平行配線群L
1〜L3の少なくとも2つの平行配線群は、第3層目お
よび/または第4層目の絶縁層I13・I14に形成された
貫通導体群Tにより対応する配線同士が適当な箇所にお
いて電気的に接続されており、これにより各区分領域毎
に直交する平行配線群が形成された積層配線体である平
行配線部を構成している。The first to third parallel wiring groups L
At least two parallel wiring groups 1 to L3 are electrically connected to each other at appropriate locations by the through conductor groups T formed in the third and / or fourth insulating layers I13 and I14. The parallel wiring portions are connected to each other, thereby forming a parallel wiring portion which is a laminated wiring body in which parallel wiring groups orthogonal to each other are formed in each of the divided regions.
【0055】また、この例では第1〜第3の平行配線群
L1〜L3は、信号配線対SP1〜SP3および信号配
線S1〜S3に電源配線P1〜P3または接地配線G1
〜G3がそれぞれ隣接するように配設されている。これ
により、同じ絶縁層I13〜I15上の信号配線対SP1〜
SP3および信号配線S1〜S3間を電磁気的に遮断し
て、同じ平面上の左右の信号配線対SP1〜SP3およ
び信号配線S1〜S3間のクロストークノイズを良好に
低減することができる。In this example, the first to third parallel wiring groups L1 to L3 are composed of the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S3 connected to the power supply wirings P1 to P3 or the ground wiring G1.
To G3 are adjacent to each other. Thereby, the signal wiring pairs SP1 to SP1 on the same insulating layers I13 to I15
The SP3 and the signal wirings S1 to S3 are electromagnetically cut off, so that crosstalk noise between the left and right signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S3 on the same plane can be favorably reduced.
【0056】さらに、本発明の多層配線基板において
は、第1の平行配線群L1の信号配線対SP1に対向す
ることとなる第3の平行配線群L3の配線を、隣接する
電源配線P3および/または接地配線G3としているこ
とから、間に直交する平行配線群L2と絶縁層I13・I
14を介して対向する平行配線同士におけるクロストーク
ノイズも大幅に低減させることができ、これによってク
ロストークノイズをさらに良好に低減することができ
る。Further, in the multilayer wiring board of the present invention, the wiring of the third parallel wiring group L3 facing the signal wiring pair SP1 of the first parallel wiring group L1 is connected to the adjacent power supply wiring P3 and / or Alternatively, since the ground wiring G3 is used, the parallel wiring group L2 intersecting at right angles with the insulating layer I13.I
Crosstalk noise between the parallel wirings that are opposed to each other via 14 can also be significantly reduced, whereby crosstalk noise can be further reduced.
【0057】そして、信号配線対SP1〜SP3の配置
は、この平行配線群L1〜L3内に所望の差動回路を構
成するように、あるいは多層配線基板の仕様に応じて、
適宜設定される。また、第1および第3の平行配線群L
1・L3中の信号配線対SP1・SP3に対しては、適
当な箇所で第1の線路導体C1における線路導体対CP
1および第2の線路導体C2における線路導体対C2が
接続されて所望の回路を構成することとなる。The arrangement of the signal wiring pairs SP1 to SP3 is determined so as to form a desired differential circuit in the parallel wiring groups L1 to L3 or according to the specifications of the multilayer wiring board.
It is set appropriately. Further, the first and third parallel wiring groups L
The line conductor pair CP in the first line conductor C1 is provided at an appropriate location for the signal line pair SP1
The line conductor pair C2 in the first and second line conductors C2 is connected to form a desired circuit.
【0058】なお、第2の平行配線群L2の信号配線S
2および信号配線対SP2の一部に対しては、それに隣
接する電源配線として電源導体層PLを利用するように
して、ストリップ線路部を利用した形に変形してもよ
い。Note that the signal wiring S of the second parallel wiring group L2
2 and a part of the signal wiring pair SP2, the power supply conductor layer PL may be used as a power supply wiring adjacent thereto, and the stripping line portion may be used.
【0059】さらに、信号配線対SP1〜SP3および
信号配線S1〜S3に必ず電源配線P1〜P3または接
地配線G1〜G3を隣接させることで、同じ平面上の電
源配線P1〜P3と信号配線対SP1〜SP3および信
号配線S1〜S3、ならびに接地配線G1〜G3と信号
配線対SP1〜SP3および信号配線S1〜S3との相
互結合が最大となり、信号配線対SP1〜SP3および
信号配線S1〜S3の電流経路を最短にできる。このた
め、信号配線対SP1〜SP3および信号配線S1〜S
3から電源配線P1〜P3および接地配線G1〜G3へ
至るインダクタンス値を減少させることができ、デバイ
スのスイッチング時の電源ノイズおよび接地ノイズを効
果的に低減することができる。Further, the power supply wirings P1 to P3 or the ground wirings G1 to G3 are always adjacent to the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S3, so that the power supply wirings P1 to P3 and the signal wiring pair SP1 on the same plane. To SP3 and the signal wirings S1 to S3, and the ground wirings G1 to G3 and the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S3 have the maximum mutual coupling, and the currents of the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S3 are maximized. The route can be minimized. Therefore, the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings S1 to S
3 can reduce the inductance value from the power supply lines P1 to P3 and the ground lines G1 to G3, so that power supply noise and ground noise at the time of device switching can be effectively reduced.
【0060】本発明の多層配線基板によれば、このよう
に区分領域を設定し、各区分領域においてそれぞれ互い
に直交する平行配線群が形成された積層配線体を具備す
るものとすることにより、第2の平行配線群L2を構成
する平行配線群の電源配線P2及び接地配線G2は第4
層目の絶縁層I14の中央部を取り囲むようにほぼ環状の
配線構造をとることとなり、さらに環状に配置される電
源配線P2および接地配線G2を最適化することにより
外部からのEMIノイズの侵入や外部への不要な電磁波
ノイズの放射をシールドする効果を有するものとなり、
信号配線間のクロストークノイズを低減させることがで
きるとともに、EMI対策としても効果を有するものと
なる。According to the multilayer wiring board of the present invention, the divided areas are set as described above, and the laminated wiring body in which parallel wiring groups orthogonal to each other are formed in each of the divided areas is provided. The power wiring P2 and the ground wiring G2 of the parallel wiring group forming the second parallel wiring group L2
A substantially annular wiring structure is formed so as to surround the central part of the insulating layer I14 of the layer. Further, by optimizing the power supply wiring P2 and the grounding wiring G2 arranged in a ring shape, it is possible to prevent intrusion of EMI noise from the outside. It has the effect of shielding the emission of unnecessary electromagnetic noise to the outside,
It is possible to reduce crosstalk noise between signal wirings, and it is also effective as a measure against EMI.
【0061】さらに、この第2の平行配線群L2は、図
7に示すようにその配線層中の最外周側の環状配線が接
地配線G2である場合には、この環状の接地配線G2の
面積や貫通導体群との接続を最適化することにより、よ
り効果的にEMIノイズに対してシールド効果を有する
ものとなり、有効なEMI対策を施すことができる。Further, as shown in FIG. 7, when the outermost annular wiring in the wiring layer is the ground wiring G2 as shown in FIG. 7, the area of the annular ground wiring G2 is By optimizing the connection with the through conductor group and the through conductor group, a more effective shielding effect against EMI noise can be obtained, and effective EMI countermeasures can be taken.
【0062】これら第1の平行配線群L1は第3層目の
絶縁層I13上に、すなわちストリップ線路部の複数の第
1の線路導体C1と同一面内に、また第3の平行配線群
L3は第5層目の絶縁層I15A化に、すなわちストリッ
プ線路部の複数の第2の線路導体C2と同一面内にそれ
ぞれ形成されており、例えばそのうちの信号配線S1・
S3ならびに信号配線対SP1・SP3が信号配線であ
る複数の線路導体C1・C2ならびに線路導体対CP1
・CP2のそれぞれとその面内で搭載領域Mの周辺にお
いて接続されている。また、第2の平行配線群L2は第
4層目の絶縁層I14上に形成されており、第1および第
3の平行配線群L1・L3とは貫通導体群Tで電気的に
接続されている。これにより、搭載領域Mに搭載される
半導体素子の各端子電極と第1〜第3の平行配線群L1
〜L3とが、ストリップ線路部を介して電気的に接続さ
れている。The first parallel wiring group L1 is formed on the third insulating layer I13, that is, in the same plane as the plurality of first line conductors C1 of the strip line portion. Are formed on the fifth insulating layer I15A, that is, in the same plane as the plurality of second line conductors C2 of the strip line portion.
S3 and a plurality of line conductors C1 and C2 and a pair of line conductors CP1 in which the signal line pair SP1 and SP3 are signal lines.
-Each of the CPs 2 is connected to the periphery of the mounting area M in the plane thereof. The second parallel wiring group L2 is formed on the fourth insulating layer I14, and is electrically connected to the first and third parallel wiring groups L1 and L3 by the through conductor group T. I have. Thereby, each terminal electrode of the semiconductor element mounted on the mounting area M and the first to third parallel wiring groups L1
To L3 are electrically connected via a strip line portion.
【0063】このような配線構造とした本発明の多層配
線基板によれば、狭ピッチで極めて高密度に配設された
半導体素子の入出力電極に接続された配線をストリップ
線路部において線路導体C1・C2の配線ピッチ(配線
間隔)を拡げ、また信号配線・信号配線対・電源配線・
接地配線を再配列して、平行配線群に適した広ピッチの
配線に展開し再配列して接続することができるので、平
行配線群が有する優れた電気的特性を活かしつつ高密度
化された入出力電極を有する半導体素子と効率よく電気
的接続を行なうことができる。しかも、ストリップ線路
部により、さらには信号配線がすべて展開されるまでこ
のストリップ線路部を複数積層して設けてそれぞれに対
応した平行配線群を併設することにより、半導体素子か
らの信号配線・信号配線対・電源配線・接地配線を効率
よく再配列してその周囲の平行配線群との接続に最適な
配線に設定して平行配線群に展開することができるの
で、半導体素子の高密度化に対応して多層化を図る場合
にも、配線設計を最適化してその積層数を低減させるこ
とが可能となる。According to the multilayer wiring board of the present invention having such a wiring structure, the wiring connected to the input / output electrodes of the semiconductor elements arranged at a very small pitch and extremely high density is connected to the line conductor C1 in the strip line portion.・ C2 wiring pitch (wiring interval) is expanded and signal wiring ・ signal wiring pair ・ power supply wiring ・
The ground wiring can be rearranged and developed into a wide-pitch wiring suitable for the parallel wiring group, and the wiring can be rearranged and connected, so that the density has been increased while taking advantage of the excellent electrical characteristics of the parallel wiring group. Electrical connection can be efficiently performed with a semiconductor element having input / output electrodes. In addition, a plurality of strip line portions are stacked and provided until all the signal wires are developed by the strip line portion, and parallel wire groups corresponding to the strip line portions are provided in parallel, so that signal wires and signal wires from the semiconductor element are provided. Efficiently rearrange pairs, power supply wiring, and ground wiring, set the optimum wiring for connection with the surrounding parallel wiring group, and deploy it to the parallel wiring group. In the case of multi-layering, the wiring design can be optimized and the number of layers can be reduced.
【0064】本発明の多層配線基板においては、平行配
線部を構成する各区分領域の設定として上述の例の他に
も、第3の絶縁層I13の中央部に対応する搭載領域M内
に交点を有する、略正方形状の第3の絶縁層I13の辺の
ほぼ中央を通る辺に平行な直線に沿った2本の直線で中
心角が約90度になるように区分された4つの区分領域を
設定してもよく、3本の直線で中心角が約60度と略等し
くなるように区分された6つの区分領域を設定してもよ
く、さらに、4本の直線で中心角が約45度と略等しくな
るように区分された8つの区分領域を設定してもよい。In the multilayer wiring board of the present invention, in addition to the above-described example, the setting of each of the divided regions constituting the parallel wiring portion includes an intersection in the mounting region M corresponding to the central portion of the third insulating layer I13. And four divided regions divided by two straight lines along a straight line parallel to a side substantially passing through the center of the sides of the substantially square third insulating layer I13 so that the central angle is about 90 degrees. May be set, and six divided regions may be set so that the center angle is approximately equal to about 60 degrees with three straight lines, and the center angle is about 45 with four straight lines. Eight divided areas may be set so as to be substantially equal to the degree.
【0065】これらいずれの場合であっても、上述の例
と同様に、同じ平面上の左右の信号配線S1〜S3間な
らびに信号配線対SP1〜SP3間だけでなく上下層の
平行配線群が直交しているため上下層間のクロストーク
ノイズを良好に低減することができ、信号配線対SP1
〜SP3および信号配線SP1〜SP3の電流経路を最
短にできる。このため、信号配線対SP1〜SP3およ
び信号配線SP1〜SP3から電源配線P1〜P3およ
び接地配線G1〜G3へのインダクタンス値を減少させ
ることができ、デバイスのスイッチング時の電源ノイズ
および接地ノイズを効果的に低減することができる。ま
た、第2の平行配線群L2を構成する平行配線群の電源
配線P2および接地配線G2がそれらが形成された絶縁
層の中央部を取り囲むように環状の配線構造をとってお
り、これら電源配線P2および接地配線G2を最適化す
ることにより外部からのEMIノイズの侵入や外部への
不要な電磁波ノイズの放射をシールドする効果を有し、
信号配線間のクロストークノイズを低減させることがで
きるとともに、EMI対策としても効果を有する。この
第2の平行配線群L2の最外周側の環状配線を接地配線
G2としたときには、この環状の接地配線G2の面積や
貫通導体群との接続を最適化することによりさらに効果
的にEMIノイズに対してシールド効果を有するものと
なり、有効なEMI対策を施すことができる。In any of these cases, as in the above-described example, not only between the left and right signal wirings S1 to S3 and between the signal wiring pairs SP1 to SP3 on the same plane, but also the upper and lower parallel wiring groups are orthogonal. Therefore, crosstalk noise between the upper and lower layers can be satisfactorily reduced.
To SP3 and the current path of the signal wirings SP1 to SP3 can be minimized. Therefore, the inductance values from the signal wiring pairs SP1 to SP3 and the signal wirings SP1 to SP3 to the power supply wirings P1 to P3 and the ground wirings G1 to G3 can be reduced, and the power supply noise and the ground noise at the time of device switching can be reduced. Can be effectively reduced. The power supply wiring P2 and the ground wiring G2 of the parallel wiring group forming the second parallel wiring group L2 have an annular wiring structure so as to surround the center of the insulating layer on which they are formed. By optimizing the P2 and the ground wiring G2, it has an effect of shielding intrusion of EMI noise from outside and radiation of unnecessary electromagnetic wave noise to outside,
Crosstalk noise between signal wirings can be reduced, and it is also effective as a measure against EMI. When the outermost peripheral ring of the second parallel wiring group L2 is the ground wiring G2, EMI noise can be further effectively reduced by optimizing the area of the ring ground G2 and the connection with the through conductor group. Has a shielding effect against the EMI and effective EMI countermeasures can be taken.
【0066】なお、本発明は以上の実施の形態の例に限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の変更を加えることは何ら差し支えない。例え
ば、ストリップ線路構造の多層配線部を積層して多層配
線基板を構成し、その広い面積のいわゆるベタ電源プレ
ーンにも磁性体を含有させたものとしてもよい。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that various changes can be made without departing from the scope of the present invention. For example, a multilayer wiring board may be formed by stacking multilayer wiring portions having a stripline structure, and a so-called solid power plane having a large area may contain a magnetic material.
【0067】また、上述の実施例では本発明を半導体素
子を搭載する多層配線基板として説明したが、これを半
導体素子を収容する半導体素子収納用パッケージや、あ
るいはマルチチップモジュールに適用するものとしても
よい。また、絶縁層として放熱を考慮した窒化アルミニ
ウム質焼結体・炭化珪素質焼結体や、低誘電率を考慮し
たガラスセラミックス質焼結体を用いたものとしてもよ
い。In the above embodiments, the present invention has been described as a multilayer wiring board on which a semiconductor element is mounted. However, the present invention may be applied to a semiconductor element housing package for housing a semiconductor element or a multi-chip module. Good. Further, as the insulating layer, a sintered body of aluminum nitride or silicon carbide based on heat dissipation or a sintered body of glass ceramic based on low dielectric constant may be used.
【0068】[0068]
【発明の効果】本発明の多層回路基板によれば、信号配
線を含む第1〜第3の平行配線群同士を互いに直交配置
して貫通導体群で接続して成る積層配線体において、第
1の平行配線群を互いに隣接する2本の信号配線から成
る信号配線対と、この信号配線対に隣接する電源配線ま
たは接地配線とを有するものとするとともに、第3の平
行配線群を互いに隣接しかつ第1の平行配線群の信号配
線対と対向する2本の電源配線および/または接地配線
を有するものとしたことから、積層された平行配線群同
士での信号配線対間のクロストークノイズとともに、同
じ平行配線群内での信号配線対間のクロストークノイズ
も大幅に低減させることができ、さらに信号配線対と対
向することとなる平行配線を電源配線および/または接
地配線としたことから、対向する平行配線同士でのクロ
ストークノイズも大幅に低減させることができるので、
多層の積層配線体における特長を活かしつつ良好な特性
の差動回路を構成することができる。According to the multilayer circuit board of the present invention, the first to third parallel wiring groups including the signal wiring are arranged orthogonally to each other and connected by the through conductor group. And a power supply wiring or a ground wiring adjacent to the signal wiring pair, and a third parallel wiring group adjacent to the third parallel wiring group. In addition, since two power wirings and / or ground wirings facing the signal wiring pairs of the first parallel wiring group are provided, crosstalk noise between the signal wiring pairs in the stacked parallel wiring groups is obtained. In addition, crosstalk noise between signal wiring pairs in the same parallel wiring group can be significantly reduced, and the parallel wiring that faces the signal wiring pair is a power supply wiring and / or a ground wiring. Al, since crosstalk noise parallel lines facing each other can also be greatly reduced,
A differential circuit having good characteristics can be configured while utilizing the features of the multilayer laminated wiring body.
【0069】また、信号配線対以外の信号配線に対して
も、それぞれに電源配線または接地配線を隣接させて配
置することにより、それら信号配線についても積層され
た平行配線群同士での信号配線間だけでなく同じ平行配
線群内でのクロストークノイズの発生を大幅に低減させ
ることができる。Further, by arranging the power supply wiring or the ground wiring adjacent to each other for the signal wiring other than the signal wiring pair, the signal wiring between the stacked parallel wiring groups is also provided for these signal wirings. In addition, the generation of crosstalk noise within the same parallel wiring group can be significantly reduced.
【0070】以上により、本発明によれば、直交させて
積層した平行配線群で構成され、配線間のクロストーク
ノイズを低減させることができる配線構造を有し、しか
もその電気的特性を劣化させることなくクロストークノ
イズの発生を抑えた信号配線対を設けることができ、そ
れにより良好な特性の差動回路を実現することができ
る、高速で作動する半導体素子等の電子部品を搭載する
電子回路基板や各種パッケージ等に好適な多層配線基板
を提供することができた。As described above, according to the present invention, there is provided a wiring structure which is constituted by a group of parallel wirings stacked perpendicularly to each other and which can reduce crosstalk noise between wirings, and degrades its electrical characteristics. An electronic circuit mounted with electronic parts such as semiconductor elements operating at high speed, which can provide a signal wiring pair that suppresses the generation of crosstalk noise without causing any problem, thereby realizing a differential circuit having good characteristics. A multilayer wiring board suitable for a board, various packages, and the like can be provided.
【図1】(a)〜(c)は、それぞれ本発明の多層配線
基板に係る積層配線体の実施の形態の一例を示す第1〜
第3の絶縁層の平面図である。FIGS. 1 (a) to 1 (c) show first to first examples of an embodiment of a multilayer wiring body according to a multilayer wiring board of the present invention, respectively.
It is a top view of the 3rd insulating layer.
【図2】図1に示す積層配線体から成る本発明の多層配
線基板の実施の形態の一例を示す透視平面図である。FIG. 2 is a perspective plan view showing an example of an embodiment of the multilayer wiring board of the present invention comprising the multilayer wiring body shown in FIG.
【図3】図2のA−B線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AB in FIG. 2;
【図4】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第1層目の絶縁層の上面図である。FIG. 4 is a top view of a first insulating layer showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
【図5】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第2層目の絶縁層の上面図である。FIG. 5 is a top view of a second insulating layer, showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
【図6】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第3層目の絶縁層の上面図である。FIG. 6 is a top view of a third insulating layer showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
【図7】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第4層目の絶縁層の上面図である。FIG. 7 is a top view of a fourth insulating layer, showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
【図8】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第5層目の絶縁層の上面図である。FIG. 8 is a top view of a fifth insulating layer showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
【図9】本発明の多層配線基板の実施の形態の他の例を
示す、第5層目の絶縁層の下面図である。FIG. 9 is a bottom view of a fifth insulating layer, showing another example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.
I1、I2、I3・・・・・絶縁層 L1、L2、L3・・・・・平行配線群 P1、P2、P3・・・・・電源配線 G1、G2、G3・・・・・接地配線 S1、S2、S3・・・・・信号配線 SP1、SP2、SP3・・信号配線対 T・・・・・・・・・・・・貫通導体群 I1, I2, I3 ... Insulating layer L1, L2, L3 ... Parallel wiring group P1, P2, P3 ... Power wiring G1, G2, G3 ... Ground wiring S1 , S2, S3... Signal wiring SP1, SP2, SP3.
Claims (2)
る第1の絶縁層上に、信号配線を含み前記第1の平行配
線群と直交する第2の平行配線群を有する第2の絶縁層
と、信号配線を含み前記第2の平行配線群と直交する第
3の平行配線群を有する第3の絶縁層とを積層し、前記
第1乃至第3の少なくとも2つの平行配線群を貫通導体
群で電気的に接続して成る積層配線体を具備して成り、
前記第1の平行配線群は互いに隣接する2本の前記信号
配線から成る信号配線対と該信号配線対に隣接する電源
配線または接地配線とを有するとともに、前記第3の平
行配線群は互いに隣接しかつ前記信号配線対に対向する
2本の電源配線および/または接地配線を有することを
特徴とする多層配線基板。1. A second parallel wiring group including signal wiring and a second parallel wiring group orthogonal to the first parallel wiring group on a first insulating layer having a first parallel wiring group including signal wiring. An insulating layer and a third insulating layer having a third parallel wiring group including signal wiring and orthogonal to the second parallel wiring group are stacked, and the first to third at least two parallel wiring groups are stacked. Comprising a laminated wiring body electrically connected by a through conductor group,
The first parallel wiring group includes a signal wiring pair composed of two signal wirings adjacent to each other and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to the signal wiring pair, and the third parallel wiring group is adjacent to each other. A multilayer wiring board having two power supply wirings and / or ground wirings facing the signal wiring pair.
ぞれ前記信号配線対以外の信号配線と、各信号配線に隣
接する電源配線または接地配線とを有することを特徴と
する請求項1記載の多層配線基板。2. The first to third parallel wiring groups each include a signal wiring other than the signal wiring pair and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to each signal wiring. The multilayer wiring board as described in the above.
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