HK1032111B

HK1032111B - Reflectors for uv radiation source

Info

Publication number: HK1032111B
Application number: HK01102791.6A
Authority: HK
Inventors: James A. Ebel; Allan W. Kimble; John B. Enns
Original assignee: Johnson & Johnson Vision Care, Inc.
Priority date: 1999-07-13
Filing date: 2001-04-19
Publication date: 2006-07-28

Claims

Reflektor (110, 120, 220) für ein Hochenergiestrahlungssystem, umfassend eine diffus reflektierende Oberfläche, die mehr als 50 % der Strahlung von 240 bis 280 nm reflektiert und einen Qualitätsfaktor von mehr als 1,7 hat, wobei der Qualitätsfaktor als das Verhältnis der gesamten Energie gemessen in einem Zielbereich aller Strahlungsquellen und ihrer Reflektoren, die in einem geschlossenen Hohlraum angeordnet sind, geteilt durch die Summe der Energie jeder Lampe und jedes Reflektors, die individuell im Zielbereich oder Volumen eines offenen Hohlraumes gemessen wird, definiert ist, wobei die diffuse reflektierende Oberfläche eines oder mehrere der folgenden umfaßt: Aluminiumoxid, Bariumsulfat, Bariumtitanat, Bariumoxid, Kalziumoxid, Ceroxid, Dysprosiumoxid, Erbiumoxid, Europiumoxid, Germaniumdioxid, Hafniumoxid, Holmiumoxid, Lanthanoxid, Magnesiumfluorid, Magnesiumoxid, Neodymoxid, Praseodymiumoxid, Samariumoxid, Telluroxid, Terbiumoxid, Titandioxid, Ytterbiumoxid, Yttriumoxid, Zinkoxid.
Reflektor (110, 120, 220) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (110, 120, 220) mehr als 75 %, vorzugsweise mehr als 90 %, der Strahlung von 240 bis 280 nm reflektiert, noch bevorzugter mehr als 90 % der Strahlung von 250 bis 270 nm.
Reflektor (110, 120, 220) nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (110, 120, 220) elliptisch ist.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (110, 120, 220) Strahlungsenergie zu einem Zielbereich liefert, wobei die Variation der Energie geringer als 8 mJ/cm² ist.
Reflektor (110, 120, 220) von einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor Strahlungsenergie zu einem Zielbereich liefert, wobei die Variation der Energie geringer als 15 % ist, vorzugsweise geringer als 10 %.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor Strahlung zu einem Zielbereich liefert und die Strahlung Einfallswinkel von 40 bis 180 Grad umfaßt.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor ein Kontrastverhältnis von weniger als 1,5 liefert.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, umfassend eines oder mehrere der folgenden reflektierende Materialien: Seltene Erden, Seltenerdhalogenide oder Metalloxidverbindungen .
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, umfassend eines oder mehrere der folgenden reflektierenden Materialien: Kalziumoxid, Hafniumoxid, Lanthanoxid, Terbiumoxid, Bariumtitanat, Magnesiumfluorid, Magnesiumoxid, Aluminiumoxid, Bariumoxid, Holmiumoxid, Germaniumoxid, Telluroxid, Europiumoxid, Erbiumoxid, Neodymoxid, Samariumoxid, Ytterbiumoxid, Yttriumoxid, Bariumsulfat oder Dysprosiumoxid, vorzugsweise Magnesiumoxid, Magnesiumfluorid, Aluminiumoxid, Bariumsulfat, Lanthanoxid, Yttriumoxid oder Ytterbiumoxid, am bevorzugtesten Magnesiumoxid, Magnesiumfluorid, Aluminiumoxid oder Bariumsulfat.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, umfassend ein oder mehrere reflektierende(s) Material(ien), das/die mehr als 99,9 % rein sind.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor eine reflektierende Beschichtung oder Schicht (122, 134, 210) umfaßt, die auf einen Träger (121, 123, 201) aufgebracht ist.
Reflektor (110, 120, 220) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor eine reflektierende Beschichtung (122, 134) umfaßt, die durch Streichen, Sprühen, Tauchen, Gießen, Chromatieren/Phosphatieren, Gelbeschichtung, Ätzen, chemische Dampfabscheidung, Spritzen, Plasmasprühen oder Laserdeposition aufgebracht ist.
Reflektor (110, 120, 220) nach Anspruch 11 oder Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Beschichtung oder Schicht (122, 134, 210) eine Dicke von 0,1 bis 2500 Mikrometern hat.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor ein verdichtetes Pulver oder einen Block aus reflektierendem Material umfaßt.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor ein Polyvinylalkohol-, Cyanoacrylat-, Acryl- oder Silokonmaterial umfaßt.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor ein Natriumsilikat-, niedrigtemperaturgesintertes Glas- oder Alkalioxidsilikatmaterial umfaßt.
Reflektor (110, 120, 220) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor eines der folgenden Materialien umfaßt: Aluminium-tert-butoxid, Natriumsilikat, Tetraethylorthosilikat (TEOS), Metallisopropoxid, Dysprosiumisopropoxid, Dysprosiumethylhexanodiisopropoxid in Isopropanol, Dysprosium-2-Ethylhexanoat in Hexan, Dysprosiumisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Dysprosium-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Erbiumethylhexanodiisopropoxid in Isopropanol, Erbium-2-Ethylhexanoat in Hexan, Erbiumisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Holmiumethylhexanodiisopropoxid in Isopropanol, Holmiumisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Holmium-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Lanthanacetat, Lanthan-2-Ethylhexanoat in Hexan, Lanthanisopropoxid, Lanthan-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Magnesiumethoxid in Ethanol, Magnesiummethoxid in Methanol, Magnesium-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Neodymethylhexanodiisopropoxid in Isopropanol, Neodym-2-Ethylhexanoat in Hexan, Neodymisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Neodym-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Samariumethylhexanomonoisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Samarium-2-Ethylhexanoat in Hexan, Samariumisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Samarium-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Ytterbiumisopropoxid in Toluol-Isopropanol, Ytterbium-2-Methoxyethoxid in 2-Methoxyethanol, Yttriumethylhexanodiisopropoxid in Toluol-Isopropanol oder Yttriumethylhexanomonoisopropoxid in Toluol-Isopropanol.
Strahlungssystem (100, 200), umfassend mindestens eine Hochenergiestrahlungsquelle (130, 140, 240) und mindestens einen Reflektor (110, 120, 220), der mindestens teilweise die mindestens eine Strahlungsquelle (130, 140, 240) umschließt, wobei der mindestens eine Reflektor (110, 120, 220) diffus ist und einen Qualitätsfaktor von mehr als 1,7 hat, wobei der Qualitätsfaktor als das Verhältnis der gesamten Energie gemessen in einem Zielbereich aller Strahlungsquellen und ihrer Reflektoren, die in einem geschlossenen Hohlraum angeordnet sind, geteilt durch die Summe der Energie jeder Lampe und jedes Reflektors, die individuell im Zielbereich oder Volumen eines offenen Hohlraumes gemessen wird, definiert ist, wobei die diffuse reflektierende Oberfläche eines oder mehrere der folgenden umfaßt: Aluminiumoxid, Bariumsulfat, Bariumtitanat, Bariumoxid, Kalziumoxid, Ceroxid, Dysprosiumoxid, Erbiumoxid, Europiumoxid, Germaniumdioxid, Hafniumoxid, Holmiumoxid, Lanthanoxid, Magnesiumfluorid, Magnesiumoxid, Neodymoxid, Praseodymiumoxid, Samariumoxid, Telluroxid, Terbiumoxid, Titandioxid, Ytterbiumoxid, Yttriumoxid, Zinkoxid.
Strahlungssystem (100, 200) nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens eine Strahlungsquelle eine Blitzlichtlampe (130, 140, 240) ist.
Strahlungssystem (100, 200) nach Anspruch 18 oder Anspruch 19, ferner umfassend mehrere Strahlungsquellen (130, 140), die jeweils mindestens teilweise von mehreren Reflektoren (110, 120) umschlossen sind, wobei die mehreren Reflektoren (110, 120) diffus sind.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Reflektor (110, 120, 220) mit einer diffusen reflektierenden Oberfläche mehr als 50 % der Strahlung von 240 bis 280 nm reflektiert.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Reflektor (110, 120, 220) die mindestens eine Strahlungsquelle (130, 140, 240) völlig umschließt, um einen geschlossenen Hohlraum zu bilden.
Strahlungssystem (100, 200) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß alle inneren Oberflächen des Hohlraumes diffus reflektierend sind und mehr als 50 % der Strahlung von 240 bis 280 nm reflektieren.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Reflektor (110, 120, 220) elliptisch geformt ist.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 24, ferner umfassend ein Zielvolumen, wobei das Zielvolumen eine Kontaktlinse in einer Kontaktlinsenpackung umfaßt.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß jede Lampe (130, 140, 240) mindestens einen Reflektor aufweist und daß der mindestens eine Reflektor einen Qualitätsfaktor liefert, der vorzugsweise größer als 2 und am bevorzugtesten größer als 3 ist.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsmenge, die von einem Reflektor zu einem anderen Reflektor übergehen kann, ohne das Ziel zu passieren, geringer als 50 % ist.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 27, ferner umfassend abschwächende Materialien.
Strahlungssystem (100, 200) nach einem der Ansprüche 18 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Reflektor eines der folgenden reflektierenden Materialien umfaßt: Bariumsulfat, Aluminiumoxid, Magnesiumfluorid oder Magnesiumoxid.