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HK1076865B - Preconditioning of a substrate in a continuous process for manufacture of electrochemical sensors - Google Patents

Preconditioning of a substrate in a continuous process for manufacture of electrochemical sensors Download PDF

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Publication number
HK1076865B
HK1076865B HK05108800.8A HK05108800A HK1076865B HK 1076865 B HK1076865 B HK 1076865B HK 05108800 A HK05108800 A HK 05108800A HK 1076865 B HK1076865 B HK 1076865B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
substrate
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screen
web
printing
Prior art date
Application number
HK05108800.8A
Other languages
English (en)
French (fr)
Chinese (zh)
Other versions
HK1076865A1 (en
Inventor
Oliver William Hardwicke Davies
Original Assignee
Lifescan Scotland Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lifescan Scotland Ltd filed Critical Lifescan Scotland Ltd
Priority claimed from PCT/GB2003/004667 external-priority patent/WO2004040285A2/en
Publication of HK1076865A1 publication Critical patent/HK1076865A1/en
Publication of HK1076865B publication Critical patent/HK1076865B/en

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Claims (12)

  1. Verfahren zum Vorkonditionieren eines Substrats in einem Lagenherstellungsprozess, wobei der Lagenherstellungsprozess eine Vielzahl von Druckschritten umfasst, wobei das Verfahren die Schritte aufweist:
    Bewegen des Substrates durch den Lagenprozess unter Spannung; und
    Aufheizen des Substrates, während das Substrat die Druckschritte durchläuft,
    wobei die Temperatur des Substrates während der Druckschritte eine erste vorbestimmte Temperatur nicht überschreitet, wobei das Verfahren vor den Druckschritten aufweist:
    Führen des Substrates in eine Vorkonditionierungsstation, in der das Substrat auf eine zweite vorbestimmte Temperatur aufgeheizt wird, die die erste vorbestimmte Temperatur übersteigt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die zweite vorbestimmte Temperatur während anschließender Stufen des Lagenprozesses nicht erreicht oder überschritten wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die zweite vorbestimmte Temperatur ungefähr 140°C beträgt.
  4. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Vorkonditionierungsstation wenigstens eine Oberflächenreinigungsstation umfasst, die dazu ausgelegt ist, Verunreinigungen von dem Substrat zu entfernen.
  5. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die erste vorbestimmte Temperatur ungefähr 160°C beträgt.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Substrat mit einer vorbestimmten Spannung gestreckt wird, bevor es auf die zweite vorbestimmte Temperatur aufgeheizt wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die vorbestimmte Spannung während anschließender Stufen des Lagenprozesses nicht überschritten wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem die zweite vorbestimmte Temperatur während nachfolgender Stufen des Lagenprozesses nicht erreicht oder überschritten wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, bei dem die Vorkonditionierungsstation wenigstens eine Oberflächenreinigungsstation umfasst, die dazu ausgelegt ist, Verunreinigungen von dem Substrat zu entfernen.
  10. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem die vorbestimmte Spannung ungefähr 165N beträgt und die zweite vorbestimmte Temperatur ungefähr 140°C ist.
  11. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem die vorbestimmte Spannung ungefähr 165N beträgt und die zweite vorbestimmte Temperatur ungefähr 160°C ist.
  12. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die zweite vorbestimmte Temperatur eine Temperatur ist, die ausreicht, die irreversible Streckung aus dem Substrat zu beseitigen.
HK05108800.8A 2002-10-30 2003-10-30 Preconditioning of a substrate in a continuous process for manufacture of electrochemical sensors HK1076865B (en)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US42223002P 2002-10-30 2002-10-30
US42222602P 2002-10-30 2002-10-30
US422230P 2002-10-30
US422226P 2002-10-30
US43668502P 2002-12-27 2002-12-27
US43668302P 2002-12-27 2002-12-27
US436685P 2002-12-27
US436683P 2002-12-27
PCT/GB2003/004667 WO2004040285A2 (en) 2002-10-30 2003-10-30 Preconditioning of a substrate in a continuous process for manufacture of electrochemical sensors

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1076865A1 HK1076865A1 (en) 2006-01-27
HK1076865B true HK1076865B (en) 2010-04-16

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