DE102018207454A1

DE102018207454A1 - Aktuatoranordnung, Projektionsbelichtungsanlage und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie

Info

Publication number: DE102018207454A1
Application number: DE102018207454.2A
Authority: DE
Inventors: Tobias Hegele; Hubert Holderer
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-05-15
Filing date: 2018-05-15
Publication date: 2019-05-29

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Aktuatoranordnung (1), die ein durch ein Halteelement (8) gehaltenes optisches Element (2), eine Tragstruktur (6) und Aktuatoren (4) umfasst, die so eingerichtet sind, dass sie an dem Halteelement (8) Kräfte und/oder Momente ausüben können, wobei das Halteelement (8) derart eingerichtet ist, dass die von den Aktuatoren (4) ausgeübten Kräfte und/oder Momente Deformationen des Halteelementes (8) und damit Deformationen des optischen Elementes (2) bewirken. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Waferinspektionsanlage mit einer Aktuatoranordnung.

Description

Die Erfindung betrifft eine Aktuatoranordnung zur Deformation von optischen Elementen sowie eine mit der Aktuatoranordnung ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und eine Waferinspektionsanlage.
Aktuatoranordnungen zur Deformation von optischen Elementen sind im Stand der Technik bekannt. Die Aktuatoranordnungen werden beispielsweise in Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und in Systemen zur Wafer- und/oder Maskeninspektion verwendet, wobei die Systeme zur Waferinspektion und Maskeninspektion automatisiert und nicht automatisiert betrieben werden können. Die zur Abbildung verwendeten optischen Komponenten für die oben beschriebenen Anwendungen, bei denen es sich insbesondere um Linsen und Spiegel handeln kann, müssen mit höchster Präzision positioniert und/oder deformiert werden, um die geforderte Abbildungsqualität gewährleisten zu können.
Aus der DE 193 27 603 A1 ist eine Aktuatoranordnung bekannt. Die Aktuatoranordnung weist ein optisches Element auf, welches in einer Fassung gefasst ist. Die Fassung ist an ihrem Umfang an zwei diametral gegenüberliegenden Stellen fest mit einem Rahmen verbunden, wobei die Verbindung in Richtung der optischen Achse steif ausgeführt ist. Ebenfalls diametral gegenüber sind zwei Aktuatoren angeordnet, die so eingerichtet sind, dass sie nichtrotationssymmetrische und von der Radialen abweichende Kräfte und/oder Momente an dem optischen Element zur Erzeugung von im Wesentlichen ohne Dickenänderungen sich ergebende Verbiegungen bewirken. Der Nachteil dieser Lösung ist, dass das optische Element während der Deformation von den Gelenken in seiner Position gehalten wird und somit nicht zusätzlich zur Deformation verschoben werden kann, um die Abbildungsqualität weiter zu steigern. Systeme der neuesten Generation erfordern mit immer weniger optischen Elementen und immer höheren Anforderungen an die Abbildungsqualität Aktuatoranordnungen, die optische Elemente sowohl deformieren, als auch Festkörperverschiebungen des optischen Elementes ermöglichen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Aktuatoranordnung bereitzustellen, die eine Deformation und eine Verschiebung und/oder Verkippung eines optischen Elementes ermöglicht. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und eine Waferinspektionsanlage mit verbesserten Möglichkeiten zur Korrektur von Abbildungsfehlern anzugeben.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.
Die Erfindung schließt eine Aktuatoranordnung ein, die ein durch ein Halteelement gehaltenes optisches Element umfasst. Die Aktuatoranordnung umfasst weiterhin Aktuatoren, die so eingerichtet sind, dass sie an dem Halteelement Kräfte und/oder Momente ausüben können, wobei das Halteelement derart eingerichtet ist, dass die von den Aktuatoren ausgeübten Kräfte und/oder Momente Deformationen des Halteelementes und somit Deformationen des optischen Elementes bewirken können. Eine solche Aktuatoranordnung wird häufig auch als Manipulator oder Manipulatoreinheit bezeichnet. Das optische Element ist häufig als rotationssymmetrisches Bauteil ausgeführt und wird mit dem Halteelement, welches in Form einer Fassung mit mehreren Auflagepunkten ausgeführt sein kann, verbunden. Das Halteelement und das optische Element können aber auch einstückig ausgeführt sein, um beispielsweise Deformationen durch unterschiedliche Wärmeausdehnungskoeffizienten von optischem Element und Fassung zu vermeiden. Eine einstückige Ausführung von optischem Element und Halteelement wird bevorzugt bei Spiegeln angewendet.
An der Fassung können insbesondere acht Aktuatoren angreifen, die beispielsweise in gleichen Winkelabständen am Umfang der Fassung angeordnet sein können und sich an der Tragstruktur abstützen, welche die Außenfassung der Aktuatoranordnung bilden kann. Die Außenfassung kann darüber hinaus mit den Außenfassungen weiterer optischer Elemente zu einem Objektiv verbunden werden. Die Außenfassungen sind im Stand der Technik speziell in Systemen, in denen überwiegend Linsen verbaut sind, überwiegend kreisförmig ausgebildet, wodurch bei der Montage das Verdrehen der optischen Elemente zur Korrektur von Abbildungsfehlern vereinfacht wird. Alle Aktuatoren können identisch aufgebaut sein, was sich vorteilhaft in der Herstellung und Lagerhaltung der Aktuatoren auswirkt.
In einer Ausführungsform der Erfindung können die Aktuatoren so angeordnet sein, dass im optischen Element tangentiale Einwelligkeiten, Zweiwelligkeiten, Dreiwelligkeiten, Vierwelligkeiten und radiale Einwelligkeiten eingeprägt werden können. Radiale Einwelligkeiten sind im vorliegenden Fall auf die Anzahl von Momenten, die in das optische Element eingebracht werden können, bezogen. Durch die Anordnung der Aktuatoren am Rand des optischen Elementes können diese nur ein Krempelmoment am Rand des optischen Elementes in Richtung der optischen Achse einbringen, wobei ein positives Moment den Rand des optischen Elementes nach oben und ein negatives Moment den Rand des optischen Elementes nach unten krempeln kann. In Verbindung mit den tangentialen Welligkeiten gilt, dass bei einem Nulldurchgang der tangentialen Welligkeit auch die radiale Einwelligkeit das Vorzeichen ändert, also ein positives Moment in ein negatives Moment übergeht und umgekehrt. Tangentiale Einwelligkeiten sind gleichbeutend mit translatorischen Festkörperverschiebungen, also einer Verschiebung des optischen Elementes entlang der optischen Achse oder einer Verkippung der Ebene des optischen Elementes um eine Achse senkrecht zur optischen Achse.
Die optische Achse ist die Symmetrieachse eines rotationssymmetrischen optischen Systems, wobei die Symmetrie der Oberflächen und nicht die Symmetrie der Umrandung entscheidend ist. Deformationen und Verschiebungen von optischen Elementen werden üblicherweise auf die optische Achse bezogen.
In der Optik und in der Halbleiterindustrie werden die Welligkeiten auch häufig als Zernike beschrieben, welches einer Nummerierung der Zernike-Polynome unterschiedlicher Ordnung entspricht. Zernike-Polynome sind orthogonale Polynome zur Beschreibung von Wellenfronten, die sich aus dem Produkt eines radiusabhängigen Teils, also einer radialen Komponente, und eines winkelabhängigen Teils, also einer tangentialen Komponente, zusammensetzen. So sind beispielsweise Z2 und Z3 ein Kipp der Ebene um zwei orthogonale Achsen. Die Anzahl der für die Einstellung der Deformationen benötigten Aktuatoren ist bei den tangentialen Welligkeiten durch die Ordnung der Welligkeit vorgegeben, wobei die tangentialen Welligkeiten immer 2 Orientierungen besitzen, die orthogonal zueinander liegen, wie beispielsweise Z5 und Z6 für die zweiwellige tangentiale Welligkeit, die mit einem Winkel von 45° zueinander verdreht liegen. Die Anzahl der Aktuatoren in der Tabelle unten gilt für eine tangentiale Welligkeit in einer Orientierung, die Zahl in der Klammer ist die Anzahl der Aktuatoren, die notwendig sind, um die tangentialen Welligkeiten in beiden orthogonalen Orientierungen zu realisieren.
Bei den radialen Einwelligkeiten haben FEM-Simulationen gezeigt, dass mindestens an acht Angriffspunkten ein Moment eingebracht werden muss, um die radiale Einwelligkeit ohne nennenswerte tangentiale Welligkeiten einstellen zu können. Dies beruht darauf, dass für die Einleitung von Momenten 2 Aktuatoren je Angriffspunkt benötigt werden, wie nachfolgend noch näher erläutert wird. Ein Angriffspunkt ist die Stelle am Umfang des Halteelementes, an dem der Aktuator die Kraft auf das Halteelement überträgt. Seine Lage wird nicht durch einen Radius, sondern durch einen Winkel definiert. Die Kraft der Aktuatoren wird am Anbindungspunkt auf das Halteelement und die Tragstruktur übertragen. Im Falle von Momenten sind 2 Aktuatoren an einem Angriffspunkt angeordnet, wobei die Anbindungspunkte einen radialen Versatz haben. Dadurch können die beiden Aktuatoren ein Moment um die Tangente durch den Punkt, der radial zwischen den beiden Anbindungspunkten der Aktuatoren liegt, aufbringen.

Die Tabelle zeigt die durch die in der Erfindung beschriebene Aktuatoranordnung einstellbaren Deformationen in Zernike.

Zernike Nummer	Beschreibung	Anzahl Aktuatoren
Z2 /Z3	Kipp um zwei orthogonale Achsen (= tangentiale Einwelligkeit)	3
Z4	Fokus (= radiale Einwelligkeit)	16
Z5 / Z6	Astigmatismus (= tangentiale Zweiwelligkeit)	4(8)
Z7 / Z8	Koma (= Kombination aus radiale Einwelligkeit und tangentialer Einwelligkeit)	16
Z10 / Z11	Dreiwelligkeit (= tangentiale Dreiwelligkeit; Achsen um 30° zueinander verdreht)	6 (8)
Z12 / Z13	Höhere Ordnung Astigmatismus (= Kombination aus radialer Einwelligkeit und tangentiale Zweiwelligkeit)	16
Z17 (oder Z18)	Vierwelligkeit (= tangentiale Vierwelligkeit; Achsen um 22,5° zueinander verdreht)	8
Z19 / Z20	Höhere Ordnung Dreiwelligkeit (=Kombination aus radialer Einwelligkeit und aus tangentialer Dreiwelligkeit)	16

Die Aktuatoren sind vorteilhafterweise so angeordnet, dass an den Minima und Maxima der jeweiligen tangentialen Welligkeiten jeweils ein Aktuator angeordnet ist. Versuche haben gezeigt, dass sich die Welligkeiten auch dann einstellen lassen, wenn sich die Angriffspunkte der Aktuatoren nicht direkt an den Minima und Maxima der jeweiligen Welligkeiten befinden, wie es beispielsweise bei der tangentialen Dreiwelligkeit der Fall ist.
In einer weiteren Ausführungsform kann mindestens ein Aktuator der Aktuatoranordnung in der Mitte der Biegelinie des optischen Elementes an dem Halteelement angreifen. Jeder Versatz des Kraftangriffspunktes des Aktuators zur Mitte der Biegelinie des optischen Elementes führt zu Momenten und dadurch zu Schub- und Druckspannung im optischen Material, welche zu ungewollten optischen Effekten, wie zum Beispiel Spannungsdoppelbrechung, führen und durch die Belastung des optischen Materials die Größe der möglichen Deformation des optischen Elementes reduzieren können.
In einer Ausführungsform der Erfindung kann an jedem Aktuator eine individuelle Kraft eingestellt werden. Alle hergestellten Bauteile unterliegen Fertigungs- und - Materialschwankungen, die Einfluss auf die Übertragung der Kräfte vom Aktuator auf das Halteelement und vom Halteelement weiter auf das optische Element haben können. Aktuatoren, bei denen die auf das Halteelement wirkende Kraft individuell einstellbar ist, haben den Vorteil, die oben genannten Einflüsse kompensieren zu können, wenn beispielsweise eine Kalibrierung der Deformationen am optischen Element im Verhältnis zur von dem Aktuator gelieferten Kraft durchgeführt wird und diese beispielsweise in einer Tabelle hinterlegt wird.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann eine Regelungseinheit vorhanden sein, welche ein Messsystem zur Messung der Deformation des optischen Elementes und einen Regler zur Berechnung der Aktuatorkraft und/oder des Aktuatorverfahrweges umfassen kann und welche mit mindestens einem Aktuator verbunden sein kann. Die Regelung und/oder Steuerung kann die für eine bestimmte Deformation des optischen Elementes benötigte Kraft und/oder Weg am Aktuator einstellen. Kraftaktuatoren wie zum Beispiel Lorentz-Motoren können genauso verwendet werden wie ein einfacher Spindelantrieb, bei dem der Weg beispielsweise über eine Feder in eine Kraft am Halteelement umgewandelt werden kann, wobei die Feder beispielsweise als Druckfeder ausgestaltet sein kann. Neben der Kombination von Spindelantrieb und Druckfeder kann jede andere Art von geeigneten Aktuatoren, wie beispielsweise Piezo-Hybrid-Antriebe, Schrittmotoren, Schneckenantriebe, Piezostacks oder Luft- oder Wasserbälge zur Deformation des Halteelementes verwendet werden.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann mindestens ein Aktuator durch die Regelungseinheit in einem semiaktiven Betriebsmodus ansteuerbar sein. In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann mindestens ein Aktuator durch die Regelungseinheit in einem aktiven Betriebsmodus ansteuerbar sein. Die hier beschriebenen Aktuatoranordnungen für optische Systeme können die nach der Fertigung und der Montage des Systems verbleibenden Abbildungsfehler im montierten Zustand des optischen Systems korrigieren. Durch die unterschiedlichen Anforderungen an die Dauer einer Korrektur der Abbildungsfehler wird zwischen semiaktiven und aktiven Aktuatoranordnungen unterschieden, wobei eine semiaktive Aktuatoranordnung eine vorgegebene Soll-Position gesteuert oder geregelt anfährt und die Regelungseinheit danach wieder abgeschaltet wird. Eine semiaktive Aktuatoranordnung besitzt daher vorzugsweise einen selbsthemmenden Antrieb oder die Kraft oder die Position des Aktuators kann nach Erreichen der vorgegebenen Soll-Position eingefroren werden, beispielsweise durch ein Feststellelement. Eine aktive Aktuatoranordnung dagegen regelt ihre aktuelle Soll-Position in einem geschlossenen Regelkreis und ist im Betrieb immer aktiv, wobei die Aktuatoren eine entsprechende Auslegung bezüglich Verstellzyklen besitzen müssen, was beispielsweise bei Piezoantrieben gegeben ist. Während des Betriebes des optischen Systems in einer Lithographieanlage, einem Waferinspektionssystem oder einer anderen Maschine der Halbleitertechnologie kommt es zu Veränderungen des optischen Systems, die beispielsweise durch Alterung des Materials, Kontamination der optischen Elemente oder auch Erwärmung des optischen Systems durch die Nutzstrahlung verursacht werden können. Die Zyklen in denen die oben beschriebenen Korrekturen durchgeführt werden sind unterschiedlich lang und finden daher auch zu unterschiedlichen Zeiten statt. Die Justage nach dem Aufbau des optischen Systems wird einmalig durchgeführt und hat bei der Dauer der Einstellung nur geringe Zeitbeschränkungen. Korrekturen, die auf Grund von langsamen über die Lebensdauer entstandenen Abbildungsfehler notwendig sind, müssen nur alle paar Wochen, Monaten oder Jahren stattfinden und können im Rahmen von anderen Wartungsarbeiten an den Maschinen eingeplant werden, stellen also auch keine hohen Anforderungen an die Dauer der Einstellung durch die Aktuatoren. Korrekturen für Fehler, die im Betrieb entstehen und die Abbildungsqualität direkt und signifikant negativ beeinflussen, müssen häufig auch während des Betriebes korrigiert werden
In einer Ausführungsform der Erfindung kann die Regelungseinheit so eingerichtet sein, dass Eigenmoden des Halteelementes und des optischen Elementes durch Ansteuerung der Aktuatoren gedämpft werden können. Durch Anregung von außen oder durch andere Subsysteme in der Maschine der Halbleitertechnologie, in welcher die Aktuatoranordnung verbaut ist, wie beispielsweise die Waferstage in einer Lithograhiemaschine, können die optischen Elemente angeregt werden und in ihren Eigenmoden schwingen. Durch eine geeignete Anordnung der Aktuatoren und geeignete Messsysteme können die Anregungen der Eigenmoden durch die Aktuatoren gedämpft werden.
In einer weiteren Ausführungsform kann ein Verbindungselement zwischen dem Halteelement und der Tragstruktur angeordnet sein. Das Verbindungselement verbindet zusätzlich zu den Aktuatoren das Halteelement mit der Tragstruktur, um die Anbindung von Halteelement und Tragstruktur vorteilhaft zu versteifen.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist mindestens ein zusätzliches Verbindungselement zwischen dem Halteelement und der Tragstruktur als Blattfeder ausgeführt. Die Anbindung der Aktuatoren ist üblicherweise nur in der Wirkrichtung der Aktuatoren steif ausgestaltet. Die Blattfeder ist in ihrer Breiten- und Längenausdehnung steif, wogegen sie senkrecht zur Breiten- und Längenausdehnung und bei Rotation um die Längs- oder Querachse der Blattfeder weich ist. Werden die Blattfedern in Richtung ihrer Längenausdehnung senkrecht zur Wirkrichtung der Aktuatoren angeordnet, kann das Halteelementes zur Tragstruktur in allen 6 Freiheitsgeraden steif angebunden werden, wobei sich die Steifigkeiten des Aktuators und der Blattfedern ergänzen.
Weich soll in diesem Zusammenhang bedeuten, dass die Steifigkeit der Anbindung und/oder Verbindung im Rahmen der Auslegung und den technischen Eigenschaften des verwendeten Materials, wie beispielsweise Streckgrenzen oder Biegewechselfestigkeiten, so gering wie möglich ausgelegt wird. Im Gegensatz dazu ist steif als eine im Rahmen der Auslegung und den technischen Eigenschaften des verwendeten Materials größtmögliche Steifigkeit zu verstehen.
Die Anbindung der Aktuatoren kann beispielsweise ein Kardangelenk enthalten, welches beispielsweise in Form von zwei um 90° verdreht zueinander angeordneten Blattfedern ausgeführt sein kann, welches den Vorteil hat, dass das Kardangelenk spielfrei arbeitet. Die Blattfedern können mit der Tragstruktur und dem Halteelement lösbar verbunden werden, wie beispielsweise durch eine Schraubverbindung, aber auch eine einstückige Lösung aus Tragstruktur, Halteelement und Blattfeder ist denkbar.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung können die Verbindungselemente und die Aktuatoren jeweils paarweise umfänglich an den gleichen Angriffspunkten des Halteelementes und der Tragstruktur angeordnet sein. Durch die Anordnung der Verbindungselemente und der Aktuatoren am gleichen Angriffspunkt des Halteelementes und der Tragstruktur verläuft der Kraftfluss der durch die Aktuatoren eingebrachten parasitären Kräfte direkt vom Anbindungspunkt der Aktuatoren zum Anbindungspunkt der Verbindungselemente und nicht durch das Halteelement, womit parasitäre Deformationen des Halteelementes und des daran angebundenen optischen Elementes vermieden werden können.
In einer weiteren alternativen Ausführungsform der Erfindung können die Verbindungselemente umfänglich zwischen den Angriffspunkten des Aktuators am Halteelement und der Tragstruktur angeordnet sein. Im Fall einer Deformation des Halteelementes durch die Aktuatoren, wobei die Aktuatoren vorteilhafterweise an den Maxima und den Minima der eingestellten Welligkeit liegen, ist die Relativbewegung der Angriffspunkte der Aktuatoren an dem deformierten Haltelement und der sehr steifen und daher minimal deformierten Tragstruktur am größten. Durch die Anordnung der Verbindungselemente zwischen den Angriffspunkten der Aktuatoren liegen die Verbindungselemente nicht an dem Ort der maximalen Auslenkung und werden weniger stark belastet, als bei einer Anordnung am Angriffspunkt der Aktuatoren. Welche der beiden Anordnungen für die Aktuatoranordnung die beste ist, liegt an dem für die Verwendung geforderten Verhältnis von Deformation und Verschiebung des Halteelementes.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann die Wirkrichtung der Aktuatoren parallel zur optischen Achse ausgerichtet sein. Diese Anordnung hat den Vorteil, dass die Anbindung von Aktuator an das Halteelement in Wirkrichtung der Aktuatoren und senkrecht dazu sehr steif ausgeführt werden kann, da keine oder nur minimale parasitäre Bewegungen senkrecht zur Bewegungsrichtung der Aktuatoren auftreten. Dadurch kann auf die Verbindungselemente verzichtet werden, wodurch der Aufbau vorteilhafterweise vereinfacht wird.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung können die Wirkrichtungen der Aktuatoren nicht parallel zur optischen Achse ausgerichtet sein. Aktuatoranordnungen zur Verschiebung von optischen Elementen in Richtung der optischen Achse haben üblicherweise ihre Wirkrichtung in Richtung der optischen Achse. In einer beispielhaften Anordnung von 8 Aktuatoren, die in gleichen Abständen am Umfang des Halteelementes und der Tragstruktur, die beide ringförmig um das optische Element ausgeführt sein können, angeordnet sind und deren Wirkrichtung parallel zur optischen Achse des Systems und damit der Linse wirken, kann eine Verschiebung in Richtung der optischen Achse und eine Verkippung um jede Achse senkrecht zur optischen Achse realisiert werden. Sollen mit mehreren Aktuatoren auch die Freiheitsgrade Verschiebung senkrecht zur optischen Achse und Rotation oder Kipp um die optische Achse angesteuert werden, müssen die Wirkrichtung der Aktuatoren auch Komponenten in diesen Freiheitsgraden besitzen, um diese Ansteuerung vornehmen zu können.
In einer weiteren Ausführungsform können die Wirkrichtungen der Aktuatoren gegenüber der Tragstruktur in tangentialer Richtung verkippt sein. Die Tragstruktur der Aktuatoranordnung kann wie das optische Element und das Haltelement häufig kreisförmig ausgestaltet sein und umgibt das optische Element und das Halteelement in Form eines Ringes. Die Verkippung der Wirkrichtung der Aktuatoren in tangentiale Richtung der Tragstruktur hat den Vorteil, dass die Aktuatoranordnung in radialer Richtung der Tragstruktur ein Minimum an Bauraum benötigt. Durch die Anordnung der Aktuatoren in tangentialer Richtung kann das Halteelement zusätzlich in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse verschoben und/oder um die optische Achse gedreht werden.
In einer Ausführungsform der Erfindung können die Wirkrichtungen von jeweils zwei benachbarte Aktuatoren im gleichen Anstellwinkel zueinander verkippt sein, welches die Ansteuerung der Aktuatoren vereinfacht, da durch die symmetrische Anordnung der Aktuatoren die Berechnung der Bewegungen vereinfacht wird.
In einer weiteren Ausführungsform können die Kräfte und/oder Momente des Aktuators über einen Hebel auf das Halteelement übertragen werden. Durch den Hebel, der an der Tragstruktur mit einem Gelenk angebunden ist, kann eine Übersetzung der Kraft des Aktuators realisiert werden und der Aktuator kann radial nach außen, also von der optischen Achse weiter entfernt, angeordnet werden. Dies hat den Vorteil, dass kein Bauraum für eine direkte Anbindung des Aktuators an das Halteelement vorgesehen werden muss, der häufig durch benachbarte Halteelemente und optische Elemente stark eingeschränkt ist.
In einer Ausführungsform der Erfindung können der Hebel und das Halteelement über einen Draht miteinander verbunden sein. Der Draht kann Bewegungen und/oder Kräfte nur entlang seiner Längsausdehnung übertragen, sodass parasitäre Bewegungen und/oder Kräfte vom Hebel nicht oder nur in stark abgeschwächter Form an das Halteelement übertragen werden können. Weiterhin kann der Draht an dem Hebel und dem Halteelement entweder so befestigt sein, dass er Druckkräfte und Zugkräfte übertragen kann. Ist der Draht nur an der Tragstruktur oder dem Halteelement fest verbunden, kann der Draht nur Druckkräfte übertragen, da bei Zugkräften der Draht an der Stelle, an der er nicht fest mit der Tragstruktur oder dem Halteelement verbunden ist, abheben würde. Vorteilhafterweise wird der Draht durch eine Kraft, wie beispielsweise eine Feder an die nicht fest verbundene Kontaktstelle gedrückt um ein Abheben des Drahtes von dem Halteelement bei Reduzierung der Druckkraft durch den Aktuator zu vermeiden.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann zwischen Aktuator und Hebel eine erste Feder angeordnet sein, wobei die Vorspannung der ersten Feder einstellbar sein kann. Die zwischen dem Aktuator und dem Hebel angeordnete Feder wandelt einerseits den Weg des Aktuators in eine Kraft um, andererseits wird durch die erste Feder auch eine Gegenkraft auf den Aktuator ausgeübt, die beispielsweise bei einem Spindelantrieb das Umkehrspiel der Spindel größtenteils minimieren oder vollständig vermeiden kann.
In einer weiteren Ausführungsform kann zwischen dem Halteelement und der Tragstruktur eine zweite Feder angeordnet sein, wobei die Vorspannung der zweiten Feder einstellbar sein kann. Die zweite Feder zwischen dem Halteelement und der Tragstruktur kompensiert die Kraft der Vorspannung des Aktuators, also die Kraft der Feder zwischen dem Aktuator und dem Hebel, um eine Deformation des Halteelementes und somit des optischen Elementes zu minimieren und so eine deformationsfreie Stellung, im Folgenden auch als Nullstellung bezeichnet, der Aktuatoranordnung zu ermöglichen. Durch die Einstellbarkeit der zweiten Feder kann die Kraft, die auf den Innenring wirkt, individuell eingestellt werden und so an jedem Angriffspunkt des Halteelementes individuell angepasst werden. Zusätzlich können durch die beiden Federn zwischen Aktuator und Hebel und zwischen Halteelement und Tragstruktur auch mögliche Unterschiede in den Steifigkeiten und Geometrien des Innenringes und/oder der Federn selbst ausgeglichen werden.
In einer weiteren alternativen Ausführungsform der Erfindung kann in der Tragstruktur ein fluidgefüllter Hohlraum mit Kammern, die mit einer Membran verschlossen sind, vorhanden sein. Die Kammern sind an den Stellen angeordnet, an denen ein Hebel über ein Kraftübertragungselement an dem Halteelement angreift und die Membranen das Haltelement auf der dem Angriffspunkt des Kraftübertragungselementes gegenüberliegenden Seite kontaktieren. Die Kammern können über einen Verbindungskanal miteinander verbunden sein und ergeben zusammen mit dem Verbindungskanal einen fluidgefüllten Hohlraum. Das Fluid kann ein Gas, wie beispielsweise Luft oder eine Flüssigkeit, wie beispielsweise Wasser oder Öl, sein. Die Anordnung der Kammern ersetzt die Federn zwischen dem Halteelement und der Tragstruktur. In der Nullstellung (keine Deformation des Halteelementes) drücken alle Aktuatoren mit der gleichen Kraft über das Halteelement auf die Membranen. Bei der Einstellung einer Deformation, wie beispielsweise einer Zweiwelligkeit, im Folgenden auch als Astigmatismus bezeichnet, wird die Kraft an zwei diametral gegenüberliegenden Aktuatoren erhöht und an zwei anderen ebenfalls diametral gegenüberliegenden Aktuatoren verringert und die Aktuatoren zwischen den Aktuatoren mit erhöhter Kraft und den Aktuatoren mit verringerter Kraft auf Werte eingestellt, die den Astigmatismus des Halteelementes unterstützen. Eine Erhöhung der Kraft auf eine Membran einer Kammer führt zu einer Verringerung des Volumens in dieser Kammer, eine Verringerung der Kraft auf eine Membran einer Kammer vergrößert das Volumen der Kammer. Durch die Verbindung der Kammern untereinander und der symmetrischen Verteilung von Krafterhöhung und Kraftverringerung in den Kammern kann das Fluid von den Kammern mit geringerem Volumen in die Kammern mit vergrößertem Volumen fließen und so bei gleichem Druck einen Ausgleich schaffen. Ein Vorteil dieser Lösung ist eine höhere Steifigkeit durch geringeren Bauraum im Haltelement im Vergleich zu den einstellbaren Federn und durch das unter Druck stehende Fluid und ein geringeres Risiko einer Verschiebung des gesamten optischen Elements entlang seiner optischen Achse durch den Ausgleich der Kräfte auf das Halteelement durch das Fluid.
In einer weiteren Ausführungsform kann die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Aktuatoranordnung nach einer der oben beschriebenen Ausführungsformen einschließen. In Projektionsbelichtungsanlagen entstehen durch den Betrieb selbst und über Langzeiteffekte im optischen Material, wie zum Beispiel Compaction, Abbildungsfehler in der Wellenfront, die entscheidenden Einfluss auf die Abbildung des Reticles auf den Wafer haben. Durch die Verwendung einer Aktuatoranordnung nach einer der oben beschriebenen Ausführungsformen können die Abbildungsfehler korrigiert werden und so die Abbildung des Reticles auf den Wafer vorteilhaft verbessern.
In einer weiteren Ausführungsform kann die Erfindung eine Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Aktuatoranordnung nach einer der oben beschriebenen Ausführungsformen einschließen. In Waferinspektionsanlagen entstehen durch den Betrieb selbst und über Langzeiteffekte im optischen Material, wie zum Beispiel Compaction, Abbildungsfehler in der Wellenfront, die entscheidenden Einfluss auf die Abbildung des Wafers haben. Durch die Verwendung einer Aktuatoranordnung nach einer der oben beschriebenen Ausführungsformen können die Abbildungsfehler korrigiert werden und so die Abbildung des Wafers vorteilhaft verbessern.
Nachfolgend werden Ausführungsformen und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

1a eine exemplarische Darstellung einer Aktuatoranordnung aus dem Stand der Technik,
1b eine exemplarische Darstellung einer Aktuatoranordnung aus dem Stand der Technik,
1c eine exemplarische Darstellung einer Aktuatoranordnung aus dem Stand der Technik,
2a eine schematische Darstellung einer Aktuatoranordnung aus der Erfindung,
2b eine weitere schematische Darstellung einer Aktuatoranordnung aus der Erfindung,
3a eine schematische Schnittdarstellung einer ersten Ausführungsform der Erfindung,
3b eine schematische Schnittdarstellung einer zweiten Ausführungsform der Erfindung,
3c eine schematische Schnittdarstellung einer dritten Ausführungsform der Erfindung,
4a eine schematische Schnittdarstellung einer vierten Ausführungsform der Erfindung,
4b eine schematische Detailansicht einer vierten Ausführungsform der Erfindung,
5 eine schematische Ansicht einer erfindungsgemäßen Anordnung,
6 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, in der die Erfindung zur Anwendung kommen kann, und
7 eine Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie, in der die Erfindung zur Anwendung kommen kann.

1 zeigt exemplarisch eine Aktuatoranordnung 1 aus dem Stand der Technik in einer vereinfachten schematischen Darstellung, wobei zum einfacheren Verständnis auf ein Halteelement und eine Tragstruktur verzichtet wurde und lediglich ein optisches Element 2, Lagerstellen 3 und Aktuatoren 4 dargestellt sind. Die Lagerstellen 3 des optischen Elementes 2 sind um 180° diametral versetzt am Umfang des optischen Elementes 2 angeordnet, liegen sich also gegenüber. Die beiden Lagerstellen 3 definieren eine Achse, die im Folgenden als X-Achse bezeichnet wird. Die Aktuatoren 3 liegen zu den Lagerstellen 3 jeweils um 90° versetzt ebenfalls am Umfang des optischen Elementes 2 und bilden ebenfalls eine Achse, die senkrecht zur X-Achse liegt und im Folgenden als Y-Achse bezeichnet wird. Die X-Achse und die Y-Achse spannen ein orthogonales Koordinatensystem auf, wobei die Z-Achse in die Blattebene gerichtet ist und gleichzeitig die optische Achse des optischen Elementes 2 darstellt. Durch Ansteuerung der beiden dargestellten Aktuatoren 4 mit einer nicht gezeigten Regelungseinheit, wobei die Aktuatoren 4 in die gleiche Richtung wirken, beispielsweise in die Richtung der Z-Achse, wird das optische Element 2 tangential zweiwellig deformiert, nimmt also eine astigmatische Form an. Ein Nachteil dieser Lösung ist es, dass der Mittelpunkt des optischen Elementes 2 durch die festen Lagerstellen 3 in Richtung der Z-Achse zusätzlich zur Deformation auch verschoben wird, welches ebenfalls zu einer optischen Wirkung des optischen Elementes 2 führt. Die oben angesprochene Regelungseinheit umfasst Sensorik zur Erfassung der Deformation des optischen Elementes 2 und optional zusätzliche Sensorik, die die Position der Aktuatoren 4 erfassen kann und ist so ausgestaltet, dass sie die Deformation und Festkörperbewegungen des optischen Elementes 2 steuern und regeln kann.
1b zeigt eine Aktuatoranordnung 1, die im Wesentlichen identisch mit der in 1a gezeigten Aktuatoranordnung 1 aufgebaut ist, mit dem Unterschied, dass die Lagerstellen 3 und die Aktuatoren 4 um 45° um die Z-Achse gedreht angeordnet sind. Beim Verfahren der Aktuatoren 4 wird sich im optischen Element 2 ebenfalls eine tangentiale zweiwellige Deformation ausbilden.
1c zeigt eine Kombination der beiden in 1a und 1b gezeigten Aktuatoranordnungen 1 an einem optischen Element 2. Die Lagerstellen 3 liegen paarweise gegenüber und um 45° verdreht zueinander und die Aktuatoren 4 um jeweils 90° verdreht zu den Lagerstellen 3. Mit der in 1c gezeigten Aktuatoranordnung 1 aus dem Stand der Technik ist es möglich, jede Orientierung einer tangentialen zweiwelligen Deformation in das optische Element 2 einzuprägen, wobei diese immer mit einer Verschiebung des Mittelpunktes des optischen Elementes 2 in Richtung der Z-Achse einhergeht.
2a zeigt exemplarisch eine erfindungsgemäße Aktuatoranordnung 1 in einer vereinfachten schematischen Darstellung, wobei zum besseren Verständnis auf die Darstellung eines Halterings und einer Tragstruktur verzichtet wurde und lediglich ein optisches Element 2, Lagerstellen 3 und Aktuatoren 4 dargestellt sind. In dieser exemplarischen Darstellung der Erfindung sind acht Aktuatoren 4 in gleichen Winkelabständen am Umfang des optischen Elementes 2 angeordnet, wobei die Aktuatoranordnung 1 keine Lagerstellen aufweist. Durch die symmetrische Anordnung der Aktuatoren 4 liegen sich immer zwei Aktuatoren 4 gegenüber und bilden eine Achse, die durch den Mittelpunkt des optischen Elementes 2 geht. Durch die in 2a gezeigte Aktuatoranordnung 1 können durch eine nicht dargestellte Reglungseinheit eine tangentiale zweiwellige, dreiwellige und vierwellige Deformation eingestellt werden. Die Größe der Deformationen des Haltelementes 8 können zwischen 100 nm bis zu 500 µm liegen. In einer bevorzugten Ausführung kann die Größe der Deformation des Halteelementes 8 zwischen 400 und 450 nm liegen Die vierwellige Deformation kann dabei nur in der Orientierung eingestellt werden, in der die Angriffspunkte der Aktuatoren 4 an den Maxima und Minima der vierwelligen Deformation liegen. Die einstellbaren Deformationen entsprechen den in der Halbleiterlithographie bekannten Zernikes Z5 und Z6, welche einen Astigmatismus darstellen, den Zernikes Z10 und Z11, welche eine tangentiale Dreiwelligkeit bezeichnen und Z17, welche eine Orientierung der tangentialen Vierwelligkeit bezeichnet. Neben den Deformationen ist es durch die acht Aktuatoren 4 auch möglich, einen Kipp des optischen Elementes 2 um jede Achse, die senkrecht zur Z-Achse steht und eine Verschiebung entlang der Z-Achse einzustellen.
2b zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung in einer ebenfalls schematischen Darstellung, die sich gegenüber der Aktuatoranordnung 1 der 2a dadurch unterscheidet, dass neben jedem Aktuator 4 in radialer von der Z-Achse entfernteren Lage ein weiterer Aktuator 4' angeordnet ist, sodass an den Angriffspunkten der Aktuatoren 4 am optischen Element 2 nicht nur Kräfte in Richtung der Z-Achse eingebracht werden können, sondern auch Momente um die Tangente des Angriffspunktes des Aktuatorpaares 5 am optischen Element 2. Dadurch lassen sich zusätzlich zu den mit der Aktuatoranordnung 1 aus 2a möglichen tangentialen Deformationen auch radiale Deformationen einstellen, die in Kombination mit den tangentialen Deformationen weitere Zernikes, wie Z4, welcher auch als Fokus bezeichnet wird, Z7/Z8, welcher auch als Koma bezeichnet wird, Z12/13 und Z20/21 ergeben. Im Vergleich zum Stand der Technik, wie in den 1a bis 1c beschrieben, kann mit der in 2b dargestellten Aktuatoranordnung 1 eine große Anzahl von tangentialen Deformationen, radiale Deformationen und Kombinationen der radialen und tangentialen Deformationen des optischen Elementes 2 realisiert werden. Zusätzlich kann das optische Element 2 noch in Richtung der Z-Achse verschoben und um jede beliebige zur Z-Achse senkrechten Achse als Festkörper, also ohne Deformation, verkippt werden.
3a zeigt in einer Schnittdarstellung eine Ausführungsform der Erfindung, bei welcher verschiedene tangentiale Deformationen in ein optisches Element 2 eingeprägt werden können, wobei das optische Element 2 der Aktuatoranordnung 1 in der gezeigten Ausführungsform beispielhaft als Linse 2 ausgeführt ist. Die Deformation des optischen Elementes 2 wird durch die Deformation eines Halteelementes 8 durch Aktuatoren 4 erreicht, wobei der Aktuator 4 über einen Hebel 11 mit dem Halteelement 8 verbunden ist. Das optische Element 2 ist über ein Entkopplungselement 9 mit dem Halteelement 8 verbunden. Das Entkopplungselement 9 nimmt das optische Element 2 spannungsfrei, also ohne Deformation des optischen Elementes 2 auf und entkoppelt es gegen Störungen, wie beispielsweise Spannungen durch unterschiedliche Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen dem optischen Element 2 und dem Halteelement 8. Durch das Entkopplungselement 9 wird die Deformation des Halteelementes 8 mit einem festen Übersetzungsverhältnis auf das optische Element 2 übertragen. Das Übersetzungsverhältnis kann in einem Bereich von 1:1 bis 10:1 liegen. In einer bevorzugten Ausführungsform liegt das Verhältnis bei 3:1. Das Entkopplungselement 9 entkoppelt auch tangentiale Momente auf das Halteelement 8, die zu einer ungewollten sehr lokalen Deformation des optischen Elementes 2 führen würden. Alternativ können auch mehrere Entkopplungselemente 9 zwischen Haltelement 8 und optischen Element 2 angeordnet werden. Der Aktuator 4 ist in der in 3a gezeigten Ausführungsform der Erfindung als Schrittmotor 4 ausgeführt und in der Tragstruktur 6 befestigt. Der Aktuator 4 wirkt in Richtung der Z-Achse, die senkrecht auf der optischen Fläche des optischen Elements 2 steht, auf einen Hebel 11. Zwischen dem Hebel 11 und dem Aktuator 4 ist eine erste Druckfeder 13 angebracht, die die Bewegung des Aktuators 4 in eine Kraft umwandelt. Die erste Druckfeder 13 hat neben der Umwandlung der Bewegung des Aktuators 4 in eine Kraft zusätzlich die Aufgabe, das Umkehrspiel der Spindel des Aktuators 4 durch Ausüben einer Kraft auf die Spindel des Aktuators 4 zu minimieren. Der Hebel 11 ist über ein Gelenk 12 an der Tragstruktur 6 gelagert und erlaubt dem Hebel 11 eine Rotation um die Tangente des Gelenkes 12 des Hebels 11 an der Tragstruktur 6. Der Hebel 11 ist steif ausgeführt und überträgt die Kraft auf eine erste Seite eines Kraftübertragungselementes 10, wie beispielsweise einen Draht 10, der auf seiner anderen Seite mit dem Halteelement 8 verbunden ist. Der Draht 10 überträgt die Kraft in seiner Längsausdehnung und hat in allen anderen Freiheitsgraden eine entkoppelnde Wirkung, sodass nahezu keine Momente auf das Halteelement 8 übertragen werden können, die zu ungewollten Deformationen des Halteelements 8 und des optischen Elementes 2 führen würden. Auf der dem Anbindungspunkt des Drahtes 10 gegenüberliegenden Seite des Halteelements 8 ist eine zweite Druckfeder 13' angeordnet, die eine Gegenkraft zu der ersten Druckfeder 13 zwischen Aktuator 4 und Hebel 11 aufbringt. Beide Druckfedern 13, 13' sind jeweils über eine Buchse 14, 14', die auf der einen Seite eine Bohrung, die die Druckfeder 13, 13' aufnimmt und auf der gegenüberliegenden Seite eine Geometrie, wie beispielsweise zwei Löcher, zur Aufnahme eines Werkzeuges zur Einstellung der Einschraubtiefe der Buchse 14, 14' und damit der Vorspannung der Druckfeder 13, 13', aufweist. Die Buchse 14' für die zweite Druckfeder 13' ist über ein Außengewinde in einem weiteren Ring 15 gelagert, der wiederum mit der Tragstruktur 6 verbunden ist und als Gegenlager 15 für die Druckfeder 13' dient. Die zweite Druckfeder 13' an dem Halteelement 8 wird über die Buchse 14' so eingestellt, dass das Halteelement 8, wie in der 3a gezeigt, keine Deformationen aufweist. Das Halteelement 8 ist durch die Anbindung über die Aktuatoren 4 an die Tragstruktur 6 nur in Richtung der Z-Achse steif angebunden und in alle anderen Richtungen weich. Das Halteelement 8 ist daher zusätzlich mit Blattfedern 7 an die Tragstruktur 6 angebunden. Die Blattfedern binden das Halteelement 8 in der X-Y-Ebene, also der Ebene senkrecht zur optischen Achse des optischen Elementes 2, steif an, wobei Deformationen des Halteelementes 8 in Richtung der Z-Achse immer noch möglich sind. Dadurch ist das Halteelement 8 in den Freiheitsgraden, die nicht oder nur in einem sehr kleinen Bereich verstellt werden sollen steif angebunden und bezüglich der Freiheitsgraden die verstellt werden sollen und der Deformationen des Halteelementes weich angebunden. In der in 3a dargestellten Ausführungsform ist die Tragstruktur 6, das Halteelement 8 und die Blattfedern 7 zusammen monolithisch, also einstückig, ausgeführt, was eine gute Ausrichtung des Halteelementes 8 und der Tragstruktur 6 zueinander und durch identische Materialeigenschaften eine geringe Abweichung in den mechanischen Eigenschaften der Blattfedern 7 zur Folge hat. Die Blattfedern 7 sind umfänglich an den gleichen Stellen am Umfang der Tragstruktur 6 und des Halteelementes 8 angebunden wie die Aktuatoren 4, um den Kraftfluss von parasitären Kräften von dem Halteelement 8 direkt in die Tragstruktur 6 zu leiten und dadurch parasitäre Deformationen des Halteelementes 8 und damit des optischen Elementes 2 zu minimieren. In der in 3a dargestellten Aktuatoranordnung 1 kann an jedem Aktuator 4 eine individuelle Kraft eingestellt werden, wodurch eine Kraftübertragung auf das Halteelement 8 mit minimalen parasitären Störungen sichergestellt werden kann und so eine Deformation des optischen Elementes 2 in der gewünschten Form erreicht wird ohne weitere nicht gewollte Deformationen in das optische Element 2 einzuprägen. Auf Grund der durch die Druckfeder 13 herbeigeführten Umwandlung des Vorschubs des Aktuators 4, also des zurückgelegten Wegs, in eine Kraft, kann die eingeleitete Kraft und damit die Deformation des Halteelementes 8 vorteilhaft in kleineren Inkrementen eingestellt werden. Die Druckfeder 13 wirkt hier als zusätzliches Übersetzungselement, dessen Übersetzung abhängig von der Federsteifigkeit ist.
Die in 3b gezeigte zweite Ausführungsform der Erfindung ist von ihrem Aufbau identisch zu der in der 3a gezeigten ersten Ausführungsform der Erfindung mit Ausnahme der in 3a gezeigten Druckfedern 13' zwischen Halteelement 8 und Ring 15. Die Druckfedern 13' und die Buchsen 14' aus Fig, 3a, die jedem Aktuator 4 zugeordnet sind, sind in 3b durch Kammern 18, die mit einer Membran 19 in Richtung des Halteelementes 8 verschlossen sind und wobei die Membranen 19 mit dem Halteelement 8 in Kontakt stehen und über einen Verbindungskanal 20 miteinander verbunden sind, der wiederum mit einem Deckel 21 verschlossen ist, ersetzt. Die Kammern 18, die Membranen 19 und die Verbindungskanal 20 mit dem Deckel 21 bilden zusammen einen Hohlraum 17 im Gegenlager 15, welches ein mit einem Fluid gefülltes geschlossenes System ist. In der neutralen Stellung der Aktuatoranordnung 1, also in der Stellung, in der das Halteelement 8 nicht deformiert ist, sind die Kammern 18 alle annähernd gleich groß. Durch die Auslenkung der Aktuatoren 4 wird das Volumen in einem Teil der Kammern 18 über die Membran 19 reduziert, wogegen das Volumen in einem anderen Teil der Kammern 18 vergrößert wird. Durch den Verbindungskanal 20 wird das Fluid von den Kammern 18 mit reduziertem Volumen in die Kammern 18 mit erhöhtem Volumen verschoben. Durch die symmetrische Auslenkung der Aktuatoren 4 und das geschlossene System bleibt das Volumen im Hohlraum 17 immer identisch und wird nur zwischen den Kammern 18 verschoben. Das Fluid im Hohlraum 17 steht unter Druck, um die für die neutrale Stellung des Halteelementes 8 notwendige Gegenkraft zu den ersten Druckfedern 13 zwischen Aktuator 4 und Hebel 11 zu gewährleisten. Das inkompressible Fluid führt zu einer zusätzlichen Steifigkeit in der Anbindung des Aktuators 4 und das Halteelement 8 an das Gegenlager 15 und somit kann auch die Aktuatoranordnung 1 steifer gestaltet werden als in der in 3a dargestellten ersten Ausführungsform der Erfindung.
Die in 3c dargestellte dritte Ausführungsform der Erfindung hat mindestens einen zusätzlichen zweiten Aktuator 4' an einem Angriffspunkt des Halteelementes 8, der radial nach außen von dem in 3a und 3b dargestellten Aktuator 4 an der Tragstruktur 6 angebunden ist. Die Anbindung des Aktuators 4' an die Tragstruktur 6 und das Halteelement 8 ist identisch zu der in 3a dargestellten Anbindung und wird daher an dieser Stelle nicht ein weiteres Mal beschrieben. Der zweite Aktuator 4' ist im Vergleich zu dem ersten Aktuator 4 um 180° gedreht an der Tragstruktur 6 angebracht und der Kraftangriffspunkt des Drahtes 10 hat einen radialen Versatz zu dem Kraftangriffspunkt des ersten Aktuators 4, durch welchen ein Moment auf das Halteelement 8 eingeleitet werden kann. Der Draht 10 des zweiten Aktuators 4' wird hierbei durch eine Durchbrechung im Gegenlager 15 geführt. Der Draht 10 ist in der dargestellten Ausführungsform fest mit dem Hebel 11 und dem Halteelement 8 verbunden und kann dadurch Druck- und Zugkräfte aufbringen. Die Druckfeder 13 hat die Aufgabe die Vorspannung zur Vermeidung des Umkehrspieles im Aktuator 4 bereitzustellen und die Druckfeder 13' hat die Aufgabe eine deformationsfreie neutrale Stellung des Halteelementes 8 einzustellen und die durch die Auslenkung des Aktuators 4 erzeugten Rückstellkräfte der Druckfedern 13, 13' unterstützen den Aktuator lediglich.
In einer weiteren nicht dargestellten Ausführungsform kann die Anbindung des Drahtes 10 an dem Halteelement 8 nur über die Anpresskraft der Druckfedern 13,
13' hergestellt sein, sodass der Draht 10 nur Druckkräfte übertragen kann. In dieser Ausführungsform der Erfindung haben die Druckfedern 13, 13' die Aufgabe bei einer Reduzierung der Druckkraft durch den Draht 10 auf das Halteelement 8 sicherzustellen, dass der Draht 10 und das Halteelement 8 immer in Kontakt bleiben. Die Aktuatoranordnungen 1 in den 3a - 3c sind in Verbindung mit einer nicht dargestellten Regelungseinheit besonders für die Verwendung als semiaktive Manipulatoren geeignet, da die als Aktuatoren 4 verwendeten Schrittmotoren 4 selbsthemmend ausgebildet sind.
Die 4a zeigt die vierte Ausführungsform der Erfindung, in der das optische Element 2 beispielhaft als Spiegel 2 ausgeführt ist. Der prinzipielle Aufbau der Aktuatoranordnung 1 ist identisch zu den in 3a bis 3c beschriebenen Ausführungsformen der Erfindung. Der Spiegel 2 ist mit einem Halteelement 8 verbunden, welches über Aktuatoren 4 und Blattfedern 7 an einer Tragstruktur 6 angebunden ist. In der in 4a beschriebenen Ausführungsform der Erfindung ist das Halteelement 8 als Absatz 8 ausgeführt, der in der Mitte der Biegelinie des Spiegels 2 angeordnet ist, wodurch parasitäre Oberflächendeformationen durch zusätzlich in den Spiegel 2 eingebrachte Zug- und Druckspannungen vermieden werden. Der Absatz 8 und der Spiegel 2 sind zusammen als ein Teil, also einstückig gefertigt um Materialunterschiede, wie thermischen Ausdehnungskoeffizienten und Materialinhomogenitäten als mögliche Ursachen für Verspannungen zu minimieren und die Bezugsflächen zueinander durch eine Fertigung in einer Aufspannung mit bestmöglicher Genauigkeit herstellen zu können. Die Aktuatoren 4 sind in dieser Ausführungsform als Piezoantriebe 4 ausgebildet und über ein Kardangelenk 22 mit den Anbindungspunkten zu der Tragstruktur 6 und dem Absatz 8 verbunden. Das Kardangelenk 22 ist als monolithisch gefertigte Blattfederanordnung mit zwei hintereinander geschalteten und um 90° verdreht angeordnete Blattfedern ausgestaltet und ist wie der Draht in den weiter oben beschriebenen Ausführungsformen in Richtung der Z-Achse steif und in alle anderen Bewegungsrichtungen weich ausgestaltet und übertragt somit nur Kräfte in Richtung der Blattfedern. Die gezeigte Ausführungsform ist für die Verschiebung, Verkippung und die Deformation des Spiegels 2 in folgenden Zernikes ausgebildet.

- Translation in X-, Y- und Z-Richtung, wobei die Z-Richtung die Hauptrichtung ist
- Z5, Z6, Z10, Z11 und Z17

X

Y

4

4a

23

Z

2

4

X

Y

4

6

4

Z

4a

2

23

Z

X

Y

X

Y

Die 4b zeigt eine Detaildarstellung zu der vierten Ausführungsform der Erfindung, die die Anordnung der Blattfedern 7 zeigt. Die Blattfedern 7 sind wie in den oben beschriebenen Ausführungsformen umfänglich an den Stellen angebunden, an denen auch die Anbindungspunkte der Aktuatoren 4 angeordnet sind, aber im Unterschied zu der monolithischen Anbindung in den 3a - 3c, über Verschraubungen mit der Tragstruktur 6 und dem Absatz 8 verbunden. Dies hat den Vorteil, dass die Blattfedern erst dann montiert werden, wenn bei einer ersten Montage oder Justage von dem Spiegel 2 zu der Tragstruktur 6 das optische Elementes 2 mit dem Halteelement 8 durch die Bewegung der Aktuatoren in X-Richtung oder Y-Richtung oder durch die Rotation um die Z-Achse in eine optimale Position bewegt wurde, wobei die Verbindung der Tragstruktur 6 mit dem Absatz 8 durch die Blattfedern 7 die Steifigkeit der Aktuatoranordnung 1 in der X-Y-Ebene erhöhen.
Die in 4a und 4b gezeigte Aktuatoranbindung kann durch eine Erweiterung mit je einem zusätzlichen Aktuator, der radial versetzt zu den gezeigten Aktuatoren angeordnet ist, die Zernikes Z7, Z8, Z12, Z13, Z19 und Z20 eingestellt, wobei durch das Einbringen von Momenten auch radiale Welligkeiten eingestellt werden können. Die in 4a und 4b dargestellte Ausführungsform mit der direkten Anbindung der als Piezoantriebe 4 ausgestalteten Aktuatoren 4 an die Tragstruktur 6 und den Absatz 8 ist für eine aktive Ansteuerung geeignet und kann in Verbindung mit einer nicht dargestellten Regelungseinheit auch dazu verwendet werden, Schwingungen in den Eigenmoden des Spiegels, die durch Störungen von außen in Form von Schall oder Vibrationen angeregt werden können, zu dämpfen.
Alle gezeigten Ausführungsformen können mit acht Aktuatoren 4 auf einem Durchmesser oder auch mit acht Aktuatorpaaren 5 ausgestaltet werden, wobei die Aktuatorpaare 5 so ausgestaltet sind, dass die Aktuatoren 4, 4' auf zwei Radien aber in der gleiche Winkelstellung angeordnet sind und durch den radialen Versatz der Angriffspunkte der Aktuatoren 4, 4' ein radiales Moment auf den Absatz 8 und damit auf den Spiegel 2 ausüben können.
In 5 ist eine schematische Darstellung einer Aktuatoranordnung 1 dargestellt, die neben der Aktuatoranordnung 1 auch eine Regelungseinheit 26 und eine Sensoreinheit 25 zeigt. Der Sensoreinheit 25 ist in dieser Ausführungsform der Erfindung an dem Gegenlager 15 befestigt und so ausgebildet, dass sie Daten über die Position und die Deformation des optischen Elementes 2 erfassen kann. Die Sensoreinheit 25 ist mit der Regelungseinheit 26 verbunden, die wiederum mit dem Aktuator 4 verbunden ist. Die Reglungseinheit 26 wertet die von der Sensoreinheit 25 erfassten Daten der Position und der Deformation des optischen Elementes 2 aus und stellt über die Ansteuerung der Aktuatoren 4 die Sollposition und die Solldeformation des optischen Elementes 2 ein. Die Sensoreinheit 25 kann auch aus verschiedenen Sensoren bestehen, wie beispielsweise einem Sensor zur Messung der Festkörperverschiebung des optischen Elementes 2 und einen weiteren Sensor zur Messung der Deformation des optischen Elementes 2.
In 6 ist eine exemplarische Projektionsbelichtungsanlage 31 dargestellt, in welcher die Erfindung zur Anwendung kommen kann. Die Projektionsbelichtungsanlage 31 dient zur Belichtung von Strukturen auf ein mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im Allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als Wafer 32 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z.B. Computerchips.
Die Projektionsbelichtungsanlage 31 umfasst dabei im Wesentlichen eine Beleuchtungseinrichtung 33, einer Reticle Stage 34 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer Struktur versehenen Maske, einem sogenannten Reticle 35, durch welches die späteren Strukturen auf dem Wafer 32 bestimmt werden, einer Waferstage 36 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 32 und einer Abbildungseinrichtung, nämlich einem Projektionsobjektiv 37, mit mehreren optischen Elementen 38, die über Fassungen 39 in einem Objektivgehäuse 40 des Projektionsobjektives 37 gehalten sind.
Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, dass die in das Reticle 35 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 32 abgebildet werden; die Abbildung wird in der Regel verkleinernd ausgeführt.
Die Beleuchtungseinrichtung 33 stellt einen für die Abbildung des Reticles 35 auf dem Wafer 32 benötigten Projektionsstrahl 41 in Form elektromagnetischer Strahlung bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in der Beleuchtungseinrichtung 33 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 41 beim Auftreffen auf das Reticle 35 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
Über den Projektionsstrahl 41 wird ein Bild des Reticles 35 erzeugt und von dem Projektionsobjektiv 37 entsprechend verkleinert auf den Wafer 32 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Dabei können das Reticle 35 und der Wafer 32 synchron verfahren werden, so dass praktisch kontinuierlich während eines sogenannten Scanvorganges Bereiche des Reticles 35 auf entsprechende Bereiche des Wafers 32 abgebildet werden. Das Projektionsobjektiv 37 weist eine Vielzahl von einzelnen refraktiven, diffraktiven und/oder reflexiven optischen Elementen 38, wie z.B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen auf, wobei diese optischen Elemente 8 beispielsweise durch eine oder mehrere der vorliegend beschriebenen Aktuatoranordnungen aktuiert werden können.
In 7 ist ein mit dem allgemeinen Bezugszeichen 110 versehenes Auflichtmikroskop zur Hell- und/oder Dunkelfeldmikroskopie zum Inspizieren eines Objekts 112 in einer Objektebene 114 dargestellt. Ein derartiges Auflichtmikroskop 110 ist Bestandteil einer Waferinspektionsanlage 111. Das Auflichtmikroskop 110 weist ein Objektiv 116 und eine Lichtquelle 118 auf, die Licht mit einem breitbandigen Spektrum erzeugt. Das von der Lichtquelle 118 emittierte Licht wird in einer Beleuchtungseinrichtung 119 des Auflichtmikroskops 110 geführt.
Das Spektrum der Lichtquelle umfasst hierbei zumindest einen Wellenlängenbereich, der den DUV-Wellenlängenbereich bzw. den VUV-Wellenlängenbereich aufweist. Das von der Lichtquelle 118 emittierte Licht wird im Hellfeldmodus des Auflichtmikroskops 110 entlang einem ersten Beleuchtungspfad 120 im Objektiv 116 geführt. Innerhalb des Objektivs 116 ist ein erstes reflektierendes Element 122, das vorliegend als Strahlteiler 122a ausgebildet ist, und eine erste optische Baugruppe 124 angeordnet, die vorliegend ein katadioptrisches Abbildungsobjektiv 124a ist. Durch die Anordnung des ersten reflektierenden Elements 122 und der ersten optischen Baugruppe 124 innerhalb des Objektivs 116 wird eine optische Achse 126 festgelegt.
Im Objektiv 116 verläuft ein Strahlengang 127, der sich entlang der optischen Achse 126 erstreckt. Innerhalb des Objektivs 116 sind zwischen dem ersten reflektierenden Element 122 und der ersten optischen Baugruppe 124 zudem eine zweite 128 und dritte optische Baugruppe 130 angeordnet. Vorliegend weisen die zweite optische Baugruppe 128 und die dritte optische Baugruppe 130 ausschließlich refraktive Optiken auf. Es versteht sich jedoch, dass die zweite optische Baugruppe 128 bzw. die dritte optische Baugruppe 130 auch reflektive Optiken aufweisen können.
Die Beleuchtungseinrichtung 119 weist zudem einen getrennt zum ersten Beleuchtungspfad 120 verlaufenden zweiten Beleuchtungspfad 132 auf, wobei das im zweiten Beleuchtungspfad 132 geführte Beleuchtungslicht mittels eines zweiten reflektierenden Elements 134, das entlang der optischen Achse 126 zwischen der zweiten optischen Baugruppe 128 und der dritten optischen Baugruppe 130 in einer Pupillenebene 136 angeordnet bzw. anordbar ist, in den Strahlengang 127 des Objektivs 116 einkoppelbar ist. Durch den zweiten Beleuchtungspfad 132 wird vorliegend eine Dunkelfeldbeleuchtung der Objektebene 114 bewirkt, wobei das von der Lichtquelle 118 kommende Licht zur Einkopplung in den Strahlengang 127 des Objektivs 116 entlang einem dritten 138 und einem vierten reflektierenden Element 140 im zweiten Beleuchtungspfads 132 geführt ist.
Die Oberfläche des Objekts 112, im Falle einer Waferinspektionsanlage der Wafer 112, wird durch die erste optische Baugruppe 124 in Richtung des ersten reflektierenden Elements 122 abgebildet, wobei hierzu das vom Objekt 112 rückgestreute bzw. rückreflektierte Licht in einem Abbildungspfad 142 geführt ist, der entgegengesetzt dem ersten Beleuchtungspfad 120 verläuft. Der Abbildungspfad 142 wird hierbei durch das erste reflektierende Element 122 in Richtung eines Detektors 144 reflektiert und auf diesen abgebildet.
Die Transmissivität und die Reflektivität des ersten reflektierenden Elements 122 im Wellenlängenbereich des von der Lichtquelle 118 emittierten Lichts betragen vorliegend jeweils 50 %. Zur Abbildung des vom Objekt 112 kommenden Lichts ist zudem zwischen dem ersten reflektierenden Element 122 und dem Detektor 144 eine weitere optische Baugruppe 146 angeordnet. Die weitere optische Baugruppe 146 ist vorliegend lediglich schematisch dargestellt, wobei diese grundsätzlich auch eine Vielzahl von refraktiven bzw. reflektiven Elementen aufweisen kann (nicht dargestellt).
Zur Einkopplung von Licht in den ersten Beleuchtungspfad 120 ist zudem dem ersten reflektierenden Element 122 entlang der optischen Achse 126 vorgelagert ein fünftes reflektierendes Element 148 angeordnet, das das von der Lichtquelle 118 kommende Licht in Richtung des ersten Beleuchtungspfads 120 reflektiert.
Im Hellfeldmodus des Auflichtmikroskops 110 (mit unterbrochenen Linien dargestellt) wird das vierte reflektierende Element 140 derart positioniert, dass es nicht mit dem von der Lichtquelle 18 emittierten Licht wechselwirkt. Der von der Lichtquelle 118 emittierte Lichtstrahl beaufschlagt demnach direkt das fünfte reflektierende Element 148. Das fünfte reflektierende Element 148 lenkt das von der Lichtquelle 118 kommende Licht in Richtung des ersten Beleuchtungspfads 120 um, wodurch eine gewünschte Fläche des Objekts 112 in der Objektebene 114 im Hellfeldmodus beleuchtet wird.
Im Dunkelfeldmodus des Auflichtmikroskops 110 ist das vierte reflektierende Element 140 derart vor der Lichtquelle 118 positioniert, dass das Licht zumindest teilweise in Richtung des zweiten Beleuchtungspfads 132 reflektiert wird. Im Anschluss wird das Licht, durch das dritte reflektierende Element 138 in Richtung des zweiten reflektierenden Elements 134 abgelenkt, das das Licht in den Strahlengang 127 des Objektivs 116 einkoppelt, wodurch eine gewünschte Fläche des Objekts 112 in der Objektebene 114 im Dunkelfeldmodus beleuchtet wird.
Bezugszeichenliste

1: Aktuatoranordnung
2: optisches Element
3: Lagerstelle
4,4': Aktuator
5: Aktuatorpaar
6: Tragstruktur
7: Verbindungselement, Blattfeder
8: Halteelement
9: Entkopplungselement
10: Kraftübertragungselement, Draht
11: Hebel
12: Gelenk
13,13': Feder, Druckfeder
14,14': Buchse
15: Gegenlager, Ring
16: Fluid
17: Hohlraum
18: Kammer
19: Membran
20: Verbindungskanal
21: Deckel
22: Kardangelenk
23: Anstellwinkel Aktuator
24: Biegelinie
25: Sensoreinheit
26: Regelungseinheit
31: Projektionsbelichtungsanlage
32: Wafer
33: Beleuchtungseinrichtung
34: Reticle Stage
35: Reticle
36: Waferstage
37: Projektionsobjektiv
38: Optisches Element
39: Fassung
40: Objektivgehäuse
41: Projektionsstrahl
110: Auflichtmikroskop
111: Waferinspektionsanlage
112: Objekt, Wafer
114: Objektebene
116: Objektiv
118: Lichtquelle
119: Beleuchtungseinrichtung
120: Erster Beleuchtungspfad
122, 122a: erstes reflektierendes Element
124, 124a: erste optische Baugruppe
126: optische Achse
127: Strahlengang
128: zweite optische Baugruppe
130: dritte optische Baugruppe
132: zweiten Beleuchtungspfad
134: zweites reflektierendes Element
136: Pupillenebene
138: drittes reflektierendes Element
140: viertes reflektierendes Element
142: Abbildungspfad
144: Detektor
146: weitere optische Baugruppe
148: Fünftes reflektierendes Element

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 19327603 A1 [0003]

Claims

Aktuatoranordnung (1) umfassend, - ein durch ein Halteelement (8) gehaltenes optisches Element (2), - eine Tragstruktur (6), - Aktuatoren (4), die so eingerichtet sind, dass sie an dem Halteelement (8) Kräfte und/oder Momente ausüben können, dadurch gekennzeichnet, dass das Halteelement (8) derart eingerichtet ist, dass die von den Aktuatoren (4) ausgeübten Kräfte und/oder Momente Deformationen des Halteelementes (8) und damit Deformationen des optischen Elementes (2) bewirken.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens 8 Aktuatoren (4) an dem Halteelement (8) angreifen.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktuatoren (8) so angeordnet sind, dass im optischen Element (2) tangentiale Einwelligkeiten, Zweiwelligkeiten, Dreiwelligkeiten, Vierwelligkeiten und eine radiale Einwelligkeit eingeprägt werden können.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Aktuator (4) in der Mitte der Biegelinie (24) des optischen Elementes (2) an dem Halteelement (8) angreift.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass an jedem Aktuator (4) eine individuelle Kraft einstellbar ist.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Regelungseinheit vorhanden ist, welche ein Messsystem zur Messung der Deformation des optischen Elementes (2) und einen Regler zur Berechnung der Aktuatorkraft und/oder des Aktuatorverfahrweges umfasst und welche mit mindestens einem Aktuator (4) verbunden ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Aktuator (4) durch die Regelungseinheit (26) in einem semiaktiven Betriebsmodus ansteuerbar ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Aktuator (4) durch die Regelungseinheit (26) in einem aktiven Betriebsmodus ansteuerbar ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Regelungseinheit (26) so eingerichtet ist, dass Eigenmoden des Halteelementes (8) und des optischen Elementes (2) durch Ansteuerung der Aktuatoren (4) gedämpft werden.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Verbindungselement (7) zwischen dem Halteelement (8) und der Tragstruktur (6) angeordnet ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Verbindungselement (7) zwischen dem Halteelement (8) und der Tragstruktur (6) als Blattfeder (7) ausgeführt ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungselemente (7) und die Aktuatoren (4) jeweils paarweise umfänglich an den gleichen Angriffspunkten des Halteelementes (8) und der Tragstruktur (6) angeordnet sind.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungselemente (7) umfänglich zwischen den Angriffspunkten der Aktuatoren (4) am Halteelement (8) und der Tragstruktur (6) angeordnet sind.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtungen der Aktuatoren (4) parallel zur optischen Achse ausgerichtet sind.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtungen der Aktuatoren (4) nicht parallel zur optischen Achse ausgerichtet sind.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtungen der Aktuatoren (4) gegenüber der Tragstruktur (6) in tangentialer Richtung verkippt sind.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der Ansprüche 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtungen von jeweils zwei benachbarten Aktuatoren (4) zueinander verkippt sind.
Aktuatoranordnung (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kräfte und/oder Momente des Aktuators (4) über einen Hebel (11) auf das Halteelement (8) übertragen werden.
Aktuatoranordnung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Hebel (11) und das Halteelement (8) über einen Draht (10) miteinander verbunden sind.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Aktuator (4) und Hebel (11) eine erste Feder (13) angeordnet ist, wobei die Vorspannung der Feder (13) einstellbar ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 18,19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Halteelement (8) und der Tragstruktur (6) eine zweite Feder (13') angeordnet ist, wobei die Vorspannung der zweiten Feder (13') einstellbar ist.
Aktuatoranordnung (1) nach Anspruch 18, 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, dass, in der Tragstruktur (6) ein fluidgefüllter Hohlraum (17) mit Kammern (18), die mit einer Membran (19) verschlossen sind vorhanden ist und die Kammern (18) an den Stellen angeordnet sind, an denen ein Hebel (11) an dem Halteelement (8) angreift und die Membranen (19) das Haltelement (8) auf der dem Angriffspunkt des Hebels (11) gegenüberliegenden Seite kontaktieren.
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Aktuatoranordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche.
Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Aktuatoranordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche 1-22.