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HK1111072B - Fingerprint analysis using mass spectrometry - Google Patents

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Publication number
HK1111072B
HK1111072B HK08105411.2A HK08105411A HK1111072B HK 1111072 B HK1111072 B HK 1111072B HK 08105411 A HK08105411 A HK 08105411A HK 1111072 B HK1111072 B HK 1111072B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
fingerprint
residue
tof
matrix
maldi
Prior art date
Application number
HK08105411.2A
Other languages
English (en)
French (fr)
Chinese (zh)
Other versions
HK1111072A1 (en
Inventor
Frederick John Rowell
Brendan John Theaker
Original Assignee
University Of Sunderland
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB0516272A external-priority patent/GB0516272D0/en
Priority claimed from GB0516271A external-priority patent/GB0516271D0/en
Priority claimed from GB0608464A external-priority patent/GB0608464D0/en
Priority claimed from GB0610453A external-priority patent/GB0610453D0/en
Application filed by University Of Sunderland filed Critical University Of Sunderland
Priority claimed from PCT/GB2006/050234 external-priority patent/WO2007017701A1/en
Publication of HK1111072A1 publication Critical patent/HK1111072A1/en
Publication of HK1111072B publication Critical patent/HK1111072B/en

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Claims (21)

  1. Verfahren zum Bestimmen des Vorhandenseins eines Rückstandes innerhalb eines Fingerabdrucks unter Verwendung einer matrixunterstützten Massenspektrometrietechnik, wobei das Verfahren umfasst:
    i) Auftragen von Schwebstoffteilchen auf den Fingerabdruck, wobei die Schwebstoffteilchen (1) in der Lage sind, als Matrix in einer matrixunterstützten Massenspektrometrietechnik zu wirken; und die (2) die Detektion und/oder das Abbilden eines Fingerabdrucks unterstützen, um einen partikelförmig bereitgestellten Fingerabdruck zu bilden; und
    ii) Unterwerfen des Materials, das den partikelförmig bereitgestellten Fingerabdruck bildet, der matrixunterstützten Massenspektrometrietechnik, um das Vorhandensein oder Nicht-Vorhandensein des Rückstandes zu detektieren, wobei die matrixunterstützte Massenspektrometrietechnik aus MALDI-TOF-MS und SALDI-TOF-MS ausgewählt ist, und wobei die Schwebstoffteilchen hydrophobe Siliciumoxidpartikel und ein Metall, Metallnitrid, Metalloxid oder Kohlenstoff umfassen.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Metalloxid aus Titanoxid, Eisenoxid (Magnetit), Hämatit und aus Kombinationen davon ausgewählt ist.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Kohlenstoff aus Ruß, aus einer Fullerenverbindung, Kohlenstoffnanoröhrchen, Graphit, aus einem Analogon davon oder aus Kombinationen davon ausgewählt ist.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Metall aus Aluminium, Eisen und aus Kombinationen davon ausgewählt ist.
  5. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei das Metall, Metallnitrid, Metalloxid oder die Kohlenstoffpartikel innerhalb der hydrophoben Siliciumoxidpartikel eingebettet sind.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei der durchschnittliche Durchmesser des Partikels ≤ 100 µm ist und wobei ein durchschnittlicher Durchmesser wahlweise von 10 bis 90 µm ist, wahlweise von 45 bis 65 µm und weiter wahlweise von 65 bis 90 µm ist.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei der durchschnittliche Durchmesser der Partikel ≤ 1 µm und wahlweise von 200 bis 900 nm, wahlweise von 300 bis 600 nm und ferner wahlweise von 400 bis 500 nm ist.
  8. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei das partikelförmige Material ferner ein Farbstoffmolekül umfasst.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Farbstoffmolekül fluoreszierend oder gefärbt ist
  10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, wobei das Farbstoffmolekül und/oder das gefärbte Molekül innerhalb der hydrophoben Siliciumoxidpartikel eingebettet sind.
  11. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei das partikelförmige Material magnetisch oder paramagnetisch ist.
  12. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei der Fingerabdruck unter Verwendung eines anhebenden Bandes von seiner Ablagestelle angehoben wird und, nachdem die Schwebstoffteilchen auf den Fingerabdruck aufgetragen worden sind, ein Kontakt mit einem Probenträger einer Massenspektrometrie hergestellt wird.
  13. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei die matrixunterstützte Technik aus MALDI-TOF-MS-MS, SALDI-TOF-MS-MS und aus Kombinationen davon ausgewählt ist.
  14. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, das ferner eine Visualisierung und/oder ein Abbilden des Fingerabdrucks enthält.
  15. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei der Rückstand ein endogener Rückstand ist, z.B. ein endogenes Stoffwechselprodukt, und/oder ein exogenes Stoffwechselprodukt.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei das endogene Stoffwechselprodukt Squalen ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 15, wobei das exogene Stoffwechselprodukt ein Stoffwechselprodukt aus Nikotin ist, z.B. Cotinin.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei der Rückstand ein Kontaktrückstand ist.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei der Kontaktrückstand ein Narkotikum ist.
  20. Verfahren nach Anspruch 19, wobei das Narkotikum ein Kokain ist.
  21. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei mindestens ein endogener Rückstand und mindestens ein Kontaktrückstand innerhalb des Fingerabdrucks gemeinsam abgelagert sind.
HK08105411.2A 2005-08-09 2006-08-09 Fingerprint analysis using mass spectrometry HK1111072B (en)

Applications Claiming Priority (17)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US70643805P 2005-08-09 2005-08-09
US70643905P 2005-08-09 2005-08-09
GB0516272A GB0516272D0 (en) 2005-08-09 2005-08-09 Hydrophobic silica nanoparticles
GB0516272.2 2005-08-09
GB0516271A GB0516271D0 (en) 2005-08-09 2005-08-09 Fingerprint analysis using mass spectrometry
US60/706,439 2005-08-09
US60/706,438 2005-08-09
GB0516271.4 2005-08-09
US79559906P 2006-04-28 2006-04-28
GB0608464A GB0608464D0 (en) 2006-04-28 2006-04-28 Fingerprint analysis using mass spectrometry
GB0608464.4 2006-04-28
US60/795,599 2006-04-28
GB0610453A GB0610453D0 (en) 2006-05-26 2006-05-26 Fingerprint analysis using mass spectrometry
GB0610453.3 2006-05-26
US83120406P 2006-07-17 2006-07-17
US60/831,204 2006-07-17
PCT/GB2006/050234 WO2007017701A1 (en) 2005-08-09 2006-08-09 Fingerprint analysis using mass spectrometry

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1111072A1 HK1111072A1 (en) 2008-08-01
HK1111072B true HK1111072B (en) 2014-11-07

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