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HK1115471B - Plasma electric generation system - Google Patents

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Info

Publication number
HK1115471B
HK1115471B HK08105043.8A HK08105043A HK1115471B HK 1115471 B HK1115471 B HK 1115471B HK 08105043 A HK08105043 A HK 08105043A HK 1115471 B HK1115471 B HK 1115471B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
chamber
ions
plasma
magnetic field
electrodes
Prior art date
Application number
HK08105043.8A
Other languages
English (en)
French (fr)
Chinese (zh)
Other versions
HK1115471A1 (en
Inventor
Norman Rostoker
Michl Binderbauer
Frank Wessel
Alex Cheung
Vitaly Bystritskii
Yuanxu Song
Michael Anderson
Eusebio Garate
Alan Vandrie
Original Assignee
The Regents Of The University Of California
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by The Regents Of The University Of California filed Critical The Regents Of The University Of California
Priority claimed from PCT/US2006/008251 external-priority patent/WO2006096772A2/en
Publication of HK1115471A1 publication Critical patent/HK1115471A1/en
Publication of HK1115471B publication Critical patent/HK1115471B/en

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Claims (23)

  1. System zum Ansteuern von Plasma-Ionen und -Elektronen in einem Feldumkehrungskonfigurations-(FRC) Magnetfeld, umfassend eine Kammer (310) mit einer Hauptachse, und einen ersten Magnetfelderzeuger (325) zum Erzeugen eines azimutal-symmetrischen Magnetfelds innerhalb eines Zentralbereichs der Kammer mit einem Fluss im Wesentlichen parallel zu der Hauptachse der Kammer, dadurch gekennzeichnet, dass das System umfasst, ein RF-Ansteuersystem (1110), das mit dem Zentralbereich der Kammer gekoppelt ist, wobei das RF-Ansteuersystem eine elektrische Potentialwelle erzeugt, welche um die Hauptachse der Kammer rotiert.
  2. System nach Anspruch 1, ferner umfassend eine Stromspule (320), die konzentrisch ist mit der Hauptachse der Kammer zum Erzeugen eines azimutalen elektrischen Feldes innerhalb der Kammer.
  3. System nach Anspruch 1, wobei das RF-Ansteuersystem ein Quadrupolzyklotron umfasst.
  4. System nach Anspruch 3, wobei das Quadrupolzyklotron vier semi-zylindrische Elektroden (1112) umfasst, welche eine zylindrische Oberfläche bilden.
  5. System nach Anspruch 1, wobei das RF-Ansteuersystem ein Dipolzyklotron umfasst.
  6. System nach Anspruch 5, wobei das Dipolzyklotron zwei semi-zylindrische Elektroden (1112) umfasst, die eine zylindrische Oberfläche bilden.
  7. System nach Anspruch 1, wobei das RF-Ansteuersystem modulierende Feldspulen (1116) umfasst, welche sich axial benachbart zu dem Umfang der Kammer erstrecken.
  8. System nach Anspruch 1, ferner umfassend ein Leistungsumwandlungssystem (420) innerhalb der Kammer.
  9. System nach Anspruch 8, wobei in dem Leistungsumwandlungssystem eine Vielzahl von semi-zylindrischen Elektroden (494) umfasst sind, welche eine zylindrische Oberfläche in einem ersten Endbereich der Kammer bilden.
  10. System nach Anspruch 9, wobei die Vielzahl von Elektroden mehr als zwei Elektroden in beabstandetem Verhältnis umfasst, welche eine Lücke zwischen benachbarten Elektroden bildet.
  11. System nach Anspruch 10, ferner umfassend einen zweiten Magnetfelderzeuger (488) zum Erzeugen eines azimutal-symmetrischen Magnetfelds innerhalb des ersten Endbereichs der Kammer mit einem Fluss im Wesentlichen parallel zu der Hauptachse der Kammer, eine Auffangelektrode (490), die zwischenstehend ist zwischen dem ersten und zweiten Magnetfelderzeuger und benachbart zu einem ersten Ende der Vielzahl von Elektroden, und ein Ionenauffänger (492), der benachbart zu einem zweiten Ende der Vielzahl von Elektroden positioniert ist.
  12. System nach Anspruch 11, ferner umfassend:
    eine zweite Vielzahl von semi-zylindrischen Elektroden, die eine zylindrische Oberfläche in einem zweiten Endbereich der Kammer bilden, wobei die zweite Vielzahl von Elektroden mehr als zwei Elektroden in beabstandeten Verhältnis umfasst, welche eine Lücke zwischen benachbarten Elektroden bilden,
    ein dritter Magnetfelderzeuger zum Erzeugen eines azimutal-symmetrischen Magnetfelds innerhalb des ersten Endbereichs der Kammer mit einem Fluss im Wesentlichen parallel zu der Hauptachse der Kammer,
    eine zweite Auffangelektrode, die zwischengestellt ist zwischen dem ersten und dritten Magnetfelderzeuger und benachbart ist zu einem ersten Ende der zweiten Vielzahl von Elektroden, und
    ein zweiter Ionenauffänger, der benachbart zu einem zweiten Ende der zweiten Vielzahl von Elektroden positioniert ist.
  13. System nach Anspruch 12, ferner umfassend Ionenstrahl-Injektoren (340), die mit der Kammer gekoppelt sind.
  14. System nach Anspruch 13, wobei die Ionenstrahl-Injektoren ein Mittel zum Neutralisieren der elektrischen Ladung der Ionenstrahlen beinhalten, die von den Injektoren ausgestrahlt werden.
  15. System nach Anspruch 1, wobei das RF-Ansteuersystem (1110) zwei oder mehr gestreckte Elektroden (1112) aufweist, die eine zylindrische Oberfläche bilden.
  16. Verfahren zum Ansteuern von Ionen und Elektronen in einer Feldumkehrungskonfiguration (FCR), die ein System nach Ansprüchen 1 bis 15 verwendet, wobei das Verfahren die Schritte umfasst:
    Erzeugen einer FRC, dadurch gekennzeichnet, dass die FRC über einen gestreckten, ringförmigen, rotierenden Plasmastrahl von Ionen und Elektronen erzeugt ist, der sich axial innerhalb der Kammer erstreckt, und
    Erzeugen einer elektrischen Potentialwelle, welche in derselben Richtung rotiert wie die azimutale Geschwindigkeit von Ionen in dem rotierenden Plasmastrahl.
  17. Verfahren nach Anspruch 16, wobei der Schritt des Erzeugens einer elektrischen Potentialwelle beinhaltet Energetisieren einer Vielzahl von gestreckten Elektrode (1112), die eine zylindrische Oberfläche bilden.
  18. Verfahren nach Anspruch 17, wobei die Vielzahl von gestreckten Elektroden ein gestrecktes Zyklotron bilden.
  19. Verfahren nach Anspruch 17, wobei das Zyklotron ein Quadrupolzyklotron ist.
  20. Verfahren nach Anspruch 17, wobei das Zyklotron ein Dipolzyklotron ist.
  21. Verfahren nach Anspruch 16, ferner umfassend den Schritt des Injizierens von neutralen Elektronen in die Welle.
  22. Verfahren nach Anspruch 17, ferner umfassend den Schritt des Einfangens von injizierten, neutralen Ionen in der Welle.
  23. Verfahren nach Anspruch 22, ferner umfassend den Schritt des Erhöhens des Impulses und der Energie der gefangenen Ionen.
HK08105043.8A 2005-03-07 2006-03-07 Plasma electric generation system HK1115471B (en)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US65954905P 2005-03-07 2005-03-07
US65976705P 2005-03-07 2005-03-07
US65973805P 2005-03-07 2005-03-07
US65952505P 2005-03-07 2005-03-07
US659767P 2005-03-07
US659549P 2005-03-07
US659525P 2005-03-07
US659738P 2005-03-07
PCT/US2006/008251 WO2006096772A2 (en) 2005-03-07 2006-03-07 Plasma electric generation system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1115471A1 HK1115471A1 (en) 2008-11-28
HK1115471B true HK1115471B (en) 2013-03-08

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