HK1170066B

HK1170066B - Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Info

Publication number: HK1170066B
Application number: HK12110802.3A
Authority: HK
Inventors: Hiroyuki Nagasaka
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2003-02-26
Filing date: 2012-10-29
Publication date: 2015-12-18

Claims

Appareil d'exposition (EX) pour exposer un substrat en projetant une lumière d'exposition sur le substrat à travers un liquide (LQ) d'une zone d'immersion de liquide formée sur une partie d'une surface du substrat (P), l'appareil d'exposition comprenant :
un système optique de projection (PL) agencé de manière à projeter la lumière d'exposition sur une zone de projection (PR1) ;

un mécanisme d'alimentation en liquide (10) agencé de manière à fournir le liquide ;

un mécanisme de récupération de liquide (20) agencé de manière à récupérer le liquide fourni à une pluralité de positions de récupération de liquide éloignées de la zone de projection ;

caractérisé par :
un élément de piégeage (30), qui est agencé à l'extérieur des positions de récupération de liquide du mécanisme de récupération de liquide par rapport à la zone de projection et qui est agencé de manière à capturer le liquide qui n'a pas été récupéré avec succès par le mécanisme de récupération de liquide.
Appareil d'exposition selon la revendication 1, dans lequel l'élément de piégeage a une surface de piégeage (31) configurée pour capturer le liquide.
Appareil d'exposition selon la revendication 2, dans lequel un traitement est appliqué à la surface de piégeage pour augmenter l'affinité pour le liquide.
Appareil d'exposition selon la revendication 2 ou 3, dans lequel l'affinité de la surface de piégeage pour le liquide est supérieure à l'affinité de la surface du substrat pour le liquide.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 2 à 4, dans lequel la surface de piégeage est inclinée par rapport à un plan horizontal.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l'élément de piégeage est agencé de manière à entourer la zone de projection.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel l'appareil est agencé de sorte que le liquide, qui est capturé par l'élément de piégeage, soit récupéré par le mécanisme de récupération de liquide.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel les positions de récupération sont disposées de manière à entourer la zone de projection.
Appareil d'exposition selon la revendication 8, dans lequel les positions de récupération sont disposées de manière à entourer la zone de projection dans une forme circulaire.
Appareil d'exposition selon la revendication 8, dans lequel les positions de récupération sont disposées de manière à entourer la zone de projection dans une forme rectangulaire.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel le mécanisme de récupération de liquide a un orifice de récupération (22A) pour récupérer le liquide aux positions de récupération, l'orifice de récupération étant disposé de sorte que la surface du substrat soit en face de l'orifice de récupération au cours de l'exposition du substrat.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel le mécanisme de récupération de liquide a une pluralité d'orifices de récupération pour récupérer le liquide aux positions de récupération, les orifices de récupération étant disposés de sorte que la surface du substrat soit en face des orifices de récupération au cours de l'exposition du substrat.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, dans lequel l'appareil est agencé de sorte que des zones de prise de vue du substrat soient respectivement exposées tout en étant déplacées dans une direction.
Appareil d'exposition selon la revendication 13, dans lequel l'une des zones de prise de vue est exposée tout en étant déplacée dans une direction de balayage et une autre zone parmi les zones de prise de vue est exposée tout en étant déplacée dans la direction opposée de balayage.
Appareil d'exposition selon la revendication 13 ou 14, dans lequel le mécanisme de récupération de liquide est agencé de manière à poursuivre la récupération du liquide aux positions de récupération au cours d'une période pendant laquelle un processus d'exposition est effectué pour les zones de prise de vue du substrat.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 15, comprenant en outre un mécanisme d'alimentation en liquide agencé de manière à fournir le liquide à partir d'une pluralité de positions d'alimentation en liquide.
Appareil d'exposition selon la revendication 16, dans lequel le mécanisme d'alimentation en liquide a un passage d'écoulement interne dans lequel un élément poreux est prévu, le mécanisme d'alimentation en liquide étant agencé de manière à fournir le liquide à travers l'élément poreux dans le passage d'écoulement interne.
Appareil d'exposition selon la revendication 16 ou 17, dans lequel le mécanisme d'alimentation en liquide a une pluralité d'orifices d'alimentation (13A, 14A) pour fournir le liquide aux positions d'alimentation.
Appareil d'exposition selon la revendication 18, dans lequel les orifices d'alimentation sont disposés de sorte que la surface du substrat soit en face des orifices d'alimentation au cours de l'exposition du substrat.
Appareil d'exposition selon la revendication 19, dans lequel les positions de récupération sont disposées sur le côté extérieur des orifices d'alimentation par rapport à la zone de projection.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 18 à 20, dans lequel les orifices d'alimentation sont disposés de manière à entourer la zone de projection.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 18 à 21, dans lequel le mécanisme d'alimentation en liquide est agencé de manière à modifier une quantité d'alimentation du liquide en fonction d'une opération à exécuter.
Appareil d'exposition selon la revendication 22, dans lequel le mécanisme d'alimentation en liquide est commandé de sorte que la quantité d'alimentation du liquide dans une période pendant laquelle un mouvement pas à pas est effectué entre deux zones parmi les zones de prise de vue du substrat soit différente de la quantité d'alimentation du liquide dans une période pendant laquelle chacune des zones de prise de vue est exposée.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 18 à 23, dans lequel le mécanisme d'alimentation en liquide est agencé de manière à poursuivre l'alimentation en liquide provenant des orifices d'alimentation au cours d'une période pendant laquelle un processus d'exposition est effectué pour les zones de prise de vue du substrat.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 24, dans lequel le liquide est de l'eau, et un traitement attirant l'eau est appliqué à la surface de contact avec le liquide disposée à l'extrémité du système optique de projection.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 24, dans lequel le liquide est de l'eau, et l'appareil est agencé de manière à exposer le substrat ayant un revêtement de surface d'un matériau hydrofuge.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 26, comprenant en outre un étage (PST) configuré pour maintenir le substrat, l'étage ayant une surface plate agencée de manière à entourer le substrat lorsque le substrat est maintenu par l'étage.
Procédé pour produire un dispositif, comprenant l'utilisation de l'appareil d'exposition tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 27.
Procédé d'exposition pour exposer un substrat en projetant une lumière d'exposition (LQ) à travers un liquide d'une zone d'immersion de liquide formée sur une surface du substrat (P), le procédé d'exposition comprenant le fait :
de fournir le liquide ;

de récupérer le liquide fourni depuis le dessus de la surface du substrat à une pluralité de positions de récupération de liquide, de sorte que la zone d'immersion de liquide soit formée sur une partie de la surface du substrat ;

de projeter la lumière d'exposition sur une zone de projection à travers le liquide de la zone d'immersion de liquide pour exposer chacune d'une pluralité de zones du substrat ; et

de capturer le liquide qui n'a pas été récupéré avec succès par le mécanisme de récupération de liquide par un élément de piégeage agencé à l'extérieur des positions de récupération de liquide par rapport à la zone de projection.
Procédé d'exposition selon la revendication 29, dans lequel le liquide est récupéré par l'intermédiaire d'un orifice de récupération (22A) à partir de la surface du substrat faisant face à l'orifice de récupération.
Procédé d'exposition selon la revendication 29, dans lequel le liquide est récupéré par l'intermédiaire d'une pluralité d'orifices de récupération à partir de la surface du substrat faisant face aux orifices de récupération.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 29 à 31, dans lequel les positions de récupération de liquide sont agencées de manière à entourer la zone de projection.
Procédé d'exposition selon les revendications 29 à 32, dans lequel le liquide est fourni à partir d'une pluralité d'orifices d'alimentation (13A, 14A).
Procédé d'exposition selon la revendication 33, dans lequel les orifices d'alimentation sont agencés de manière à fournir le liquide à la surface du substrat faisant face aux orifices d'alimentation.
Appareil d'exposition selon la revendication 34, dans lequel les positions de récupération de liquide sont disposées sur le côté extérieur des orifices d'alimentation par rapport à la zone de projection.
Procédé d'exposition selon la revendication 34 ou 35, dans lequel les orifices d'alimentation sont agencés de manière à entourer la zone de projection.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 33 à 36, dans lequel des zones de prise de vue du substrat sont respectivement exposées tout en étant déplacées dans une direction.
Procédé d'exposition selon la revendication 37, dans lequel l'une des zones de prise de vue est exposée tout en étant déplacée dans une direction de balayage et une autre zone parmi les zones de prise de vue est exposée tout en se déplaçant dans la direction opposée de balayage.
Procédé d'exposition selon la revendication 37 ou 38, dans lequel la récupération de liquide aux positions de récupération de liquide est poursuivie au cours d'une période pendant laquelle le processus d'exposition par balayage est effectué pour la pluralité de zones de prise de vue sur le substrat.
Procédé d'exposition selon la revendication 39, dans lequel l'alimentation en liquide à partir des orifices d'alimentation est poursuivie au cours d'une période pendant laquelle le processus d'exposition par balayage est effectué pour la pluralité de zones de prise de vue sur le substrat.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 33 à 40, comprenant en outre le fait de modifier une quantité d'alimentation du liquide provenant des orifices d'alimentation en fonction d'une opération à exécuter.
Procédé d'exposition selon la revendication 41, dans lequel la quantité d'alimentation du liquide dans une période pendant laquelle un mouvement pas à pas est effectué entre deux zones parmi les zones de prise de vue est différente de la quantité d'alimentation du liquide dans une période pendant laquelle chacune des zones de prise de vue est exposée.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 29 à 42, dans lequel le liquide est de l'eau, et la surface du substrat comporte un revêtement d'un matériau hydrofuge.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 29 à 42, dans lequel une affinité entre une surface de contact avec le liquide du système optique de projection et le liquide est supérieure à une affinité entre la surface du substrat et le liquide.