[go: up one dir, main page]

DE19520187C1 - Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl - Google Patents

Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl

Info

Publication number
DE19520187C1
DE19520187C1 DE19520187A DE19520187A DE19520187C1 DE 19520187 C1 DE19520187 C1 DE 19520187C1 DE 19520187 A DE19520187 A DE 19520187A DE 19520187 A DE19520187 A DE 19520187A DE 19520187 C1 DE19520187 C1 DE 19520187C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
imaging
optics
laser beam
long
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE19520187A
Other languages
English (en)
Inventor
Berthold Dr Burghardt
Hans-Juergen Dr Kahlert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Microlas Lasersystem GmbH
Original Assignee
Microlas Lasersystem GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Microlas Lasersystem GmbH filed Critical Microlas Lasersystem GmbH
Priority to DE19520187A priority Critical patent/DE19520187C1/de
Priority to JP15345296A priority patent/JP3936756B2/ja
Priority to US08/653,047 priority patent/US5721416A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE19520187C1 publication Critical patent/DE19520187C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0966Cylindrical lenses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/066Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • B23K26/0738Shaping the laser spot into a linear shape
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0911Anamorphotic systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lenses (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine optische Vorrichtung zum Herstellen einer scharfen, eine lange und eine kurze Achse aufweisenden Beleuchtungslinie aus einem von einem Hochleistungslaser, wie einem Excimerlaser, emittierten Laserstrahl, durch eine anamor­ photische Anordnung von Abbildungs- und Homogenisieroptiken zur getrennten Abbildung und Homogenisierung des Laserstrahls in Richtung der langen und der kurzen Achsen.
Eine anamorphotische Abbildung ist eine optische Abbildung, bei der der Abbildungsmaßstab bzw. die Bildgröße in zwei senkrecht zueinander stehenden Schnitten (Richtungen) unterschiedlich ist. Optische Vorrichtungen der vorstehend genannten Art mit anamor­ photischen Anordnungen sind bekannt aus EP 0 232 037 A1, JP 07227993 A und EP 0 100 242 A2.
Excimerlaser emittieren kohärente UV-Strahlen hoher Intensität und werden insbesondere in der industriellen Fertigung, der Medi­ zin und in der Forschung eingesetzt. Auch in der Röntgenlithogra­ phie werden derartige Strahlungsquellen verwendet.
Für eine Vielzahl von Anwendungen muß der vom Excimerlaser emit­ tierte Laserstrahl optisch verarbeitet werden.
Der vom Excimerlaser (im wesentlichen unverarbeitet) emittierte Laserstrahl hat in der Regel keine gleichförmige Intensitätsver­ teilung über seinen Querschnitt. Zum Beispiel wird die Intensi­ tätsverteilung bei vielen Laserstrahlen durch eine zur Ausbrei­ tungsrichtung des Strahls rotationssymmetrische Glockenkurve beschrieben. Transversale Gasentladungslaser, wie zum Beispiel Excimerlaser, weisen zwar keine störenden Intensitätsspitzen, die über das Strahlprofil verteilt sind, auf, müssen jedoch zur homogenen Ausleuchtung einer bearbeiteten Fläche homogenisiert werden.
Die DE-A 42 20 705 beschreibt eine Vorrichtung zum Homogenisieren von insbesondere Excimerlaserstrahlen. Die gleiche Vorrichtung wird im US-Patent 5,414,559 beschrieben. Dieser Stand der Technik wird im Nachfolgenden als bekannt vorausgesetzt.
Der von einem Excimerlaser abgegebene Laserstrahl hat typischer­ weise Abmessungen von etwa 10 mal 30 mm. Für bestimmte Anwendungen muß dieser Strahl so verarbeitet werden, daß eine möglichst schma­ le, scharfe und bezüglich der Strahlungsverteilung homogene Be­ leuchtungslinie entsteht. Beispielsweise werden solche Beleuch­ tungslinien beim Einsatz von Excimerlasern zur Umkristallisation von amorphen Si-Schichten zur Herstellung von Flachbildschirmen verwendet. Für diese Anwendung sind Beleuchtungslinien mit Längen von mehreren hundert Millimetern und Breiten von typisch 0,05 mm bis 1 mm vorteilhaft. Mit der Herstellung solcher Beleuchtungsli­ nien befaßt sich die vorliegende Erfindung.
Die eingangs genannte JP 07027993 A beschreibt eine anamorphoti­ sche Homogenisieroptik, bei der der dort vorgesehene Wellenleiter mehr schmal und auch sehr breit hergestellt werden müßte, um eine lange und scharfe Linie erzeugen zu können. Die eingangs ebenfalls genannte EP 0 232 037 beschreibt eine anamorphotische Abbildung unter Verwendung des sogenannten Zoomprinzips. Die EP 0 100 242 A2 zeigt zwar auch eine anamorphotische Homogenisie­ rung, allerdings ebenfalls wie der andere genannte Stand der Technik, ohne eine homogene Ausleuchtung eines Spaltes. Auch betrifft dieser Stand der Technik Diodenlaser.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine optische Vorrich­ tung der eingangs genannten Art bereitzustellen, die Beleuchtungs­ linien herzustellen gestattet mit hohem Aspektverhältnis (Länge mal Breite der Linie), möglichst homogener Energieverteilung innerhalb der Linie, hoher Randschärfe an den Rändern der Be­ leuchtungslinie und mit einer möglichst großen Tiefenschärfe. Dabei soll die vom Laser emittierte Strahlung möglichst weitge­ hend (verlustfrei) ausgenutzt werden.
Die erfindungsgemäße optische Vorrichtung zur Lösung dieses Pro­ blems zeichnet sich aus durch eine anamorphotische Anordnung von Abbildungs- und Homogenisieroptiken zur getrennten Abbildung und Homogenisierung des Laserstrahls in Richtung der langen und der kurzen Achsen, wobei zur Abbildung und Homogenisierung des Laserstrahls in Richtung der kurzen Achse ein Spalt homogen ausgeleuchtet wird und der Spalt mit einer verkleinernden Optik auf die Beleuchtungsebene abgebildet wird.
Eine anamorphotische Abbildung ist eine insbesondere nicht zen­ trierte optische Abbildung, bei der der Abbildungsmaßstab bzw. die Bildgröße in zwei senkrecht zueinander stehenden Schnitten unterschiedlich ist. Hier sind die genannten senkrecht zueinan­ der stehenden Schnitte in Richtung der langen bzw. kurzen Achse der langgestreckten Beleuchtungslinie. Es ist also eine strenge anamorphotische Trennung der Abbildung und Homogenisierung des Laserstrahls in diesen beiden, senkrecht zueinander stehenden Richtungen vorgesehen.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung wird der Laserstrahl in Richtung der langen Achse der Beleuchtungslinie nicht auf den genannten Spalt abgebildet, sondern vielmehr di­ rekt auf die Beleuchtungsebene, d. h. die Ebene, in der die Be­ leuchtungslinie auf einem zu bearbeitenden Substrat geformt wer­ den soll.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, daß die den vorstehend genannten Spalt verkleinert (in Richtung der kurzen Achse) abbildende Optik bildseitig telezentrisch ist. Telezentrisch ist ein zentriertes optisches System dann, wenn es einen achsparallelen Hauptstrahlenverlauf erzeugt. Bei einem bildseitig telezentrischen optischen System liegt die Austritts­ pupille im Unendlichen.
Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1a, b schematisch ein Ausführungsbeispiel einer erfindungs­ gemäßen optischen Vorrichtung zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie, und zwar Fig. 1a den Strah­ lengang zur Erzeugung der sogenannten kurzen Strahl­ achse und Fig. 1b den Strahlengang zur Erzeugung der langen Strahlachse der Beleuchtungslinie;
Fig. 2 einen Schnitt durch eine Intensitätsverteilung einer Beleuchtungslinie gemäß dem Stand der Technik;
Fig. 3 einen Schnitt durch die Intensitätsverteilung einer erfindungsgemäß hergestellten Beleuchtungslinie und
Fig. 4 schematisch eine Beleuchtungslinie in Draufsicht zur Erläuterung der hier genannten Abmessungen und Achsen.
Die in den Fig. 1a und 1b dargestellte optische Anordnung weist einen Excimerlaser 10 auf, der einen gepulsten Strahl 12 in be­ kannter Weise emittiert. Beispielsweise kann der emittierte Exci­ merlaserstrahl 12 Abmessungen von 10 mal 30 mm aufweisen. Dieser abgegebene Laserstrahl soll mittels der nachfolgend beschriebenen Optik zu einer Beleuchtungslinie B (Fig. 1a, 1b unten rechts) verarbeitet werden.
Die Optik gemäß Fig. 1a und 1b ist insgesamt eine anamorphotische Anordnung in dem Sinne, daß die Verarbeitung des Laserstrahls 12 in den Richtungen der langen bzw. kurzen Achse der Beleuchtungs­ linie jeweils voneinander weitestgehend unabhängig erfolgt, was in den Fig. 1a bzw. 1b jeweils gezeigt ist.
Der vom Excimerlaser 10 emittierte Strahl 12 passiert zunächst gegebenenfalls einen Abschwächer 14 und gelangt dann in ein ana­ morphotisches Zylinderlinsenteleskop 16. Mittels des Zylinderlin­ senteleskops 16 wird der Strahl an die Abmessungen einer Eingangs­ apertur 18 der nachfolgenden optischen Elemente angepaßt. Dabei wird das Nahfeld des Excimerlasers 10 in die Nähe der nachfolgend näher beschriebenen Eingangsaperturen (nicht näher dargestellt) von Homogenisieroptiken 20, 22 übertragen. Die Homogenisieropti­ ken 20, 22 entsprechen bevorzugt den in der obengenannten DE-OS 42 20 705 bzw. der US-PS 5,414,559 beschriebenen Homogenisierop­ tiken. Andere, ebenfalls verwendbare, jedoch weniger bevorzugte Homogenisieroptiken sind in der DE 38 29 728 A1 und in der DE 38 41 045 A1 beschrieben.
Die Homogenisierung des Laserstrahls wird ebenfalls anamorpho­ tisch durchgeführt.
Zur Herstellung der sogenannten kurzen Achse der Beleuchtungs­ linie (also zur Verringerung des Strahldurchmessers auf die Brei­ te der Beleuchtungslinie - typischerweise 0,05 mm bis 1 mm) wird gemäß Fig. 1a zunächst ein Spalt 26 mittels der Homogenisieroptik 22 und einer Feldlinse 24 homogen ausgeleuchtet. Dabei kommt es besonders darauf an, den Spalt 26 effizient (d. h. unter möglichst vollständiger Ausnutzung der vom Laser gelieferten Strahlungs­ energie) möglichst homogen auszuleuchten. Bei Verwendung einer Homogenisieroptik gemäß dem vorstehend genannten, hier in die Offenbarung eingeschlossenen Stand der Technik nach der US-PS 5,414,559 wird die dort beschriebene erste Reihe von Linsen (das sogenannte Beleuchtungsarray 22a, also die auf der Lichteingangs­ seite angeordneten Linsen) mit einem Abstand f (2) von dem soge­ nannten Abbildungsarray 22b (also die der Abbildung zugekehrte Abbildungslinse) angeordnet, wobei der Abstand f (2) die Brenn­ weite der Abbildungslinse ist. Hierdurch wird eine optimale Rand­ schärfe des Beleuchtungsfeldes in der Ebene des Spaltes 26 er­ reicht.
Im weiteren Verlauf der Herstellung der kurzen Achse As der Be­ leuchtungslinie B wird der Spalt 26 mit einer verkleinernden Zylinderlinsenoptik 32 in die Beleuchtungsfeldebene 40 auf einem Substrat 38 abgebildet. Dabei wird der Strahl gemäß der Figur an einem Spiegel 28 umgelenkt und gelangt vor Eintritt in die ver­ kleinernde Optik 32 in deren Eingangspupille 30.
Bei der verkleinernden Abbildung mittels der Optik 32 in die Beleuchtungslinienebene 40 wird erreicht, daß die Beleuchtungs­ linie B in ihrer Schärfe (Kantenschärfe) durch die Abbildungsei­ genschaften der Optik 32 bestimmt wird. Die Optik 32 wird (im Sinne eines Objektivs) so eingesetzt, daß der Spalt 26 verklei­ nert abgebildet wird, z. B. im Verhältnis 5 : 1. Mit derartigen Optiken können Randschärfen von bis zu wenigen µm erreicht wer­ den, wobei die hohe Randschärfe zugleich mit einer sehr guten Tiefenschärfe einhergeht. Auf diese Weise kann eine Randschärfe von 20 µm bei einer Tiefenschärfe von typisch +/- 200 µm erreicht werden.
Beim dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Optik 32 zur Ab­ bildung des Spaltes 26 auf die Ebene 40, in der die Beleuchtungs­ linie B erzeugt werden soll, bildseitig telezentrisch, d. h. der Hauptstrahl steht senkrecht auf der Ebene 40 des zu bearbeiten­ den Substrates 38. Die Feldlinse 24 und die Beleuchtungspupille 30 können dabei so angeordnet werden, daß die Energiedichten auf den Umlenkspiegeln und auch auf den anderen Oberflächen der opti­ schen Elemente so gering gehalten werden können, daß das hoch­ energetische Laserlicht diese nicht verändert und somit lange Standzeiten (1000 Mio Pulse und mehr) erreicht werden können.
Weiterhin ermöglicht die dargestellte Anordnung der optischen Elemente bei der Herstellung der kurzen Achse der Beleuchtungs­ linie sehr große Arbeitsabstände zum zu bearbeitenden Substrat 38, welches bei vielen Anwendungen in einer Vakuumkammer (nicht gezeigt) angeordnet werden muß. In Fig. 1a und 1b ist ein Fen­ ster 36 einer Vakuumkammer schematisch dargestellt. Die Abstände zwischen der Verkleinerungsoptik 32 und dem Fenster 36 einerseits und zwischen dem Fenster 36 und dem Substrat 38 andererseits können jeweils relativ groß (10 bis 20 cm und mehr) gehalten werden. So ist zum Beispiel Platz für einen teildurchlässigen Spiegel 34 zur Abzweigung eines Teilstrahls 44 (wenige Prozent), der mittels eines Mikroskop-Objektivs 46 auf einen Festkörper- Bildwandler 48 abgebildet wird zur Überwachung des Strahlprofils.
Die Herstellung der langen Beleuchtungsachse A₁ erfolgt gemäß Fig. 1b mit der Homogenisieroptik 20, die wieder bevorzugt gemäß der DE 42 20 705 A1 bzw. der US-PS 5,414,559 ausgebildet ist. Dabei ist die Bildebene der Abbildung durch die Homogenisieroptik 20 in der Bildebene der Optik 32 angeordnet, die den Spalt 26 verkleinert auf die Ebene 40 der Beleuchtungslinie B, d. h. die Oberfläche des zu bearbeitenden Substrates 38, abbildet. Um eine große Tiefenschärfe und gute Homogenität der Energieverteilung der Strahlung zu erreichen, erfolgt die Abbildung mittels der Homogenisieroptik 20 mit 30- bis 40facher Vergrößerung.
Die Fig. 2 und 3 illustrieren das mit der vorstehend beschrie­ benen Optik erreichte Ergebnis, nämlich eine Beleuchtungslinie B mit sehr hohem Aspektverhältnis (große Länge und kurze Breite) mit extrem scharfen Rändern. Fig. 4 illustriert die verwendeten Bezeichnungen und Dimensionen hinsichtlich der Beleuchtungslinie B. Dabei ist Fig. 4 nur schematisch und nicht maßstäblich zu verstehen. Die lange Achse A₁ der Beleuchtungslinie entspricht deren Länge und die kurze Achse As deren Breite. Fig. 3 ist ein Schnitt entlang der Linie I-II der Fig. 4 und zeigt, daß im Ver­ gleich zum Stand der Technik gemäß Fig. 2 eine extrem scharfe Kantenschärfe der Intensitätsverteilung und auch eine extrem gute Homogenisierung der Energieverteilung der Strahlung über den Querschnitt erreicht wird. Beispielsweise wird eine Rand­ schärfe von nur 20 µm erreicht, d. h. die Strahlungsintensität geht von praktisch 0 auf den vollen Wert auf einer Strecke von weniger als 20 µm (Fig. 3).
Die vorstehend beschriebene Optik hat auch den Vorteil, daß der Abbildungsmaßstab nicht wesentlich von der Stellung des zu bear­ beitenden Substrates 38 abhängt, sondern lediglich der Kontrast des Bildfeldrandes. Die Energiedichte innerhalb der Beleuchtungs­ linie ist im wesentlichen konstant, solange nicht die Breite in die Größenordnung der Auflösung kommt.

Claims (2)

1. Optische Vorrichtung zum Herstellen einer scharfen, eine lange und eine kurze Achse (A₁, As) aufweisenden Beleuchtungs­ linie (B) aus einem von einem Hochleistungslaser (10), wie einem Excimerlaser, emittierten Laserstrahl (12), durch eine anamor­ photische Anordnung von Abbildungs- und Homogenisieroptiken (16, 18, 20, 22, 24, 26, 30, 32) zur getrennten Abbildung und Homoge­ nisierung des Laserstrahls in Richtung der langen und der kurzen Achsen (A₁, As), dadurch gekennzeichnet, daß zur Abbildung und Homogenisierung des Laserstrahls in Richtung der kurzen Achse (As) ein Spalt (26) homogen ausgeleuchtet wird und der Spalt (26) mit einer verkleinernden Optik (32) auf die Beleuchtungs­ ebene (40) abgebildet wird.
2. Optische Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die den Spalt (26) verkleinert in Richtung der kurzen Achse (As) abbildende Optik (32) bildseitig telezentrisch ist.
DE19520187A 1995-06-01 1995-06-01 Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl Expired - Lifetime DE19520187C1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19520187A DE19520187C1 (de) 1995-06-01 1995-06-01 Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl
JP15345296A JP3936756B2 (ja) 1995-06-01 1996-05-24 レーザビームから鮮鋭な照射線を生成する光学装置
US08/653,047 US5721416A (en) 1995-06-01 1996-05-28 Optics for forming a sharp illuminating line of a laser beam

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19520187A DE19520187C1 (de) 1995-06-01 1995-06-01 Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19520187C1 true DE19520187C1 (de) 1996-09-12

Family

ID=7763466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19520187A Expired - Lifetime DE19520187C1 (de) 1995-06-01 1995-06-01 Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5721416A (de)
JP (1) JP3936756B2 (de)
DE (1) DE19520187C1 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10121747A1 (de) * 2001-05-04 2002-11-14 Thomson Brandt Gmbh Element zur kombinierten Symmetrisierung und Homogenisierung eines Strahlenbündels
DE102007015063A1 (de) * 2007-03-29 2008-10-02 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Optische Anordnung zum Erzeugen eines Lichtblattes
DE102007057868A1 (de) * 2007-11-29 2009-06-04 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Strahlformung
DE102012007601A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Innovavent Gmbh Optisches System für eine Anlage zur Bearbeitung von Dünnfilmschichten
USRE45575E1 (en) 2007-03-29 2015-06-23 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Optical arrangement for the production of a light-sheet

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3917231B2 (ja) * 1996-02-06 2007-05-23 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射装置およびレーザー照射方法
JP3292058B2 (ja) * 1996-10-01 2002-06-17 三菱電機株式会社 レーザ光による配線基板の加工方法及びその装置
JPH10244392A (ja) * 1997-03-04 1998-09-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射装置
JP3770999B2 (ja) * 1997-04-21 2006-04-26 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射装置及びレーザー照射方法
JP4663047B2 (ja) * 1998-07-13 2011-03-30 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射装置及び半導体装置の作製方法
US6246524B1 (en) * 1998-07-13 2001-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device
DE19915000C2 (de) 1999-04-01 2002-05-08 Microlas Lasersystem Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls
US7160765B2 (en) * 1999-08-13 2007-01-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device
US6567219B1 (en) * 1999-08-13 2003-05-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus
US6485145B1 (en) * 1999-12-21 2002-11-26 Scram Technologies, Inc. Optical system for display panel
US6719430B2 (en) 1999-12-21 2004-04-13 Scram Technologies, Inc. Precision optical system for display panel
US6728589B1 (en) 2000-10-20 2004-04-27 Mallinckrodt Inc. Customized respiratory mask and method of manufacturing same
JP4921643B2 (ja) * 2001-02-22 2012-04-25 株式会社Ihi 照明光学系及びこれを備えるレーザー処理装置
JP3977038B2 (ja) 2001-08-27 2007-09-19 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザ照射装置およびレーザ照射方法
JP4651249B2 (ja) * 2001-11-09 2011-03-16 シャープ株式会社 半導体薄膜の製造装置およびその製造方法ならびに表示装置
CA2492745C (en) * 2002-07-17 2012-01-03 Shell Canada Limited Forge welding method
TWI332682B (en) 2002-09-19 2010-11-01 Semiconductor Energy Lab Beam homogenizer and laser irradiation apparatus and method of manufacturing semiconductor device
JP2004134785A (ja) * 2002-09-19 2004-04-30 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ビームホモジナイザおよびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法
FR2849189B1 (fr) * 2002-12-20 2005-01-28 France Etat Armement Dispositif a surface equivalente laser parfaitement connue
SG137674A1 (en) 2003-04-24 2007-12-28 Semiconductor Energy Lab Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, and method for manufacturing semiconductor device
JP4619035B2 (ja) * 2003-04-24 2011-01-26 株式会社半導体エネルギー研究所 ビームホモジナイザ及びレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法
US7210820B2 (en) * 2003-05-07 2007-05-01 Resonetics, Inc. Methods and apparatuses for homogenizing light
WO2005093801A1 (en) 2004-03-26 2005-10-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method and laser irradiation apparatus
US8525075B2 (en) 2004-05-06 2013-09-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus
CN101667538B (zh) * 2004-08-23 2012-10-10 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
US7253376B2 (en) * 2005-01-21 2007-08-07 Ultratech, Inc. Methods and apparatus for truncating an image formed with coherent radiation
US20060214123A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 Eastman Kodak Company Linear illumination using cylindrical elliptical reflective surface
US7619786B2 (en) * 2005-03-24 2009-11-17 Carestream Health, Inc. Linear illumination apparatus and method
US7679029B2 (en) 2005-10-28 2010-03-16 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations
US7629572B2 (en) * 2005-10-28 2009-12-08 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical devices and related systems and methods
US7471455B2 (en) 2005-10-28 2008-12-30 Cymer, Inc. Systems and methods for generating laser light shaped as a line beam
WO2007048507A1 (en) * 2005-10-28 2007-05-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Beam separating optical element
WO2007071413A1 (en) * 2005-12-23 2007-06-28 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical system and method for shaping a profile of a laser beam
US7944624B2 (en) * 2007-08-29 2011-05-17 Scaggs Michael J Method for homogenizing light
US8723073B2 (en) * 2008-02-07 2014-05-13 Cymer, Llc Illumination apparatus and method for controlling energy of a laser source
TWI490176B (zh) * 2009-03-20 2015-07-01 Corning Inc 分離玻璃板材的製程與設備
JPWO2010137082A1 (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ナルックス株式会社 ラインジェネレータ
JP2011216863A (ja) * 2010-03-17 2011-10-27 Hitachi Via Mechanics Ltd ビームサイズ可変照明光学装置及びビームサイズ変更方法
JP6227220B2 (ja) * 2010-12-27 2017-11-08 Jfeスチール株式会社 炉壁形状測定装置、炉壁形状測定システム、および炉壁形状測定方法
JP5717146B2 (ja) * 2012-10-23 2015-05-13 株式会社日本製鋼所 レーザラインビーム改善装置およびレーザ処理装置
KR102459817B1 (ko) * 2015-10-01 2022-10-27 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치
DE102017115964B4 (de) * 2017-07-14 2020-04-02 LIMO GmbH Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung einer Laserstrahlung
CN110238513B (zh) * 2019-04-28 2022-03-15 大族激光科技产业集团股份有限公司 MiniLED晶元的切割方法及装置
KR20210131510A (ko) * 2020-04-23 2021-11-03 삼성디스플레이 주식회사 라인 빔 형성 장치
DE102022104082A1 (de) * 2022-02-22 2023-08-24 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Linienoptiksystem

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0100242A2 (de) * 1982-07-28 1984-02-08 Xerox Corporation Optisches System für einen Laser
EP0232037A2 (de) * 1986-01-24 1987-08-12 XMR, Inc. System zum Sammeln optischer Strahlung
JPH0727993A (ja) * 1993-07-07 1995-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ビーム均一化光学系

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4744615A (en) * 1986-01-29 1988-05-17 International Business Machines Corporation Laser beam homogenizer
US4911711A (en) * 1986-12-05 1990-03-27 Taunton Technologies, Inc. Sculpture apparatus for correcting curvature of the cornea
DE3829728A1 (de) * 1987-09-02 1989-03-23 Lambda Physik Forschung Verfahren und vorrichtung zum homogenisieren der intensitaetsverteilung im querschnit eines laserstrahls
DE3841045A1 (de) * 1988-12-06 1990-06-07 Lambda Physik Forschung Laser mit homogener intensitaetsverteilung im strahlquerschnitt
GB8916133D0 (en) * 1989-07-14 1989-08-31 Raychem Ltd Laser machining
US5331466A (en) * 1991-04-23 1994-07-19 Lions Eye Institute Of Western Australia Inc. Method and apparatus for homogenizing a collimated light beam
US5237149A (en) * 1992-03-26 1993-08-17 John Macken Laser machining utilizing a spacial filter
DE4220705C2 (de) * 1992-06-24 2003-03-13 Lambda Physik Ag Vorrichtung zum Aufteilen eines Lichtstrahles in homogene Teilstrahlen
CA2173141A1 (en) * 1993-09-30 1995-04-06 William N. Partlo Full field mask illumination enhancement methods and apparatus
US5609780A (en) * 1994-11-14 1997-03-11 International Business Machines, Corporation Laser system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0100242A2 (de) * 1982-07-28 1984-02-08 Xerox Corporation Optisches System für einen Laser
EP0232037A2 (de) * 1986-01-24 1987-08-12 XMR, Inc. System zum Sammeln optischer Strahlung
JPH0727993A (ja) * 1993-07-07 1995-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ビーム均一化光学系

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10121747A1 (de) * 2001-05-04 2002-11-14 Thomson Brandt Gmbh Element zur kombinierten Symmetrisierung und Homogenisierung eines Strahlenbündels
DE10121747B4 (de) * 2001-05-04 2004-09-02 Deutsche Thomson-Brandt Gmbh Element zur kombinierten Symmetrisierung und Homogenisierung eines Strahlenbündels
DE102007015063A1 (de) * 2007-03-29 2008-10-02 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Optische Anordnung zum Erzeugen eines Lichtblattes
US7787179B2 (en) 2007-03-29 2010-08-31 Carl Ziess MicroImaging GmbH Optical arrangement for the production of a light-sheet
EP1975669A3 (de) * 2007-03-29 2012-12-26 Carl Zeiss Microscopy GmbH Optische Anordnung zum Erzeugen eines Lichtblattes
USRE45575E1 (en) 2007-03-29 2015-06-23 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Optical arrangement for the production of a light-sheet
DE102007015063B4 (de) * 2007-03-29 2019-10-17 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Optische Anordnung zum Erzeugen eines Lichtblattes
DE102007057868A1 (de) * 2007-11-29 2009-06-04 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Strahlformung
US8270084B2 (en) 2007-11-29 2012-09-18 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Device for beam shaping
DE102007057868B4 (de) * 2007-11-29 2020-02-20 LIMO GmbH Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung
DE102012007601A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Innovavent Gmbh Optisches System für eine Anlage zur Bearbeitung von Dünnfilmschichten
WO2013156384A1 (de) 2012-04-16 2013-10-24 Innovavent Gmbh Optisches system für eine anlage zur bearbeitung von dünnfilmschichten

Also Published As

Publication number Publication date
US5721416A (en) 1998-02-24
JPH08327942A (ja) 1996-12-13
JP3936756B2 (ja) 2007-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19520187C1 (de) Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl
DE502007012156C5 (de) Vorrichtung zur strahlformung
DE102007057868A1 (de) Vorrichtung zur Strahlformung
EP0525528A1 (de) Anordnung zur Kohärenzreduktion und Strahlformung eines Laserstrahls
EP0484276A1 (de) Verfahren, bei dem mehrere, in einer oder mehreren Reihen angeordnete Strahlungsquellen abgebildet werden und Vorrichtung hierzu
EP1164401A1 (de) Verschränkte-Photonen-Mikroskop
DE10115486A1 (de) Verschränkte-Photonen-Mikroskop
DE69724331T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Düsenkörpers und Arbeitsgerät
DE102008031937A1 (de) Mehrstrahl-Laservorrichtung
EP3475750B1 (de) Beleuchtungsvorrichtung für ein mikroskop
WO2013156384A1 (de) Optisches system für eine anlage zur bearbeitung von dünnfilmschichten
EP3860798B1 (de) Laserbearbeitungssystem
DE69602952T2 (de) Optische faservorrichtung zur optischen verarbeitung eines laserstrahls
DE19841040A1 (de) Vorrichtung zum Markieren einer Oberfläche mittels Laserstrahlen
EP1217450A2 (de) Lichtintegrator für eine Beleuchtungseinrichtung
DE4341553C1 (de) Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles
WO1994017576A1 (de) Leistungsgesteuertes fraktales lasersystem
EP3834025A1 (de) Beleuchtungsanordnung für ein mikroskop, mikroskop und verfahren zur beleuchtung eines probenvolumens in einem mikroskop
DE10233491B4 (de) Kompakte Einrichtung zur Bebilderung einer Druckform
DE10062453B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
EP4041479A1 (de) Laservorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung sowie 3d-druck-vorrichtung mit einer derartigen laservorrichtung
DE10243737B3 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung
DE102019118676B4 (de) Optisches System zur Homogenisierung der Intensität von Lichtstrahlung und Anlage zur Bearbeitung einer Halbleitermaterialschicht
WO2022074095A1 (de) Vorrichtung zum erzeugen einer laserlinie auf einer arbeitsebene
EP1668422B1 (de) Lithografiebelichtungseinrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right