HK1022925B - Conductive coating composition and antistatic plate - Google Patents

Claims (12)

1. Beschichtungsmasse, umfassend 100 Gewichtsteile einer härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer, und 2 bis 7 Gewichtsteile leitfähiger Teilchen mit einer Primärteilchengröße von 0,01 µm oder weniger.
2. Beschichtungsmasse nach Anspruch 1, weiterhin umfassend 50 Gewichtsteile oder weniger einer härtbaren Verbindung, welche von der härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer verschieden ist, pro 100 Gewichtsteile der härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer.
3. Antistatische Platte umfassend ein Substrat und eine auf dem Substrat gebildete, gehärtete Schicht, wobei die gehärtete Schicht 100 Gewichtsteile eines gehärteten Produkts einer härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer, und 2 bis 7 Gewichtsteile leitfähiger Teilchen mit einer Primärteilchengröße von 0,01µm oder weniger enthält, welche in dem gehärteten Produkt dispergiert sind.
4. Antistatische Platte nach Anspruch 3, wobei das gehärtete Produkt weiterhin 50 Gewichtsteile oder weniger eines gehärteten Produkts einer härtbaren Verbindung, welche von der härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer verschieden ist, pro 100 Gewichtsteile des gehärteten Produkts der härtbaren Verbindung mit mindestens 3 (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder. deren Oligomer, enthält.
5. Antistatische Platte nach Anspruch 3 oder 4, wobei die leitfähigen Teilchen Sekundärteilchen mit einer Teilchengröße von 0,1 µm oder weniger bilden, und die Sekundärteilchen so angeordnet sind, daß sie Netzstrukturen in der gehärteten Schicht bilden.
6. Antistatische Platte nach Anspruch 3 oder 4, wobei die gehärtete Schicht eine Dicke von 0,5 bis 50 µm aufweist.
7. Antistatische Platte nach einem der Ansprüche 3 bis 6, welche eine Antireflexionsschicht auf der Oberfläche der gehärteten Schicht aufweist.
8. Frontplatte für ein Display, umfassend eine antistatische Platte nach einem der Ansprüche 3 bis 7.
9. Bildschirm für einen Projektor, umfassend eine antistatische Platte nach einem der Ansprüche 3 bis 7.
10. Verfahren zur Herstellung einer antistatischen Platte nach Anspruch 3, umfassend die Schritte:

    Aufbringen einer Beschichtungsmasse umfassend 100 Gewichtsteile einer härtbaren Verbindung mit mindestens 3 (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer, und 2 bis 7 Gewichtsteile leitfähiger Teilchen mit einer Primärteilchengröße von 0,01 µm oder weniger, um eine härtbare Schicht zu bilden, und

    Aushärten der härtbaren Schicht um eine gehärtete Schicht zu bilden.
11. Verfahren zur Herstellung einer antistatischen Platte nach Anspruch 4, umfassend die Schritte:

    Aufbringen einer Beschichtungsmasse umfassend 100 Gewichtsteile einer härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer, 50 Gewichtsteile oder weniger einer härtbaren Verbindung, welche von der härtbaren Verbindung mit mindestens drei (Meth)acryloyloxyresten in einem Molekül, oder deren Oligomer verschieden ist, und 2 bis 7 Gewichtsteile leitfähiger Teilchen mit einer Primärteilchengröße von 0,01 µm oder weniger, um eine härtbare Schicht zu bilden, und

    Aushärten der härtbaren Schicht, um eine gehärtete Schicht zu bilden.
12. Verfahren zur Herstellung einer antistatischen Platte nach Anspruch 10 oder 11, weiterhin umfassend den Schritt des Bildens einer Antireflexionsschicht auf der Oberfläche der gehärteten Schicht.