HK1218185B - Stage apparatus, exposure apparatus and device fabricating method - Google Patents

Claims (14)

1. Belichtungsvorrichtung zum Belichten eines Substrats über ein optisches Projektionssystem, mit:

   einem Basiselement (14), das angeordnet ist, um unter dem optischen Projektionssystem zu sein, und eine obere Fläche aufweist, die im Wesentlichen parallel zu einer vorbestimmten Ebene ist, wobei die vorbestimmte Ebene senkrecht zu einer optischen Achse (AX) des optischen Projektionssystems ist und eine erste und eine zweite Richtung (X, Y) in der Ebene senkrecht zueinander sind;

   einem ersten und einem zweiten bewegbaren Körper (WST1, WST2), die schwebend über dem Basiselement unterstützt werden und jeweils zum Halten eines Substrats eingerichtet sind;

   einer Messvorrichtung (18) zum Erhalten einer Positionsinformation des ersten und zweiten bewegbaren Körpers;

   einem ersten Rohrelement (75), das mit dem ersten bewegbaren Körper verbunden ist und einen Teil, der sich in der ersten Richtung von dem ersten bewegbaren Körper weg erstreckt, und einen gekrümmten Teil aufweist, der sich von dem Teil unterscheidet,

   einem zweiten Element (75), das mit dem zweiten bewegbaren Körper verbunden ist und einen Teil, der sich in der zu der ersten Richtung entgegengesetzten Richtung von dem zweiten bewegbaren Körper weg erstreckt, und einen gekrümmten Teil aufweist, der sich von dem Teil unterscheidet;

   einer ersten Unterbühne (61A), die einen ersten Stützteil (64) aufweist, der auf einer ersten Seite des Basiselements angeordnet ist, um das erste Rohrelement zu unterstützen, und in der zweiten Richtung bewegbar ist;

   einer zweiten Unterbühne (61B), die einen zweiten Stützteil (64) aufweist, der auf einer zweiten Seite des Basiselements angeordnet ist, die in der ersten Richtung gegenüberliegend zu der ersten Seite des Basiselements ist, um das zweite Rohrelement zu unterstützen, und in der zweiten Richtung bewegbar ist;

   einem Antriebssystem, das einen Planarmotor (15) und einen Unterbühnenmotor (LM) aufweist, wobei der Planarmotor eingerichtet ist, den ersten und zweiten bewegbaren Körper an dem Basiselement anzutreiben und bewegbare Teile (17), die respektive an dem ersten und zweiten bewegbaren Körper vorgesehen sind, und einen feststehenden Teil (16) aufweist, der zu dem Basiselement gehört, wobei der Unterbühnenmotor eingerichtet ist, die erste und zweite Unterbühne relativ zu dem Basiselement anzutreiben; und

   einer Steuerungsvorrichtung (MCS), die eingerichtet ist, das Antriebssystem basierend auf der Positionsinformation zu steuern, die mit der Messvorrichtung erhalten wird,

   dadurch gekennzeichnet, dass der erste und zweite Stützteil kontaktlos über und durch das Basiselement unterstützt werden.
2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei der die erste Unterbühne eingerichtet ist, durch einen ersten Motor des Unterbühnenmotors angetrieben zu werden, der bei der ersten Seite des Basiselements angeordnet ist, und die zweite Unterbühne eingerichtet ist, durch einen zweiten Motor des Unterbühnenmotors angetrieben zu werden, der bei der zweiten Seite des Basiselements angeordnet ist.
3. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Unterbühnenmotoren Linearmotoren mit einer sich bewegenden Spuleneinheit sind, die an der ersten und zweiten Unterbühne vorgesehene Spuleneinheiten aufweisen, oder Linearmotoren mit sich bewegenden Magneten sind, die Magneteinheiten aufweisen, welche an der ersten und zweiten Unterbühne vorgesehen sind.
4. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die Planarmotoren vom Typ mit bewegbarer Spule sind, die Spuleneinheiten als bewegbare Teile aufweisen, oder vom Typ mit bewegbarem Magnet sind, die Magneteinheiten als bewegbare Teile aufweisen.
5. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner mit einem ersten Halteteil (76), das auf einer Seite des ersten bewegbaren Körpers vorgesehen ist, die der ersten Seite des Basiselements zugewandt ist, und der eingerichtet ist, das erste Rohrelement zu halten, und einem zweiten Halteteil (76), das auf einer Seite des zweiten bewegbaren Körpers vorgesehen ist, die der zweiten Seite des Basiselements zugewandt ist, und der eingerichtet ist, das zweite Rohrelement zu halten.
6. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der das erste und zweite Rohrelement jeweils eingerichtet sind, einen Unterdruck bereitzustellen, der zum Unterdruckspannen des Substrats verwendet wird.
7. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei welcher der erste und zweite bewegbare Körper jeweils einen Grobbewegungsteil, an dem der bewegbare Teil vorgesehen ist, einen Feinbewegungsteil, der eingerichtet ist, das Substrat zu halten, und einen Aktuator aufweisen, der eingerichtet ist, den Feinbewegungsteil relativ zu dem Grobbewegungsteil zu bewegen, wobei der Feinbewegungsteil über den Aktuator durch den Grobbewegungsteil unterstützt wird.
8. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 7, bei der das erste und zweite Rohrelement respektive jeden Grobbewegungsteil mit der jeweiligen Unterbühne verbinden.
9. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei der das Basiselement ein Abdeckelement (24) aufweist, das den feststehenden Teil bedeckt, und der erste und zweite bewegbare Körper schwebend über dem Abdeckelement unterstützt werden.
10. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 9, ferner mit:

    einer Kühlvorrichtung zum Zuführen eines Kühlmittels unter das Abdeckelement, um den feststehenden Teil zu kühlen.
11. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei der die Steuerungsvorrichtung eingerichtet ist, das Antriebssystem so zu steuern, dass der erste und zweite bewegbare Körper nicht mit der ersten und zweiten Unterbühne zusammenstoßen, während der erste und zweite bewegbare Körper bewegt werden.
12. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 11, ferner mit:

    einem ersten Sensor, der eingerichtet ist, eine Positionsbeziehung zwischen dem ersten bewegbaren Körper und der ersten Unterbühne zu erfassen; und

    einem zweiten Sensor, der eingerichtet ist, eine Positionsbeziehung zwischen dem zweiten bewegbaren Körper und der zweiten Unterbühne zu erfassen,

    wobei die Steuerungsvorrichtung eingerichtet ist, das Antriebssystem basierend auf den Erfassungsergebnissen des ersten und zweiten Sensors zu steuern.
13. Einrichtungsherstellungsverfahren, das umfasst:

    Vorbereiten einer Maske, die eine Struktur aufweist; und

    Belichten eines Substrats mit der Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, die eine Bühne zum Halten der Maske aufweist.
14. Belichtungsverfahren zum Belichten eines Substrats über das optische Projektionssystem, wobei das Verfahren umfasst:

    Erhalten einer Positionsinformation des ersten und zweiten bewegbaren Körpers (WST1, WST2), die schwebend über einem Basiselement (14) unterstützt werden, wobei das Basiselement angeordnet ist, um unter dem optischen Projektionssystem zu sein, und eine obere Fläche aufweist, die im Wesentlichen parallel zu einer vorbestimmten Ebene ist, die vorbestimmte Ebene senkrecht zu einer optischen Achse (AX) des optischen Projektionssystems ist und eine erste und zweite Richtung (X, Y) in der vorbestimmten Ebene senkrecht zueinander sind, wobei ein erstes Rohrelement (75) mit dem ersten bewegbaren Körper verbunden ist und einen Teil, der sich in der ersten Richtung von dem ersten bewegbaren Körper weg erstreckt, und einen gekrümmten Teil aufweist, der sich von dem ersten Teil unterscheidet, und ein zweites Rohrelement (75) mit dem zweiten bewegbaren Körper verbunden ist und einen Teil, der sich in der zu der ersten Richtung entgegengesetzten Richtung von dem zweiten bewegbaren Körper weg erstreckt, und einen gekrümmten Teil aufweist, der sich von dem Teil unterscheidet;

    Bewegen des ersten und zweiten bewegbaren Körpers auf dem Basiselement durch einen Planarmotor (15), wobei der Planarmotor bewegbare Teile (17), die respektive an dem ersten und zweiten bewegbaren Körper vorgesehen sind, und einen feststehenden Teil (16) aufweist, der an dem Basiselement vorgesehen ist;

    Bewegen einer ersten und zweiten Unterbühne (61A, 61B) relativ zu dem Basiselement durch Unterbühnenmotoren (LM), wobei die erste Unterbühne einen ersten Stützteil aufweist, der auf einer ersten Seite des Basiselements angeordnet ist, um das erste Rohrelement zu unterstützen, und in der zweiten Richtung bewegbar ist, die zweite Unterbühne einen zweiten Unterteil aufweist, der auf einer zweiten Seite des Basiselements angeordnet ist, die in der ersten Richtung gegenüberliegend zu der ersten Seite des Basiselements ist, um das zweite Rohrelement zu unterstützen, und in der zweiten Richtung bewegbar ist; und

    Steuern eines Antriebssystems (MCS) mit dem Planarmotor und den Unterbühnenmotoren basierend auf der mit der Messvorrichtung erhaltenen Positionsinformation,

    wobei der erste und zweite Stützteil kontaktlos über und durch das Basiselement unterstützt werden.