CN1244099C

CN1244099C - 光学记录介质和它的制造方法

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Publication number: CN1244099C
Application number: CNB038004402A
Authority: CN
Inventors: 山崎刚; 行本智美
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2002-03-20
Filing date: 2003-03-20
Publication date: 2006-03-01
Anticipated expiration: 2023-03-20
Also published as: WO2003079341A1; TW200403652A; KR20040090394A; US20040179463A1; US7307941B2; EP1486963A4; US20080068968A1; JP2003272237A; CN1516873A; EP1486963A1; KR101096348B1; TWI225252B

Abstract

一种光学记录介质和制造这种光学记录介质的方法，该光学记录介质可以减少位于多个光学记录层之间的隔层的膜厚不均匀度，并且可以减少转印基体的扭曲影响及减少产生灰尘和毛口问题等。光学记录介质具有这样的结构：通过隔层(12)进行叠置的至少两个光学记录层(11、13)和光透射层(14)设置在介质基体(10)的至少一个表面上，其中光透射层(14)设置在光学记录层上，该光学记录介质借助通过光透射层(14)把光照射到光学记录层(11、13)上进行记录和再现，及隔层包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜，并且是形成有不平形状的膜，这种不平形状与记录凹陷相对应，或者这种不平形状(12p)是位于它表面上的导向槽，这种膜被硬化。

Description

光学记录介质和它的制造方法

技术领域

本发明涉及一种光学记录介质(在下文中也称为光盘)，本发明尤其涉及一种具有多个光学记录层的多层光盘。

背景技术

近年来，在信息记录领域中，各个地方都在研究光学信息记录方法。这种光学信息记录方法具有一些优点：能够以非接触的方式来记录和再现，并且能够与只读型、可记录型和可重写型的相应存储器格式相兼容，从工业用途到消费者用途的广泛用途被认为是以较小费用实现了大容量外存贮器的方法。

上述各种光学信息记录方法的光学记录介质(在下文中也称为光盘)的大容量可以通过下面方法来得到：借助使作为用在光学信息记录方法中的光源的激光波长较短并且采用具有较大数字孔的物镜，使焦点表面上的光点直径较小。

例如，CD((只读)光盘)的激光波长为780nm，物镜的数字孔(NA)为0.45，并且记录容量为650MB，同时DVD-ROM(数字通用盘只读存储器)的激光波长为650nm，NA为0.6，并且记录容量为4.7GB。

此外，在下一代光盘系统中，借助使用光盘(其中，100μm左右的薄光传输保护膜(覆盖层)形成在光学记录层上)，通过使激光波长为450nm或者更小及NA为0.78或者更大来研究22GB或者更大的大容量。

作为得到还要高的密度的方法，开发了多层光盘(其中两个或者更多个光学记录层通过物理隔层沿着垂直方向叠置)。下面，具有多个光学记录层的光盘也称为多层光盘，具有一个光学记录层的光盘也称为单层光盘。

在光盘系统(其中激光波长形成得较短，并且物镜的数字孔形成得较大，从而如上面一样得到较大的容量)中，具有一些缺点：容易产生球面像差，焦点深度变得较浅等，并且光透射层被要求成膜厚不能超出预定值并且膜厚不均匀度较小。

在借助沿着垂直方向叠置光学记录层的多层盘中，以相同的方式需要光透射层和隔层具有预定膜厚和较小的膜厚不均匀度。

作为形成设置在光学记录层之间的隔层的方法，传统地，通常采用借助使用紫外线硬化树脂进行旋涂来形成预定膜厚的方法，从而确保所需要的记录和再现的性能。

但是，在如上述一样借助使用紫外线硬化树脂的旋涂来形成隔层的方法中，存在这样的缺点：在光盘的内圆周和外圆周上容易产生膜厚不均匀度，因此需要改进。

此外，具有这样的缺点：容易受到盘基体和转印基体的扭曲影响，并且抗灰尘和毛口的能力较弱。

发明内容

根据上面情况形成了本发明，本发明的目的是提高一种具有多个光学记录层的光学记录介质及制造这种光学记录介质的方法，该光学记录介质可以减少位于光学记录层之间的隔层的膜厚的不均匀度，而且可以减少转印基体扭曲的影响并且减少由于灰尘和毛口所产生的问题。

为了实现上面目的，本发明的光学记录介质具有：至少两个光学记录层，这些记录层通过隔层进行叠置；及光透射层，它设置在位于介质基体的至少一个表面上的光学记录层上，该光学记录介质借助通过光透射层把光发射到光学记录层上进行记录和再现，其中隔层包括事先形成为膜的至少一层紫外线硬化树脂膜，并且是形成有不平形状的膜，这种不平形状与记录凹陷相对应，或者这种不平形状是位于它表面上的导向槽，这种膜被硬化。

在上面本发明的光学记录介质中，优选地，隔层是借助使叠层结构进行硬化来得到的膜，该叠层结构包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜和由紫外线硬化液态树脂成分形成的至少一层覆膜。

此外，优选的是，不平形状与记录凹陷相对应，或者不平形状为位于隔层中的树脂膜表面上的导向槽。

此外还优选的是，不平形状与记录凹陷相对应，或者不平形状为位于由紫外线硬化液态树脂成分形成的覆膜表面上的导向槽。

在上面本发明的光学记录介质中，设置在多个光学记录层之间的隔层包括事先形成为膜的至少一个紫外线硬化树脂膜，在隔层的表面上形成不平形状，该不平形状与记录凹陷相对应，或者该不平形状为导向槽。

事先形成为膜的树脂膜具有较小的膜厚不均匀度，借助使用这个作为隔层的一部分或者隔层的全部，可以减少隔层的膜厚不均匀度。

此外，借助使用事先形成为膜的树脂膜，还可以减少转印基体的扭曲影响及灰尘和毛口所产生的问题。

此外，为了实现上面目的，制造本发明的光学记录介质的方法是制造具有至少两个光学记录层的光学记录介质的方法，该方法包括：形成在它的一个表面上具有不平形状的介质基体的步骤，在介质基体的不平形状的形成表面上形成第一光学记录层的步骤，在位于第一光学记录层上的表面上形成具有不平形状的隔层的步骤，在隔层的不平形状形成表面上形成第二光学记录层的步骤，及在第二光学记录层上形成光透射保护层的步骤，其中，形成隔层的步骤包括：把事先形成为膜的紫外线硬化树脂膜的一个表面粘附到第一光学记录层或者形成有不平形状的转印基体上的步骤；直接或者通过其它层把转印基体或者第一光学记录层压靠在树脂膜上并且提供没有硬化过的隔层的步骤，其中该没有硬化过的隔层包括位于第一光学记录层和转印基体之间的至少一层树脂膜；在使转印基体压靠在隔层的表面上的情况下，使隔层进行硬化的步骤；及从隔层中释放转印基体和把转印基体的不平形状转印到隔层的表面上的步骤。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，树脂膜是紫外线硬化树脂膜，该树脂膜在由一对释放膜所夹住的情况下形成为膜；及形成隔层的步骤还包括：在把树脂膜粘附到第一光学记录层或者转印基体上的步骤之前从树脂膜中释放一个释放膜的步骤；及，在把树脂膜粘附到第一光学记录层或者转印基体上的步骤之后并且在直接或者通过其它层把转印基体或者第一光学记录层压靠在树脂膜上的步骤之前，从树脂膜中释放其它释放膜的步骤。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，在形成隔层的步骤中，隔层只形成有树脂膜。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，形成隔层的步骤包括：把树脂膜粘附在转印基体上的步骤；在第一光学记录层上形成由紫外线硬化液态树脂成分所形成的覆膜的步骤；粘附树脂膜和覆膜的步骤；借助在相互粘附起来的情况下使树脂膜和覆膜进行硬化来得到隔层的步骤；及从隔层中释放转印基体的步骤。

此外，在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，形成隔层的步骤包括：在转印基体上形成由紫外线硬化液态树脂成分所形成的覆膜的步骤；把树脂膜粘附在第一光学记录层上的步骤；粘附树脂膜和覆膜的步骤；借助在相互粘附起来的情况下使树脂膜和覆膜进行硬化来得到隔层的步骤；及从隔层中释放转印基体的步骤。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，由注模塑料所形成的一种用作转印基体，而该种的外圆周直径大于介质基体的直径。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，由塑料所形成的一种用作转印基体，而该种的厚度为0.5mm或者更小。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，由塑料所形成的一种用作转印基体，其中，它的外圆周直径逐渐变小，并且比中心部分更薄。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，优选地，在使用转印基体进行转印的步骤中，借助弹性体从转印基体侧进行压力粘附。

在制造上面本发明的光学记录介质的方法中，形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜用作设置在第一和第二光学记录层之间的隔层，与记录凹陷相对应的不平形状或者形成为导向槽的不平形状被转印到隔层的表面上。

事先形成膜的树脂膜具有较小的膜厚度不均匀度，借助使用这个作为隔层的一部分或者隔层的全部，使隔层的膜厚不均匀度得到减小。

此外，借助使用事先形成膜的树脂膜，还可以减少转印基体的扭曲影响及灰尘和毛口等所产生的问题。

附图说明

图1A是示意性透视图，它示出了把光照射在本发明第一实施例的光盘上的情况，图1B是示意性剖视图，及图1C是图1B的示意性剖视图的主要部分的放大剖视图。

图2是剖视图，它示出了紫外线硬化树脂膜的结构。

图3是示意图，它示出了用来制造紫外线硬化树脂膜的装置的结构。

图4A是示意图，及图4B是剖视图，它示出了制造第一实施例的光盘的方法的制造过程。

图5A和图5B是剖视图，它们示出了从图4B中连续下来的过程。

图6A和图6B是剖视图，它们示出了从图5B中连续下来的过程。

图7A和图7B是剖视图，它们示出了从图6B中连续下来的过程。

图8A和图8B是剖视图，它们示出了从图7B中连续下来的过程。

图9A和图9B是剖视图，它们示出了从图8B中连续下来的过程。

图10A和图10B是剖视图，它们示出了从图9B中连续下来的过程。

图11是剖视图，它示出了紫外线硬化多层树脂膜的结构，其中叠置了两种材料。

图12是光盘的剖视图，其中借助使用多层树脂膜来形成隔层，尤其示出了外圆周和内圆周的边缘。

图13是本发明第二实施例的光盘的剖视图。

图14A和14B是剖视图，它们示出了制造第二实施例的光盘的方法的制造过程。

图15A和图15B是剖视图，它们示出了从图14B中连续下来的过程。

图16A和图16B是剖视图，它们示出了从图15B中连续下来的过程。

图17A和图17B是剖视图，它们示出了从图16B中连续下来的过程。

图18A和图18B是剖视图，它们示出了从图17B中连续下来的过程。

图19是本发明第二实施例的光盘的另一种结构的剖视图。

图20A和20B是剖视图，它们示出了制造第二实施例的具有另一种结构的光盘的方法的制造过程。

图21A和图21B是剖视图，它们示出了从图20B中连续下来的过程。

图22A和图22B是剖视图，它们示出了从图21B中连续下来的过程。

图23是局部剖视图，它示出了借助注模来形成的基体如盘基体的示意性结构。

图24是剖视图，它示出了制造第三实施例的光盘的方法的制造过程。

图25A和25B是用在第三实施例中的转印基体的剖视图。

图26是剖视图，它示出了制造第三实施例的光盘的方法的制造过程。

具体实施方式

下面，参照附图来详细地解释本发明的优选实施例。

本实施例涉及一种光学记录媒体(光盘)和它的制造方法。

(第一实施例)

图1A是示意性透视图，它示出了把光照射在光盘上的情况，根据这个实施例，光盘设置有两个光学记录层。

光盘DC大致为盘形，它具有中心孔CH，该中心孔开在中心部分上，光盘DC被驱动来沿着驱动方向DR进行旋转。

当记录或者重放信息时，光盘DC中的光学记录层用物镜OL的光LT如从蓝色到蓝紫色范围内的激光来照射，例如该物镜的数值孔径为0.8或者更大。

图1B是示意性剖视图，图1C是图1B的示意性剖视图的主要部分的放大剖视图。

凹形部分10d形成在由聚碳酸酯树脂等形成的盘基体10的一个表面上，其中该盘基体的厚度为0.3mm或者更大(例如1.1mm)。第一光学记录层11沿着包括凹形部分10d在内的不均匀地方形成。隔层12形成于其上，凸形部分12p设置在隔层12的表面上。第二光学记录层13沿着包括凸形部分12p在内的不均匀地方形成在隔层12上。光传输保护层14形成于其上，例如该光传输保护层14的膜厚度为0.1mm。

第一光学记录层11和第二光学记录层13具有叠层结构，例如从上层侧开始以这样的顺序：介电膜、由相位改变型记录材料等形成的记录膜、介电膜和反射膜，其中这些层的结构和数目根据记录材料的种类和设计是不相同的。

在具有三层或者更多层的光盘的情况下，重复隔层和光学记录层的结构。

在上面的光盘中，第一光学记录层11和第二光学记录层13具有不均匀的形状，并且借助包括凹形部分10d和凸形部分12p的不均匀形状分成一些称为接合区和槽的跟踪区域，其中这些不均匀的形状由形成在盘基体10的表面上的凹形部分10d和形成在隔层12表面上的凸形部分12p形成。

此外，借助由反射膜如铝膜来构成光学记录膜，借助使用由盘基体10上的凹形部分10d和隔层12上的凸形部分12p所形成的不均匀形状作为坑(该坑的长度等于记录数据)，可以得到只读储存器(ROM)型光盘。

在记录或者重放上面光盘时，从保护膜14侧发射出光LT如激光，从而借助调节物镜OL距离光盘的距离来使光聚焦在第一光学记录层11和第二光学记录层13中的每一个上。在重放时，在第一和第二光学记录层(11、13)中的每一个上所反射出的返回光借助光接受元件来接受，并且取出重放信号。

如上面所解释的一样，相应的两个或者更多个的光学记录层沿着垂直方向借助隔层来分隔开，因此借助改变聚焦位置来有选择地记录或者重放多个光学记录层中的一个。

在激光波长为405nm和NA为0.85的光盘系统中，借助使隔层的厚度为10μm或者更大可以在这些光学记录层之间分开。

注意，在使用这种较大的NA时，由于膜厚不均匀所产生的球差变成了问题。膜厚不均匀是所有光传输层和隔层的总和，因此需要每个隔层的膜厚不均匀度尽可能地小。

例如，在下面这样的系统中：激光波长λ是405nm并且NA是0.85，需要厚度的不均匀度为|Δt|＜5.26λ/NA⁴，因此需要厚度不均匀度为±4μm。假设光传输层和隔层的膜厚度不均匀度相同，那么借助把隔层的膜厚度不均匀度压缩到±1μm来构成最多为三层的多层盘。

本实施例的光盘被构成为：隔层具有首先形成为膜的至少一个紫外线硬化树脂膜，以改善隔层12的膜厚度的不均匀性，在隔层表面上形成了第二光学记录层的不均匀形状。

首先形成为膜的树脂膜的膜厚度不均匀度较小，因此借助使用它作为部分隔层或者隔层的全部来减小隔层的膜厚度不均匀度。

此外，借助使用首先形成为膜的树脂膜，减少转印基体的弯曲影响，并且减少产生灰尘和毛口的问题。

图2是剖视图，它示出了上面紫外线硬化树脂膜的结构。

释放膜(12a和12b)各自粘附到事先形成为膜的紫外线硬化树脂膜12s的上、下表面上，并且在使用时这些释放膜被释放开。

至于上表面和下表面上的释放膜(12a和12b)，释放它们所需要的力可以是不相同的，例如，上表面上的释放膜12a可以是较难释放的那侧，而下表面上的释放膜12b可以是容易释放的那侧。借助使释放性能不同，总是从容易释放的那侧开始释放。

由于如上述一样首先形成为膜的紫外线硬化树脂膜在树脂中具有较大的粘性并且不能流动，因此具有这样的优点：可以实现事先冲压出盘形等等的过程。

图3是示意图，它示出了用来制造上面紫外线硬化树脂膜的装置的结构。

紫外线硬化树脂在树脂供给部分SP中处于熔化状态中，并且被混合成均匀。从树脂供给部分SP中供给树脂从而施加到释放膜12a中，借助粘辊机、刮刀式涂胶机、照相凹板式涂敷机、染料喷涂机和反向涂机等从供给辊Ra中供给释放膜12a，并且当借助冷却等使它形成为树脂膜时，含有溶剂的这些在干燥部分DY处使溶剂蒸发，而没有溶剂的这些被保留下来。

从供给辊Rb中供给来的、具有不同可释放性的其它释放膜12b粘附在树脂膜12s的上表面上并且通过缠绕辊Rc来进行缠绕。

如上面所解释的那样，可以得到树脂膜12s，该树脂膜12s由释放膜(12a和12b)来夹住，而释放膜的结构如图2所示。

作为紫外线的硬化树脂，可以使用与光聚作用单体、光聚作用开始剂和添加剂相混合的这些或者粘合聚合体。

此外，也可以使用紫外线硬化粘合剂，例如这些包括：均聚物和/或共聚物，例如与紫外线硬化树脂和光聚作用引发剂相混合的丙烯酸(类)树脂的丙烯酸、甲基丙烯酸脂、乙烷基丙烯酸脂、丙基丙烯酸脂、丁基丙烯酸脂、2-乙基己基丙烯酸脂、甲基异丁烯酸、乙基异丁烯酸、丁基异丁烯酸和丙烯酸-2-羟乙基酯；或者可以使用通过下面方法得到的这些：使粘合剂的聚合物和共聚物进行混合，其中光硬化型聚合基通过光聚作用引发剂设置到侧链上。粘合剂不局限于丙烯酸树脂和橡胶，也可以使用硅树脂、聚乙烯醚等。

此外，根据需要可以使提供胶粘剂的试剂或者填充剂、软化剂、蜡、硬化防止剂、交联剂进行混合。

作为释放膜，一个支撑片(其中该支撑片的至少一个表面具有可释放性)就足够了，并且借助使用释放处理剂来产生可释放性。

作为支撑片材料，优选的是使用表面平滑度极好的塑料膜，还可以采用由聚乙烯树脂、聚丙烯树脂和其它聚烯烃树脂、乙酸树脂、聚苯乙烯树脂、氯乙烯树脂所形成的这些塑料膜。作为释放处理剂，使用硅树脂、醇酸树脂、碳氟树脂、纤维素树脂、三聚氰胺甲醛树脂、丙烯酸(类)树脂、聚亚安酯树脂和聚脂树脂等。

接下来，参照附图来解释制造本发明多层光盘的方法。

首先，借助传统公知的某种方法制备出盘基体压模20，该压模20在它的表面上具有不平的图案，该图案包括凸形部分20p，该凸形部分作为逆图案转印到盘基体上。

接下来，如图4A所示一样，上面的盘基体压模20被布置和固定在具有模子(MD1和MD2)的腔中，因此形成盘基体压模20的表面20p′的凸形部分朝向腔的内部，因此形成了注模模子。

借助把树脂10′如熔化的聚碳酸脂树脂从模子的入口MS喷射到上面注模模子的腔内中，盘基体10形成在盘基体压模20上，如图4B所示。

这里，在盘基体10的表面上形成有凹形部分(槽)10d，该凹形部分的位置与盘基体压模20的凸形部分20p相对应。

借助从上面松开注模模子，可以得到具有不平图案的盘基体10，该图案包括凹形部分10d，该凹形部分10d在它的表面上成槽形图案或者凹陷图案，如图5A所示。

接下来，如图5B所示，借助把气体如空气或者氮气吹到盘基体10的表面上来除去灰尘之后，例如借助阴极真空喷镀法、真空蒸发法、旋涂法等，以这种模形成顺序形成具有反射膜、介电膜、记录膜和介电膜的叠层结构的第一光学记录膜11。

如上面记录膜一样，例如，可以使用包括相位改变型光学记录膜、永磁-光学记录膜或者有机染料的记录膜。

另外，在ROM型光盘的情况下，也可借助由铝膜等形成的反射膜来形成光记录膜。

在使相位改变型记录材料所形成的膜形成为上面记录膜时，借助发射YAG激光或者其它的红外线使相位改变型记录材料晶化。这个与第一光学记录层11的初始化过程相一致。

接下来，如图6A所示一样，释放位于由释放膜(12a和12b)所夹住的树脂膜12s的易释放侧上的释放膜12b，如图2所示。

接下来，如图6B所示，借助使用垫片或辊子等使树脂膜12s粘附到第一光学记录层11的上表面上。

在以足够大的强度进行粘附从而得到图7A所示的状态之后，释放位于树脂膜12s的难释放侧上的释放膜12a，如图7B所示。

接下来，如图8A所示，借助使用垫片或辊子等使转印基体21如树脂压膜(该基体具有不平的图案，该图案包括用于第二光学记录层中的凹形部分21d，而第二光学记录层事先以独立的过程来形成)被粘附到树脂膜12s上。

借助以足够大的强度来粘附转印基体21，如图8B所示，把凸形部分12p转印到与释放膜21a表面上的转印基体21的凹形部分21d相对应的位置上。

接下来，如图9A所示，借助从转印基体21侧上发射紫外线UV使树脂膜12s进行硬化，从而得到隔层12，该隔层12具有第二光学记录层的不平形状，该第二光学记录层转印在它的表面上。在硬化期间，隔层12的表面和转印基体21之间的粘附性下降。

接下来，如图9B所示一样，隔层12的表面和转印基体21在边缘表面上被分开。

接下来，如图10A所示一样，借助把气体如空气或者氮气吹到隔层12的表面上除去灰尘之后，例如借助阴极真空喷镀法、真空蒸发法、旋涂法等，以这种模形成顺序形成具有半透明反射膜、介电膜、记录膜和介电膜的叠层结构的第一光学记录膜13。

另外，在ROM型光盘的情况下，也可借助由铝膜等形成的半透明反射膜来形成光记录膜。

接下来，光透射保护层14形成在第二光学记录膜13上。例如借助用胶粘剂来粘附保护层的方法来形成保护层14。

在使相位改变型记录材料所形成的膜形成为上面记录膜时，借助发射YAG激光或者其它的红外线使相位改变型记录材料晶化。这个与第二光学记录层13的初始化过程相一致。

从上面可以知道，可以制造出具有图1所示的多个光记录层的光盘。

在上面的制造方法中，首先把紫外线硬化树脂被粘附到盘基体10(第一光学记录层11)侧上，但是在通过压力与盘基体10(第一光学记录层11)进行结合之前，首先它可以粘附到转印基体21侧上。

作为盘基体10，可以使用注模基体和玻璃2p基体等，该注模基体使用聚碳酸酯树脂、PMMA树脂、非结晶聚烯烃树脂、改性丙烯酸(类)树脂和其它树脂。

如上面所解释的一样，在从转印基体21侧开始进行硬化时，就设置有第一光学记录层的不平图案而言，不总是需要盘基体10具有透光性。

作为转印基体21，可以使用Ni压模，但是在使用塑料基体时，如上面所解释的一样可以从转印基体21侧发射紫外线，并且不必使紫外线通过从而到达第一光学记录层11或者盘基体10。注意，需要具有这样的性能：在硬化之后，可以在转印基体21和隔层12的边缘上进行释放。

作为在硬化之后得到释放性的方法，不使用具有较小的紫外线硬化膜粘性的材料如环形聚烯烃树脂的方法，而是使用使紫外线硬化树脂膜的粘性下降的方法。

具体地说，借助提高分子量和提高硬度使粘附性下降。

注意，当盘基体10失去粘附性时，可以通过下面方法来处理它：使用至少两种隔层材料，在粘附力最低的部分上使用紫外线硬化树脂膜，并且使用这样的紫外线硬化树脂膜，该树脂膜在最上部处能够从转印基体中较好地进行释放。

在没有硬化的情况下，或者在它们之中只有一个被硬化的情况下，借助把这些紫外硬化树脂膜粘附在一起，可以得到紫外线硬化树脂膜之间的粘附力。在这种情况下，可以使用上面的环状聚烯烃树脂、普通的聚碳酸酯树脂、PMMA树脂、链式聚烯烃树脂和改性丙烯酸(类)树脂等。

图11是剖视图，它示出了由两种材料叠置而成的紫外线硬化多层树脂膜的结构。

事先形成为膜的紫外线硬化树脂膜12sa和树脂膜12sb被叠置起来，释放膜12a被粘附到树脂膜12sa上，并且释放膜12b被粘附到树脂膜12sb上，在使用时它们被释放。

借助使用图3所示的装置，使这种情况下的多层树脂膜可以以与图2的树脂膜相同的方式来形成。

图12是具有多个光学记录层的光盘的剖视图，其中隔层通过使用上面多层树脂膜来形成，特别地示出了外圆周和内圆周的边缘部分。

隔层12是树脂膜硬化部分12sa′和树脂膜硬化部分12sb′的叠层结构，其中第一和第二光学记录层(11和13)没有设置在外圆周和内圆周的边缘部分上，隔层12成形成直接接触盘基体11和保护层14。

借助选择两种材料来组成隔层，隔层12可以确保与盘基体11和保护层14的粘附性。

在制造具有上述多个光学记录层的光盘的过程中，其中隔层通过使用上面的多层树脂膜来形成，当首先把多层树脂膜粘附到盘基体上时，易释放侧上的释放片被形成在粘附到盘基体上的紫外线硬化树脂膜侧上。

此外，当首先把多层树脂膜粘附到转印基体上时，位于易释放侧上的释放片被形成到粘附性较小的紫外线硬化树脂膜侧上。

当然，可以连续地粘附两种或者更多种紫外线硬化树脂膜。在这种情况下，它们可以粘附到盘基体侧或者转印基体侧上，或者独立地粘附到这两侧上，并且这两个最后通过压力结合起来。

使它形成多层所得到的优点是，除了上面的粘附性和释放性之外还可以改变厚度、收缩百分比、可转移性、膜形成性能和侵蚀作用。

例如，当硬度提高时，在膜形成时的可转移性和变形通常变得较好，但是粘附性下降，并且收缩百分比趋于增大。当收缩百分比变大时，产生了在盘上形成扭曲的缺点。当有一种膜难以满足所有性能时，例如，借助使用硬度较高、膜形成性能较好的这些作为需要可转移性的上部的紫外线硬化树脂膜，并且使用收缩百分比较小的这些作为下部的紫外线硬化树脂膜，可以形成可转移性较好的隔层，其中盘的扭曲就难以产生了。

(第二实施例)

图13是本发明的、具有多个光学记录层的光盘的剖视图。

它的结构基本上与第一实施例的光盘的相同，它们的不同之处在于，隔层12借助把事先形成膜的紫外线硬化树脂膜粘附到由紫外线硬化液态树脂成分形成的覆膜上并且使上述的进行硬化来形成。

解释上面光盘的制造方法。

首先，以与第一实施例相同的方法来形成盘基体10，第一光学记录膜11形成于其上，然后，如图14A所示，紫外线硬化液态树脂组成分12r供给在第一光学记录膜11上，如图14B所示，借助使盘基体10进行旋转的旋涂法，把液态树脂成分12r施加成均匀的膜厚，从而形成覆膜。

接下来，如图15A所示一样，释放位于由图2所示的释放膜(12a和12b)所夹住的树脂膜12s的易释放侧上的释放膜12b，并且借助使用垫片或辊子等使转印基体21如树脂压膜(该基体具有不平的图案，该图案包括用于第二光学记录层中的凹形部分21d，而第二光学记录层事先以独立的过程来形成)被粘附到树脂膜12s上。

借助以足够大的强度来粘附转印基体21，如图15B所示，把凸形部分12p转印到与释放膜21a表面上的转印基体21的凹形部分21d相对应的位置上。

接下来，如图16A所示，释放位于树脂膜21s的难释放侧上的释放膜12a。

接下来，如图16B所示，借助使用垫片或辊子等，使液态树脂成分的覆膜的表面和树脂膜12s的表面粘附在一起。

接下来，如图17A所示，例如，借助从转印基体21侧上发射紫外线UV，树脂膜12s和液态树脂成分12r的覆膜进行硬化，从而得到隔层12，该隔层12是树脂膜硬化部分12s′和液态树脂成分覆膜硬化部分12r′的叠层结构，其中树脂膜硬化部分12s′在它的表面上转印第二光学记录层的不平图案。在进行硬化期间，树脂膜硬化部分12s′的表面和转印基体21的粘附性下降。

接下来，如图17B所示一样，构成隔层2的树脂膜硬化部分12s′的表面和转印基体21在边缘上被分开。

之后，以与第一实施例相同的方式，如图18A所示，第二光学记录膜13形成在构成隔层12的树脂膜硬化部分12s′上，光透射保护层14形成在第二光学记录膜13上。

从上面可以知道，可以制造出具有图13所示的多个光学记录层的光盘。

借助在具有与光盘相同的中心孔的形状上使用紫外线硬化树脂、通过旋涂来实现喷涂，从盘的内圆周到外圆周形成了膜厚的不均匀性，因此难以抑制膜厚的不均匀性，例如相对于20μm的隔层的厚度难以减少到±1μm或者更小。

在本实施例的制造方法中，借助使旋涂产生的涂层厚度变薄成差不多五倍的膜厚度不均匀度，并且通过紫外线硬化树脂膜形成其余的厚度，可以形成具有少量厚度不均匀度的隔层。

例如，在形成20μm的隔层时，借助施加5μm的液态树脂并且用紫外线硬化树脂膜构成其它的15μm厚，总膜厚的不均匀度可以被减少到±1μm或者更小。

此外，如图19所示那样构成本实施例的光盘。

该结构基本上与图13所示光盘的相同，但是在隔层12中，首先形成为膜的紫外线硬化树脂膜和紫外线硬化液态树脂成分的覆膜的布置被形成相反。

解释上面光盘的制造方法。

首先，紫外线硬化液态树脂成分12r被供给在转印基体21如树脂压模上，其中该基体21具有包括第二光学记录层的凹形部分21d在内的不平图案，如图20A所示，并且借助旋转盘基体10的旋涂方法把液态树脂成分12r喷涂成均匀的膜厚，从而形成图20B所示的覆膜。

接下来，以与第一实施例相同的方法来形成盘基体10，在第一光学记录膜11形成于基体10上之后，如图21A所示，释放位于由图2所示的释放膜(12a和12b)所夹住的树脂膜12s的易释放侧上的释放膜12b，并且借助使用垫片或辊子等使第一光学记录膜树脂膜12s相互粘附起来。

借助以足够大的强度来粘附转印基体21，可以得到图21B所示的那种情况。

接下来，如图22A所示，释放位于树脂膜12s的难释放侧上的释放膜12a。

接下来，如图22B所示，借助使用垫片或辊子等，使液态树脂成分12r的覆膜的表面和树脂膜12s的表面相互粘附在一起。

之后，以与图17和18所示的上面过程相同的方式，例如，从转印基体21侧发射紫外线UV，从而使树脂膜12s和液态树脂成分12r的覆膜进行硬化，隔层12的表面和转印基体21在边缘表面上被分开，第二光学记录膜13形成在隔层12上，并且光透射保护层14形成于其上。

从上面可以知道，可以制造出具有多个光学记录层的光盘。

此外，根据这个方法，借助使旋涂产生的涂层厚度变薄成差不多五倍的膜厚度不均匀度，并且通过紫外线硬化树脂膜形成其余的厚度，可以形成具有少量厚度不均匀度的隔层。例如，在形成20μm的隔层时，借助施加5μm的液态树脂并且用紫外线硬化树脂膜构成其它的15μm厚，总膜厚的不均匀度可以被减少到±1μm或者更小。

不采用上面相应的制造方法，而是借助进行旋涂把液态树脂相应地喷涂到盘基体侧和转印基体侧上，并且借助在它们之间提高树脂膜来把这两者相互粘附在一起。

在上面的相应方法中，在相互粘附起来之后进行紫外线硬化，或者连续地进行紫外线硬化。

在这种情况下也形成了多层结构，因此除了以与使用上面叠层树脂膜的情况相同的方式形成膜厚以外，还可以提高粘附性、可释放性和可转移性等性能的效果。

(第三实施例)

解释借助在上面第一实施例和第二实施例中使用塑料基体作为转印基体通过压力进行转印的方法。

图23是局部剖视图，它示出了基体胶层如通过注模形成的盘基体的示意性结构。

通常地，在借助注模来形成盘基体时，在进行注模时该温度在模子的最外部圆周部分处变得较小，因此基体胶层在最外部圆周上具有喇叭形突出部。根据注模装置和模制条件，宽度在正常情况下为2-3mm，而高度h为几个μm到几十个μm。

由于这种形状，在通过紫外线硬化树脂膜来粘附盘基体和转印基体时，可以可靠地产生间隙。

此外，当注模基体也使用在转印基体侧上时，喇叭形产生在盘基体和转印基体的两侧上并且产生了干扰，因此可以可靠地产生间隙。

在产生间隙时，需要借助高压(例如5kg/cm²或者更大)通过几秒到几分钟的消泡来消除或者减小它，并且这些过程变得较复杂。

这里，如图24所示，借助使转印基体21的尺寸大小比盘基体10的尺寸大小ΔΦ在转印基体21侧上使用注模基体时，盘基体和转印基体的喇叭形的干扰可以被减少，并且可以减少产生间隙。

此外，借助使转印基体上的尺寸大小较大，可以产生这样的优点，它在释放时可以用作保持部分。

此外，借助降低转印基体的刚性，转印基体可以随着盘基体的外圆周部分的喇叭形，并且产生于盘基体和转印基体之间的一些间隙可以被减小。

还有使用刚性较小的塑料的方法，但是可以借助简单地使厚度例如为0.5mm或者更小来提高它。越薄的话，那么所产生的间隙就越小，但是当它太薄时，例如比0.3mm还薄时，注模变得更困难，并且处理起来变得更困难。

此外，借助只使转印基体21的喇叭形最外部的圆周部分21e变薄从而成为图25A所示的锥形，或者借助只使转印基体21的喇叭形最外部圆周部分21e成形成具有台阶，如图25B所示，并且使转印基体21的外圆周部分21e随着盘基体10的外圆周部分10e的喇叭形，产生于盘基体和转印基体之间的间隙可以被减小。

例如，假设转印基体21的中心处的厚度t1为0.3左右并且最外部的圆周薄部分的厚度t2为0.1mm左右。

当转印基体21的厚度形成得较薄时，构成转印基体的材料的需要量较小，因此减少了费用。

此外，当转印基体21的最外部圆周部分21e形成为锥形或者台阶形时，也可以只使该外圆周部分较薄，并且中心部分可以形成得较厚从而在运载和处理时不会产生任何麻烦，这些是有利的。

此外，作为用压力来结合的方法，优选的是使用弹性体，该弹性体用压力可以把锥形和台阶形粘附起来，因此转印基体容易沿着盘形基体的喇叭形。另一方面，盘设置在平台上，从而不会产生任何扭曲，并且转印基体被放在上面，从而通过垫片或辊子等的压力来粘附。垫片或者辊子的材料可以使用橡胶，但是任何具有弹性的材料都可以使用。所使用的垫片的形状是平的、圆锥形和主轴形。根据橡胶硬度和粘性冲程(adhesion strokes)可以改变粘附力。

在使用薄转印材料或者锥形转印材料时，明显的是，光盘基体放置在平台上，可以变形的转印材料通过弹性体来挤压。

此外，使转印材料的外圆周直径的尺寸大小较大的方法、使用薄基体的方法、或者只使外圆周变薄的方法可以结合使用。

(例子1)

制造紫外线硬化树脂膜如下。

作为紫外线硬化粘合剂，按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚体形成的紫外线硬化树脂、按重量5份的光聚引发剂和按重量5份的异氰酸盐基硬化剂与按重量100份的丙烯粘合剂进行混合，该粘合剂由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物组成。该产物用溶剂来稀释并且借助辊式喷涂器施加在释放膜上，同时进行混合。作为释放膜，使用厚度为38μm的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜，该膜进行硅树脂处理。借助层压厚度为38μm的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜来得到基本材料，其中在干燥之后，粘附性较小。调整该喷涂器，以致厚度在进行干燥之后变成20μm。

如下面所解释的一样，借助使用上面的紫外线硬化树脂膜来制造出多层光盘。

使用聚碳酸酯树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm且厚度为1.1mm，该基体形成有凹凸图案，而凹凸图案借助位于一侧上的凹陷来形成。借助阴极真空喷镀使铝形成60nm，及形成第一光学记录层。

接下来，上面紫外线硬化树脂膜被冲压出油炸圈饼形，该油炸圈饼形的外圆周直径Φ为119mm，内圆周直径Φ为23mm，在除去位于易释放侧上的释放膜之后，借助辊子粘附到盘基体上。

作为转印基体，使用注模基体，该基体的厚度为1.1mm、外圆周直径Φ为120mm及内圆周直径Φ为15mm，该基体由环状聚烯烃树脂构成。转印基体形成有不平的形状，该形状借助第二光学记录层的凹陷来形成。

接下来，把盘基体放置在平的金属台上，除去位于难释放侧上的PET释放膜，然后，借助垫片从上面用压力来结合转印基体。作为垫片，使用主轴形橡胶垫片，并且施加压力，直到挤压盘为止。这时的挤压力为5kg/cm²。在用压力进行结合之后，借助使盘在5-10个大气压下放置1秒到5分钟来使盘进行去泡处理。

借助从转印基体发射紫外线，使紫外线硬化树脂膜进行硬化，并且释放转印基体。

接下来，借助阴极真空喷镀使铝形成为膜厚为9nm的膜以成为半透明的，及形成第二光学记录层。

作为光透射保护层的材料，使用这样的材料，该材料事先层压有厚度为60μm的聚碳酸酯树脂膜和厚度为20μm的粘合剂，并且与粘合剂侧上的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)释放膜粘合在一起。把该基本材料冲出成油炸圈饼形，该油炸圈饼形的外圆周直径Φ为119mm，内圆周直径Φ为23mm，然后，借助主轴形垫片来挤压，及进行粘附。此外，借助使盘在5-10个大气压下保留1秒到5分钟来进行去泡处理。

由上面方法制造出来的光盘的保护层和隔层的平均厚度和厚度不均匀度借助光谱干涉法(装置名称为ETA-Optik，它由Steag Co.制造)来测量。

在盘半径上从24到56mm每2mm进行测量，并且沿着盘的圆周方向每6度进行测量。示出了测量结果。从这个可以确认，可以实现±1μm或者更小的隔层的厚度不均匀度。

表1

测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)
测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)	隔层	19.6	0.45
保护层	80.2	0.52	隔层	19.6	0.45
保护层	80.2	0.52	隔层+保护层	99.8	1.06

(例子2)

制造两种紫外线硬化多层树脂膜如下。

作为对聚碳酸酯树脂具有较小的粘附性的紫外线硬化树脂膜(A)，使平均分子量为300000的、由n-丁基丙烯酸脂和2-羟基乙基丙烯酸脂所组成的共聚物、借助使异丁烯酰基氧乙基异氰酸盐(methacryloyloxy ethylisocyanate)与乙酸乙酯溶液进行反应来得到光硬化共聚物、平均分子量为300000的、由n-丁基丙烯酸脂和2-羟基乙基丙烯酸脂组成的共聚物和异氰酸盐基的光聚作用引发剂进行混合，及使用以上面解释的方法来施加产物以致干燥之后的厚度变成10μm的这些。

此外，由于聚碳酸酯树脂用作盘基体，作为位于粘附侧上的紫外线硬化树脂膜(B)，按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚体形成的紫外线硬化树脂、按重量5份的光聚引发剂和按重量5份的异氰酸盐基硬化剂与按重量100份的丙烯基粘合剂进行混合，该粘合剂由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物组成，及使用以上面解释的方法来施加产物以致干燥之后的厚度变成10μm的这些。

首先，作为盘基体，使用聚碳酸酯树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm且厚度为1.1mm，该基体形成有不平的形状，该形状借助位于一侧上的凹陷来形成。借助阴极真空喷镀使铝膜形成60nm，及形成第一光学记录层。

接下来，上面紫外线硬化树脂膜(B)被冲压出油炸圈饼形，该油炸圈饼形的外圆周直径Φ为119mm，内圆周直径Φ为23mm，在除去位于易释放侧上的释放膜之后，借助辊子粘附到盘基体上。

作为转印基体，使用聚碳酸酯树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm及厚度为1.1mm，该基体形成有在一侧上成为凹陷的不平形状。把紫外线硬化树脂膜(A)冲压出油炸圈饼形，该油炸圈饼形的外圆周直径Φ为119mm，内圆周直径Φ为23mm，在除去位于易释放侧上的释放膜之后，借助辊子粘附到其上。在除去盘基体和转印基体上的两个释放膜之后，借助主轴形垫片来挤压该产物从而粘附起来。

此外，在借助在5-10个大气压下保留1秒到5分钟左右来进行去泡处理之后，从转印基体侧发射出紫外线，这时使紫外线硬化膜(A)和(B)进行硬化。

接下来，在使转印材料从光盘基体中分离时，在紫外线硬化树脂膜(A)和转印基体的边缘上总是进行释放。

之后，借助阴极真空喷镀使铝膜形成为半透明的，及形成第二光学记录层。

最后，以与上面方法相同的方式制造出光透射保护层，并且得到多层光盘。

在上面制造出的光盘的保护层和隔层的平均厚度和厚度不均匀度以相同的方式借助光谱干扰法在这个盘上进行测量。

从这个可以确认，即使在隔层结构变成两层时也可以实现±1μm或者更小的隔层的厚度不均匀度。

表2

测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)
测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)	隔层	19.6	0.78
保护层	80.3	0.46	隔层	19.6	0.78
保护层	80.3	0.46	隔层+保护层	99.9	1.20

(例子3)

制造多层盘如下，其中隔层由紫外线硬化粘合剂的树脂膜和通过旋涂来进行喷涂的紫外线硬化树脂组成。

紫外线硬化粘合剂用作紫外线硬化树脂膜。借助使按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚体形成的紫外线硬化树脂、按重量5份的光聚引发剂和按重量5份的异氰酸盐基硬化剂与按重量100份的丙烯基粘合剂进行混合所得到的这些以上面所解释的方式被喷涂成17μm的厚度，其中该粘合剂由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物组成。

作为光盘基体，使用聚碳酸酯树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm且厚度为1.1mm，该基体形成有不平的形状，该形状为位于一侧上的凹陷。借助阴极真空喷镀使铝膜形成为60nm的膜厚，从而形成第一光学记录层。

接下来，把紫外线硬化树脂膜冲压出油炸圈饼形，该油炸圈饼形的外圆周直径Φ为119mm，内圆周直径Φ为23mm，在除去位于易释放侧上的释放膜之后，借助辊子粘附到盘基体上。

作为转印基体，使用注模基体，该基体由环状聚烯烃树脂来形成，该基体的厚度为1.1mm、外圆周直径Φ为120mm及内圆周直径Φ为15mm。转印基体形成有不平形状，这种形状是第二光学记录层的凹陷。

在转印基体的表面上，在半径为10-20mm的位置上的环形图案中施加有醛基紫外线硬化树脂(例如T-695/UR506-4，它由Nagase Chiba来形成)，并且进行旋涂。旋转速度为5000rpm，并且调整旋转时间从而使最外部圆周上的厚度为3μm。

接下来，把光盘基体放置在平的金属台上，除去位于难释放侧上的PET释放膜之后，借助垫片从上面用压力来粘附转印基体，该转印基体设置有紫外线硬化树脂的覆膜。此外，借助使盘在5-10个大气压下保持1秒到5分钟左右来使盘进行去泡处理之后，从转印基体侧发射紫外线，这时使紫外线硬化树脂膜和紫外线硬化树脂覆膜进行硬化。

之后，借助阴极真空喷镀使铝膜形成为半透明的，及形成第二光学记录层。最后，以与上面解释方法相同的方式制造出光透射保护层，并且得到多层光盘。

借助光谱干扰法在这个光盘上测量上面制造出的光盘的保护层和隔层的平均厚度和厚度不均匀度。此外，在这种情况下，可以使隔层的厚度不均匀度为±1μm或者更小。

表3

测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)
测量位置	平均厚度(μm)	最大厚度不均匀性(±μm)	隔层	19.1	0.89
保护层	79.9	0.41	隔层	19.1	0.89
保护层	79.9	0.41	隔层+保护层	99.0	1.38

(例子4)

为了避免转印基体的外圆周部分处的喇叭形的干扰，因此把环状聚烯烃树脂基体用作转印基体，而该环状聚烯烃树脂基体的外圆周直径Φ为128mm、内圆周直径Φ为15mm及厚度为1.1mm，该基体形成有在一侧上为凹陷的不平形状。

作为盘基体，使用聚碳酸酯树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm且厚度为1.1mm，该基体形成有在一侧上为凹陷的不平形状。

在把厚度为20μm的紫外线硬化树脂膜粘附在盘基体上之后，把盘基体放置在平的金属台上，在除去难释放侧上的PET释放膜之后，借助垫片从上面通过压力来粘附转印基体。作为垫片，使用主轴型橡胶垫片，并且施加压力，直到挤压盘为止。可以确定，因此而得到的盘借助进行压力去泡而几乎没有气泡留在外圆周上。

(例子5)

接下来，借助使用转印基体以与上面相同的方式来制造光盘，其中厚度形成得较薄。

作为转印基体，使用环状聚烯烃树脂基体，该基体的外圆周直径Φ为120mm、内圆周直径Φ为15mm和厚度为0.35mm，该转印基体形成有在一侧上为凹陷的不平形状。

在把厚度为20μm的紫外线硬化树脂膜粘附在盘基体上之后，把作为转印基体的光盘放置在平的金属台上，在除去难释放侧上的PET释放膜之后，借助垫片从上面通过压力来粘附转印基体。

作为垫片，使用主轴型橡胶垫片，并且施加压力，直到挤压盘为止。可以确定，因此而得到的盘借助压力去泡而几乎没有气泡留在外圆周上。

(例子6)

接下来，只使转印基体的最外部圆周的形状形成得较薄。外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm，及靠近中心处的厚度为0.6mm，从半径为45mm的位置上开始，板厚逐渐变薄，半径为60mm的位置上即最外部圆周上的板厚是0.2mm。锥形形成在表面的相对侧上，该表面形成有是凹陷的不平形状，使用环状聚烯烃树脂作为转印基体的材料。

盘基体的外圆周直径Φ为120mm，内圆周直径Φ为15mm且厚度为1.1mm，该盘基体的不平形状借助形成在它一侧上的凹陷来形成。

根据本实施例的多层光盘和制造方法，可以得到下面这些优点。

借助使用紫外线硬化树脂膜作为隔层，可以减小隔层的膜厚不均匀度，因此可以提供能够稳定地记录和再现的多层盘。

借助使用紫外线硬化树脂膜作为隔层，可以减小隔层的膜厚不均匀度，因此可以提供具有两个或者更多个光学记录层的多层光盘。

借助用两种或者更多种的紫外线硬化树脂膜来形成隔层，各种材料可以用作转印基体的材料。

借助用两种或者更多种的紫外线硬化树脂膜来形成隔层，可以提供可转移性较好的、收缩百分比下降的隔层。

借助结合紫外线硬化树脂覆膜(其中它的厚度薄于单独使用的那种情况)和紫外线硬化树脂膜，使隔层的膜厚不均匀度得到减少，但是可以得到与使用两层或者更多层的紫外线硬化树脂膜的情况相同的效果。

在使用由注模塑料所形成的基体作为转印基体时，借助使转印基体的外圆周直径大于光盘基体的直径可以实现较好的转印。

在使用由塑料形成的转印基体时，借助使转印基体的厚度为0.5mm或更小，外圆周可以得到较好的可转移性。

在使用由塑料形成的转印基体时，借助使转印基体的最外部圆周部分较薄，外圆周可以得到较好的可转移性。

此外，不是如上面所解释的那样减少隔层的膜厚不均匀度，而是借助使用紫外线硬化树脂膜作为隔层来减少转印基体扭曲的影响，而这种影响由于灰尘和毛口而产生一些问题。

本发明不局限于上面这些实施例。

例如，作为光学记录层，不是使用铝等所形成的反射膜，而是使用其它各种由相位改变型记录材料等所形成的光学记录层。

此外，它可以应用到具有三个或者更多个光学记录层的光学记录介质中。

不是上面所述这些，而是各种变形也落入本发明的范围内。

根据本发明，设置了多个光学记录层，其中可以减少光学记录层之间的隔层的膜厚度不均匀度，此外，转印基体的扭曲影响(这种扭曲影响由于灰尘和毛口而产生一些问题)也可以得到减少。

工业应用性

本发明可以处理可再写型等的存储器格式，它们具有光学记录层，该记录层使用相位改变型材料、永磁式光学记录材料或者具有有机染料等的记录材料作为记录材料，本发明可以用于光盘和它的制造方法中，该光盘以较小的费用可以实现大容量外存贮器。

Claims

1.一种制造具有至少两个光学记录层的光学记录介质的方法，该方法包括：形成在它的一个表面上具有不平形状的介质基体的步骤，在所述介质基体的不平形状的形成表面上形成第一光学记录层的步骤，在位于所述第一光学记录层上的表面上形成具有不平形状的隔层的步骤，在所述隔层的不平形状形成表面上形成第二光学记录层的步骤，及在所述第二光学记录层上形成光透射保护层的步骤；其特征在于：

形成所述隔层的步骤包括：

把事先形成为膜的紫外线硬化树脂膜的一个表面粘附到所述第一光学记录层或者形成有不平形状的转印基体上的步骤；

直接或者通过其它层把所述转印基体或者所述第一光学记录层压靠在所述树脂膜上并且提供没有硬化过的隔层的步骤，其中该没有硬化过的隔层包括位于所述第一光学记录层和所述转印基体之间的至少一层所述树脂膜；

在使所述转印基体压靠在所述隔层的表面上的情况下，使所述隔层进行硬化的步骤；及

从所述隔层中释放所述转印基体和把所述转印基体的不平形状转印到所述隔层的表面上的步骤。

2.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，

所述树脂膜是紫外线硬化树脂膜，该树脂膜在由一对释放膜所夹住的情况下形成为膜；及

形成所述隔层的步骤还包括：在把所述树脂膜粘附到所述第一光学记录层或者所述转印基体上的步骤之前从所述树脂膜中释放一个所述释放膜的步骤；及，在把所述树脂膜粘附到所述第一光学记录层或者所述转印基体上的步骤之后并且在直接或者通过其它层把所述转印基体或者所述第一光学记录层压靠在所述树脂膜上的步骤之前，从所述树脂膜中释放其它所述释放膜的步骤。

3.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，在形成所述隔层的步骤中，所述隔层只形成有所述树脂膜。

4.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，形成所述隔层的步骤包括：把所述树脂膜粘附在所述转印基体上的步骤；在所述第一光学记录层上形成由紫外线硬化液态树脂成分所形成的覆膜的步骤；粘附所述树脂膜和所述覆膜的步骤；借助在相互粘附起来的情况下使所述树脂膜和所述覆膜进行硬化来得到所述隔层的步骤；及从所述隔层中释放所述转印基体的步骤。

5.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，形成所述隔层的步骤包括：在所述转印基体上形成由紫外线硬化液态树脂成分所形成的覆膜的步骤；把所述树脂膜粘附在所述第一光学记录层上的步骤；粘附所述树脂膜和所述覆膜的步骤；借助在相互粘附起来的情况下使所述树脂膜和所述覆膜进行硬化来得到所述隔层的步骤；及从所述隔层中释放所述转印基体的步骤。

6.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，由注模塑料所形成的一种用作所述转印基体，而该种的外圆周直径大于所述介质基体的直径。

7.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，由塑料所形成的一种用作所述转印基体，而该种的厚度为0.5mm或者更小。

8.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，由塑料所形成的一种用作所述转印基体，其中，它的外圆周直径逐渐变小，并且比中心部分更薄。

9.如权利要求1所述的制造光学记录介质的方法，其特征在于，在使用所述转印基体进行转印的步骤中，借助弹性体从转印基体侧进行压力粘附。

10.一种用权利要求1的方法制造的光学记录介质，通过隔层进行叠置的至少两个光学记录层和光透射层设置在介质基体的至少一个表面上，其中光透射层设置在光学记录层上，该光学记录介质借助通过光透射层把光照射到所述光学记录层上进行记录和再现，及

所述隔层包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜，并且是形成有不平形状的膜，这种不平形状与记录凹陷相对应，或者这种不平形状是位于它表面上的导向槽，这种膜被硬化。

11.如权利要求10所述的光学记录介质，其特征在于，所述隔层是借助使一叠层结构进行硬化来得到的膜，该叠层结构包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜和由紫外线硬化液态树脂成分形成的至少一层覆膜。

12.如权利要求10所述的光学记录介质，其特征在于，不平形状与记录凹陷相对应，或者不平形状为位于所述隔层中的所述树脂膜表面上的导向槽。

13.如权利要求11所述的光学记录介质，其特征在于，不平形状与记录凹陷相对应，或者不平形状为位于由紫外线硬化液态树脂成分形成的所述覆膜表面上的导向槽。