HK1072279B - Corona-generated chemical vapor deposition on a substrate - Google Patents

Claims (7)

1. Kontinuierlicher Prozess zum Erstellen einer optisch durchsichtigen Beschichtung auf einem sich bewegenden Substrat, folgende Schritte umfassend: 1) Erzeugen einer Korona-Entladung in einem Bereich zwischen a) einer Elektrode, die mindestens einen Einlass und mindestens einen Auslass hat, und b) einer Gegenelektrode, die ein sich bewegendes Substrat trägt; und 2) Strömenlassen einer Mischung aus einem Balance-Gas, einem Arbeits-Gas, das ein Organosiloxan ist, und optional einem Trägergas für das Arbeitsgas durch die Elektrode und die Korona-Entladung, um eine im Plasma polymerisierende Beschichtung auf dem Substrat zu bilden, wobei das Balance-Gas eine Flussrate hat, so dass die Geschwindigkeit durch den mindestens einen Auslass nicht kleiner als 10 m/s und nicht größer als 200 m/s ist, wobei die Konzentration des Arbeitsgases auf der Basis der Gesamt-Gasmischung nicht kleiner als 5 ppm und nicht größer als 200 ppm ist, wobei die optisch durchsichtige Beschichtung eine optische Reinheit von mindestens 98 Prozent und eine Opazität von nicht mehr als 2 Prozent hat.
2. Prozess aus Anspruch 1, wobei die Gegenelektrode eine rotierende Trommel ist, und wobei entweder die Trommel oder die Elektrode oder sowohl die Trommel, als auch die Elektrode mit einer dielektrischen Hülse ausgerüstet sind.
3. Prozess aus einem der Ansprüche 1 bis 2, wobei das Balance-Gas Luft, Sauerstoff, Stickstoff, Helium, Argon oder eine Kombination daraus ist.
4. Prozess aus einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der mindestens eine Auslass der Elektrode eine Vielzahl von Löchern oder Schlitzen ist, und wobei das Arbeitsgas Tetramethyldisiloxan, Hexamethyldisiloxan, Octamethyltrisiloxan, Tetraethylorthosilikat oder Kombinationen daraus ist.
5. Prozess aus Anspruch 4, wobei das Substrat nach der Abscheidung der im Plasma polymerisierenden Beschichtung im Vergleich zu einem unbehandelten Substrat eine erhöhte Oberflächenenergie hat.
6. Prozess aus Anspruch 4, wobei die Ablagerung eine Beschichtung bildet, die das Substrat chemisch widerstandsfähig macht.
7. Prozess aus Anspruch 4, wobei die Ablagerung eine Beschichtung mit einer im Vergleich zu einem unbehandelten Substrat erhöhten Barriere für Gase ausbildet.